KR100451805B1 - 튜브형반응기내에고형촉매입자를균일하게충전하기위한방법및장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 다수의 수직형 튜브(2)를 포함하고 상기 튜브들은 그 상부에서, 튜브들과 거의 수직을 이루고, 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판의 표면에 연결되는 유형의 튜브형 반응기내에서, 고형 촉매 입자(6)를 균질하게 충전하기 위한 장치에 관한 것으로서, 상기 장치는 튜브형 평판의 상부에 촉매 입자의 균일한 분배 시스템을 포함한다.

본 발명에 의하면, 상기 장치는

- 튜브형 평판상의 가장자리에 놓여지는 원통형 벽, 및

- 촉매로 완전히 충전된 튜브(2)를 완전히 충전되지 않은 튜브로부터 분리시키기 위해, 튜브형 평판상에 연속적으로 놓여지는, 보다 작은 직경의 원통형 벽(11')을 포함한다.

Description

튜브형 반응기내에 고형 촉매 입자를 균질하게 충전하기 위한 방법 및 장치

본 발명은 튜브형 반응기내에 고형 촉매 입자를 균질하게 충전하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 또한 본 발명은 상기 방법을 실시하기 위한 장치에 관한 것이다.

튜브형의 화학 반응기가 주로 수직 방향으로 장착된 다수의 튜브들을 함유한다는 것은 공지의 사실이다.

상기 튜브에 고형 촉매 입자를 충전하는 것은, 촉매의 존재하에 반응기내에서 수행되는 반응(예를 들면, 에틸렌 옥사이드, 아닐린 등의 제조)의 조건 및 결과가 상이한 튜브들의 공급의 균질성 및 균일성과 긴밀한 관련을 갖기 때문에, 매우 중요하다.

충전하는 동안에, 튜브 내에 촉매 입자들 사이에서 빈공간이 형성될 수 있으며, 이 경우에는, 발열 반응이 진행되는 동안에, 상기 튜브상에 온점(hot point)이 형성되고, 이는 상기 튜브의 야금에 유해한 영향을 미칠 수 있다. 또한, 반응기의 충전물은 불완전하게 충전된 튜브를 우선적으로 통과하여 반응기의 오작동을 일으킬 수 있고, 이에 따라 산업 유닛의 불량한 생산율을 초래할 수 있다.

요컨대, 튜브의 불량한 충전은 반응기의 활용 지속기간을 감소시키고, 지속상태를 더욱 빈번하게 중단하여 생산 사이클을 운휴시켜야 하는 결과를 초래한다.

튜브의 균질한 충전을 달성하기 위해서, 종래에 튜브마다 촉매의 충전을 수행하는 방법(EP-A-041 144 호), 튜브내에서 촉매 입자들의 분배를 촉진하기 위해 튜브내에 보조수단을 장착시키는 방법(예를 들면 EP-A-548 999 호 또는 US-A-3 608 751 호)이 개시된 바 있다.

또한, US-A-3 913 806 호 또는 JP-A-59/139 923 호에 기술된 바와 같은, 일련의 튜브(예를 들면 10 내지 20 개의 튜브)에 의해 반응기의 충전을 수행하는 방법도 제안된 바 있다.

마지막으로, 촉매 입자의 충전을 가속화시키기 위해서, FR-A-2 691 954 호 또는 GB-A-1 267 086 호에 개시된 바와 같이, 공급 용기를 진동 처리하는 방법도 제안되었다.

전술한 종래의 방법들은 모두 매우 장시간의 충전 시간을 요하고, 복잡하고 부피가 큰 충전 기계를 사용하고, 몇 명의 기계 조작자가 필요하며, 상기 요건을 갖추어도 동일한 반응기의 튜브들 사이에서 충전 밀도의 상당한 차이가 불가피하게 유발된다는 문제점을 갖는다.

본 발명은 촉매층을 사용하는 화학 반응기에서 종래 이용된 "고밀도 충전"유형인 균질한 충전 방법 및 장치에 의존하는 상기 종래 기술의 문제점을 해결하는 것을 목적으로 한다. 상기 기법은 예를 들면 EP-A-007 854 호, EP-A-116 246 호, 또는 1995 년 10 월 20 일자 프랑스 특허원 95 12334 호 공보에 개시되어 있다.

상기 고밀도 충전 기법은 샤워(shower) 효과, 즉 촉매 입자들을 반응기의 상부에서, 일반적으로 이동가능하며 회전 가동되는 유닛(예를 들면 원형의 섹터(sector) 또는 가요성 현(thong)을 포함함)의 바로 위로 투입함으로써, 상기 입자들은 반응기의 내부에서 거의 균질하게 분배시킬 수 있다.

세분된 형태로 존재하는 고형물을 튜브형 반응기에 균질하게 분배시켜서 충전하는 기법을 이용하는 것으로 구성된 다양한 작업을 수행하는 동안에, 튜브형 평판의 가장 바깥쪽에 위치한 튜브들이 반응기의 중심부에 위치한 튜브들보다 더욱 신속하게 충전됨을 확인하였다(반응기의 튜브형 평판은, 다양한 튜브들의 상부에 연결되고 상기 튜브들에 대하여 거의 수직으로 장착된 금속 평판을 의미한다). 따라서, 충전을 계속할 경우, 튜브형 평판의 가장 바깥쪽에 위치한 충전된 튜브에서 입자의 축적이 심해지고, 이러한 범람(overflow)되는 입자의 축적으로 말미암아, 상기 튜브형 평판의 중심부 주변에 위치한 튜브들에서는 조밀하지 못한 공급이 야기된다.

또한, 촉매 입자가 무른 경우에는, 그 입자가 반응기의 튜브형 평판상으로 떨어질 때 입자의 마모의 위험이 빈번하게 있게 된다.

따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 문제점들을 배제하여, 종래 기술인 화학 반응기의 균질한 충전 기법을 튜브형 반응기에 맞도록 개선하는 것을 과제로 한다.

도 1 및 도 2 는 연속하는 2 회의 충전 단계에서, 본 발명에 의한 충전 장치를 구비한 튜브형 반응기를 도시한 2 개의 종단면도이다.

도 3 은 본 발명에 따른 충전 방법의 실시양태를 도시한 분해 투시도이다.

도 4 는 본 발명에 사용하기에 적합한, 조정가능한 직경을 가진 원통형 영역의 투시도이다.

본 발명은, 다수의 수직형 튜브를 포함하고 상기 튜브는 그 상부에서, 튜브들에 거의 수직이고 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판의 표면에 연결되는 유형의 튜브형 반응기내에서, 상기 평판의 전체 표면상에서 촉매 입자의 균질한 샤워를 확보하는 충전 시스템에 의해서 고형 촉매 입자를 균질하게 충전하기 위한 방법을 제공한다.

본 발명의 방법은 다음을 특징으로 한다:

- 튜브형 평판상의 가장자리에, 상기 평판의 직경과 거의 동일한 직경을 가진 제 1 의 원통형 벽을 장착시키므로써, 튜브의 모든 충전 오리피스를 이와 같이 형성된 원통형 영역의 내부에 위치시키고;

- 상기 원통형 벽의 내부에서 입자의 균질한 공급을 수행하고;

- 튜브형 평판의 가장자리 및 상기 원통형 벽과 인접하여 배치된 튜브들이 가득 충전되었을 때 균질한 충전을 차단하고;

- 튜브형 평판상에, 선행하는 원통형 벽의 직경보다 작은 직경을 가진 제 2의 원통형 벽을 장착시키며, 상기 제 2 의 원통형 벽의 직경은 이미 충전된 튜브들이 그 벽의 외부에 위치하는 반면, 불완전하게 충전된 튜브들은 상기 제 2 의 벽의 내부에 위치할 수 있는 직경이며;

- 상기 원통형 벽에 가장 가까이에 위치한 튜브들이 충전될 때까지 입자들의 균질한 분배를 재개하며;

- 충전되지 않은 튜브의 충전 오리피스로부터 충전된 튜브의 충전 오리피스를 분리시키는, 직경이 보다 작은 원통형 벽에 의해서 이미 이용된 원통형 벽을 매회 교체시키면서 충전 사이클을 계속한다.

본 발명의 방법의 실시양태에 있어서, 점점 더 작은 직경을 갖는 원통형 벽, 바람직하게는 조정가능한 직경을 가진 단일의 원통형 벽을 연속적으로 사용하여, 매회 충전 단계 이후에 그 직경을 감소시킬 수 있다.

이와 같은 작업중에, 본 발명에서는 반응기내 촉매의 배출 유량이 비교적 작고, 바람직하게는 공급된 튜브의 면적 1m²당 0.5t/h 내지 4t/h 이어야 하는 것으로 밝혀졌다.

반응기의 각각의 튜브내에서 촉매 입자의 균일한 분배를 달성하기 위해서, 촉매는 반응기의 상부에 위치하고 있고 모터에 의해서 종축을 따라 회전 가동되는 이동가능한 수단을 통한 샤워 효과에 의해 분배시키는 것이 바람직하며, 이러한 방법 및 장치는 상업적으로 "DENSICAT"로서 알려져 있으며, 본 출원인의 1995 년 10 월 20 일자 프랑스 특허원 95 12334 호, 또는 유럽 특허원 EP-A-007 854 호 및 EP-A-116 246 호에 개시되어 있다.

본 발명은 또한 다수의 수직형 튜브를 포함하고 상기 튜브는 그 상부에서, 튜브들과 거의 수직을 이루고 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판의 표면에 연결되는 유형의 튜브형 반응기내에서, 고형 촉매 입자(6)를 균질하게 충전하기 위한 장치에 관한 것으로서, 상기 장치는 튜브형 평판의 상부에 촉매 입자의 균일한 분배 시스템을 포함하며, 상기 장치는

- 튜브형 평판상의 가장자리에 지지되기에 적합한 원통형 벽, 및

- 촉매로 완전히 충전된 튜브를 완전히 충전되지 않은 튜브로부터 분리시키기 위해, 튜브형 평판상에 연속적으로 지지되기에 적합한, 보다 작은 직경의 원통형 벽을 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은 상이한 직경을 가진 원통형 벽들이, 바람직하게는 가변적이고 조정가능한 직경을 가진 단일의 원통형 벽에 의해서 교체되는, 상기 장치의 변형예를 제공한다.

본 발명의 장치의 원통형 벽(들)은 본질적으로 목적하는 전체 높이, 예를 들면 20 내지 150cm, 바람직하게는 약 150cm 를 가질 수 있다.

또한, 바람직하게는 측면 방향으로 회전하며 조정가능한 하나 이상의 외부 밴드에 의해 외부에서 보호유지되는 원통형 섹터를 포함하는, 조정가능한 직경을 가진 원통형 벽을 사용할 수 있다.

충전 공간을 감소시키는데 이용되는 다른 시스템들, 예를 들면 조정가능한 하나 이상의 직경을 가진 원추형의 커버, 팽창가능한 부재, 튜브형 평판상에서 위치 조정가능한 패널 또는 축상에서 반응기 외부에서 반응기의 중심을 향하여 미끄러지는 막을 사용할 수도 있다.

본 출원인의 분석에 따르면, 본 발명에 의한 방법 및 장치는 종래 기술의 기법에 비해서 다음과 같은 각별한 장점을 제공한다:

- 본 발명의 장치 전체에서 측정된 충전물 손실의 평균 차이가 1 내지 3% 이하이기 때문에, 공지의 방법으로부터 얻어지는 것에 비해서, 상이한 튜브들의 충전의 균질성이 매우 우수하며;

- 예를 들어, 각각 1 인치(2.54cm)의 직경 및 3m 의 길이를 가진 11000 개 이상의 튜브를 포함하는 반응기에 최대 입자 직경이 6mm 인 입자들을 충전하는데 필요한 기간은 종래 기술의 방법을 사용할 경우에는 40 시간 이상인 것에 반하여, 본 발명에 의한 방법을 사용할 경우 20 시간 이하이므로 충전시간이 상당히 감소되고;

- 충전 밀도가 종래 기술에 비해서 현저하게, 약 2 내지 8% 정도 증가한다.

본 발명의 또 다른 장점은 다른 튜브로의 충전이 진행중인 동안에 충전된 튜브내에서의 충전물 손실의 제어에 있어서 얻어지는 시간의 이득과 관련되며, 이는 반응기 및 그것에 의한 산업 유닛이 가동하지 않는 시간에서 이득을 제공한다.

또한, 본 발명에 의한 방법 및 장치는 종래 기술의 기법(예를 들면, 진동 사용)을 이용하는 충전에 비해서, 운휴 회수를 거의 절반으로 감소시키는 것으로 밝혀졌다.

촉매가 무른 경우에, 본 발명에 의한 방법 및 장치는, 때때로 입자들이 반응기의 튜브형 평판의 상면의 단단한 부분에 충돌한의 결과로서, 미립자의 형성을 유발할 수 있다. 그러나 본 발명에 의하면, 튜브형 평판의 내부 표면을 충격을 완충시키는 물질, 바람직하게는 직물, 마분지, 엘라스토머 평면 또는 융단으로 피복하고, 그 피복층내에는 튜브의 해당 단부에 대향하여 동일한 직경의 오리피스를 설치시키므로써, 상기 결과에서 얻어지는 입자의 파손과 미립자의 형성을 실질적으로 배제할 수 있다. 또한, 융단과 같은 형태의 피복은 촉매 입자의 표면상에 실제로 항상 존재하는 입자가루들에 대하여 올가미와 같이 작용한다는 장점을 제공한다.

이하에서는 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 실시양태를 상세히 설명하고자 하나, 도면에 기재된 사항이 본 발명의 보호범위를 한정하는 것은 아니다.

도 1 내지 3 을 참조하면, 다수의 인접한 수직형 튜브들(2)을 포함하는 튜브형 반응기(1)가 도시되어 있으며, 상기 튜브들은 그 상부에서 원통형의 환을 따라 배치되고 튜브들의 상부 단부가 튜브형 평판(3: 도3 참조)을 통하여 오리피스(4)에 연결된다.

반응기(1)의 바로 위에는 샤워 형태의 분배를 위한 충전 장치가 장착된다. 고밀도 충전 장치는 전술한 본 출원인의 특허에 개시된 유형인 것이 바람직하며, 이는 저장기(7)에 촉매 입자(6)를 공급하는 깔때기(5)를 포함한다.

저장기(7)의 아래에는, 도 3 에 있어서, 상이한 3 개의 높이로 장착된 가요성 현(9)으로 이루어진 이동가능한 수단이 배치된다. 상기 현(9)은 축(10)을 움직이게 하는 모터(8)에 의해 회전 가동되며, 그 축상에서 상기 현들은 원심력의 작용 하에 들어올려질 수 있도록 연결된다. 상기 언급된 특허 공보들에 개시된 바와 같이, 촉매 입자(6)는 현(9)상에 떨어질 때, 그것에 의해서 굴절된 후에, 평판(3)의 방향으로 떨어진다.

전술한 바와 같이, 측면 방향으로 굴절되는 입자(6)는 반응기의 가장자리에 배치된 튜브들을 매우 신속하게 충전시키는 경향이 있다. 이들 튜브에서는, 고밀도의 균질한 충전이 달성되지만, 그 튜브가 가득 찼을 때에는, 튜브 상부에 축적된 입자들이 측면으로 흘러 인접한 튜브로 배출되며, 그 인접한 튜브에서 초기의 고밀도 충전이 통상의 충전 과정에 의하여 계속된다. 따라서, 반응기의 상이한 튜브들에 대하여 불균일한 충전이 이루어지며, 이 점이 본 발명이 해결하고자 하는 중대한 과제인 것이다.

이러한 발명의 목적을 위해, 도 1 에 도시된 바와 같이, 충전하기에 앞서, 반응기의 상부 평판(3)상에, 그 가장자리를 따라, 임의로 상부가 폐쇄되어 있고 반응기의 상부에 장착된 이동성 수단을 구비하는 수직형의 원통형 벽(11)을 설치한다.

이어서 반응기의 가장자리에 배치된 튜브들(2)이 충전될 때까지 공급의 제 1 단계를 수행한다. 이와 같이 실시되는 튜브내의 충전은 부분적으로만 충전된 다른 튜브에서의 충전과 마찬가지로 고밀도의 균질한 공급이다.

이어서 원통형 벽(11)을 제거하고, 보다 작은 직경을 가지며, 이미 완전히 충전된 가장자리의 튜브들을 부분적으로 충전된 안쪽의 다른 튜브들로부터 분리시키는 기부를 가진 벽(11'; 도 2)로 교체한다.

이어서 벽(11')의 안쪽 부분과 인접하여 배치된 튜브들(2)을 충전시키도록충전을 재개하고, 그 튜브들이 가득찼을 때, 충전을 중단한 후 벽(11')을 더욱 작은 직경을 가진 새로운 벽으로 교체하며, 모든 튜브들이 충전될 때까지의 필요한 회수로 그 과정을 반복한다.

이와 같이 하여, 튜브 전체에 대해서, 튜브를 하나씩 또는 일련의 튜브에 의해 충전하는 종래 기술의 시스템에 의해 얻어지는 충전 보다 밀도가 2 내지 8% 더 큰 고밀도 충전을 달성할 수 있다. 이외에도, 튜브 전체에 대하여 계산된 충전물의 평균 손실이 3% 를 초과하지 않는다.

상기 튜브형 평판(3)과의 충돌에 의한 촉매 입자의 파손을 방지하기 위해서, 상기 튜브형 평판의 표면은 입자의 충격을 완충시키는데 적합한 물질로 된 피복층으로 피복되는 것이 유리하며, 이때 상기 피복층내에는 반응기의 튜브(2)의 오리피스에 대응하는 거의 동일한 직경의 단부를 갖는다. 유사한 완충용 재료로 원통형 벽의 내부 표면을, 적어도 그 하부를, 피복하는 것이 유리할 수 있다. 상기 재료는 예컨대 직물, 마분지, 엘라스토머 평면, 또는 바람직하게는 융단과 같은 종류일 수 있으며, 융단은 촉매 입자의 표면상에 실제로 항상 존재하는 입자들의 가루를 보유하는 장점을 제공한다.

또한 전술한 바와 같이, 상이한 충전 단계에 있어서, 별개의 원통형 벽(11,11' 등)을 사용하는 대신에, 조정가능한 직경을 가진 단일의 벽을 사용할 수도 있다.

예를 들면, 벽(12)이 도 4 에 도시되어 있다. 그 벽은 조정가능한 방식으로 서로 측면 방향을 따라 이동하는 다수의 동심원상의 원통형 섹터(13)로 구성되며,마찬가지로 조정가능한 길이를 가진 고정 시스템(14)에 의해서 적소에 유지된다.

따라서 본 발명은 튜브형 반응기의 다양한 튜브에 대해 고밀도의 신속하고 균질한 충전을 실시하기 위한 간단하고 용이한 수단을 제공한다.

이하에서는 실시예에 의거하여 본 발명의 장점을 예시하고자 한다.

실시예

11858 개의 거의 수직형인 튜브들로 구성되고 상기 튜브들은 각각 24.8 mm 의 직경과 2900mm 의 길이를 갖는 동일한 화학 반응기에서, 구형의 입자들을 가지며 입자 직경이 3 내지 6mm 범위인 촉매를 사용하여 2 회의 연속적인 충전을 수행하였다.

제 1 회의 충전은 본 발명의 방법 및 장치를 사용하여 수행하였으며, 상기 장치의 이동가능한 수단은 모터에 의해서 구동되고 3 개의 상이한 높이에 배치된 가요성 현으로 구성되어 있다. 이동가능한 수단은 1995 년 10 월 20 일자 프랑스 특허원 95 12334 호에 개시된 장치와 동일한 것이다.

제 2 회의 충전은 종래 기술에 따라서, 즉, 진동 공급 깔때기를 사용하여 일련의 튜브를 통해 충전하는 방법으로 실시하였다.

얻어진 결과를 하기 표 1 에 제시하였다.

[표 1]

본 발명에 의한 방법 및 장치를 사용하여 수행한 충전은 종래 기술에 개시된 충전 기법에 비해서 특히 유리하며, 충전시간을 약 70% 감소시키고, 또한 반응기의 충전 밀도를 약 5% 증가시키며, 튜브들의 충전에 대하여 완전한 균일성을 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 새로운 충전 단계를 실시하기 위해 튜브들을 제거할 필요가 없다. 이외에도, 운휴 회수는 거의 절반으로 감소된다.

Claims (14)

1. 다수의 수직형 튜브(2)를 포함하고 상기 튜브들은 그 상부에서, 튜브들과 거의 수직을 이루고 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판(3)의 표면에 연결되는 유형의 튜브형 반응기내에서, 상기 평판의 전체 표면에 고형 촉매 입자의 균질한 샤워(shower)를 확보하는 충전 시스템에 의해서 고형 촉매 입자(6)를 균질하게 충전하기 위한 방법에 있어서,

   - 튜브형 평판(3)상의 가장자리에, 상기 평판의 직경과 거의 동일한 직경을 가진 제 1 의 원통형 벽(11)을 장착시키므로써, 튜브의 모든 공급 오리피스(4)를 이와 같이 형성된 원통형 영역의 내부에 위치시키고;

   - 상기 원통형 벽의 내부에서 입자의 균질한 공급을 수행하고;

   - 튜브형 평판(3)의 가장자리 및 원통형 벽(11)과 인접하여 배치된 튜브(2)들이 충전되었을 때 균질한 충전을 차단하고;

   - 튜브형 평판상에, 선행하는 원통형 벽의 직경보다 작은 직경을 가진 제 2 의 원통형 벽(11')을 장착시키며, 상기 제 2 의 원통형 벽의 직경은 이미 충전된 튜브(2)들이 그 벽의 외부에 위치하는 반면, 불완전하게 충전된 튜브들은 상기 제 2 의 벽의 내부에 위치할 수 있는 직경이며;

   - 상기 원통형 벽에 가장 가까이에 위치한 튜브(2)들이 충전될 때까지 입자들의 균질한 분배를 재개하며;

   - 충전되지 않은 튜브의 충전 오리피스를 충전된 튜브의 충전 오리피스(4)와분리시키는, 직경이 보다 작은 원통형 벽에 의해서 이용된 원통형 벽을 매회 교체시키면서 충전 사이클을 계속하는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 원통형 벽(11)이 매회 충전 단계 이후에 감소되는 조정가능한 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 촉매를 반응기에 충전하는 속도가 공급 튜브의 섹션(4) 1m²당 0.5t/h 내지 4t/h 인 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 촉매 입자의 균질한 충전이 샤워 효과를 갖는 형태인 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제 1 항에 있어서, 촉매 입자를 분배시키기 위한 수단(9)이 모터 수단(7)에 의해 종축(10)의 주위에서 회전 가동되는 이동가능한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판이 입자들의 충격을 완충시키기에 적합한 재료로 피복되는 것을 특징으로 하는 방법.
7. 다수의 수직형 튜브(2)를 포함하고 상기 튜브는 그 상부(4)에서, 튜브들을 결합시키고 튜브들과 거의 수직을 이루는 튜브형 평판(3)의 표면에 연결되는 유형의 튜브형 반응기에서, 고형 촉매 입자(6)을 균질하게 충전하기 위한 장치로서, 튜브형 평판(3)의 상부에 촉매 입자의 균질한 분배 시스템을 포함하는 장치에 있어서,

   - 튜브형 평판(3)상의 가장자리에 지지되기에 적합한 원통형 벽(11), 및

   - 촉매로 완전히 충전된 튜브(2)를 완전히 충전되지 않은 튜브로부터 분리시키기 위해, 튜브형 평판(3)상에서 연속적으로 지지되기에 적합한, 보다 작은 직경의 원통형 벽(11')을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
8. 제 7 항에 있어서, 가변적이며 조정가능한 직경을 갖는 하나의 원통형 벽(12)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 조정가능한 직경을 갖는 원통형 벽이 측면 방향으로 이동하는 원통형 섹터(13)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
10. 제 9 항에 있어서, 상기 원통형 섹터(13)가 하나 이상의 조정 가능한 외부 밴드(14)에 의해서 외부에서 보호유지되는 것을 특징으로 하는 장치.
11. 제 7 항에 있어서, 충전 공간을 감소시키기 위해 사용되는 시스템이 조정가능한 하나 이상의 직경을 가진 원추형의 커버, 팽창가능한 부재, 튜브형 평판상에서 위치 조정가능한 패널 또는 축상에서 반응기의 외부로부터 반응기의 중심을 향하여 미끄러지는 막의 형태인 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제 7 항에 있어서, 상기 반응기의 튜브형 평판(3)의 외부 표면이 촉매 입자의 충격을 완충시키기에 적합한 재료로 피복되며, 해당 직경의 오리피스가 그 피복층내에서 반응기의 튜브의 해당 단부(4)에 대하여 설치되는 것을 특징으로 하는 장치.
13. 제 7 항에 있어서, 상기 원통형 벽(들)(11,11')의 기부가, 그 내부면상에서, 촉매 입자의 충격을 완충시키기에 적합한 재료로 피복되는 것을 특징으로 하는 장치.
14. 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서, 상기 튜브형 평판(3)상에서, 그리고 원통형 벽의 내면상에서, 입자의 충격을 완충시키기에 적합한 재료가 직물, 마분지, 엘라스토머 평판 또는 융단인 것을 특징으로 하는 장치.

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