KR100405396B1 - 전자총 전극용 Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ 계 합금 및 전자총전극용 Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ 계 합금판 - Google Patents

전자총 전극용 Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ 계 합금 및 전자총전극용 Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ 계 합금판 Download PDF

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Abstract

중량% 로, Cr: 15 ~ 20 %, Ni: 9 ~ 15 %, C: 0.12 % 이하, Si: 0.005 ~ 1.0 %, Mn: 0.005 ~ 2.5 %, P: 0.03 % 이하, S: 0.0010 ~ 0.0100 %, Mo: 2.0 % 이하, Al: 0.001 ~ 0.2 %, O: 0.005 % 이하, N: 0.1 % 이하, Ca: 0.05 % 이하, Mg: 0.02 % 이하, 잔부 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 Fe-Cr-Ni 계 합금으로서, 상기 Fe-Cr-Ni 계 합금을 두께 0.1 ㎜ 내지 0.7 ㎜ 의 판으로 압연했을 때에, 압연 평행방향 단면의 길이 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격이 100 ㎛ 이하이고, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물의 평균 간격이 20 ㎛ 이하로 되도록 하였다.

Description

전자총 전극용 Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ 계 합금 및 전자총 전극용 Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ 계 합금판 {Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ ALLOY FOR ELECTRON GUN ELECTRODES AND Ｆｅ－Ｃｒ－Ｎｉ ALLOY SHEET FOR ELECTRON GUN ELECTRODES}
본 발명은 전자총 부품, 예를 들어 전자총 전극재료로서 바람직한, 프레스 펀칭성, 특히 프레스 펀칭 파면에 있어서의 전단면과 파단면의 경계의 직선성이 우수한 Fe-Cr-Ni 합금에 관한 것이다.
도 1 은, 공지의 새도우 마스크형 컬러 브라운관의 단면도이고, 패널 (1) 에 적, 녹, 청의 3 원색을 발생하는 형광막 (2) 이 도포되어 있고, 한편 네크부에는 전자빔 (3) 을 발사하는 전자총 (4) 이 설치되어 있다. 전자빔 (3) 은 편향 요크 (5) 에 의하여 편향조작된다. 6 은 새도우 마스크, 그리고 7 은 자기 시일드이다.
도 2a 및 도 2b 는, 전자총 (4) 에 설치된 펀칭가공 부품의 일례로서의 전극 (그리드 전극 : 10) 을 나타내는 사시도 및 단면도이다. 전극 (10) 은, 전자총의 음극에서 열방출된 전자를 제어하고, 전자빔을 형성하여, 그 전자유량을 변조하는 역할을 한다. 전극 (10) 에는 각각 적, 녹 및 청 발색용 빔을 통과시키는 미소 구멍 (10a, 10b 및 10c) 이 코이닝 (coining) 과 프레스 펀칭 가공에 의하여 형성되어 있다.
일반적으로, 수상관 등에 사용되는 전자총 전극은, 판두께가 0.1 ~ 0.7 ㎜ 정도인 비자성 스테인레스강을, 전술한 바와 같이 코이닝을 거쳐, 또는 거치지 않고서 프레스 펀칭 가공함으로써 완성시킨다. 그러나, 그중 펀칭 가공시에, 빔을 통과시키는 관통구멍, 예를 들어 10a, 10b 및 10c 내에 펀치가 소재로부터 펀칭부스러기를 떨어내는 선단 가장자리 (10e) (도 2 참조) 에 버어 (B : burrs) 가 발생할 문제가 있다. 이 버어는, 전자빔의 제어에 악영향을 주어, 전자총으로서는 치명적인 결함이라고 할 수 있다. 이 때문에, 버어를 제거할 필요가 있다.
상기와 같은 버어를 제거하기 위한 수단으로서, 프레스 가공후에 배럴연마 또는 화학연마가 행해지는데, 가공공정이 증가하고 비용이 상승되는 문제가 부가되고, 배럴연마에 있어서는, 버어가 빔의 투과구멍으로 떨어지는 경우가 있는 점에서, 재료를 프레스 펀칭한 시점에서 버어가 발생되지 않는 것이 바람직하다.
종래부터, 비자성 스테인레스강에 대하여 펀칭성을 향상시키기 위한 제안이 이루어지고 있다. 일본 공개특허공보 평9-268352 호에서는, 표층부에 가공경화층을 형성하는 것이 제안되어 있다. 그러나, 표층을 경화시키는 것만으로는, 프레스 펀칭가공에 있어서, 전단가공에 의하여 발생되는 균열을 판두께 방향으로 연속적으로 전파시킬 수 없고, 전자빔의 투과구멍을 프레스 펀칭한 시점에서의 버어 제어로는 충분하다고 할 수 없다.
또한, 일본 공개특허공보 평8-176751 호에서는, S 함유량을 0.0010 ~ 0.050 % 로 규정하고, S 또는 S 화합물을 입자계 또는 입자내에 분산시키는 것이 제안되어 있고, 일본 공개특허공보 평11-12690 호에서는, S 함유량의 규정과 표면경화를 조합하는 것이 제안되어 있다. 그러나, 단순히 쾌삭성 원소인 S 를 첨가하고, 그 함유량을 규정해도, 그 제조방법에 의해서는 버어 억제효과를 얻을 수 없는 경우가 있다. 그리고, 쾌삭성 원소인 S 를 첨가하면, 프레스 파면에 있어서의 파단면의 비율은 커지나, 도 3b 에 나타낸 바와 같이, 전단면과 파단면의 경계가 울퉁불퉁하거나, 도 4 에 나타낸 바와 같이, 전자선 투과구멍의 평행부분이 짧아지고, 정밀한 전자장의 제어를 위하여 매우 높은 정밀도가 요구되는 전극에서는 충분히 만족할 수 있는 펀칭성이라고는 할 수 없다. 또한, 표면을 경화시키는 경우에는, 공정이 증가되고 비용상승으로 이어지는 데다가, 전자총 전극으로 가공하는 경우에 다소나마 이루어지는 드로잉에 대해서는 역효과가 된다.
본 발명은, 상기 종래 기술의 문제점을 해결하고, 펀칭성, 특히 프레스 펀칭 파면에 있어서의 전단면과 파단면의 경계의 직선성이 우수한 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금, 및 이 합금을 압연가공한 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금판을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.
본 발명자들은, 프레스 펀칭에 있어서의 프레스 파면의 파단면의 비율을 작게 하고, 전단면과 파단면의 경계의 직선성을 개선하는 것을 목적으로, 개재물과 재개물의 분포의 영향을 예의 연구한 결과, 개재물의 판두께 방향의 평균 간격을 개재물의 길이에 따라서 특정한 값 이하로 한정하는 것과, 개재물을 특정의 조성으로 하는 것에 의해, 전자총 전극의 전자선 투과구멍의 정밀도에 대한 엄격한 요구에 부응하고, 또한 버어의 발생이 없는 재료를 공급할 수 있다는 것을 알아내었다.
구체적으로는, 전단가공에 있어서의 균열의 발생과 전파에는, MnS 로 대표되는 황화물계 개재물이 유효하게 작용하나, 이 길이가 너무 길면 그 부분의 균열 발생이 다른 부분과 비교하여 너무 빨라 전단면이 짧아지고, 결과적으로 전자선 투과구멍의 프레스 파면에 있어서, 전단면과 파단면의 경계가 울퉁불퉁해지는 것이 분명해졌다. 그리고, 판두께를 0.1 ~ 0.7 ㎜ 로 한 시점에서, 길이 10 ㎛ 이상에서 100 ㎛ 미만의 개재물을 판두께 방향의 평균 간격이 100 ㎛ 이하가 되도록 존재시킴과 동시에, 길이 10 ㎛ 미만의 개재물을 판두께 방향의 평균 간격이 20 ㎛ 이하가 되도록 존재시킴으로써, 길이 100 ㎛ 이상의 개재물이 존재했다 해도, 프레스 파면에 있어서, 전단면과 파단면의 경계의 직선성이 개선되는 것을 알아내었다.
나아가, 길이 10 ㎛ 미만의 개재물이, 원자 % 로 40 ≤SiO2≤100, 0〈 Al2O3≤40, 0〈 MnO ≤30 을 함유하는 조성으로 함으로써, 프레스 파면에 있어서의 전단면과 파단면의 경계의 직선성을 더욱 향상시킬 수 있다는 것을 알아내었다.
여기에서, 개재물의 판두께 방향의 평균 간격은, 다음과 같이 규정한다. 먼저, 0.1 ~ 0.7 ㎜ 의 두께로 압연한 판의 압연 평행방향 단면을 경면으로 연마한 후, 인산 중에서 전해연마하여 개재물을 식별하기 쉽게 한다. 그리고, 길이가 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격을 측정하는 경우에는, 압연방향 100 ㎛ ×판두께의 영역에서, 그 영역에 일부분이라도 걸려있는 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물의 개수를 세어, 그 개수를 판두께로 나눈 값을 평균 간격으로 하였다. 또한, 길이 10 ㎛ 미만의 개재물인 경우에는, 압연방향 10 ㎛ ×판두께의 영역에서, 그 영역에 일부분이라도 걸려있는 10 ㎛ 미만인 개재물의 개수를 세어, 그 개수를 판두께로 나눈 값을 평균 간격으로 하였다. 그리고, 이것들을 임의의 10 지점에서 측정하고, 그 평균치를 그 판의 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물 및 10 ㎛ 미만의 판두께 방향의 평균 간격으로 하였다.
또한, 길이 10 ㎛ 미만의 개재물의 조성은, 임의로 선택한 10 개의 개재물 조성을 EPMA (전자선 마이크로애널라이저) 로 정량 분석하였다.
또한, 0.1 ~ 0.7 ㎜ 두께의 판에서, 길이 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물에는 황화물계 개재물이 함유되나, 이 길이를 제어한 후에, S 와 Mn 또는 Ca 로 대표되는 황화물 형성원소의 함유량에 따라서 열간 가공온도를 조정함으로써, 황화물계 개재물이 너무 크게 성장하는 것, 해리되어 소실되는 것, 또는 너무 성장하여 길이 10 ㎛ 이상의 개재물 개수가 적어지는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금은, 상기 지견에 기초하여 이루어진 것으로, 중량% 로, Cr: 15 ~ 20 %, Ni: 9 ~ 15 %, C: 0.12 % 이하, Si: 0.005 ~ 1.0 %, Mn: 0.005 ~ 2.5 %, P: 0.03 % 이하, S: 0.0010 ~ 0.0100 %, Mo: 2.0 % 이하, Al: 0.001 ~ 0.2 %, O: 0.005 % 이하, N: 0.1 % 이하, Ca: 0.05 % 이하, Mg: 0.02 % 이하, 잔부 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 Fe-Cr-Ni 계 합금으로서, 이 Fe-Cr-Ni 계 합금을 두께 0.1 ㎜ 내지 0.7 ㎜ 의 판으로 압연했을 때에, 압연 평행방향 단면의 길이 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격이 100 ㎛ 이하이고, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물의 평균 간격이 20 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하고 있다.
또한, 본 발명은, 상기 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금에 있어서, 추가로 두께 0.1 ㎜ 내지 0.7 ㎜ 의 판에 있어서의 압연 평행방향 단면의 길이 10 ㎛ 미만인 개재물이 원자 % 로, 40 ≤SiO2≤100, 0〈 Al2O3≤40, 0〈 MnO ≤30 을 함유하는 조성으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
그리고, 본 발명은, 상기 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금을 압연하여 두께 0.1 ~ 0.7 ㎜ 로 한 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금판이기도 하다.
본 발명의 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금소재에 있어서의 합금성분 한정이유를 이하에서 설명하기로 한다.
Cr: 전자총 전극으로는 비자성이 요구된다. 통상적으로, 비자성이기 위해서는 투자율이 1.005 이하인 것이 요구되고, 이것을 충족시키기 위하여 Cr 함유량을 15 ~ 20 % 로 하였다. 또한, 보다 바람직한 범위는 15 ~ 17 % 이다.
Ni: Ni 가 9 % 보다 적으면 자성이 너무 높아지고, 15 % 보다 많으면 원가가 상승된다. 따라서, Ni 의 함유량은 9 ~ 15 % 로 하였다.
C: C 가 0.12 % 를 초과하면 탄화물의 생성이 현저하고 드로잉성이 열화되므로, C 의 함유량은 0.12 % 이하로 하였다.
Si: Si 는 탈산의 목적으로 첨가되나, 0.005 % 미만이면 탈산의 효과가 없고, 1.0 % 를 초과하면 가공성이 열화된다. 따라서, Si 의 함유량은 0.005 ~ 1.0 % 로 하였다.
Mn: Mn 은 탈산의 목적과, MnS 를 석출시키는 목적으로 첨가되나, 0.005 % 미만이면 효과가 없고, 2.5 % 를 초과하면 재료경화가 상승하여 드로잉성이 열화된다. 따라서, Mn 의 함유량은 0.005 ~ 2.5 % 로 하였다.
P: P 는 0.03 % 를 초과하면 드로잉성을 현저하게 열화시키므로, P 의 함유량은 0.03 % 이하로 하였다.
S: S 는 적정량을 함유하면 Mn 과 MnS 를 형성하고, 구멍을 프레스 펀칭할 때의 버어의 발생을 억제하고, 버어링가공 (burring) 시의 버어링 균열의 발생을 억제하는데도 연관된다. 그러나, S 함유량이 0.0010 % 미만이면 그 효과를 얻을 수 없고, 0.0100 % 를 초과하면 용해주조에서 이미 조대한 MnS 가 생성되고, 열간 가공성이 현저하게 나빠지고, 드로잉성도 열화되게 된다. 따라서, S 의 함유량은 0.0010 ~ 0.0100 % 로 하였다.
Mo: Mo 는 내식성을 향상시키므로, 내식성이 크게 요구되는 경우에는 첨가하는 것이 바람직하다. 단, 2.0 % 를 초과하면 가공성이 열화된다. 따라서, Mo 의 함유량은 2.0 % 이하로 하였다.
Al: Al 은 탈산재로서 첨가된다. 0.001 % 미만에서는 탈산효과가 충분하지 못하고, 0.2 % 를 초과하면 가공성이 열화된다. 따라서, Al 의 함유량은 0.001 ~ 0.2 % 로 하였다.
O: O 의 함유량이 많으면 산화물계 개재물이 많아져, 황화물과의 복합개재물을 형성하고, 펀칭성 향상에 유효하게 기여하는 S 가 감소되어 버리는 경우가 있다. 따라서, O 의 함유량은 0.005 % 이하로 하였다.
N: N 의 함유량이 0.1 % 를 초과하면 가공성이 열화된다. 따라서, N 의 함유량은 0.1 % 이하로 하였다.
Ca: Ca 는 황화물을 형성하여 펀칭성을 향상시키는 효과는 있으나, 황화물과 산화물의 복합 개재물을 형성하기 쉽고, 이것은 펀칭성 향상의 효과는 적고, 또한 드로잉성을 열화시킨다. 따라서 Ca 의 함유량은 0.05 % 이하로 하였다. Ca의 보다 바람직한 범위는 0.01 % 이하이다.
Mg: Mg 는 산화물을 형성하여 드로잉성을 열화시킨다. 따라서, Mg 의 함유량은 0.02 % 이하로 하였다. Mg 의 보다 바람직한 범위는 0.005 % 이하이다.
판두께를 0.1 ~ 0.7 ㎜ 로 한 시점에 있어서의 개재물의 판두께 방향의 평균 간격: 길이 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격이 100 ㎛ 를 초과하는 경우, 전단가공에 있어서의 균열 발생의 불균일이 발생하기 쉬우므로, 프레스 파면에 있어서의 전단면과 파단면의 경계가 울퉁불퉁하게 된다. 따라서, 길이 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격을 100 ㎛ 이하로 하였다. 또한, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격이 20 ㎛ 를 초과하는 경우에는, 균열의 전파가 나쁘므로 프레스 파면에 있어서의 전단면과 파단면의 경계에서 작은 전단면의 흐름이 발생되어 직선성이 나빠진다. 따라서, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격을 20 ㎛ 이하로 하였다. 또한, 본 발명에서 말하는 개재물에는, 단일체의 개재물은 물론이고 개재물이 압연방향으로 이어지는 개재물군도 포함된다.
개재물조성: 길이 10 ㎛ 미만인 개재물이, 원자 % 로 40 ≤SiO2≤100, 0〈 Al2O3≤40, 0〈 MnO ≤30 을 함유하는 조성에서 벗어나면, 산화물과 황화물과의 복합 개재물이 형성되거나 경질의 개재물로 되며, 전단면과 파단면의 경계의 직선성을 흐트러지게 하기 쉽다. 따라서, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물은, 원자 % 로 40 ≤SiO2≤100, 0〈 Al2O3≤40, 0〈 MnO ≤30 을 함유하는 조성인 것이 바람직하다.
도 1 은 새도우 마스크형 브라운관의 단면도.
도 2 는 본 발명에 관계되는 Fe-Cr-Ni 계 합금으로 제조되는 전자총 전극의 일례를 나타낸 사시도 (a) 및 단면도 (b).
도 3a 는 전단면과 파단면의 경계의 직선성이 양호한 프레스 파면, 3b 는 전단면과 파단면의 경계의 직선성이 불량한 프레스 파면을 나타낸 도면.
도 4 는 도 3b 와 같은 파형이 발생된 전자선 투과구멍의 단면을 나타낸 모식도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 패널 2 : 형광막
3 : 전자빔 4 : 전자총
5 : 편향 요크 6 : 새도우 마스크
7 : 자기 시일드 10 : 전극
10a,10b,10c : 미소 구멍 10e : 선단 가장자리
(실시예)
다음으로 실시예를 통하여 본 발명을 설명하기로 한다. 표 1 에 나타낸 조성의 합금성분이 되도록 각각 용해시켜 연속 주조하였다. 그 때, 개재물의 조성을 조정하기 위하여, No. 10 은 강 Al 탈산을, No. 12 는 Al 을 사용하지 않은 Si, Mn, C 탈산을, No. 5 는 Al 을 소량 사용한 Si, Mn, C 탈산을, 그 이외에는 Si, Al 탈산을 행하였다. 이어서, No. 7 과 No. 8 은 1280 ℃ ~ 1300 ℃ 로 가열하고, 그 이외에는 1180 ℃ ~ 1230 ℃ 로 가열하여 분괴압연, 표면박리, 동일 온도로 가열하여 열간압연을 행하고, 스케일 제거를 실시한 후, 냉간압연과 소둔을 반복하고, 판두께가 0.33 ㎜ 와 0.5 ㎜ 인 소둔재를 제조하였다.
표 2 에, 이들 소둔재의 개재물의 판두께 방향의 평균 간격과, 개재물 조성을 나타낸다. No. 1 ~ No. 6 은 본 발명예에서, 특히 No. 1 ~ No. 4 는 청구항 2 까지도 만족하는 것이다. 또한, No. 7 ~ No. 12 는 비교예이다. 또한, 표 2 에서는 각 소둔재가 함유하는 개재물로서, SiO2, Al2O3및 MnO 의 조성 (at%) 을 들고 있는데, 이들 3 종류 이외의 개재물이 함유되어 있는 것도 있다.
이들 판을 가공도 30 % 에서 냉간압연하고, 0.4 ㎜ 직경의 펀치로 프레스 펀칭가공하고, 펀칭된 구멍의 프레스 파면에 있어서의 압연 평행방향과 압연 직각방향의 파면이 각 n=10 인 것에 대하여, 프레스 파면에 있어서의 파단면의 비율의 평균치를 측정하였다. 또한, 파단면의 비율이 많을수록 버어의 발생이 억제된다. 또한, 전단면과 파단면의 경계부에 평면적으로 표시된 요철의 산과 골의 최대 격차의 판두께에 대한 비율의 평균치를 측정하였다. 이 비율이 크면 전단면과 파단면의 경계의 직선성이 나쁘고, 그것이 현저한 경우에는 울퉁불퉁한 모양이 된다. 이상의 측정결과를 표 3 에 나타낸다.
표 2 와 표 3 에서 알 수 있듯이, No. 1 ~ No. 6 의 판두께 방향의 개재물의 평균 간격이, 본 발명에서 규정한 길이 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물에서 100 ㎛ 이하를, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물에서 20 ㎛ 이하를 만족하는 것이면, 프레스 펀칭구멍에 있어서의 파단면의 비율에 대하여, 전단면과 파단면의 경계의 산과 골의 최대 격차의 비율이 작고, 전단면과 파단면의 경계의 직선성은 양호하다. 도 3a 에 이들 프레스 펀칭면의 대표적인 것을 나타낸다. 그중, No. 5 및 No. 6 에서는, 개재물조성이 본 발명에서 규정하는 조성에서 벗어나기 때문에, 전단면과 파단면의 경계의 산과 골의 최대 격차의 판두께에 대한 비율이 약간 높게 되어 있다.
이에 대하여, 판두께 방향의 개재물의 평균 간격이, 본 발명의 범위를 벗어난 No. 7 ~ No. 8 및 No. 12 에서는, 길이 10 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만인 개재물의 평균 간격이 크므로, 압연 평행단면의 직선성이 나쁘게 되어 있다. 또한 No. 9 ~ No. 11 에서는, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물의 평균 간격이 크므로, 압연 평행방향과 압연 직각방향 모두 직선성이 나쁘게 되어 있다. No. 7 ~ No. 12 의 파단면의 비율은, 전단면과 파단면의 경계의 산과 골의 최대 격차의 판두께에 대한 비율의 2배 정도밖에 없고, 전단면이 파단면을 찢어버릴 위험성이 높다. 또한, No. 10 에서는, S 의 함유량이 많기 (0.0079 중량%) 때문에, 길이 10 ㎛ 이상 100 ㎛ 미만인 개재물의 평균 간격이 작으나 (65 ㎛), Al 로 강탈산하고 있으므로, 산화물계의 개재물이 적고, 그 결과, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물의 평균 간격이 커지게 된다 (31.4 ㎛). 이 때문에, 직선성이 나빠지고, 전자선 투과구멍의 프레스 파면으로서는 충분히 만족할 수 있다고는 할 수 없었다.
이상에서와 같이, 본 발명의 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금에 있어서는, 전자총 전극용으로서 프레스 펀칭성을 현저하게 향상시킬 수 있고, 엄격한 프레스조건에서 가공이 이루어져도 프레스 파면에 있어서의 전단면과 파단면의 경계의 직선성이 우수한 전자선 투과구멍을 펀칭할 수 있고, 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금으로서 매우 유효하다.

Claims (6)

  1. 중량% 로, Cr: 15 ~ 20 %, Ni: 9 ~ 15 %, C: 0.12 % 이하, Si: 0.005 ~ 1.0 %, Mn: 0.005 ~ 2.5 %, P: 0.03 % 이하, S: 0.0010 ~ 0.0100 %, Mo: 2.0 % 이하, Al: 0.001 ~ 0.2 %, O: 0.005 % 이하, N: 0.1 % 이하, Ca: 0.05 % 이하, Mg: 0.02 % 이하, 잔부 Fe 및 불가피적 불순물로 이루어지는 Fe-Cr-Ni 계 합금으로서,
    상기 Fe-Cr-Ni 계 합금을 두께 0.1 ㎜ 내지 0.7 ㎜ 의 판으로 압연했을 때에, 압연 평행방향 단면에 있어서의 길이 10 ㎛ 이상이고 100 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격이 100 ㎛ 이하이고, 길이 10 ㎛ 미만인 개재물의 판두께 방향의 평균 간격이 20 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금.
  2. 제 1 항에 있어서, 두께 0.1 ㎜ 내지 0.7 ㎜ 의 판에 있어서의 압연 평행방향 단면의 길이 10 ㎛ 미만인 개재물이, 원자 % 로 40 ≤SiO2≤100, 0〈 Al2O3≤40, 0〈 MnO ≤30 을 함유하는 조성으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금.
  3. 제 1 항에 기재된 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금으로부터 제조한 판두께 0.1 ~ 0.7 ㎜ 의 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금판.
  4. 제 1 항에 있어서, Cr 함유량이 15 ~ 17 중량% 인 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금.
  5. 제 1 항에 있어서, Ca 함유량이 0.01 중량% 이하인 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금.
  6. 제 1 항에 있어서, Mg 함유량이 0.005 중량% 이하인 전자총 전극용 Fe-Cr-Ni 계 합금.
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