KR970069112A - 튜브형 반응기내에 고형 촉매 입자를 균질하게 공급하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 다수의 수직형 튜브(2)를 포함하고 상기 튜브들은 그 상부에서 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판의 표면에 연결되고, 이들은 거의 수직을 이루는 유형의 튜브형 반응기에, 고형 촉매 입자(6)을 균질하게 공급하기 위한 장치에 관한 것으로서, 상기 장치는 튜브형 평판의 상류에 촉매 입자의 균일한 분배 시스템을 포함한다.
본 발명에 의하면, 상기 장치는 -가장자리상에서 튜브형 평판의 바로 위에 지지되는 원통형 벽, 및 -촉매로 완전히 충전된 튜브(2)를 전체적으로 충전되지 않은 튜브로부터 분리시키기 위해, 튜브형 평판상에 연속적으로 지지되는, 보다 작은 직경의 원통형벽(11′)를 포함한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 연속하는 2회의 충전단계에서, 본 발명에 의한 충전 장치를 구비한 튜브형 반응기를 도시한 2개의 총단면도이다.
Claims (11)
- 다수의 수직형 튜브(2)를 포함하고 상기 튜브는 그 상부(4)에서 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판(3)의 표면에 연결되고, 이들은 거의 수직을 이루는 유형의 튜브형 반응기에, 상기 평판의 전체 표면상에 촉매 입자의 균질한 샤워(shower)를 확보하는 공급 시스템에 의해서, 고형 촉매 입자(6)을 균질하게 공급하기 위한 방법에 있어서, -가장자리를 따라 튜브형 평판(3)의 바로 위에, 상기 평판의 직경과 거의 동일한 직경을 가진 제1의 원통형 벽(11)을 장착시키므로써, 튜브의 모든 공급 오리피스(4)를 형성된 원통형 영역의 내부에 위치시키고; -상기 원통형 벽의 내부에서 입자의 균질한 공급을 수행하고; -튜브형 평판(3)의 주위에 원통형 벽(11)과 인접하여 배치된 튜브(2)들이 충전되었을때 균질한 공급을 차단하고; -튜브형 평판상에, 선행하는 원통형 벽의 직경보다 작은 직경을 가진 제2의 원통형 벽(11′)을 장착시키며, 상기 제2의 원통형 벽의 직경은 이미 충전된 튜브(2)들이 그 벽의 외부로 편재화되는 반면 불완전하게 충전된 튜브들은 상기 제2의 벽의 내부에 편재화될 수 있는 직경이며; -상기 원통형 벽으로부터 더욱 가까이에 위치한 튜브(2)들이 충전될 때 까지 입자들의 균질한 분배를 재개하며; -충전되지 않은 튜브의 공급 오리피스로부터 충전된 튜브의 공급 오리피스(4)를 분리시키는, 직경이 보다 작은 원통형 벽에 의해서 이용된 원통형 벽을 매회 교체시키면서 충전 사이클을 계속하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 원통형 벽(11)이 매회 공급 단계이후에 감소되는 조정가능한 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 촉매의 배출 유량이 공급 튜브의 단면적(4) 1㎡당 0.5t/h 내지 4t/h인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 촉매 입자의 균질한 공급이 샤워 효과를 갖는 형태인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 촉매 입자를 분배시키기 위한 수단(9)가 모터 수단(7)에 의해 종축(10)의 주위에 회전자재로 장입된 이동가능한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판이 입자들의 충격을 완충시키기에 적합한 재료로 피복되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 다수의 수직형 튜브(2)를 포함하고 상기 튜브는 그 상부(4)에서 튜브들을 결합시키는 튜브형 평판(3)의 표면에 연결되고, 이들은 거의 수직을 이루는 유형의 튜브형 반응기에, 고형 촉매 입자(6)을 균질하게 공급하기 위한 장치로서, 상기 장치는 튜브형 평판(3)의 상류에 촉매 입자의 균질한 분배 시스템을 포함한 장치 있어서, -가장자리상에서 튜브형 평판(3)의 바로 위에 지지되는 원통형 벽(11), 및-촉매로 완전히 충전된 튜브(2)를 전체적으로 충전되지 않은 튜브로부터 분리시키기 위해, 튜브형 평판(3)상에 연속적으로 지지되는, 보다 작은 직경의 원통형 벽(11′)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제7항에 있어서, 가변적이며 조정가능한 직경을 갖는 하나의 원통형 벽(12)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제7항 또는 제8항에 있어서, 조정가능한 직경을 갖는 원통형 벽(12)가 측면방향으로 이동하는 원통형 섹터(13)을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제9항에 있어서, 상기 원통형 섹터(13)이 하나 이상의 조정 가능한 외부밴드(14)에 의해서 외형적으로 보호유지되는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제7항에 있어서, 공급 공간을 감소시키기 위해 사용되는 시스템이 외부의 축상에서 반응기의 중심을 향해 활주하는 반경, 튜브형 평판상에서 위치 조정가능한 패널, 팽창가능한 구성요소 또는 조정가능한 하나 이상의 직경을 가진 원추형의 시트의 공간의 형태인 것을 특징으로 하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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