KR100442994B1 - 안정화제혼합물 - Google Patents

안정화제혼합물 Download PDF

Info

Publication number
KR100442994B1
KR100442994B1 KR1019970008176A KR19970008176A KR100442994B1 KR 100442994 B1 KR100442994 B1 KR 100442994B1 KR 1019970008176 A KR1019970008176 A KR 1019970008176A KR 19970008176 A KR19970008176 A KR 19970008176A KR 100442994 B1 KR100442994 B1 KR 100442994B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
compound
alkyl
mixture
butyl
Prior art date
Application number
KR1019970008176A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970065686A (ko
Inventor
롤프 티트만
프란체스코 푸조
게르하르트 라이네르트
한스 페터 해리
Original Assignee
시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. filed Critical 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Publication of KR970065686A publication Critical patent/KR970065686A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100442994B1 publication Critical patent/KR100442994B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/16—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to only one ring carbon atom
    • C07D251/20—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to only one ring carbon atom with no nitrogen atoms directly attached to a ring carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/22—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to two ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37—Thiols
    • C08K5/378—Thiols containing heterocyclic rings
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M13/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
    • D06M13/10—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with compounds containing oxygen
    • D06M13/152—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with compounds containing oxygen having a hydroxy group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M13/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
    • D06M13/10—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with compounds containing oxygen
    • D06M13/165—Ethers
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M13/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
    • D06M13/244—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with compounds containing sulfur or phosphorus
    • D06M13/248—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with compounds containing sulfur or phosphorus with compounds containing sulfur
    • D06M13/252—Mercaptans, thiophenols, sulfides or polysulfides, e.g. mercapto acetic acid; Sulfonium compounds
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06M—TREATMENT, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE IN CLASS D06, OF FIBRES, THREADS, YARNS, FABRICS, FEATHERS OR FIBROUS GOODS MADE FROM SUCH MATERIALS
    • D06M13/00—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment
    • D06M13/322—Treating fibres, threads, yarns, fabrics or fibrous goods made from such materials, with non-macromolecular organic compounds; Such treatment combined with mechanical treatment with compounds containing nitrogen
    • D06M13/35—Heterocyclic compounds
    • D06M13/355—Heterocyclic compounds having six-membered heterocyclic rings
    • D06M13/358—Triazines
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P1/00—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed
    • D06P1/44—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders
    • D06P1/64—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders using compositions containing low-molecular-weight organic compounds without sulfate or sulfonate groups
    • D06P1/642—Compounds containing nitrogen
    • D06P1/6426—Heterocyclic compounds
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P1/00—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed
    • D06P1/44—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders
    • D06P1/64—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders using compositions containing low-molecular-weight organic compounds without sulfate or sulfonate groups
    • D06P1/651—Compounds without nitrogen
    • D06P1/65106—Oxygen-containing compounds
    • D06P1/65118—Compounds containing hydroxyl groups
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P1/00—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed
    • D06P1/44—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders
    • D06P1/64—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders using compositions containing low-molecular-weight organic compounds without sulfate or sulfonate groups
    • D06P1/651—Compounds without nitrogen
    • D06P1/65106—Oxygen-containing compounds
    • D06P1/65131—Compounds containing ether or acetal groups
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P1/00—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed
    • D06P1/44—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders
    • D06P1/64—General processes of dyeing or printing textiles, or general processes of dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the dyes, pigments, or auxiliary substances employed using insoluble pigments or auxiliary substances, e.g. binders using compositions containing low-molecular-weight organic compounds without sulfate or sulfonate groups
    • D06P1/651—Compounds without nitrogen
    • D06P1/65168—Sulfur-containing compounds
    • D06P1/65187—Compounds containing sulfide or disulfide groups
    • D—TEXTILES; PAPER
    • D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06P—DYEING OR PRINTING TEXTILES; DYEING LEATHER, FURS OR SOLID MACROMOLECULAR SUBSTANCES IN ANY FORM
    • D06P3/00—Special processes of dyeing or printing textiles, or dyeing leather, furs, or solid macromolecular substances in any form, classified according to the material treated
    • D06P3/34—Material containing ester groups
    • D06P3/52—Polyesters
    • D06P3/54—Polyesters using dispersed dyestuffs

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Coloring (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Paper (AREA)

Abstract

본 발명은 화학식 1의 화합물 하나 이상 및 화학식 2의 화합물 하나 이상을 포함하는 신규한 안정화제 혼합물에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure pat00001
[화학식 2]
Figure pat00002
위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
치환체들은 특허청구의 범위에서 정의한 바와 같다.
신규한 안정화제 혼합물은 광, 산소 및 열로 인한 손상에 대해 유기 재료, 특히 텍스타일 섬유 재료를 안정화시키는 데 적합하다.

Description

안정화제 혼합물
본 발명은 모노-레조르시닐트리아진 및 비스-레조르시닐트리아진을 포함하는 염색 신규한 안정화제 혼합물, 이의 제조방법, 및 유기 재료, 바람직하게는 염색되거나 염색되지 않은 텍스타일 섬유 재료의 광화학적 및 화학적 안정화를 위한 이의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 다음 화학식 1의 화합물 하나 이상 및 다음 화학식 2의 화합물 하나 이상을 포함하는 안정화제 혼합물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00003
[화학식 2]
Figure pat00004
위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
R1및 R1'는 서로 독립적으로 각각 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬, C3-C8사이클로알킬, C3-C6알케닐, 치환되지 않거나 치환된 아릴 또는 C7-C12아르알킬이고,
R2, R2', R3, R3', R4및 R5는 서로 독립적으로 각각 수소; 치환되지 않거나 치환된 직쇄 또는 측쇄 C1-C12알킬; 하나 이상의 N, S 또는 0 원자로 차단되고 추가로 치환될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C4-C28알킬; 또는 화학식 -CO-R6또는 화학식 -SO2-R6의 라디칼(여기서, R6은 C1-C12알킬, 치환되지 않거나 C1-C4알킬 치환된 폐닐또는 C7-C12아르알킬이다)이다.
C1-C18알킬로서, R1및 R1'는 직쇄 또는 측쇄 알킬 라디칼, 예를 들어 메틸, 에틸, n- 또는 이소프로필, n-, 이소-, 2급- 또는 3급-부틸, 2-에틸부틸, n- 또는 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n- 또는 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 1,1,3,3,5,5-
헥사메틸헥실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실 또는 옥타데실을 포함한다. 알킬로서, R1및 R1'는 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 C1-C6알킬, 특히 바람직하게는 C1-C4알킬이고, 특히 바람직하게는 각각 메틸이다.
사이클로알킬로서, R1및 R1'는, 예를 들어 치환되지 않거나 하나 이상의 C1-C4알킬 그룹, 바람직하게는 메틸 그룹으로 치환된, 포화된 3원 내지 8원 카보사이클릭 환을 포함한다. 예는 사이클로펜틸, 사이를로헥실, 메틸사이클로헥실 또는 사이클로헵틸이다. 사이클로알킬 라디칼로서, R1및 R1'는 바람직하게는 서로 독립적으로 각각 치환되지 않거나 메틸 그룹 1 내지 3개로 치환된 사이클로헥실이다.
알케닐 라디칼로서, R1또는 R1'의 적합한 예는 알릴, 이소프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 이소부테닐, n-펜타-2,4-디에닐 또는 3-메틸부트-2-에닐이다. 알케닐 라디칼로서, R1및 R1'는 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 알릴 또는 이소프로페닐이고, 특히 바람직하게는 각각 알릴이다.
아릴 라디칼로서, R1및 R1'는, 예를 들어 비페닐, 나프틸, 또는 특히 페닐 라디칼이고, 이들 각각은, 예를 들어 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐으로 추가로 치환될 수 있다. 아릴 라디칼로서, R1및 R1'는 서로 독립적으로 각각 치환되지 않거나 C1-C4알킬 치환된 페닐이고, 특히 바람직하게는 각각 페닐이다.
아르알킬 라디칼로서, R1및 R1'의 적합한 예는 벤질, 2-메틸벤질, 페닐에틸, 페닐프로필, 페닐부틸, 페닐펜틸 또는 페닐헥실이다. 아르알킬 라디칼로서, R1및 R1'는 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 벤질 또는 α-메틸벤질이고, 특히 바람직하게는 각각 벤질이다.
라디칼 R1및 R1'는 상이하거나, 바람직하게는 동일할 수 있다.
본 발명의 바람직한 양태는 R1및 R1'가 서로 독립적으로 각각 C1-C6알킬, 치환되지 않거나 1 내지 3개의 메틸 그룹으로 치환된 사이클로헥실, 알릴, 이소페닐, 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로 치환된 페닐, 벤질 또는 e-메틸 벤질인 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 각각 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물에 관한 것이다.
본 발명의 특히 바람직한 양태는 R1및 R1'가 동일하고 각각 C1-C4알킬, 사이클로헥실, 알릴, 페닐 또는 벤질인 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 각각 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물에 관한 것이다.
본 발명의 특히 바람직한 양태는 R1및 R1'가 동일하고 각각 C1-C4알킬, 특히 메틸인 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물의 안정화제 혼합물에 관한 것이다.
R2, R2', R3, R3', R4또는 R5가 C1-C12알킬인 경우, 이는, 예를 들어, R1에 대해 위에서 정의한 C1-C12알킬 라디칼 중의 하나이거나, 예를 들어 할로겐, 시아노, 하이드록실, 아미노, C1-C4알콕시카보닐, 카바모일, N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬카바모일, 글리시딜 또는 페닐로 치환된 상응하는 C1-C12알킬일 수 있다. C1-C4알콕시카보닐 치환체의 적합한 예는 메톡시카보닐 또는 에톡시카보닐이다. 글리시딜은 2,3-에폭시프로필 라디칼이다.
알킬 라디칼로서, R2, R2', R3, R3', R4또는 R5는 서로 독립적으로 각각 바람직하게는 C1-C6알킬, 특히 바람직하게는 C1-C4알킬, 특히 바람직하게는 메틸, 에틸 또는 n-또는 이소프로필이다.
R2, R2', R3, R3', R4또는 R5가 헤테로원자에 의해 차단된 알킬 라디칼인 경우, 라디칼은, 예를 들어 하나 이상의 그룹 -O-, -NH- 또는 -S-에 의해 차단되고 하이드록실 또는 화학식 -OR6의 라디칼(여기서, R6은 위에서 정의한 바와 같다)로 추가로 치환될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C4-C28알킬이고: 이러한 화합물들 중에서, 존재하는 헤테로원자 그룹 -0-, -NH- 또는 -S-는 인접하게 존재하지 않는다. 알킬 라디칼로서, 헤테로원자에 의해 차단된 R2, R2', R3, R3', R4또는 R5는 바람직하게는 서로 독립적으로 각각 하나 이상의 그룹 -0-에 의해 차단되고, 하이드록실 또는 화학식 -OR6의 라디칼로 치환된 직쇄 또는 측쇄 C4-C28알킬 라디칼이다. 헤테로알킬 라디칼로서, R2, R2', R3, R3', R4또는 R5는 서로 독립적으로 바람직하게는 각각 화학식 -(CH2CHR7-0)n-R8의 라디칼(여기서, R7은 수소, 메틸 또는 에틸이고, R8은 수소, C1-C12알킬 또는 페닐이고, n은 1 내지 9의 정수이다)이고, 특히 바람직하게는 화학식 -(CH2CHR7-0)n-H의 라디칼(여기서, R7은 메틸 또는 특히 수소이고, n은 1 내지 9의 정수이다)이다.
R6이 C1-C12알킬 라디칼인 경우, 이는, 예를 들어 R1에 대해 위에서 정의한 C1-C12알킬 라디칼 중의 하나일 수 있다. 알킬 라디칼로서, R6은 바람직하게는 C1-C4알킬, 특히 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 더욱 바람직하게는 메틸이다. R6이 페닐 라디칼인 경우, 이는 바람직하게는 페닐, o-, m- 또는 p-톨릴이고, 특히 바람직하게는 페닐이다. R6이 아르알킬 라디칼인 경우, 이는 바람직하게는 벤질이다.
R2, R2', R3, R3', R4및 R5는 서로 독립적으로 각란 바람직하게는 수소, 하나 이상의 그룹 -0-에 의해 차단되고, 하이드록실 또는 화학식 -OR6의 라디칼(여기서,R6은 C1-C4알킬, 페닐, o-, m- 또는 p-톨릴 또는 벤질이다)로 치환된 직쇄 또는 측쇄 C4-C28알킬, 또는 치환되지 않거나 C1-C4알킬 치환된 벤조일 또는 페닐설포닐이다. 특히 바람직하게는, R2, R2', R3, R3', R4및 R5는 서로 독립적으로 각각 수소, C1-C4알킬, 화학식 -(CH2CHR7-0)n-H의 라디칼(여기서, R7은 메틸 또는 특히 수소이고, n은 1 내지 9의 정수이다) 또는 벤조일이다. R2, R2', R3, R3', R4또는 R5는 서로 독립적으로 각각 수소, 메틸, 에틸 또는 n- 또는 이소프로필이 특히 바람직하다.
본 발명의 바람직한 양태는 R2, R2' 및 R5가 서로 독립적으로 각각 C1-C4알킬, 화학식 -(CH2CHR7-0)n-H의 라디칼(여기서, R7은 메틸 또는, 특히 수소이고, n은 1 내지 9의 정수이다) 또는 벤조일이고, R3이 수소, C1-C4알킬, 화학식 -(CH2CHR7-0)n-H의 라디칼(여기서, R7은 메틸 또는, 특히 수소이고, n은 1 내지 9의 정수이다) 또는 벤조일이고, R3' 및 R4가 각각 수소인 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 각각 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물에 관한 것이다.
본 발명의 특히 바람직한 양태는 R2, R2' 및 R5가 동일하고 각각 C1-C4알킬이고, R3이 수소 또는 C1-C4알킬이고, R3' 및 R4가 각각 수소인 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 각각 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물에 관한 것이다.
화학식 1의 화합물은, 예를 들어 유럽 공개특허공보 제0 584 044호에 공지되어 있거나 본원에 기재되어 있는 방법, 예를 들어 시아누르산 클로라이드 1몰 당량을 화학식 R1-SH의 화합물(여기서, R1은 위에서 정의한 바와 같다) 약 1몰 당량과 축합시킨 후, 축합 생성물을 루이스산의 존재하에 상응하는 벤젠 화합물 2몰 당량과 반응시켜 제조할 수 있다.
몇몇 화학식 2의 화합물은 신규하다. 따라서, 본 발명은 R1및 R1'가 서로 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬, C3-C8사이클로알킬, C3-C6알케닐 또는 C7-C12-아르알킬이고, R4및 R5가 서로 독립적으로 각각 수소, 치환되지 않거나 치환된 직쇄 또는 측쇄 C1-C12알킬, N, S 또는 0 원자 하나 이상에 의해 차단되고 추가로 치환될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C4-C28알킬, 또는 화학식 -CO-R6또는 -SO2-R6의 라디칼(여기서, R6은 C1-C12알킬, 치환되지 않거나 C1-C4알킬 치환된 페닐 또는 C7-C12아르알킬이다)인 화학식 2의 화합물을 추가로 제공한다.
화학식 2의 화합물은 공지된 화학식 1의 화합물과 유사하게, 예를 들어 시아누르산 클로라이드 1몰 당량을 화학식 R1-SH의 화합물 약 1몰 당량 및 화학식 R1'-SH의 화합물 약 1몰 당량과 반응시킨 후, 생성물을 루이스산, 바람직하게는 염화알루미늄의 존재하에, 상응하는 벤젠 화합물 약 1몰 당량과 반응시켜 제조할 수 있고, 여기서, R1및 R1'는 각각 위에서 정의한 바와 동일하고, 서로 상이하거나, 바람직하게는 동일하다.
신규한 안정화제 혼합물은 개별 화합물로부터 자체 공지된 방법, 예를 들어 이들을 혼합하거나 이들을 공동 분쇄 또는 동시결정화하여 수득할 수 있다. 또한 화학식 1 및 화학식 2의 화합물을 안정화될 텍스타일 섬유 기재에 동시에 또는 연속적으로 혼입하여 혼합할 수 있다.
본 발명은 또한 공동 합성에 의한 신규한 안정화제 혼합물의 제조방법을 제공하고, 이는 R1및 R1'가 동일한 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물들에 대해서 특히 바람직하다. 이러한 제조방법에 따라서, 신규한 안정화제 혼합물은, 예를 들어 수성 용액 또는 수성 유기 용액 형태의 시아누르산 할라이드, 예를 들어 시아누르산 플루오라이드 또는 바람직하게는 시아누르산 클로라이드와 과량의 화학식 3의 화합물을 수소 할로겐화물 수용체의 존재(화학식 3에서 X가 수소인 경우, 존재해야 함) 또는 부재하에 축합시키는 단계(i), 단계(i)에 따라서 수득되는, 화학식 4a의 화합물 및 화학식 4b의 화합물을 포함하는 혼합물을 루이스 산의 존재하에 레조르시놀과 반응시키는 단계(ii), 단계(ii)에 따라서 수득되는, 화학식 5a의 화합물 및 화학식 5b의 화합물을 포함하는 혼합물을 라디칼 R2, R2', R3, R3', R4및/또는 R5를 포함하는 하나 이상의 아실화제 또는 알킬화제의 존재 또는 부재하에 신규한 안정화제 혼합물로 전환시키는 단계(iii)로부터 제조할 수 있다.
[화학식 3]
R1-S-X
[화학식 4a]
Figure pat00005
[화학식 4b]
Figure pat00006
[화학식 5a]
Figure pat00007
[화학식 5b]
Figure pat00008
위의 화학식 3 내지 화학식 5b에서,
X는 수소 또는 양이온이고,
R1은 위에서 정의한 바와 동일하다.
단계(i)에서의 화학식 3의 화합물과 시아누르산 할라이드의 반응은, 예를 들어 영국 공개특허공보 제1,176,770호에 공지되어 있거나, 이와 유사하게 수행할 수 있다. 당해 반응은, 예를 들어 -5 내지 100℃, 바람직하게는 0 내지 50℃의 온도에서, 물 및, 경우에 따라, 유기 용매, 알킬벤젠(예: 톨루엔 또는 크실렌), 치환된 벤젠(예: 클로로벤젠, 니트로벤젠 또는 아니솔) 또는 치환되지 않거나 치환된 지방족 또는 지환족 탄화수소(예: 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 디부틸 에테르, 메틸렌 클로라이드 또는 클로로포름)를 포함하는 매질 속에서 수행된다. 바람직한 유기용매는 알킬벤젠, 특히 톨루엔, o-, m- 또는 p-크실렌, 또는 상이한 크실렌의 혼합물이다. 단계(i)에서 수소 할로겐화물 수용체로서 적합한 예는 탄산염, 중탄산염 또는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 수산화물이고, 바람직하게는 수산화나트륨 또는 수산화칼륨과 같은 알칼리 금속 수산화물이다. X가 양이온, 예를 들어 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 암모늄 양이온, 바람직하게는 칼륨 또는, 특히 나트륨 양이온과 같은 알칼리 금속 양이온인 화학식 3a의 화합물을 사용하는 경우, 수소 할로겐화물 수용체를 첨가할 필요가 없다. 단계(i)에서 수득되는 화학식 4a의 화합물 및 화학식 4b의 화합물의 비는, 예를 들어 사용된 반응물의 화학량론적 비율, 시아누르산 할라이드 및 화학식 3의 화합물에 따라서, 예를 들어 화학식 4a의 화합물 95 내지 5중량% 및 화학식 4b의 화합물 5 내지 95중량%로 변할 수 있다.
단계(i)에서 수득될 수 있는 생성물의 레조르시놀과의 반응은 일반적으로 프리델-크래프츠 반응(Friedel-Crafts reaction)에 대한 통상적인 조건, 예를 들어 10 내지 50℃, 바람직하게는 25 내지 40℃의 온도에서 루이스산, 유리하게는 염화 알루미늄의 존재하에 수행한다. 당해 반응에서, 레조르시놀과 루이스산은 각각 유리하게 최소 당량으로 또는, 바람직하게는 시아누르산 할라이드에서 치환되는 할로겐의 몰량에 비하여 몰 과량으로 존재한다. 예를 들어, 레조르시놀/치환되는 할로겐의 몰 비 및 루이스산/치환되는 할로겐의 몰 비에 있어서, 각각의 경우에 1:1 내지 2:1 및, 바람직하게는 1.1:1 내지 1.5:1의 값이 유리한 것으로 입증되었다.
단계(i) 및 단계(ii)의 신규한 방법은 개별적으로 그렇지 않으면 원-포트(one-pot) 반응으로서 수행할 수 있다. 원-포트 반응을 사용하는 바람직한 양태의 경우, 단계(i)에서 수득된 유기 상을, 예를 들어 공비증류에 의해 유리하게 건조시키고, 단계(ii)에 따라서 추가로 정제하지 않고 추가로 반응시킬 수 있다.
임의 단계(iii)에서 적합한 알킬화제의 예는 화학식 R-Hal의 알킬 할라이드(여기서, R은 알킬 라디칼이고, Hal은 염소, 브롬 또는 요오드와 같은 할로겐이다), 디메틸 카보네이트와 같은 디알킬 카보네이트, 화학식 R-0-SO2-OH, R-0-SO2-O-R 또는 R-0-SO2-C6H5-CH3의 모노- 또는 디알킬 설페이트, 화학식 R-0-P(0)(Z)-0-R의 알킬 포스포네이트 또는 디메틸포름아미드 디메틸 아세탈(여기서, R은 각각 알킬 라디칼이고, Z는, 예를 들어 C1-C4-알킬 또는 하이드록실이다)과 같은 아미드 아세탈이다. 메틸화제의 예는 디메틸 설페이트, 메틸 토실레이트 또는 디메틸 메탄포스포네이트(DMMP)이다. 에틸 라디칼 R2, R2', R3, R3', R4또는 R5는, 예를 들어 디에틸 설페이트를 사용하여 도입할 수 있다. 알킬화 반응은 일반적으로, 예를 들어 10 내지 2OO℃, 바람직하게는 80 내지 150℃의 온도에서, 염기, 예를 들어 알칼리 금속 탄산염 또는 알칼리 금속 수산화물, 예를 들어 탄산나트륨, 탄산칼륨 또는 수산화나트륨의 존재하에, 과량의 알킬화제를 사용하여 수행하고: 알킬화도는, 예를 들어 화학량론 및 반응 시간에 의해 영향을 받는다. 화학식 5a의 화합물 및 화학식 5b의 화합물 속에서의 결합에 대해서 트리아지닐 환의 p 위치에 존재하는 하이드록실 그룹은 일반적으로 o 위치에 존재하는 그룹보다 더욱 쉽게 접근할 수 있어서 먼저 알킬화된다. 적합한 알킬화제의 예는 화학식 R6-CO-Y 또는 R6-SO2-Y의 화합물(여기서, R6은 위에서 정의한 바와 같고, Y는 할로겐, 바람직하게는 염소이다)이다.
신규한 공동결합 및 합성에 의해 수득된 바람직한 안정화제 혼합물은 다음 화학식 1a의 화합물, 화학식 1b의 화합물 및 화학식 2a의 화합물을 필수적으로 포함한다.
[화학식 1a]
Figure pat00009
[화학식 1b]
Figure pat00010
[화학식 2a]
Figure pat00011
위의 화학식 1a 내지 화학식 2a에서,
R1및 R2는 각각 위에서 정의한 바와 같다.
화학식 1a의 화합물 및 화학식 1b의 화합물 50 내지 95중량%와 화학식 2a의 화합물 50 내지 5중량%를 포함하는 안정화제 혼합물이 특히 바람직하다.
R1이 C1-C4알킬, 사이클로헥실, 알릴, 페닐 또는 벤질이고, R2가 C1-C4알킬, 화학식 -(CH2CHR4-0)n-H의 라디칼(여기서, R4는 메틸 또는 특히 수소이고, n은 1 내지 9의 정수이다) 또는 벤조일인 화학식 1a의 화합물 및 화학식 1b의 화합물 50 내지 80중량%와 화학식 2a의 화합물 50 내지 20중량%를 포함하는 안정화제 혼합물이 특히 바람직하다.
본 발명의 신규한 안정화제 혼합물은 유기 재료, 특히 광, 산소 또는 열에의한 손상에 대한 안정화제로서 사용될 수 있다. 본 발명의 신규한 화합물 및 안정화제 혼합물은 광 안정화제(UV 흡수제)로서 매우 특히 적합하다.
본 발명의 신규한 혼합물의 특별한 잇점은 안정화된 물질의 우수한 내후성과 내광성 및 혼입되는 안정화제 혼합물의 광안정성을 포함한다. 본 발명의 신규한 혼합물의 우수한 기재 혼화성도 또한 언급할 만하다. 본 발명의 신규한 혼합물은 특히 현저한 고친화도를 나타낸다.
안정화될 재료는, 예를 들어 오일, 지방, 왁스, 향잘품 또는 살충제일 수 있다. 플라스틱, 고무, 피복재, 사진 재료 또는 접착제에 존재하는 중합체성 재료에서의 이들의 용도가 특히 중요하다. 이렇게 안정화될 수 있는 중합체 및 다른 기재는 다음과 같다:
1. 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체, 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔 및 사이클로올레핀의 중합체, 예를 들어 사이클로펜텐 또는 노르보넨; 또는 폴리에틸렌(이는 임의로 가교결합될 수 있음), 예를 들어 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중밀도 폴리에틸렌(MDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 측쇄 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE).
폴리올레핀, 바로 위에 예시된 모노올레핀의 중합체, 특히 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 상이한 방법, 특히 다음과 같은 방법으로 제조될 수 있다:
(a) 라디칼 중합(일반적으로 고압하 및 승온에서),
(b) 원소 주기율표의 IVb, Vb, VIb 또는 Ⅷ족 금속을 하나 이상 함유하는 촉매를 사용하는 촉매 중합. 이러한 금속은 일반적으로 π- 또는 ρ-배위결합될 수 있는 옥사이드, 할로겐화물, 알콜레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 아릴과 같은 하나 이상의 리간드를 포함한다. 이러한 금속 착물은 유리 형태이거나 기재, 예를 들어 활성화 염화마그네슘, 염화티탄(Ⅲ), 알루미나 또는 산화규소에 고착될 수 있다. 당해 촉매는 중합 매질에 가용성이거나 불용성일 수 있다. 촉매는 중합시 자체로 활성일 수 있거나 금속 알킬, 금속 수소화물, 금속 알킬 할로겐화물, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥산과 같은 추가의 활성화제를 사용할 수 있고, 여기서 금속은 원소 주기율표의 Ⅰa, Ⅱa 및/또는 Ⅲa족 원소이다. 활성화제는, 예를 들어 추가의 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르 그룹으로 개질될 수 있다. 이러한 촉매 시스템은 일반적으로 필립스(Phillips), 스탠다드 오일 인디아나(Standard Oil Indiana), 지글러(-나타)[Ziegler(-Natta)], TNZ[제조원: 듀퐁(DuPont)], 메탈로센 또는 단일 부위 촉매(SSC)이다.
2. 1에서 기재한 중합체들의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌과의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌(예를 들어, PP/HDPE, PP/LDPE)과의 혼합물 및 상이한 종류의 폴리에틸렌들의 혼합물(예를 들어, LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀 및 디올레핀 상호간의 공중합체 또는 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 예를 들어 에틸렌-프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 이의 혼합물, 프로필렌-부트-1-엔 공중합체, 프로펄렌-이소부틸렌 공중합체, 에틸렌-부트-1-엔 공중합체, 에틸렌-헥센 공중합체, 에틸렌-메틸펜텐 공중합체, 에틸렌-헵텐 공중합체, 에틸렌-옥텐 공중합체, 프로필렌-부타디엔 공중합체, 이소부틸렌-이소프렌 공중합체, 에틸렌-알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 및 일산화탄소 또는 에틸렌-아크릴산 공중합체와의 이들의 공중합체, 및 이들의 염(이오노머) 뿐만 아니라 에틸렌과 프로필렌 및 헥사디엔, 디사이클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨과 같은 디엔의 삼원공중합체, 및 위의 공중합체 상호간의 혼합물 및 1에서 기재한 중합체와의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌-에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE-에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체, LLDPE-에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, LLDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체 및 교호 또는 랜덤 폴리알킬렌-일산화탄소 공중합체 및 다른 중합체, 예를 들어 폴리아미드와의 이의 혼합물.
4. 이의 수소화된 변형물(즉, 점성부여제 수지) 및 폴리알킬렌과 전분과의 혼합물을 포함하는 탄화수소 수지(예를 들어, C5-C9).
5. 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌), 폴리(α-메틸스티렌).
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴산 유도체와의 공중합체, 예를 들어 스티렌-부타디엔, 스티렌-아크릴로니트릴, 스티렌-알킬 메타크릴레이트, 스티렌-부타디엔-알킬 아크릴레이트, 스티렌-부타디엔-알킬 메타크릴레이트, 스티렌-말레산 무수물, 스티렌-아크릴로니트릴-메틸 아크릴레이트; 충격 강도가 높은 스티렌 공중합체와 다른 중합체와의 혼합물, 예를 들어 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌-프로필렌-디엔 삼원공중합체, 및 스티렌-부타디엔-스티렌, 스티렌-이소프렌-스티렌, 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 또는 스티렌-에틸렌-프로필렌-스티렌과 같은 스티렌의 블록 공중합체.
7. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그래프트 공중합체, 예를 들어 폴리부타디엔 위의 스티렌; 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체 위의 스티렌; 폴리부타디엔 위의 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔 위의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트; 폴리부타디엔 위의 스티렌 및 말레산 무수물; 폴리부타디엔 위의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 위의 스티렌 및 말레이미드; 폴리부타디엔 위의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 알킬 메타크릴레이트; 에틸렌-프로필렌-디엔 삼원공중합체 위의 스티렌 및 아크릴로니트릴; 폴리알킬 아크릴레이트 또는 폴리알킬 메타크릴레이트 위의 스티렌 및 아크릴로니트릴; 아크릴레이트-부타디엔 공중합체 위의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 뿐만 아니라 6에서 기재한 공중합체와 이의 혼합물, 예를 들어 ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로 공지되어 있는 공중합체 혼합물.
8. 할로겐 함유 중합체, 예를 들어 폴리클로로프렌, 염소 처리된 고무, 이소부틸렌-이소프렌의 염소 처리되거나 브롬 처리된 공중합체(할로부틸 고무), 염소 처리되거나 설포-염소 처리된 폴리에틸렌, 에틸렌과 염소 처리된 에틸렌과의 공중합체, 에피클로로하이드린 단독중합체 및 공중합체, 특히 할로겐 함유 비닐 화합물의 중합체, 예를 들어 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드; 및 이의 공중합체, 예를 들어 비닐 클로라이드-비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드-비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드-비닐 아세테이트.
9. α,β-불포화 산으로부터 유도된 중합체 및 이의 유도체, 예를 들어 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트, 부틸 아크릴레이트로 내충격성 개량된 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드 및 폴리아크릴로니트릴.
10. 9에서 기재한 단량체 상호간의 공중합체 또는 다른 불포화 단량체와의 공중합체, 예를 들어 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴-알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴-알콕시알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴-비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴-알킬 메타크릴레이트-부타디엔 상원공중합체.
11. 불포화 알콜 및 아민으로부터 유도된 중합체 또는 아실 유도체 또는 이의 아세탈, 예를 들어 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민 및 1에서 기재한 올레핀과의 이들의 공중합체.
12. 사이클릭 에테르의 단독중합체 및 공중합체, 예를 들어 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 비스글리시딜 에테르와의 이의 공중합체.
13. 폴리아세탈, 예를 들어 폴리옥시메틸렌 및 에틸렌 옥사이드와 같은 공단량체를 함유하는 폴리옥시메틸렌; 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로개질된 폴리아세탈.
14. 폴리페닐렌 옥사이드 및 설파이드, 및 스티렌 중합체 또는 폴리아미드와의 이의 혼합물.
15. 한쪽은 하이드록실 말단 폴리에테르, 폴리에스테르 및 폴리부타디엔으로부터 유도되고 나머지 한쪽은 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트로부터 유도
된 폴리우레탄 및 이의 전구체.
16. 디아민 및 디카복실산으로부터 및/또는 아미노카복실산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드, 예를 들어 폴리아미드 4, 6, 6/6, 6/1O, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 11 및 12; m-크실렌, 디아민 및 디아디프산으로부터 출발하는 방향족 폴리아미드; 개질제로서 탄성중합체의 존재 또는 부재하에, 헥사메틸렌디아민 및 이소프탈산 및/또는 테레프탈산으로부터 제조된 폴리아미드, 예를 들어 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드. 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 그래프트된 탄성중합체와 위에서 언급한 폴리아미드와의 블록 공중합체; 또는 폴리에테르, 예를 들어 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과 위에서 언급한 폴리아미드와의 블록 공중합체. 또는, EPDM 또는 ABS로 개질된 폴리아미드 또는 코폴리아미드: 및 가공 동안 축합된 폴리아미드(RIM 폴리아미드 시스템).
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드, 폴리에테르 이미드, 폴리에스테르 이미드, 폴리하이단토인 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 디카복실산 및 디알콜로부터 및/또는 하이드록시카복실산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸올사이클로헥산 테레프탈레이트, 폴리하이드록시벤조에이트, 및 하이드록시 말단 폴리에테르로부터 유도된 블록 폴리에테르 에스테르; 및 폴리카보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르.
18a. 산 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카보네이트 및 폴리에스테르 카보네이트.
20. 폴리설폰, 폴리에테르 설폰 및 폴리에테르 케톤.
21. 한쪽은 알데히드로부터 유도되고 다른 한쪽은 페놀, 우레아 또는 멜라민으로부터 유도된 가교결합된 중합체, 예를 들어 페놀-포름알데히드 수지, 우레아-포름알데히드 수지 및 멜라민-포름알데히드 수지.
22. 건성 및 비건성 알키드 수지.
23. 포화 및 불포화 디카복실산과 다가 알콜 및 가교결합제로서의 비닐 화합물과의 코폴리에스테르로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지 및/또는 인화성이 낮은 이의 할로겐 함유 변형물.
24. 치환된 아크릴레이트, 예를 들어 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트로부터 유도된 가교결합성 아크릴계 수지.
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지와 가교결합된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴레이트 수지.
26. 지방족, 치환족, 헤테로사이클릭 또는 방향족 글리시딜 화합물로부터 유도된 가교결합된 에폭시 수치, 예를 들어 촉진제의 존재 또는 부재하에 무수물 또는 아민과 같은 통상의 경화제를 통해 가교결합된 비스페놀 A 디글리시딜 에테르, 비스페놀 F 디글리시딜 에테르 생성물.
27. 중합체 속에서 균질한 방법으로 화학적으로 개질된 셀룰로즈, 천연 고무, 젤라틴 및 이의 유도체와 같은 천연 중합체, 예를 들어 셀룰로즈 아세테이트, 셀룰로즈 프로피오네이트 및 셀룰로즈 부티레이트 또는 메틸 셀룰로즈와 같은 셀룰로즈 에테르; 및 로진 및 유도체.
28. 위에서 언급한 중합체들의 혼합물(다중 혼합물), 예를 들어 PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PU, PC/열가소성 PU, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PC/ABS 또는 PBT/PET/PC.
화합물의 신규한 혼합물 이외에, 신규한 조성물은 또한 다른 안정화제 또는 다른 첨가제, 예를 들어 산화방지제, 다른 광 안정화제, 금속 불활성화제, 포스파이트 또는 포스포나이트를 포함할 수 있다. 다음과 같은 안정화제가 이들의 예이다:
1. 산화방지제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예를 들어 2,6-디-3급-부틸-4-메틸페놀, 2-3급-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-n-부틸페놀,2,6-디-3급-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리사이클로헥실페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시메틸페놀, 선형 또는 측쇄로 분지된 노닐 페놀, 예를 들어 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데크-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데크-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데크-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예를 들어 2,4-디옥틸티오메틸-6-3급-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 하이드로퀴논 및 알킬화 하이드로퀴논, 예를 들어 2,6-4-3급-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-아밀하이드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트, 비스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐) 아디페이트.
1.4. 토코페롤, 예를 들어 (α-토코페롤, β-토코페롤,
Figure pat00012
-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민 E).
1.5. 하이드록실화 티오디페닐 에테르, 예를 들어 2,2'-티오비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스-(3,6-디-2급-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐)디설파이드.
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예를 들어 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α, α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-3급-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-3급-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸-페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸-페닐)디사이클로펜타디엔, 비스[2-(3'-3급-부틸-2'하이드록시-5'-메틸벤질)-6-3급-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스-(3,5-디메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를 들어 3,5,3',5'-테트라-3급-부틸-4,4'-디하이드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-하이드록시-3,5-디메틸벤질머캅토아세테이트, 트리데실-4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질머캅토아세테이트, 트리(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)설파이드, 이소옥틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질머캅토아세테이트.
1.8. 하이드록시벤질화 말로네이트, 예를 들어 디옥타데실-2,2-비스-(3,5-4-3급-부틸-2-하이드록시벤질)말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질)말로네이트, 디-도데실머캅토에틸-2,2-비스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트.
1.9. 방향족 하이드록시벤질 화합물, 예를 들어 1,3,5-트리스-(3,5-4-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물, 예를 들어 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-4-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트,1,3,5-트리스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)-헥사하이드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11. 벤질포스포네이트, 예를 들어 디메틸-2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산의 모노 에틸 에스테르의 칼슘 염.
1.12. 아실아미노페놀, 예를 들어 4-하이드록시아우르아닐리드, 4-하이드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)카바메이트.
1.13. 1가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, 이소-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥스아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄과의 β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.14. 1가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, 이소-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥스아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄과의 β-(5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르.
1.15. 1가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥스아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2] β-(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.16. 1가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥스아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄과의 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 아세트산의 에스테르.
1.17. β-(3,5-디-4급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들어 N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라지드, N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐]프로피오닐옥시)에틸]옥스아미드[나우가드
Figure pat00013
XL-1, 공급원: 유니로얄(Uniroyal)].
1.18. 아스코르브산(비타민 C)
1.19. 아민계 산화방지제, 예를 들어 N,N'-디-이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-2급-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디사이클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-사이클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔설파모일)디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-2급-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시-디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-3급-옥틸페닐)-1-나프닐아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예를 들어, p,p'-디-3급-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-3급-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, 3급-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노알킬화 및 디알킬화 3급-부틸/3급-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 이소프로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 3급-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디하이드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노알킬화 및 디알킬화 3급-부틸/3급-옥틸페노티아진의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 3급-옥틸-페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리드-4-일)헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리드-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올.
2. UV 흡수제 및 광 안정화제
2.1. 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들어 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-2급-부틸-5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3,5'-디-3급-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α, α-디메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀];2-[3'-3급-부틸-5'-(2-메톡시카보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300과의 에스테르교환반응 생성물; [R-CH2CH2-COO-CH2CH3-]2(여기서, R은 3'-3급-부틸-4'-하이드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐이다), 2-[2'-하이드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸: 2-[2'-하이드록시-3'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-5'-(α,α-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸.
2.2. 2-하이드록시벤조페논, 예를 들어 4-하이드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리하이드록시 및 2'-하이드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 치환된 벤조산의 에스테르 및 치환되지 않은 벤조산의 에스테르, 예를들어 4-3급 부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-3급-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-3급-부틸페닐 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-3급-부틸페닐 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를 들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예를 들어 2,2'-티오-비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물, 예를 들어 추가의 리간드, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-사이클로헥실디에탄올아민이 존재하거나 부재하는 1:1 또는 1:2 착물, 니켈 디부틸디티오카바메이트, 메틸 또는 에틸 에스테르와 같은 모노알킬 에스테르의 니켈 염, 4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질포스폰산의 니켈 염, 2-하이드록시-4-메틸페닐 운데실케톡심과 같은 케톡심의 니켈 착물, 추가의 리간드가 존재하거나 부재하는 1-페닐-4-라우로일-5-하이드록시피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애된 아민, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)석시네이트, 비스(1,2,2,6,6-꿴타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-부틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 석신산과의 축합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-3급-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진과의 선형 또는 환형 축합물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라진온), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-하이드록시-3,5-디-3급-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)석신에이트, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 환형 축합물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리 딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘[참조: CAS Reg. No. [1365O4-96-6]]; N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실석신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실석신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4.5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-사이클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸과 에피클로로하이드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포르밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메털렌디아민, 4-메톡시메틸렌-말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-하이드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말레산 무수물-α-올레핀-공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물.
2.7. 옥스아미드, 예를 들어, 4,4'-디옥틸옥시옥스아닐리드, 2,2'-디에톡시옥스아닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-3급-부톡스아닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-3급-부톡스아닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥스아닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥스아미드, 2-에톡시-5-3급-2'-에톡스아닐리드 및 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-3급-부톡스아닐리드와의 이의 혼합물, o- 및 p-메톡시 이치환된 옥스아닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시 이치환된 옥스아닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시 )-2-하이드록시-페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-도데실옥시-프로폭시)]페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-부톡시-2-하이드록시-프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-하이드록시프로필옥시]페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 불활성화제, 예를 들어 N,N'-디페닐옥스아미드, N-살리실랄-N'-살리실로일하이드라진, N,N'-비스(살리실로일) 하이드라진, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐) 하이드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디하이드라지드, 옥스아닐리드, 이소프탈로일 디하이드라지드, 세바코일 비스페닐하이드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디하이드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디하이드라지드, N,N'-버스(살리실로일)티오프로피오닐 디하이드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들어 트리페닐 포스파이트, 티페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-3급-부틸페닐) 포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-3급-부틸-4-메틸페닐)-펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-3급-부틸페닐) 4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-3급-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-3급-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐) 메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐) 에틸 포스파이트, 2,2',2" -니트릴로[트리에틸트리스(3,3',5,5'-테트라-3급-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트], 2-에틸헥실(3,3',5,5'-테트라-3급-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트.
다음과 같은 포스파이트가 특히 바람직하다:
트리스(2,4-디-3급-부틸페닐) 포스파이트[이르가포스
Figure pat00014
168, 제조원: 시바-가이기(Ciba-Geigy)], 트리스(노닐페닐) 포스파이트,
Figure pat00015
Figure pat00016
5. 하이드록실아민, 예를 들어 N,N-디벤질하이드록실아민, N,N-디에틸하이드록실아민, N,N-디옥틸하이드록실아민, N,N-디라우릴하이드록실아민, N,N-디테트라데실하이드록실아민, N,N-디헥사데실하이드록실아민, N,N-디옥타데실하이드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실하이드록실아민, N-헵타데실-N-옥타데실하이드록실아민, 수소화된 수지(tallow) 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬하이드록실아민.
6. 니트론, 예를 들어 N-벤질-α-페닐-니트론, N-에틸-α-메틸-니트론, N-옥틸-α-헵틸-니트론, N-라우릴-α-운데실-니트론, N-테트라데실-α-트리데실-니트론, N-헥사데실-α-펜타데실-니트론, N-옥타데실-α-헵타데실-니트론, N-헥사데실-α-헵타데실-니트론, N-옥타데실-α-펜타데실-니트론, N-헵타데실-α-헵타데실-니트론, N-옥타데실-α-헥사데실-니트론, 수소화된 수지 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬하이드록실아민으로부터 유도된 니트론.
7. 티오시너지스트, 예를 들어 디라우릴 티오디프로피오네이트 또는 디스테아릴 티오디프로피오네이트.
8. 과산화물 스캐빈저, 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 머캅토벤즈이미다졸 또는 2-머캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카바메이트, 디옥타데실 디설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실머캅토)프로피오네이트.
9. 폴리아미드 안정화제, 예를 들어 요오드화물 및/또는 인 화합물과 배합된 구리염 및 2가 망간 염.
10. 염기성 보조안정하제, 예를 들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 하이드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속 염 및 알칼리 토금속 염, 예를 들어 칼슘 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 마그네슘 베헤네이트, 마그네슘 스테아레이트, 나트륨 리시놀레에이트 및 칼륨 팔미테이트, 안티몬 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트.
11. 성핵제, 예를 들어 탤컴, 이산화티탄 또는 산화마그네슘과 같은 금속 산화물, 바람직하게는 알칼리 토금속의 인산염, 탄산염 또는 황산염과 같은 무기 물질; 모노카복실산 또는 폴리카복실산 및 이의 염, 예를 들어 4-3급-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 나트륨 석시네이트 또는 나트륨 벤조에이트와 같은 유기 화합물; 이온성 공중합체(이오노머)와 같은 중합체성 화합물.
12. 충전제 및 강화제, 예를 들어 탄산칼슘, 규산염, 유리 섬유, 유리 구(glass hulb), 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연, 목재 가루 및 기타 천연 생성물의 가루 또는 섬유, 합성 섬유.
13. 기타 첨가제, 예를 들어 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 레올로지 첨가제, 촉매, 유량 조절제, 형광 증백제, 방염제, 대전방지제 및 발포제.
14. 벤조푸라논 및 인돌리논, 예를 들어 미국 특허 제4,325,863호, 미국 특허 제4,338,244호, 미국 특허 제5,175,312호, 미국 특허 제5,216,052호, 미국 특허 제5,252,643호, 독일 공개특허공보 제4316611호, 독일 공개특허공보 제4316622호, 독일 공개특허공보 제4316876호, 유럽 공개특허공보 제0589839호 또는 유럽 공개특허공보 제O5911O2호에 기재되어 있는 것들 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 5,7-디-3급-부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-3급-부틸-3-(4-[2-하이드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-3급-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-3급--부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(3,4-디메틸페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(2,3-디메틸페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온.
신규한 안정화제 혼합물은 염색되거나 염색되지 않은 또는 날염된 텍스타일 섬유 재료의 광화학적 및 열적-안정화에 특히 적합하고, 이 또한 본 발명에 의해 제공된다. 상응하는 방법은 텍스타일 섬유 재료를 하나 이상의 화학식 1의 화합물과 하나 이상의 화학식 2의 화합물을 포함하는 안정화제 혼합물로 처리함을 포함한다.
처리용으로 적합한 텍스타일 섬유 재료는 주로 폴리에스테르 또는 셀룰로즈 아세테이트를 함유하는 섬유 재료이다. 용어 폴리에스테르 섬유는, 예를 들어 2급 셀룰로즈 아세테이트 섬유 및 트리아세테이트 섬유와 같은 셀룰로즈 에스테르 섬유, 및 특히 산 개질되었을 수 있는 선형 폴리에스테르 섬유(이러한 섬유들은, 예를 들어 테레프탈산을 에틸렌 글리콜로 축합시키거나 이소프탈산 또는 테레프탈산을 1,4-비스(하이드록시메틸)사이클로헥산으로 축합시킴으로써 수득된다)를 의미하고 테레프탈산 및 이소프탈산의 에틸렌 글리콜과의 공중합체 섬유를 또한 의미하는 것으로 이해되어져야 한다. 텍스타일 섬유 산업에서 통상의 폴리에스테르 섬유는 특히 테레프탈산 및 에틸렌 글리콜로 구성된다.
처리될 텍스타일 섬유 재료는 또한 폴리에스테르 섬유와 다른 섬유와의 혼방직물일 수 있고, 예를 들어 폴리아크릴로니트릴/폴리에스테르, 폴리아미드/폴리에스테르, 폴리에스테르/면, 폴리에스테르/비스코스 또는 폴리에스테르/울 섬유의 혼방물이고, 이들은 통상적인 뱃치식 또는 연속 공정으로 날염되거나 염색된다.
텍스타일 섬유 재료는 여러 가지 완성품, 예를 들어 편성물 또는 제직물과 같은 피스(piece) 또는 치즈, 경사 비임(warp beam)상의 사일 수 있다.
또한, 의복 분야에서 최소한 부분적으로 광 투과성인 티스타일 직물이 신규한 본 발명의 방법을 적용하는 데 매우 적합하다. 이러한 텍스타일을 신규한 본 발명의 방법에 따라 처리하는 경우, 의복 속의 피부 조직이 자외선 조사로 인해 손상되지 않도록할 수 있다. 이는 신규한 안정화제 또는 안정화제 혼합물로 처리한 텍스타일 섬유 재료의 자외선 차단 지수(UPF=Ultraviolet Protection Factor)가 처리하지 않은 직물에 비해 현저히 증가된다는 사실로 입증된다.
UPF는 자외선 비차단시의 유해한 자외선 용량과 자외선 차단시의 유해한 자외선 용량의 비로서 정의된다. 따라서, UPF는 또한 비처리 섬유 재료 및 신규한 본 발명의 화합물 또는 이들 화합물의 신규한 혼합물로 처리된 섬유 재료의 자외선 투과도의 측정치이다. 텍스타일 섬유 재료의 UPF의 측정은 국제공개공보 제WO 94/O4515호 또는 문헌[참조: J. Soc. Cosmet. Chem. 40, pages 127-133(1989)]에 설명되어 있고 유사하게 수행할 수 있다.
본 발명의 신규한 안정화제 혼합물은 섬유 재료의 중량을 기준으로 하여, 예를 들어 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5중량%의 양으로 사용한다.
본 발명의 신규한 안정화제 혼합물은 수 용해도가 낮아 분산된 형태로 사용된다. 이러한 목적으로, 예를 들어, 적합한 분산제를 사용하고, 예를 들어 석영 비이드 및 고속 교반기를 사용하여 적용 조건에 맞도록 미세하게 연마한다.
안정화제 혼합물에 적합한 분산제의 예는 다음과 같다.
- 알킬렌 옥사이드 부가물의 산 에스테르 또는 이의 염, 예를 들어 페놀 1mol과 에틸렌 옥사이드 4 내지 4Omol의 다중부가물의 산 에스테르 또는 이의 염, 또는 4-노닐페놀 1mol, 디노닐페놀 1mol 또는, 특히 치환되거나 치환되지 않은 스티렌 1 내지 3mol을 페놀 1mol에 가함으로써 제조된 화합물 1mol과 에틸렌 옥사이드 6 내지 30 mol로부터의 부가물의 인산 에스테르,
- 폴리스티렌설포네이트,
- 지방산 타우라이드,
- 알킬화 디페닐 옥사이드 모노설포네이트 또는 디설포네이트,
- 폴리카복실산 에스테르의 설포네이트,
- 각각 탄소수 8 내지 22의 지방 아민, 지방 아미드, 지방산 또는 지방 알콜과 또는 탄소수 3 내지 6의 3가 내지 6가 알칸올과 에틸렌 옥사이드 및/또는 프로필렌 옥사이드 1 내지 6Omol, 바람직하게는 2 내지 3Omol의 부가물(이 부가물은 유기 디카복실산 또는 무기 다중염기산을 사용하여 산 에스테르로 전환시킨다),
- 리그닌설포네이트, 및 매우 특히
- 포름알데히드 축합물, 예를 들어, 리그닌설포네이트 및/또는 페놀 및 포름알데히드의 축합물, 방향족 설폰산과 포름알데히드의 축합물, 예를 들어, 디톨릴 에테르 설포네이트와 포름알데히드의 축합물, 나프탈렌 설폰산 및/또는 나프톨- 또는 나프틸아민 설폰산과 포름알데히드의 축합물, 페놀설폰산 및/또는 설폰화 디하이드록시디페닐 설폰 및 페놀 및/또는 크레졸과 포름알데히드 및/또는 우레아의 축합물, 및 디페닐 옥사이드 디설폰산 유도체와 포름알데히드의 축합물.
안정화될 텍스타일 섬유 재료가 염색된 텍스타일 섬유 재료인 경우, 바람직하게는, 특히 적합한 염료는 수 용해도가 낮은 분산 염료이다. 결과적으로, 이들은 주로 미세한 분산액 형태로서 염액 속에 존재한다. 이들은 각종 염료 그룹에 해당될 수 있으며, 예를 들어, 아크리돈, 아조, 안트라퀴논, 쿠마린, 메틴, 페리논, 나프토퀴논이민, 퀴노프탈론, 스티렌 또는 니트로 염료이다. 또한, 본 발명에 따라서 분산 염료의 혼합물을 사용할 수도 있다.
염색은 연속 또는 배치 공정으로 수성 염액으로부터 수행된다. 배치 공정(흡착 공정)인 경우, 액비는 광범위하게 선택될 수 있으며, 예를 들어, 1:1 내지 10:10, 바람직하게는 1:6 내지 1:50이다. 염색이 수행되는 온도는 50℃ 이상이고, 일반적으로는 140℃ 이하이다. 바람직하게는, 80 내지 135℃이다.
연속 염색 공정인 경우, 염료 이외에 추가의 보조제를 포함할 수 있는 염액은, 예를 들어, 패드-맹글링, 분무 또는 니트 패딩을 통해 재료에 적용하고 열고착 방법 또는 HT 스팀 방법을 사용하여 현색한다.
선형 폴리에스테르 섬유 및 셀룰로즈 섬유는 100℃보다 높은 온도, 바람직하게는 110℃ 내지 135℃의 온도 및 대기압 또는 초대기압하의 밀폐된 내압(pressure-resistant) 장치에서 고온 공정으로 염색시키는 것이 바람직하다. 적합한 밀폐 용기는, 예를 들어, 치즈 또는 빔 염색 장치와 같은 순환 장치, 윈취 백(winch beck), 제트 또는 드럼 염색기, 머프 염색 장치, 패들 또는 지거가 있다.
2급 셀룰로즈 아세테이트 섬유는 80 내지 85℃의 온도에서 염색시키는 것이바람직하다.
본 발명의 신규한 안정화제 혼합물을 염색 과정에 사용하는 경부, 이 과정은, 예를 들어, 섬유 재료를 먼저 이들 안정화제 혼합물로 처리한 후에 염색을 수행하거나, 바람직하게는 섬유 재료를 염욕 속에서 안정화제 혼합물과 동시에 염료로 처리하도록 하는 것이 바람직하다. 그러나, 안정화제 혼합물은 또한 가공된 염색물에 후속적으로 예를 들어, 190 내지 230℃에서 30초 내지 5분 동안 열고착법에 의해 적용될 수 있다. 또한, 텍스타일 재료를 신규한 안정화제 혼합물로 전처리할 수도 있으며, 이 경우, 텍스타일 재료는 동시에 치수적으로 안정화된다.
염액은 또한 추가의 첨가제, 예를 들어, 염색 보조제, 분산제, 캐리어, 울보호제, 습윤제 및 소포제를 포함할 수 있다.
염욕은 추가로 무기산(예: 황산 또는 인산)을 함유하거나, 보다 편리하게는 유기산(예: 포름산, 아세트산, 옥살산 또는 시트르산과 같은 치방족 카복실산) 및/또는 염(예: 암모늄 아세테이트, 황산암모늄 또는 나트륨 아세테이트)을 함유할 수 있다. 특히 산의 사용 목적은 본 발명에 따라 사용되는 액의 pH를 조정하는 것이며, 바람직한 pH의 범위는 4 내지 5이다.
염료, 안정화제 혼합물 및, 필요한 경우, 추가의 첨가제를 함유하며 pH가 4.5 내지 5.5로 조절된 염욕은, 바람직하게는 처음에 40 내지 80℃에서 5분 동안 섬유 재료를 도입시킨 다음, 온도를 10 내지 20분에 걸쳐서 125 내지 130℃로 승온시키고, 이 온도에서 15 내지 90분, 바람직하게는 30분 동안 계속 처리한다.
염색물은 염액을 50 내지 80℃로 냉각시키고, 염색물을 물로 세정하고, 필요한 경우, 알칼리성 매질 속에서 통상적인 방법으로 이들을 환원, 세정함으로써 가공한다. 이어서, 염색물을 재차 세정하여 건조시킨다. 배트(vat) 염료를 셀룰로즈 부분에 사용하는 경우, 제품을 통상적으로 우선 pH 6 내지 12.5에서 하이드로설파이트로 처리한 다음, 산화제로 처리하고 최종적으로 세정한다.
날염물의 제조시, 신규한 안정화제 혼합물을 수성 분산액의 형태로서 날염 페이스트에 가한다. 날염 페이스트는 적합한 안정화제 혼합물을, 예를 들어 날염 페이스트의 중량을 기준으로 하여, 0.1 내지 10%, 바람직하게는 0.1 내지 5%의 양으로 포함한다.
날염 페이스트에 가해지는 염료의 양은 목적하는 색조에 좌우되며, 일반적으로, 사용되는 텍스타일 재료를 기준으로 하여, 0.01 내지 15중량%, 바람직하게는 0.02 내지 10중량%의 함량이 적합한 것으로 밝혀졌다.
날염 페이스트는, 염료 및 수성 안정화제 혼합물 분산액 이외에, 편리하게는 산 안정성 중점제, 바람직하게는 옥수수 분말 유도체, 특히 나트륨 알기네이트와 같은 천연 산 안정성 중점제를 단독으로 또는 개질된 셀룰로즈, 특히 바람직하게는 20 내지 25중량%의 카복시메틸셀룰로즈와의 혼합물로서 포함한다. 또한, 날염 페이스트는 부티로락톤 또는 인산수소나트륨과 같은 산 공여체, 방부제, 금속이온봉쇄제, 유화제, 수불용성 용매, 산화제 또는 탈기제를 포함할 수도 있다.
특히 적합한 방부제는 파라포름알데히드 또는 트리옥산과 같은 포름알데히드 공여체이고, 특히 농도가 약 30 내지 40중량%인 포름알데히드 수용액이고, 적합한 금속이온봉쇄제의 예는 나트륨 니트릴로트리아세테이트, 나트륨 에틸렌디아민테트라아세테이트 및, 특히 나트륨 폴리메타포스페이트(특히, 나트륨 헥사메타포스페이트)이고, 특히 적합한 유화제는 알킬렌 옥사이드와 지방 알콜과의 부가물, 특히 올레일 알콜과 에틸렌 옥사이드와의 부가물이고, 적합한 수불용성 용매는 고비점 불포화 탄화수소, 특히 비점 범위가 약 160 내지 210℃인 파라핀(용매 나프타)이고, 적합한 산화제의 예는 방향족 니트로 화합물, 특히 방향족 모노- 또는 디니트로카복실산 또는 -설폰산(이는 알킬렌 옥사이드 부가물의 형태일 수 있다), 특히 니트로벤젠설폰산이고, 적합한 탈기제의 예는 고비점 용매, 특히 투르펜틴유, 고급 알콜, 바람직하게는 C8-C10알콜, 테르펜 알콜, 또는 광유계 및/또는 실리콘유계 탈기제이고, 특히 광유와 실리콘유와의 혼합물 약 15 내지 25중량% 및 2-에틸-n-헥산올과 같은 C8알콜 약 75 내지 85중량%로 이루어진 시판중인 제형물이다.
섬유 재료를 날염하는 과정에서, 유리하게는 통상적인 구조의 날염기, 예를 들어, 잉크제트 날염기, 비구로(vigoureux) 날염기, 인타글리오(intaglio) 날염기, 회전식 스크린 날염기 또는 평판인쇄식 날염기를 사용하여 날염 페이스트를 섬유 재료의 전부 또는 일부에 직접 적용한다.
날염 후, 섬유 재료를 150℃ 이하, 바람직하게는 80 내지 120℃의 온도예서 건조시킨다.
이어서, 재료를 바람직하게는 100 내지 220℃의 온도에서 열처리하여 안정화시킨다. 열처리는 일반적으로 초과열 증기를 사용하여 가압하에 수행한다.
온도에 따라, 이러한 안정화 과정을 20초 내지 10분 동안, 바람직하게는 4내지 8분 동안 수행한다.
날염물 역시 물로 세정함으로써 통상적인 방식으로 가공하고, 가공은, 필요한 경우, 알칼리성 매질 속에서, 예를 들어, 나트륭 디티오나이트를 사용하여 추가로 환원, 세정함으로써 수행할 수 있다. 후자의 경우, 날염물은 재차 세정하여 탈수시키고 건조시킨다.
신규한 안정화제 혼합물로 처리된 텍스타일 섬유는 쾅, 산소 및 열로 인한 손상에 대한 내성이 우수하다. 특히, 본 발명의 신규한 방법을 사용하여 광견뢰도 및 내승화성이 높은 폴리에스테르 염색물 및 날염물을 수득할 수 있다. 본 발명의 신규한 방법에서 섬유 재료의 특정한 전처리 및 후처리는 불필요하다.
실시예에서, %는 중량을 기준으로 한다. 염료 및 자외선 흡수제의 양은 순수 물질을 기준으로 한다.
실시예 1:
얼음 984g을 교반하면서 크실렌 1327g 속의 시아누르산 클로라이드 541.4g의 혼합물(이성체 혼합물)에 도입한다. 이어서, 철저하게 교반하면서, 21% 나트륨 메틸머캅타이드 수용액 113Og을 10분에 걸쳐서 투입하고, 그 동안 내부 온도를 약 30℃로 승온시킨다. 1시간 동안 계속 교반한다. 상분리 후, 하부의 수성상을 분리 제거한다. 유기상을 물 885g으로 1회 세척하여 1-메틸티오-3,5-디클로로-s-트리아진 18중량%와 1,3-비스-메틸티오-5-클로로-s-트리아진 7.1중량%를 함유하는 크실렌 용액을 2O44g 수득한다.
실시예 2:
무수 염화알루미늄 63.71g을 25℃에서 철저하게 교반하면서 1-메틸티오-3,5-디클로로-s-트리아진 36g과 1,3-비스-메틸티오-5-클로로-s-트리아진 14.2g을 함유하는, 실시예 1에서 수득한 크실렌 용액 2OOg에 도입한다. 혼합물을 15분 동안 교반한다. 이어서, 설폴란 11Og 속의 레조르시놀 52.64g의 용액을 1.5시간에 걸쳐 반응 혼합물에 적가한다. 그 동안, 반응 온도를 초기의 45℃에서 약 50℃로 승온시킨다. 최종적으로, 축합반응을 70℃에서 1.5시간 이상 동안 교반한 다음 80℃에서 1시간 동안 교반함으로써 종결시킨다. 유액형 혼합물을 50℃로 냉각시키고, 프리델-크래프트 착물을, 32% 염산 62g과 물 455g과의 혼합물을 주의 깊게 적가함으로써 가수분해시킨다. 이어서, 크실렌을 공비 증류시켜 제거하고, 생성물 현탁액을 흡인 여과한다. 여과 물질을 온수로 세정하고 80℃에서 감압하에 건조시켜 다음 화학식 6의 화합물 및 화학식 7의 화합물을 15 : 85의 중량비로 함유하는 분말을 78.1g 수득한다.
[화학식 6]
Figure pat00017
[화학식 7]
Figure pat00018
실시예 3:
2N 수산화나트륨 용액 6Oml를, 메틸 에틸 케톤 18Oml 수득될 수 있는 생성물 혼합물 2Og의 현탁액에 적가한다. 이어서, 디메틸 설페이트 13.99g을 33 내지 35℃에서 1시간 동안 혼합물에 적가한다. 그 다음, 혼합물을 16시간 동안 교반하고, 생성물 혼합물을 2N 염산으로 중화시킨다. 유기 용매를 공비 증류시켜 분리 제거하고, 최종적으로 결정성 생성물을 여과시켜 분리 제거한다. 여과 잔사를 물로 세정하고 70℃에서 감압하에 건조시켜 다음 화학식 8의 화합물, 화학식 9의 화합물 및 화학식 10의 화합물을 71 : 13 : 16의 중량비로 함유하는 분말을 수득한다.
[화학식 8]
Figure pat00019
[화학식 9]
Figure pat00020
[화학식 10]
Figure pat00021
실시예 4 :
실시예 3에 기재한 과정을 반복하지만, 디메틸 설페이트 13.99g 대신 디에틸 설페이트 17.88g을 사용하고 반응 온도를 40℃로 유지시킨다. 이로써 다음 화학식 11의 화합물 및 화학식 12의 화합물을 필수적으로 포함하는 생성물 혼합물이 수득된다.
[화학식 11]
Figure pat00022
[화학식 12]
Figure pat00023
실시예 5:
21% 나트륨 메틸 머캅타이드 수용액 15.4g을 1시간에 걸쳐서 80℃에서 1-메틸티오-3,5-디클로로-s-트리아진(영국 공개특허공보 제1,176,770호의 실시예 1에서와 같이 제조) 28.7g의 톨루엔 용액에 적가한다. 이어서, 물 50ml를 가하고, 혼합물을 90 내지 95℃에서 1시간 이상 교반한다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 얼음/빙수 및 1N 수산화나트륨 용액 1OOml를 가한다. 단시간 동안 교반한 후, 유기상을 분리제거하고, 물로 재차 세척한 후, 염화칼슘으로 건조시킨다.
무수 염화알루미늄(III) 14.7g을 1,3-비스메틸티오-5-클로로-s-트리아진 17.1중량%를 함유하는, 생성된 톨루엔 용액 121.5g에 도입한다. 이어서, 레조르시놀 12.1g과 설폴란 25ml의 용액을 45 내지 50℃의 온도에서 25분 동안 적가한다. 그 다음, 75℃에서 3시간 동안 교반한다. 유액을 약 60℃로 냉각시키고, 프리델-크래프트 착물을 진한 염산 15ml와 물 2OOml와의 혼합물로 주의 깊게 분해시킨다. 톨루엔을 공비 증류시켜 분리 제거하고, 생성물 현탁액을 흡인 여과한다. 잔사를 온수로 철저하게 세척하여 압착시킨다. 조생성물을 물/디옥산으로부터 재결정화시켜 분말로서 다음 화학식 13의 화합물을 수득한다.
[화학식 13]
Figure pat00024
실시예 6 :
탄산나트륨 3.37g을 디메틸 메틸포스포네이트 27.9g 속의 실시예 5의 화합물 8.43g의 현탁액에 가하고, 혼합물을 120℃에서
Figure pat00025
시간 동안 가열한다. 반응 혼합물을 75 내지 80℃로 냉각시키고, 메탄올 7Oml와 물 2Oml와의 혼합물을 적가한다. 실온으로 냉각시킨 후, 고체 침전물을 흡인 여과하고, 소량의 메탄올로 세척한 다음, 최종적으로 온수로 철저하게 세척한다. 70℃에서 감압하에 건조시키고, 석유에테르/디옥산으로부터 재결정화시킴으로써 정제하여 백색 분말로서 다음 화학식 14의 화합물을 수득한다.
[화학식 14]
Figure pat00026
실시예 7 :
얼음 25Og을 교반하면서 톨루엔 4OOml 속의 시아누르산 클로라이드 92.2g의 혼합물에 도입한다. 그 다음, 물 25Oml 속의 나트륨 에탄티올레이트 61.9g의 용액을 약 1.5시간 동안 철저하게 교반하면서 적가하고, 그 동안 내부 온도를 서서히 약 30℃로 승온시킨다. 약 48℃에서 15분 이상 계속 교반하고, 혼합물을 방치하여 냉각시킨다. 상분리 후, 수성 상을 분리 제거하고 유기상을 물 5OOml 분획으로 3회 세척하여, 염화칼슘으로 건조시킨 후, 1-에틸티오-3,5-디클로로-s-트리아진 11.5중량%와 1,3-비스에틸티오-5-클로로-s-트리아진 3.48중량%를 함유하는 톨루엔 용액을 590.9g 수득한다.
실시예 8 :
무수 염화알루미늄(III) 95.8g을 실온에서 철저하게 교반하면서 실시예 7로부터의 톨루엔 용액 564.5g에 도입시키고 약하게 가열하여 적색 용액을 형성시킨다. 40℃로 계속 가열하고, 설폴란 165ml 속의 레조르시놀 79.2g의 용액을 1.5시간 동안 적가한다. 그 동안, 내부 온도를 57℃로 승온시킨다. 이어서, 유액을 80℃에서 4시간 동안 교반한다. 약 50℃로 냉각된 반응 물질을 얼음 1OOOg/물 25Oml에 부어 넣는다. 이어서, 톨루엔을 공비 증류시켜 제거하고, 생성된 수성 현탁액을 여과한다. 중성 반응물이 콩고 레드를 나타낼 때까지 잔사를 온수 및 냉수로 철저하게 세척한다. 이를 80℃에서 감압하에 건조시켜, 다음 화학식 6a의 화합물 및 화학식 7a의 화합물을 24 : 76의 중량비로 함유하는 담황색 분말을 133.7g 수득한다.
[화학식 6a]
Figure pat00027
[화학식 7a]
Figure pat00028
실시예 9:
2N 수산화나트륨 91.8ml를 물 100ml 속의 실시예 8로부터의 생성물 20g의 혼합물에 적가하고, 그 동안 온도를 20℃에서 유지시킨다. 이어서, 디메틸 설페이트 18.5g을 1.5시간 동안 적가하고, 그 동안 2N 수산화나트륨 용액을 동시에 적가함으로써 반응 혼합물의 pH를 11로 일정하게 유지시킨다. 그 다음, 혼합물을 실온에서 21시간 동안 교반하여 여과한다. 잔사를 물 속에서 재차 현탁시키고 묽은 염산으로 중화시킨다. 재여과 후, 잔사를 물로 철저하게 세척하고, 70℃에서 감압하에 건조시켜 다음 화학식 8a의 화합물 및 화학식 9a의 화합물을 22 : 78의 중량비로 함유하는 베이지색 분말을 수득한다.
[화학식 8a]
Figure pat00029
[화학식 9a]
Figure pat00030
염색 실시예 :
(i) 안정화제 제형물의 제조 :
실시예 3에서 수득한 안정화제 혼합물 10g, 트리스티릴페닐-폴리에틸렌 글리콜-인산의 트리에탄올아민 염의 10% 수용액 2Oml 및 석영 비드(직경 1mm) 25g을 고속 교반기에 두고, 16시간 동안 분쇄한다. 이어서, 분쇄된 물질을 미세한 메쉬의 체로 통과시킴으로써 유리 비드를 제거하고, 교반하면서 크산탄 검[예: 바이오폴리머 아게
Figure pat00031
0.5g을 가한 다음, 제형물의 안정화제 함량이 10중량%로 되도록 물로 조절한다. 분산액의 분말도는 약 0.5 내지 2㎛이다.
(ii) 흡착 염색에서의 용도
폴리에스테르 트리코트 샘플 1Og을 액비가 10 : 1인 HT 염색기[예 : 터보맷
Figure pat00032
, 공급원 : 니더하슬리에 소재하는 마티스(Mathis)]로 염색시킨다. 수성 염액은 황산암모늄 2g/ℓ, 염색 보조제[우니바딘 3-플렉스
Figure pat00033
0.5g/ℓ, (i)에서 제조한 자외선 흡수제 제형물 0.5중량%(폴리에스테르 트리코트 기준) 및 다음 화학식 15a의 염료 18.5중량%, 화학식 15b의 염료 18.5중량%, 화학식 15c의 염료 17.4중량%, 화학식 15d의 염료 11.6중량%, 화학식 15e의 염료 14.3 중량%, 화학식 15f의 염료 10.2중량% 및 화학식 15g의 염료 9.5중량%를 포함하는 염료 혼합물을 0.89중량%(폴리에스테르 트리코트 기준) 함유한다.
[화학식 15a]
Figure pat00034
[화학식 15b]
Figure pat00035
[화학식 15c]
Figure pat00036
[화학식 15d]
Figure pat00037
[화학식 15e]
Figure pat00038
[화학식 15f]
Figure pat00039
[화학식 15g]
Figure pat00040
염액은 아세트산을 사용하여 pH 5로 조절하고, 균질화시킨 다음, 가압 염색 용기내에 트리코트와 함께 넣는다. 염색을 70℃에서 개시한 다음, 내용물을 10분 동안 100℃로 가열하고 추가로 20분 동안 130℃로 가열한다. 이 온도에서 30분 동안 염색시킨 후, 내용물을 50℃로 냉각시키고 염색된 직물을 온냉 세정하고, 70℃에서 30% 수산화나트륨 용액 3ml/ℓ 및 나트륨 디티오나이트 2g/ℓ를 함유하는 액으로 환원 세정한다. 세정하여 건조시켜, 회색빛 보라색으로 염색되고 고열 광 견뢰도가 매우 우수한 폴리에스테르 트리코트를 수득한다.
(iii) 위(ii)에서 기재한 과정을 반복하지만, 폴리에스테르 트리코트를 위(i)에서 제조한 안정화제 제형물을 함유하지 않는 염액으로 염색시키는 경우, 생성된 염색물의 고온 광 견뢰도는 훨씬 낮다.
(iv) 위(ii)에서 기재한 과정을 반복하지만, 폴리에스테르 트리코트를 기준으로 하여, 염료 혼합물(이는 화학식 15a의 염료 13중량%, 화학식 15b의 염료 13중량%, 화학식 15c의 염료 38.1중량%, 화학식 15d의 염료 25.4중량%, 화학식 15e의 염료 4.4중량%, 화학식 15f의 염료 3.2중량% 및 화학식 15g의 염료 2.9중량%를 포함한다)을 1.15중량% 함유하는 염액으로 염색시키는 경우, 와인빛 적색으로 염색되고 고온 광 견뢰도가 매우 우수한 염색물이 수득된다.
(v) 위(iv)에서 기재한 과정을 반복하지만, 폴리에스테르 트리코트를 위(i)에서 제조한 안정화제 제형물을 함유하지 않는 염액으로 염색하는 경우, 고온 광 견뢰도가 훨씬 낮은 염색물이 수득된다.
날염 실시예 :
폴리에스테르 텍스쳐드 트리코트를 날염하기 위해, 날염 페이스트를 스톡 중점제, 염료 및 안정화제 혼합물로부터 제조한다.
스톡 중점제의 조성은 다음과 같다 :
전분 에테르 중점제 12Og
나트륨 알기네이트 중점제 48Og
인산수소나트륨 5g
날염 보조제 5g
염소산나트륨 5g
탈이온수 385g
스톡 중점제 1OOOg
날염 페이스트의 조성은 다음과 같다 :
염색 실시예에서의 화학식 15b의 염료 3.6g,
염색 실시예에서의 화학식 15c의 염료와 다음 화학식 16의
염료와의 염료 혼합물 3.4g,
염색 실시예에서의 화학식 15g의 염료 0.4g,
염색 실시예에서의 화학식 15f의 염료 1.6g,
20% 분쇄된 제형물로서의, 실시예 3에 따르는
안정화제 혼합물 6Og 및
스톡 중점제 931g.
[화학식 16]
Figure pat00041
날염 페이스트는 날염 테이블상에서 세정된 폴리에스테르 트리코트 시료편을 날염시키는 데 사용한다. 이어서, 샘플을 100℃에서 10분 동안 건조시킨 다음, 180℃에서 8분 동안 과열된 증기로 스티밍한다. 날염된 직물은 온냉 세정하고, 70℃에서 30% 수산화나트륨 용액 2ml/ℓ와 나트륨 디티오나이트 3g/ℓ를 함유하는 액으로 환원, 세정한다. 세정하고 건조시켜서, 적색빛 베이지색으로 날염되고 고온 광 견뢰도가 매우 우수한 폴리에스테르 트리코트를 수득한다.
위에서 기재한 과정을 반복하지만, 안정화제 제형물을 함유하지 않는 날염 페이스트를 사용하는 경우, 고온 광 견뢰도가 훨씬 낮은 염색물이 수득된다.
본 발명의 신규한 안정화제 혼합물은 유기 재료, 특히 광, 산소 또는 열에 의한 손상에 대한 안정화제로서 사용될 수 있다. 본 발명의 신규한 화합물 및 안정화제 혼합물은 광 안정화제(UV 흡수제)로서 매우 특히 적합하다.
본 발명의 신규한 혼합물의 특별한 잇점은 안정화된 물질의 우수한 내후성과 내황성 및 혼입되는 안정화제 혼합물의 광안정성을 포함한다. 본 발명의 신규한 혼합물의 우수한 기재 혼화성도 또한 언급할 만하다. 본 발명의 신규한 혼합물은 특히 현저한 고친화도를 나타낸다.

Claims (13)

  1. 화학식 1의 화합물 하나 이상 및 화학식 2의 화합물 하나 이상을 포함하는 안정화제 혼합물.
    화학식 1
    Figure pat00042
    화학식 2
    Figure pat00043
    위의 화학식 1 및 화학식 2에서,
    R1및 R1'는 서로 독립적으로 각각 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬, C3-C8사이클로알킬, C3-C6알케닐, 치환되지 않거나 치환된 아릴 또는 C7-C12아르알킬이고,
    R2, R2', R3, R3', R4및 R5는 서로 독립적으로 각각 수소: 치환되지 않거나치환된 직쇄 또는 측쇄 C1-C12알킬; 하나 이상의 N, S 또는 0 원자로 차단되고 추가로 치환될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C4-C28알킬; 또는 화학식 -CO-R6또는 화학식 -SO2-R6의 라디칼(여기서, R6은 C1-C12알킬, 치환되지 않거나 C1-C4알킬 치환된 페닐 또는 C7-C12아르알킬이다)이다.
  2. 제1항에 있어서, R1및 R1'가 서로 독립적으로 각각 C1-C6알킬, 치환되지 않거나 1 내지 3개의 메틸 그룹으로 치환된 사이클로헥실, 알릴, 이소프로페닐, 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로 치환된 페닐, 벤질 또는 2-메틸벤질인 안정화제 혼합물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, R1및 R1'가 동일하고 각각 C1-C4알킬, 사이클로헥실, 알릴, 페닐 또는 벤질인 안정화제 혼합물.
  4. 제1항에 있어서, R1및 R1'가 동일하고 각각 C1-C4알킬인 안정화제 혼합물.
  5. 제1항, 제2항 및 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, R2, R2', R3, R3', R4및 R5가 서로 독립적으로 각각 수소, C1-C4알킬, 화학식 -(CH2CHR7-O)n-H의 라디칼(여기서, R7은 메틸 또는 수소이고, n은 1 내지 9의 정수이다) 또는 벤조일인 안정화제 혼합물.
  6. 제1항에 있어서, 화학식 1a의 화합물, 화학식 1b의 화합물 및 화학식 2a의 화합물을 필수적으로 포함하는 안정화제 혼합물.
    화학식 1a
    Figure pat00044
    화학식 1b
    Figure pat00045
    화학식 2a
    Figure pat00046
    위의 화학식 1a 내지 화학식 2a에서,
    R1및 R2는 각각 제1항에서 정의한 바와 같다.
  7. 제6항에 있어서, 화학식 1a의 화합물 및 화학식 1b의 화합물 50 내지 95중량%와 화학식 2a의 화합물 50 내지 5중량%를 포함하는 안정화제 혼합물.
  8. 제6항에 있어서, 화학식 1a의 화합물 및 화학식 1b의 화합물 50 내지 80중량%와 화학식 2a의 화합물 50 내지 20중량%를 포함하고, 화학식 1a, 화학식 1b 및 화학식 2a에서 R1이 C1-C4알킬, 사이클로헥실, 알릴, 페닐 또는 벤질이고, R2가 C1-C4알킬, 화학식 -(CH2CHR4-0)n-H의 라디칼(여기서, R4는 메틸 또는 수소이고, n은 1 내지 9의 정수이다) 또는 벤조일인 안정화제 혼합물.
  9. 수성 유기 용액 형태의 시아누르산 할라이드를 수소 할로겐화물 수용체의 존재(화학식 3에서 X가 수소인 경우, 존재해야 함) 또는 부재하에 과량의 화학식 3의 화합물과 축합시키는 단계(i),
    단계(i)에서 수득된, 화학식 4a의 화합물 및 화학식 4b의 화합물을 포함하는 혼합물을 루이스 산의 존재하에 레조르시놀과 반응시키는 단계(ii) 및
    단계(ii)에 따라 수득된, 화학식 5a의 화합물 및 화학식 5b의 화합물을 포함하는 혼합물을 라디칼 R2를 포함하는 아실화제 또는 알킬화제를 사용하여 신규한 안정화제 혼합물로 전환시키는 단계(iii)를 포함하는, 제6항 내지 제8항 중의 어느한 항에 따르는 안정화제 혼합물의 제조방법.
    화학식 3
    R1-S-X
    화학식 4a
    Figure pat00047
    화학식 4b
    Figure pat00048
    화학식 5a
    Figure pat00049
    화학식 5b
    Figure pat00050
    위의 화학식 3 내지 화학식 5b에서,
    X는 수소 또는 양이온이고,
    R1은 제1항에서 정의한 바와 같다.
  10. 제1항에서 정의한 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 각각 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물을 유기 재료에 가함을 포함하여, 유기 재료를 광, 산소 및 열 중의 하나 이상에 의한 손상으로부터 안정화시키는 방법.
  11. 염색되지 않거나 염색된 또는 날염된 텍스타일 섬유 재료를 제1항에서 정의한 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 각각 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물로 처리함을 포함하여, 염색되지 않거나 염색된 또는 날염된 텍스타일 섬유 재료를 광화학적 및 열적으로 안정화시키는 방법.
  12. 염색되지 않거나 염색된 또는 날염된 텍스타일 섬유 재료를 제1항에서 정의한 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 각각 하나 이상 포함하는 안정화제 혼합물로 처리함을 포함하여, 염색되지 않거나 염색된 또는 날염된 텍스타일 섬유 재료의 자외선 차단 지수(UPF)를 증가시키는 방법.
  13. R1및 R1'가 서로 독립적으로 각각 직쇄 또는 측쇄 C1-C18알킬, C3-C8사이클로알킬, C3-C6알케닐 또는 C7-C12아르알킬이고, R4및 R5가 서로 독립적으로 각각 수소; 치환되지 않거나 치환된 직쇄 또는 측쇄 C1-C12알킬; 하나 이상의 N, S 또는 0 원자로 차단되고 추가로 치환될 수 있는 직쇄 또는 측쇄 C4-C28알킬; 또는 화학식 -CO-R6또는 화학식 -SO2-R6의 라디칼(여기서, R6은 C1-C12알킬, 치환되지 않거나 C1-C4알킬 치환된 페닐 또는 C7-C12아르알킬이다)인 제1항에 따르는 화학식 2의 화합물.
    화학식 2
    Figure pat00051
KR1019970008176A 1996-03-13 1997-03-12 안정화제혼합물 KR100442994B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH00663/96 1996-03-13
CH66396 1996-03-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970065686A KR970065686A (ko) 1997-10-13
KR100442994B1 true KR100442994B1 (ko) 2004-11-03

Family

ID=4192237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970008176A KR100442994B1 (ko) 1996-03-13 1997-03-12 안정화제혼합물

Country Status (12)

Country Link
US (2) US5871669A (ko)
EP (1) EP0795640B1 (ko)
JP (1) JP4118972B2 (ko)
KR (1) KR100442994B1 (ko)
CN (1) CN1091794C (ko)
AU (1) AU724535B2 (ko)
BR (1) BR9701269A (ko)
DE (1) DE59712948D1 (ko)
ES (1) ES2308783T3 (ko)
MX (1) MX9701878A (ko)
TW (1) TW438925B (ko)
ZA (1) ZA972131B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101296096B1 (ko) 2005-06-30 2013-08-19 시바 홀딩 인크 안정화된 전기변색 매질

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0962586A1 (de) * 1998-06-05 1999-12-08 Ciba SC Holding AG Verfahren zur Verbesserung der photochemischen und thermischen Stabilität von Färbungen und Drucken auf Polyesterfasermaterialien
US6613821B2 (en) * 1998-10-09 2003-09-02 Canon Kabushiki Kaisha Cloth treating agent, cloth, textile printing process and print
US6468609B2 (en) * 1999-12-01 2002-10-22 Agfa-Gevaert UV-absorbing film and its use as protective sheet
GB0107523D0 (en) * 2001-03-27 2001-05-16 Clariant Int Ltd Improvements relating to organic compounds
AU2002361680A1 (en) * 2001-12-13 2003-07-09 Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien Use of substituted hydroxylamines in metal phosphating processes
US6852152B2 (en) * 2002-09-24 2005-02-08 International Business Machines Corporation Colloidal seed formulation for printed circuit board metallization
WO2005066141A1 (en) * 2003-12-25 2005-07-21 Council Of Scientific & Industrial Research Antiozonant based functionalized benzotriazole uv absorbers and the process thereof
US20050155163A1 (en) * 2004-01-21 2005-07-21 Griffin Bruce O. Dye mixtures
US7365108B2 (en) * 2004-07-14 2008-04-29 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Pigmented ink-jet inks with improved print quality and reliability
US7527656B2 (en) * 2005-06-30 2009-05-05 Huntsman International Llc Process for the thermal and photochemical stabilization of dyed polyamide fiber material
CN100410307C (zh) * 2005-11-30 2008-08-13 中国石油化工股份有限公司 复合稳定剂及稳定的充油橡胶组合物
JP2009030214A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Senka Kk 繊維製品の耐光堅牢度向上剤及び耐光堅牢度向上方法
JP5228395B2 (ja) * 2007-08-09 2013-07-03 Ｄｉｃ株式会社 合成繊維起毛布用着色剤及び抜染剤、並びにそれらを用いた加工方法及びその方法により加工した合成繊維起毛布
ES2463674T3 (es) 2009-01-19 2014-05-28 Basf Se Pigmentos negros orgánicos y su preparación
CN104003952B (zh) * 2013-12-13 2016-09-28 保定市乐凯化学有限公司 4-[(4,6-二辛硫基-1,3,5-三嗪-2-基)氨基]-2,6-二叔丁基苯酚的制备方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH388253A (de) * 1963-01-24 1965-06-15 Geigy Ag J R Verfahren zum Schützen von Textilmaterial gegen Lichtschädigung
NL302937A (ko) * 1963-01-24
GB1114861A (en) * 1964-05-04 1968-05-22 Ciba Ltd New hydroxyphenyl-triazines and process for their manufacture
CH473604A (de) * 1965-02-19 1969-06-15 Ciba Geigy Verwendung von neuen Aryl-1,3,5-triazinen als Stabilisierungsmittel für nicht-textile organische Materialien
US3334046A (en) * 1965-07-20 1967-08-01 Geigy Chem Corp Compositions stabilized with substituted 1, 3, 5-triazines
DE1670101A1 (de) * 1966-07-02 1970-12-03 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von 1,3,5-Triazinen
DE1670568A1 (de) * 1967-07-07 1972-02-24 Degussa Verfahren zur Herstellung von substituierten 2-Mercapto-4,6-dichlor-s-triazinen
US3709883A (en) * 1971-07-02 1973-01-09 Ciba Geigy Corp Sulfur containing derivatives of dialkyl-4-hydroxyphenyltriazine
US4831068A (en) * 1987-02-27 1989-05-16 Ciba-Geigy Corporation Process for improving the photochemical stability of dyeings on polyester fibre materials
ES2106308T3 (es) * 1992-08-18 1997-11-01 Ciba Geigy Ag Procedimiento para la estabilizacion fotoquimica y termica de materiales de fibra de poliester teñidos o sin teñir.
TW308601B (ko) * 1995-01-18 1997-06-21 Ciba Sc Holding Ag

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101296096B1 (ko) 2005-06-30 2013-08-19 시바 홀딩 인크 안정화된 전기변색 매질

Also Published As

Publication number Publication date
JPH108025A (ja) 1998-01-13
TW438925B (en) 2001-06-07
BR9701269A (pt) 1999-01-12
EP0795640B1 (de) 2008-06-18
CN1091794C (zh) 2002-10-02
KR970065686A (ko) 1997-10-13
CN1163921A (zh) 1997-11-05
DE59712948D1 (de) 2008-07-31
JP4118972B2 (ja) 2008-07-16
AU724535B2 (en) 2000-09-21
US5871669A (en) 1999-02-16
US5997769A (en) 1999-12-07
ZA972131B (en) 1997-09-15
EP0795640A1 (de) 1997-09-17
ES2308783T3 (es) 2008-12-01
MX9701878A (es) 1998-04-30
AU1625697A (en) 1997-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3800344B2 (ja) ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン
US5760111A (en) o-Hydroxyphenyl-s-triazines
US5688995A (en) o-Hydroxyphenyl-s-triazines
KR100442994B1 (ko) 안정화제혼합물
EP0704437B1 (en) Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith
KR100421831B1 (ko) 광안정화제로서유용한비페닐-치환트리아진
EP1266889A2 (en) Polyoxyalkylene substituted and bridged triazine and benzotriazole derivatives
MXPA97001878A (en) Stabilize combination
CA2249570A1 (en) Amino- and hydroxysubstituted triphenyl-s-triazines as stabilizers
EP1322640A1 (en) Heteroaryl substituted hydroxyphenyltriazine uv-absorbers
KR100517489B1 (ko) 광안정화제로서의 아미노-및 하이드록시 치환된 트리페닐-s-트리아진
AU1126799A (en) Morpholino end-capped, hindered amine substituted aminotriazine and their use as light stabilizers
WO2002048118A1 (en) Benzophenone uv-absorbers with heterocyclic substituents
GB2311778A (en) Triazine stabilizers
MXPA98008120A (en) Trifenil-s-triazines amino-e hydroxy-substituted, as stabilized

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130628

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140618

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150630

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee