KR100299263B1 - 안정화제로서장애아민측쇄를함유하는폴리에테르 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기식(I)의 폴리에테르에 관한 것이다:
상기식에서,
m은 0 또는 1이며;
n은 3 내지 100 범위의 정수이고;
R1은, m이 0 또는 1인 경우에, 각각 비치환 또는 C5-C8시클로알킬로 치환되고, C5-C8시클로알킬렌이나 산소 또는 황이나 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C1-C36알킬 또는 C7-C36아르알킬; C3-C36알켄일; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴이고; m이 0인 경우에, 이와는 달리, 수소; 각각 비치환 또는 C5-C8시클로알킬에 의해 치환되고, C5-C8시클로알킬렌 또는 산소나 황 또는 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되어 있거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C1-C36알콕시 또는 C7-C36아르알콕시; C3-C36알켄일옥시; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 혹은 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴옥시이며; R11은 C1-C18알킬, C5-C8시클로알킬, 페닐 또는 C7-C9페닐알킬이고; X는 산소 또는 황원자이다.

Description

[발명의 명칭]
안정화제로서 장애아민 측쇄를 함유하는 폴리에테르
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 4-(2,3-에폭시프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 유도체의 음이온성 중합반응에 의해 제조될 수 있는 신규 화합물, 빛, 산소 및/또는 열의 유해 작용에 대한 유기 물질의 안정화제로서의 용도, 및 이에 상응하는 안정화된 조성물에 관한 것이다.
2,2,6,6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘 형태 및 이들의 유기 중합체용 안정화제로서의 용도가 예컨대, Luston and Vass, Makromol. Chem., Macromol. Symp., 27, 231(1989)에 기재되어 있다; 비슷한 내용의 문헌은 참조문헌 Chem. Abstr. 111 (1989)의 P58966w, P97092c 및 P115043u이다.
EP-A-001 835에는 디카르복시산 무수물과 에폭시기 함유 피페리딘을 더 반응시켜서 폴리에스테르를 제조하는 것이 기재되어 있다.
측쇄로서 테트라메틸피페리딘기를 포함하는 2,2,6,6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘의 동종 중합체가 EP-A-769에 공지되어 있다.
측쇄로서 테트라메틸피페리딘기를 포함하며 용도 특성이 개선된 신규 중합체성 광안정화제에 대한 요구가 계속되고 있다.
본 발명은 하기식(I)의 폴리에테르에 관한 것이다:
상기식에서
m은 0 또는 1이며;
n은 3 내지 100 범위의 정수이고;
R1은, m이 0 또는 1인 경우에, 각각 비치환 또는 C5-C8시클로알킬로 치환되고, C5-C8시클로알킬렌이나 산소 또는 황이나 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C1-C36알킬 또는 C7-C36아르알킬; C3-C36알켄일; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴이고; m이 0인 경우에, 이와는 달리, 수소; 각각 비치환 또는 C5-C8시클로알킬에 의해 치환되고, C5-C8시클로알킬렌 또는 산소나 황 또는 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되어 있거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C1-C36알콕시 또는 C7-C36아르알콕시; C3-C36알켄일옥시; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 혹은 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴옥시이며;
R11은 C1-C18알킬, C5-C8시클로알킬, 페닐 또는 C7-C9페닐알킬이고;
X는 산소 또는 황원자이다.
m=0인 경우에, 바람직한 라디칼 R1은 자유 원자가가 산소 원자 또는 포화된 탄소원자에 위치하는 것이다.
일반식(I)의 구조적 단위체는 구조적 반복 단위체이다. 본 발명에 따른 폴리에테르는 m, X 및 R1이 각각 동일한 정의를 갖거나(동종 중합체) 또는 m, X 및/또는 R1에 대해 2이상의 정의를 갖는 일반식(I)의 상이한 단위체를 포함할 수 있다(공중합체). 동종중합체가 바람직하다.
구조적 반복 단위체를 일반식(I)에 나타난 바와 같이 혼입시킬 수 있으며, 그렇지 않으면, 중합체 사슬내에 -CH2-CH(R)-O-CH2-CH(R)-O-, -CH2-CH(R)-O-CH(R)-CH2-O-, 및/ 또는 CH(R)-CH2-O-CH2-CH(R)-O-의 구조 형태가 존재할 수 있다; 이 경우에 R은 측쇄이다.
빛, 산소 및/또는 열의 유해 작용에 대해 유기 물질을 안정화시키기 위해 본 발명에 따른 폴리에테르를 바람직하게 사용할 수 있다. 우수한 용해도 및 기질 적합성이 특히 본 발명에 따른 폴리에테르의 장점이다.
R1에 대한 정의의 예에는 다음이 포함된다; 직쇄 또는 측쇄 C1-C36알킬, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 2차부틸, 이소부틸, 3차부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소페틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3,-테트라메틸펜틸, 노닐, 데실, 운데실, 1-메틸운데실, 도데실, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 아이코실, 도코실, 펜타코실 및 트리아코실; 예컨대 직쇄 C1-C18알킬, 특히 C2-C18알킬, C4-C18알킬 및 특히 C5-C10알킬; 측쇄 또는 직쇄 C1-C36알콕시, 특히 C6-C18알콕시, 예컨대 헥실옥시, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 운데실옥시 및 도데실옥시; C5-C8시클로알킬 치환된 알킬 또는 알콕시, 예컨대 시클로펜틸메틸, 시클로헥실메틸, 시클로헵틸메틸, 시클로옥틸메틸, 시클로헥실에틸, 2-시클로헥실-n-프로필, 3-시클로헥실-n-프로필, 4-시클로헥실-n-부틸, 시클로펜틸메톡시, 시클로헥실메톡시, 시클로헵틸메톡시, 시클로옥틸메톡시, 시클로헥실에톡시, 2-시클로헥실-n-프로폭시, 3-시클로헥실-n-프로폭시 및 4-시클로헥실-n-부톡시; C5-C8시클로알킬렌 또는 -O-가 중간에 연결된 알킬 또는 알콕시, 예컨대 일반식
C5-C8시클로알킬 및 비치환되거나 또는 알킬치환된 C5-C8시클로알콕시, 예컨대 시클로펜틸, 시클로펜톡시, 시클로헥실, 시클로헥실옥시, 시클로헵틸, 시클로헵틸옥시, 시클로옥틸, 시클로옥틸옥시, 2- 및 4-메틸시클로헥실옥시, 디메틸시클로헥실옥시, 트리메틸시클로헥실, 3차부틸시클로헥실, 특히 시클로헥실 및 시클로헥실옥시; 비치환 또는 C1-C4알킬 혹은 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3에 의해 치환된 C6-C10아릴 및 -아릴옥시, 예컨대 페닐, 페녹시, 나프틸, 나프톡시, 메틸페닐, 메틸페녹시, 디- 및 트리메틸페닐, 디- 및 트리메틸페녹시, 에틸페닐, 에틸페녹시, 프로필-, 특히 이소프로필페닐 및 -페녹시, 부틸페닐, 특히 3차부틸페닐 및 -페녹시, 메톡시페닐, 특히 3-메톡시페닐, 3- 및 4-메톡시페녹시, 3,5-디메톡시페닐, 3,5-디메톡시페녹시, 에톡시페닐, 에톡시페녹시, 프로폭시페닐 및 -페녹시, 부톡시페닐 및 -페녹시; C7-C36아르알킬 및 C7-C36아르알콕시, 예컨대 벤질, 벤즈옥시, 나프틸메틸 및 -메톡시, 비페닐메틸 및-메톡시, 2-페닐에틸, 2-페닐에톡시, 나프틸에틸 및 -에톡시, 비페닐에틸 및 -에톡시, 3-페닐프로필, 3-페닐프로폭시, α-메틸벤질, α-메틸벤즈옥시, α,α-디메틸벤질, α,α-디메틸벤즈옥시, 페닐부틸 및 -부톡시, 페닐펜틸 및 -펜톡시, 페닐헥실 및- 헥실옥시, 페닐헵틸 및 -헵틸옥시, 페닐옥틸 및 -옥틸옥시, 페닐노닐 및 -노닐옥시, 페닐데실 및 -데실옥시, 페닐운데실 및 -운데실옥시, 페닐도데실 및 -도데실옥시, 페닐트리데실 및 -트리에실옥시, 페닐펜타데실 및 -펜타데실옥시, 페닐헵타데실 및 -헵타데실옥시, 페닐옥타데실 및-옥타데실옥시, 특히 C7-C12페닐알킬 및 C7-C12페닐알콕시, 특히 벤질, 벤즈옥시, 펜에톡시, 3-페닐프로폭시, α-메틸벤질, α-메틸벤즈옥시, α,α-디메틸벤질 및 α,α-디메틸벤즈옥시; 치환된 C7-C36아르알킬 및 C7-C36아르알콕시, 예컨대 3-메틸페닐메틸, 3,5-디메틸페닐메틸, 3-메틸페닐프로필, 3,5-디메틸페닐프로필, 3-부틸페닐프로필, 3,5-디부틸페닐프로필, 3,5-디부틸페닐프로폭시, 3-메틸페닐프로폭시, 3,5-디메틸페닐프로폭시, 3-부틸페닐프로폭시 및 3,5-디부틸페닐프로폭시.
방향족 탄화수소에 있어서 아릴은, 예컨대 페닐 또는 나프틸과 같은 탄화수소 잔기이다. 이르알킬은 방향족 탄화수소 잔기, 예컨대 탄소 원자수 6 내지 10의 탄화수소 잔기로 치환된 알킬을 의미하며; 예컨대 아르알킬의 예로는 벤질 및 α-메틸벤질이 있다.
-0-, -S- 또는 -NR11-이 중간에 연결된 알킬기를 포함하는 임의 R1라디칼은 -O-, -S-기 1 내지 6, 특히 -O-기 1 내지 6이 중간에 바람직하게 연결된 탄소 원자 2 이상, 바람직하기로는 4이상의 알킬이며; 헤테로 원자는 기타 헤테로 원자가 안닌 탄소 원자에 결합되는 것이 바람직하다. 즉, -O-O-형태의 구조는 없다. 이들 라디칼은 특히 말단기가 C1-C8알킬로 포화된 폴리옥시에틸렌 사슬이 바람직하다.
일반식(I)의 중합성 화합물에서, n은 4 내지 50, 특히 5 내지 30의 범위, 더욱 특히 10 내지 20의 범위가 바람직하다. 겔 침투 크로마토그래피에 의해 측정된 수평균 분자량 Mn은 통상 1000 내지 50,000g/몰, 바람직하기로는 1000 내지 10,000g/몰이고, 특히 1000 내지 5000g/몰이다.
X는 산소 원자인 것이 바람직하다.
m은 0인 것이 바람직하다.
n이 4 내지 50 범위의 정수이고; R1이, m이 0 또는 1인 경우에, C1-C36알킬; -O-가 중간에 연결된 C2-C36알킬; C7-C36아르알킬; -O-가 지방족 부분 중간에 결합되고/ 또는 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C7-C36아르알킬; 비치환 또는 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3에 의해 치환된 C5-C9시클로알킬; 또는 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3에 의해 치환된 페닐이고; m이 0인 경우에는, 이와는 달리, C1-C36알콕시; -O-가 중간에 결합된 C2-C36알콕시; C7-C36아르알콕시; -O-가 지방족 부분 중간에 결합되고/ 또는 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분 중간에 결합된 C7-C36아르알콕시; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3에 의해 치환된 C5-C9시클로알콕시; 혹은 비치환 또는 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3에 의해 치환된 페녹시이고; X가 산소 원자인 폴리에테르가 바람직하다.
이들 중에서, m이 O이고; R1이 C1-C18알킬; C4-C36알콕시; -O-가 중간에 결합된 C2-C18알킬; -O-가 중간에 결합된 C4-C36알콕시; C7-C18페닐알킬; C7-C18페닐알콕시; 각각 페닐 고리가 C1-C4알킬 라디칼 1 내지 3으로 치환된 C7-C18페닐알킬 및 C7-C18페닐알콕시; C5-C9시클로알킬; C5-C9시클로알콕시; 비치환 또는 C1-C4알킬 라디칼 1 내지 3으로 치환된 페닐; 또는 비치환 혹은 C1-C4알킬 라디칼 1 내지 3으로 치환된 페녹시인 폴리에테르가 특히 바람직하다.
m이 0이고; R1이 C1-C18알킬; C4-C18알콕시; -O-가 중간에 결합된 C2-C18알킬; -0-가 중간에 결합된 C4-C36알콕시; C7-C9페닐알킬; C7-C9페닐알콕시; 각각 페닐 고리가 C1-C4알킬 라디칼 1 내지 3 으로 치환된 C7-C9페닐알킬 또는 C7-C9페닐알콕시; C5-C9시클로알킬; C5-C9시클로알콕시; 또는 비치환 혹은 C1-C4알킬 라디칼 1 내지 3으로 치환된 페녹시이며; 특히 n이 5 내지 30의 정수이고; R1이 C1-C18알킬; C4-C18알콕시; C7-C9페닐알킬; 또는 C5-C9시클로알콕시인 일반식(I)의 폴리에테르가 바람직하다.
하기식(Ⅱ)의 에폭시드 또는 일반식(Ⅱ) 화합물의 혼합물을 음이온성 중합시켜 공지된 방법으로 본 발명에 따른 폴리에테르를 편리하게 제조한다:
상기식에서,
R1, X 및 m은 상기 정의한 바와 같다.
따라서 본 발명은 일반식(Ⅱ)의 화합물을 음이온성 중합시킴으로써 제조될 수 있는 폴리에테르에 관한 것이다.
예컨대, K.C.Frisch and S.L.Reegen(Frisch/Reegen: Ring-Opening Polymerization, Marcel Dekker, New York 1969)에 의해 발표된 문헌에 기재되어 있는 방법 중의 하나에 의해 중합반응을 수행할 수 있다. 이 중합반응은 통상 음이온성 중합반응에 대한 종래의 개시제 중 하나에 의해 개시될 수 있다. 이들은 그리나드 화합물과 같은 염기성 유기금속 화합물, 예컨대 C1-C12알킬 -Mg-C1 또는 C6-C12아릴-Mg-C1형태; 알킬 알칼리 금속 화합물, 예컨대 C1-C6알킬 알칼리 금속 화합물, 예컨대 3차부틸칼슘, 알칼리 금속 알콕시드 Me-OR'(식에서, Me는 예컨대, Li, Na 또는 K이고, R'은 C1-C6알킬, 예컨대 나트륨 메톡시드. 칼슘 메톡시드, 나트륨 3차부톡시드, 칼슘 3차 부톡시드, 리튬 에톡시드 및 나트륨 에톡시드임), 및 히드록시드와 아미드, 예컨대 NaOH, KOH, 나트륨 아미드 및 리튬 아미드를 포함한다.
개시제는 일반식(Ⅱ)의 에폭시드량을 기준으로 0.1 내지 10몰%, 바람직하기로는 1 내지 5몰%의 양으로 부가하는 것이 편리하다.
18-크라운-6 또는 15-크라운-5와 같은, 크라운 에테르를 일반식(Ⅱ)의 에폭시드량을 기준으로 0.1 내지 10몰%, 바람직하기로는 1 내지 5몰%의 양으로 혼합물에 부가하는 것이 편리하다.
용매없이 중합반응을 진행시키는 것이 바람직하나, 용매를 사용할 수도 있다. 반응 온도는 제한적이지 않으며, 통상 10 내지 200℃의 범위이다.
반응 조건하에 존재하는 어떤 용매도 불활성이어야 한다. 적합한 용매의 예에는 방향족 및/또는 지방족 탄화수소 및 에테르가 포함된다. 비점이 높은 용매, 예컨대 대기압에서의 비점이 80 내지 150℃의 범위에 있는 용매가 바람직하다. 사용가능한 용매의 예로는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 이소프로필벤젠, 시클로헥산, 디에틸 에테르, 디부틸 에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산이 있다.
산소배제하에, 예컨대 아르곤 또는 질소하에 물기를 배제한 상태에서 중합반응을 수행하는 것이 편리하다.
중합반응이 종료되면, 생성물을 종래 방법으로 처리할 수 있다. 이 혼합물을 적합한 용매, 예컨대 테트라히드로푸란으로 희석시키는 것이 편리하다. 용액을, 필요하면 활성탄의 분산 후에 여과 정제시킬 수 있다. 이 중합체를 적합한 극성 용매, 예컨대 아세토니트릴을 사용하여 용액으로부터 침전시킬 수 있고; 이는 다량의 침전물에 중합체 용액을 도입함으로써 수행할 수 있다. 필요하면 여러번 반복적으로 침전시켜 정제할 수 있다.
선정된 중합반응 조건으로 본 발명에 따른 일반식(I) 폴리에테르에 존재하는 말단기가 결정된다. 폴리에테르 사슬상에 있는 말단 탄소원자를, 사용되는 화합물의 라디칼을 개시제로 하여 예컨대 -H 또는 -OH로 포화시킬 수 있다. 사용된 개시제가, 예컨대 상기한 바와 같은 알콕시드 R'O-이고 중합반응 후에 양성자성 용매를 사용하면, 말단 탄소 원자에 흔히 말단기 -OR' 및 -OH가 존재한다.
그러나, 원칙적으로, 말단기의 유형은 안정화제로서 본 발명에 따른 폴리에테르의 작용에 있어 그리 중요하지 않다.
일반식(Ⅱ)의 화합물 제조방법은 일반식(Ⅱa)의 피페리딘 화합물로부터 출발한다.
이러한 유형의 피페리딘 화합물은 공지되어 있으며, 일부는 시중에서 구입가능하다.
일반식(Ⅱ)의 화합물 제조에 있어서, 일반식(Ⅱa)의 피페리딘 화합물을 공지된 방법에 의해 에피클로로히드린과 편리하게 반응시킬 수 있다.
이 반응은 EP-A-001 835 또는 Luston and Vass, Makromol. Chem., Macromol. Symp., 27, 231(1989)에 기재된 방법 중 하나와 유사하게 수행될 수 있다. 에피클로로히드린 과량을 강염기. 예컨대 진한 알칼리 금속 히드록시드 수용액 및 유기 용매의 존재하에 일반식(Ⅱa)의 피페리딘 화합물에 천천히 부가한다.
염기는 일반식(Ⅱa)의 화합물 기준으로 거의 2 내지 20배 몰과량; 예컨대 피페리딘 화합물 몰 당 50% 수용액으로 수산화나트륨 또는 수산화칼슘의 3 내지 15몰, 바람직하기로는 4 내지 12몰을 사용하는 것이 바람직하다. 일반식(Ⅱa)의 화합물이 완전히 용해될 수 있는 양으로 유기 용매를 사용하는 것이 편리하다; 적합한 용매의 예에는 탄화수소 또는 에테르, 바람직하기로는 톨루엔과 같은 저극성 내지 비극성 용매가 있다.
예컨대, 에피클로로히드린 1 내지 4당량, 바람직하기로는 1.2 내지 3당량, 특히 1.5 내지 2.5당량을 일반식(Ⅱa)의 피페리딘 화합물 당량당 사용할 수 있다. 게다가, 3차아민염, 예컨대 테트라메틸암모늄 클로라이드 또는 테트라부틸암모늄 브로마이드와 같은 테트라알킬암모늄 할라이드, 또는 포스포늄 염, 예컨대 에틸트리페닐포스포늄 브로마이드와 같은 4차 포스포늄 할라이드의 1 내지 30몰%, 바람직하기로는 5내지 25몰%를 촉매로서 혼합물에 부가하는 것이 바람직하다.
반응 중의 온도는 0 내지 100℃, 바람직하게는 20 내지 80℃, 특히 30 내지 70℃의 범위에 있을 수 있다.
보호기체, 예컨대 질소 또는 아르곤하에 반응시키는 것이 바람직하다; 반응 혼합물을 교반하는 것이 편리하다.
이 반응이 종결될때, 종래방법에 의해 처리한다; 이 혼합물을 먼저, 예컨대 냉수 1 내지 4배에 반응 혼합물을 이전시킴으로써 물로 희석시킨 후, 예컨대, 에틸 아세테이트를 사용하여 유기상을 직접적으로 분리해내거나 또는 추출한다. 유기상을 건조시킨 다음, 용매를 제거하여 생성물을 분리해낸다. 활성탄의 분산, 여과 또는 증류와 같은 정제 단계를 더 사용할 수도 있다.
본 발명에 따른 폴리에테르는 열, 산화적 또는 화학선 분해에 대해 예컨대 하기 유기 중합체와 같은 유기 물질을 안정화시키는데 적합하다:
1. 모노올레핀과 디올레핀들의 중합체, 예를들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔과 시클로올레핀(예를 들어 시클로펜텐 또는 노르보르넨), 폴리에틸렌(경우에 따라 가교결합될수 있음)의 중합체[예를들어 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌 (LLDPE), 측쇄 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE)].
폴리올레핀, 즉 앞에서 예로 든 모노올레핀의 중합체, 바람직하기로는 폴리에틸렌과 폴리프로필렌을 여러가지 방법에 의해, 특히 하기 방법에 의해 제조할 수 있다:
a) 통상 고압 및 승온하에서의 라디칼 중합반응.
b) 통상 주기율표의 ⅠVb, Vb, VIb 또는 VⅢ족의 금속 한개 이상을 함유하는 촉매를 사용한 촉매 중합반응. 이들 금속은 통상 한개 이상의 리간드, 전형적으로 π- 또는 O-배위결합될 수 있는 산화물, 할라이드, 알코올레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케일 및/또는 아릴을 갖는다. 이들 금속 착물은 유리형태 또는 기질, 전형적으로 활성화 염화 마그네슘, 염화 티탄(Ⅲ), 알루미나 또는 산화 실리콘상에 고정된 형태일 수 있다. 이들 촉매는 중합반응 매질에 용해성이거나 불용성일 수 있다. 이들 촉매는 중합반응 매질에 용해성이거나 불용성일 수 있다. 이 촉매는 중합반응에 그대로 사용되거나 또는 다른 활성화제, 전형적으로 금속 알킬,금속 히드리드, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥산이 부가 될 수 있다. 상기 금속은 주기율표의 Ia, Ⅱa 및/또는 Ⅲa족의 원소이다. 활성화제는 보통 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르기에 의해 변형될 수 있다. 이들 촉매계는 통상 필립스, 스탠다드 오일 인디애나, 지글러(-나타), TNZ(듀풍), 메탈로센 또는 단일 부위 촉매(SSC)로 명명된 것이다.
2. 상기 1)항에서 언급된 중합체들의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물(예:PP/HDPE 또는 PP/LDPE)과 상이한 형태의 폴리에틸렌의 혼합물(예: LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀과 디올레핀 상호간 또는 다른 비닐 단량체와의 공중합체[예: 에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 그와 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥센, 에틸렌/메틸펜텐, 에틸렌/헵텐, 에틸렌/옥텐, 프로필렌/부타디엔, 이소부틸렌/이소프렌, 에틸렌/알킬 아크릴레이트, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트, 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체 및 이들의 일산화탄소와의 공중합체 또는 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머)]: 에틸렌과 프로필렌 및 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴 노르보르넨과 같은 디엔과의 3중합체;와 이같은 공중합체 상호간 및 상기 1)항에서 언급한 중합체들과의 혼합물[예: 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE/에틸렌-비닐아세테이트 공중합체(EVA), LDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체(EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA 및 랜덤 또는 교대 폴리알킬렌/일산화탄소-공중합체 뿐만아니라 이들과 그밖의 다른 중합체 에컨대 폴리아미드와의 혼합물].
4. 수소화 변성물(예:점착제수지) 및 폴리알킬렌과 녹말의 혼합물을 포함하는 탄화수소 수지(예: C5-C9)
5. 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌) 및 폴리(α-메틸스티렌).
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔류 또는 아크릴 유도체의 공중합체(예:스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 아크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/무수 말레산, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트]; 스티렌 공중합체와 기타 중합체 (예: 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중합체)로부터 형성된 고충격 강도 혼합물;과 스티렌의 블럭 공중합체[예: 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌].
7. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 공중합체[예: 폴리부타디엔 부착 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 부착 스티렌 공중합체; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 무수 말레산; 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 무수 말레산 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트; 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중합체 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴; 폴리알킬 아크릴레이트 또는 폴리알킬 메타크릴레이트 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴; 아크릴레이트/부타디엔 공중합체 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴] 및 이들과 상기 6)항에 수록된 공중합체와의 혼합물(예: ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로 공지된 공중합체 혼합물).
8. 할로겐-함유 중합체[예: 폴리클로로프렌, 염소화고무, 염소화 또는 술포염소화폴리에틸렌, 에틸렌 및 염소화에틸렌의 공중합체, 에피클로로히드린 동종- 및 공중합체, 할로겐-함유 비닐 화합물의 중합체(예를 들어, 폴리비닐클로라이드, 폴리 비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드뿐만 아니라 이들의 공중합체(예를들어 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트 공중합체)].
9. α,β-불포화산 및 그 유도체들로부터 유도된 중합체[예: 폴리아크릴레이트와 폴리메타크릴레이트: 부틸 아크릴레이트에 의해 내충격성으로 개질된 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드와 폴리아크릴로니트릴].
10. 9)항에서 언급된 단량체 상호간 또는 이 단량체와 기타 불포화 단량체의 공중합체[예:아크릴로니트릴/부타디엔, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로니트릴/비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼중합체].
11. 불포화 알코올 및 아민 또는 이들의 아실 유도체 또는 이들의 아세탈로부터 유도된 중합체[예: 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴멜라민];와 이들과 상기 1)항에서 언급한 올레핀의 공중합체.
12. 고리상 에테르의 동종 중합체 및 공중합체[예: 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 이들의 비스글리시딜 에테르와의 공중합체].
13. 폴리아세탈(예:폴리옥시메틸렌 및 공단량체로서 에틸렌 옥사이드를 함유하는 폴리옥시메틸렌);열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질시킨 폴리 아세탈.
14. 폴리페닐렌 옥사이드 및 술피드, 및 스티렌 중합체 또는 폴리아미드와 폴리페닐렌 옥사이드의 혼합물.
15. 말단 히드록시기를 갖는 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔과 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트로부터 유도된 폴리우레탄 및 그 전구체.
16. 디아민과 디카르복시산으로부터 및/또는 아미노카르복시산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드[예: 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌 디아민과 아디프산의 축합으로 제조한 방향족 폴리아미드]:와 헥사메틸렌디아민과 이소프탈산 또는/및 테레프탈산 및 경우에 따라 변형제로서 탄성 중합체를 사용해서 제조된 폴리아미드[예:폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드]: 이밖에 전술한 폴리아미드와 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 또는 그라프트 결합된 탄성 중합체와의 공중합체; 또는 폴리에테르(예: 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라 메틸렌 글리콜)와의 공중합체: EPDM 또는 ABS로 개질시킨 폴리아미드 또는 코폴리아미드; 및 처리기간중 축합시킨 폴리아미드(RIM-폴리아미드 계).
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 디카르복시산과 디올로부터 및/또는 히드록시카르복시산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르[예:폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸올시클로헥산 테레프탈레이트, 및 폴리히드록시벤조에이트]와 히드록시 말단기를 갖고 있는 폴리에테르로부터 유도된 블럭 코폴리에테르 에스테르 및 또한 폴리카르보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카르보네이트와 폴리에스테르 카르보네이트.
20. 폴리술폰, 폴리에테르 술폰과 폴리에테르 케톤.
21. 알데히드 및 페놀, 우레아 및 멜라민으로부터 유도되는 가교 중합체[예: 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지].
22. 건성 및 비건성 알키드 수지.
23. 포화 및 불포화 디카르복시산과 다가알코올의 공중합 에스테르와 가교 결합제로서 비닐 화합물을 사용해서 유도된 불포화 폴리에스테르 수지;와 인화성이 낮은 이들의 할로겐 함유 개질물.
24. 치환된 아크릴산 에스테르로부터 유도된 가교성 아크릴 수지(예: 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트).
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지와 가교된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴레이트 수지.
26. 폴리에폭사이드(예: 비스글리시딜 에테르 또는 지환족 디에폭사이드)로 부터 유도된 가교결합 에폭시 수지.
27. 천연 중합체(예: 셀룰로오스, 고무, 젤라틴)와 중합체 균질 방식으로 화학적으로 변성시킨 이들의 유도체(예:셀롤로오스 아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트와 셀룰로오스 부티레이트 또는 메틸 셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 에테르); 송진과 그 유도체.
28. 전술한 바와 같은 중합체 블렌드(폴리 블렌드)[예: PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 폴리아미드/ABS, PVC/EVA, PVC/ABS. PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6. 6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO].
본 발명은 또한 (a) 빛, 산소 및/또는 열에 의해 분해되기 쉬운 유기 물질, 특히 유기 중합체, 및 (b) 안정화제로서, 일반식(I)의 반복 단위체를 포함하는 폴리에테르를 포함하는 조성물과 빛, 산소 및/또는 열에 대해 유기 물질, 특히 유기 중합체를 안정화시키기 위한 폴리에테르의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 빛, 산소 및/또는 열에 의해 분해되기 쉬운 유기 물질, 특히 유기 중합체를 안정화시키는 방법에 관한 것으로, 이에는 안정화제로서, 일반식(I)의 반복 단위체를 포함하는 폴리에테르를 중합체에 혼합시키는 것을 포함한다.
합성 유기 중합체, 특히 열가소성, 예컨대 폴리올레핀에 대한 안정화제로서 사용하는 것이 관심을 끈다.
보호될 유기 물질은 천연, 반합성 또는 바람직하기로는 합성 유기 중합체인 것이 바람직하다. 합성 유기 중합체 또는 이러한 중합체의 혼합물, 폴리올레핀, 특히 폴리에틸렌 폴리프로필렌(PP)과 같은 특히 열가소성 중합체가 특히 바람직하다. 그외 특히 바람직한 유기 물질은 사진 물질 또는 피복 조성물이다. 사진 물질이란 사진 재생산 및 기타 재생산 방법에 대해, 특히 「Research Disclosure 1990, 31429(페이지 474 내지 480)」에 공지된 물질을 의미한다. 본 발명에서 바람직하게 안정화될 피복 조성물이, 예컨대 「Ullmann's Encyclopedia of Industrial chemistry, 5th Edn., A 18, pp. 359-464. VCH Verlagsgesellschaft, Weinheim, 1991」에 기재되어 있다.
따라서 본 발명은 특히 바람직하기로는 보호될 성분(a)이 폴리올레핀, 사진 물질 또는 아크릴, 알키드, 폴리우레탄, 폴리에스테르 또는 폴리아미드 수지 또는 상응하는 변성 수지에 근거하는 표면 피복 결합제인 조성물에 관한 것이다.
일반적으로, 안정화될 조성물의 총 중량기준으로, 본 발명에 따른 폴리에테르 0.01 내지 10중량%, 바람직하기로는 0.01 내지 5중량%, 특히 0.01 내지 2중량%를 부가한다. 본 발명에 따른 화합물을 특히 0.05 내지 1.5%, 특히 0.1 내지 1.5%의 양으로 사용한다.
예컨대 본 발명에 따른 폴리에테르를 혼합 또는 도포하고 기타 공지 방법에 의해 첨가제를 더 부가함으로써 안정화될 물질을 혼입할 수 있다. 예컨대, 성형 전 또는 도중, 또는 중합체에 용해된 화합물을 도포하고, 필요하면 후속적으로 용매를 증발시킴로써 보호될 중합체에 혼입시킬 수 있다. 탄성중합체인 경우에, 라텍스로서 안정화시킬 수 있다. 본 발명에 따른 에테르의 또 다른 혼입 방법에는 상응하는 단량체의 중합 전, 도중 또는 직후에 이들을 부가하거나 또는 가교전에 부가하는 것을 포함한다. 본 발명에 따른 폴리에테르를 그대로 또는 캡슐형태(예컨대, 왁스, 오일 또는 중합체)로 부가할 수 있다. 중합 전 또는 도중에 부가하는 경우, 본 발명에 따른 에테르는 중합체의 사슬 길이 조절제로서 작용할 수도 있다(사슬 종결제).
예컨대 2.5 내지 25중량%의 농도로 이 화합물을 포함하는 마스터뱃치 형태의 안정화될 플라스틱에 본 발명에 따른 폴리에테르를 부가할 수도 있다.
본 발명에 따른 중합체 또는 공중합체를 하기 방법에 의해 편리하게 혼입시킬 수다:
- 유화액 또는 분산액(예컨대 라텍스 또는 유화성 중합체에)로서,
- 부가 성분 또는 중합체 혼합물의 혼합 중 건식 혼합물로서,
- 처리 장치(예컨대 압출기, 내부 혼합기 등)에 직접 부가함으로써,
- 용액 또는 용융물로서.
본 발명에 따른 중합체 혼합물을 여러가지 형태로 사용하거나 또는 여러가지 생성물로 전환시킬 수 있다. 예컨대 이들을 그대로 사용할 수 있으며 또는 필름, 테이프, 성형 조성물, 프로필로 전환시키거나 또는 표면 피복제, 접착제 또는 접착제 시멘트용 결합제로서 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 또는 공중합체이외에도, 본 발명에 따른 조성물은 종래 부가제, 예컨대 하기의 부가제를 부가적으로 포함할 수 있다.
종래 부가제는 안정화될 중합체를 기준으로 0.1 내지 10중량%, 예컨대 0.2 내지 5중량%의 양으로 사용하는 것이 편리하다.
1. 산화방지제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예를 들어 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2-t-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-t-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데크-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데크-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데크-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예를 들어 2,4-디옥틸티오메틸-6-t-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예컨대 2,6-디-t-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-삼차아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-t-부틸히드로퀴논, 2,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)아디페이트.
1.4. 토코페롤, 예를 들어, α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤과 δ-토코페롤 및 그의 혼합물(비타민 E).
1.5. 히드록시화 티오디페닐 에테르, 예를 들어 2,2'-티오비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스-(3,6-디-2차아밀페놀), 4,4'-비스-(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드,
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예를 들어 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-t-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸-페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-t-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-t-부틸-4-히드록시-5메틸-페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-t-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스-(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. 0-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를 들어 3,5,3'5'-테트라-t-부틸-4,4'-디히드록시-디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질 머캅토아세테이트, 트리스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 머캅토아세테이트.
1.8. 히드록시벤질화 말로네이트, 예를 들어 디옥타데실 -2,2-비스-(3,5-디-t-부틸-2-히드록시벤질)-말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실머캅토에틸-2,2-비스-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
1.9. 방향족 히드록시벤질 화합물, 예를 들어 1,3,5-트리스-(3,5-디-t-부틸-2-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물, 예를 들어 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진,
1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질) 이소시아누레이트.
1.11. 벤질포스포네이트, 예컨대 디메틸-2,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트, 디에틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질 포스포네이트, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질-포스폰산 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
1.12. 아실아미노페놀, 예컨대 4-히드록시라우르아닐리드, 4-히드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.13. 1가 또는 다가 알코올과 β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르, 예컨대 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸 헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.14. 1가 또는 다가 알코올과 β-(5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로-[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.15. 1가 또는 다가 알코올과 β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐프로피온산의 에스테르, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콘, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.16. 1가 또는 다가 알코올과 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐 아세트산의 에스테르, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.17. β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들어 N,N'-비스(3,5--디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진.
2. UV 흡수제 및 광안정화제
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들어 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5-디-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트라아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-이차부틸-5'-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디삼차아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3', 5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸의 혼합물, 2-(3'-t-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 및 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 폴리에틸렌 글리콜 300과 2-[3'-t-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시-페닐]-2H-벤조트리아졸의 에스테르 교환반응 생성물; R이 3'-t-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐인 [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2.
2.2. 2-히드록시벤조페논, 예를 들어 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 비치환 및 치환된 벤조산의 에스테르, 예를 들어 4-t-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-t-부틸-벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-히드록시 벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를 들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예를 들어 적절한 경우 부가적인 리간드(예 : n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민)가 있는 2,2'-티오-비스-[4-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물(예컨대 1:1 또는 1:2 착물), 니켈 디부틸 디티오카르바메이트, 4-히드록시-3,5-디-t-부틸 벤질 포스폰산 모노알킬 에스테르(예 : 메틸 에스테르 또는 에틸 에스테르)의 니켈 염, 케톡심(예 : 2-히드록시-4-메틸페닐 운데실 케톡심)의 니켈 착물, 적절한 경우 부가적인 리간드가 있는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시 피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) n-부틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6,-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-t-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카르복시레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6,-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-t-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3-5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노) 에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온.
2.7. 옥사미드, 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사아닐리드, 2,2'-디에톡시옥사아닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-t-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-t-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에톡사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-t-부틸-2'-에톡사닐리드 및 그와 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-t-부톡사닐리드와의 혼합물, o- 및 p-메톡시-이중 치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이중 치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 탈활성화제, 예를 들어 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실알-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4-8,10-테트라-t-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-t-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트.
5. 과산화물-분해 화합물, 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예컨대 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 머캅토벤조이미다졸 또는 2-머캅토 벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실머캅토)프로피오네이트.
6. 폴리아미드 안정화제, 예를 들어 요오드화물 및/또는 인 화합물과의 구리 염 및 2 가 망간 염.
7. 염기성 공안정화제, 예를 들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리 알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리금속 및 알칼리토금속 염, 예컨대 스테아르산 칼슘, 스테아르산아연, 베헨산마그네슘, 스테아르산 마그네슘, 리시놀레산 나트륨 및 팔미트산 칼륨, 피로카테콜산 안티몬 또는 피로카테콜산 조석.
8. 핵 생성제, 예를 들어 4-t-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산.
9. 충전재 및 강화제, 예를 들어 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연.
10. 다른 첨가제, 예컨대 가소화제, 윤활제, 유화제, 안료, 형광증백제, 난연제, 대전방지제 및 발포제.
11. 벤조푸란온 및 인돌리논, 예컨대 US-A-4 325 863, US-A-4 338 244, US-A-5 175 312, US-A-5 216 052, US-A-5 252 643, DE-A-4 316 611, DE-A-4 316 622, DE-A-4 316 876, EP-A-O 589 839 또는 EP-A-0 591 102에 공지되어 있는 화합물 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-3차부틸-벤조푸란-2-온, 5,7-디-3차부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시에톡시)페닐]-벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-3차부틸-3-(4-[2-히드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-3차부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-3차부틸-벤조푸란-2-온], 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5, 7-디-3차부틸-벤조푸란-2-온.
하기 실시예는 본 발명을 더 상세히 예증한다. 이하 본 명세서에서, 모든 부와 퍼센트는 별 다른 언급이 없는 한 중량부이다. 하기 약자가 본 실시예에서 사용된다:
GC: 기체 크로마토그래피
GPC: 겔 침투 크로마토그래피
DSC: 미분 주사 열량계
THF: 테트라히드로푸란
Mn: 수 평균 분자량(단위 g/올)
Mw: 무게 평균 분자량(단위 g/올)
TG: 유리 전이 온도
[제조예]
A) 단량체의 제조
A1) 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘
아르곤 대기하에 수산화 나트륨 300g(7.5몰)을 기계식 교반기, 응축기 및 500ml 적하 깔대기가 구비된 2.5l들이 술폰화 플라스크에서 물 300g에 용해시킨다. 톨루엔 750ml, 테트라부틸암모늄 브로마이드 48.4g(0.15몰) 및 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘 257g(1.5몰)을 부가한다. 에피클로로히드린 347g(3.75몰)을 60℃에서 1.5시간에 걸쳐 적가한 후, 이 혼합물을 동일온도에서 4시간 동안 교반한다. 이 반응 용액을 냉수 3l에 붓고, 유기상을 분리한 다음 황산 나트륨으로 건조하여 증발시킨다. 이 혼합물을 0.05mmHg의 Vigreux 관에서 증류하여 비점 71 내지 72℃의 분획물을 수집한다. 수율: 205g(60%). GC:〉99%
미량분석
계산치 실측치
C 68.68 68.64
H 11.07 11.21
N 6.16 6.32
C1 0.0 0.0
1H-NMR(CDC13):
1.02 및 1.16ppm(12H, s): 피페리딘 고리의 CH3기
1.32-1.4ppm 및 1.83-1.91ppm(4H, m): 피페리딘 고리의 -CH2기
2.23ppm(3H, s): N-CH3
2.60-2.62ppm 및 2.78-2.82ppm(2H, m): 에폭시드 고리의 CH2
3.42-3.47ppm 및 3.71-3.76ppm(2H, m): O-CH2기
3.57-3.67ppm(1H, m): 피페리딘 고리의 CH-O
A2) 1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘
A2a) 4-아실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘
4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 786.5g(5몰)을 기계식 교반기, 온도계, 응축기 및 적하 깔대기가 구비된 바닥 편평한 조인트의 10l들이 술폰화 플라스크에 넣는다. 아세트산 300g(5몰) 및 아세트산 무수물 1531g(15몰)을 부가한다. 진한 황산 약 10방울을 천천히 적가하고, 이 혼합물을 60℃에서 12시간동안 교반한다. 물3l의 나트륨 산화물 1.2kg의 용액을 내부 온도 30℃이하에서 부가한다. 이 혼합물을 디에틸에테르 1l로 2번 추출하고 황산 나트륨으로 건조한 다음 용매를 증발시킨다. 이 물질을 수류 진공하에 증류시킨다: 비점은 103℃/15mmHg이다.
계산치 실측치
C 66.29 66.03
H 10.62 10.74
N 7.03 6.93
IR(KBr 디스크): 1740cm-1에서 C=O
1H-NMR(CDC13):
1.03 - 1.18ppm(2H, m) -CH2-
1.15ppm(6H, s): CH3-C
1.24ppm(6H, s): CH3-C
1.89 - 1.95ppm(2H, m): -CH2-
2.03ppm(3H, s): CH3COO-
A2b) 1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘
4-아세톡시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 60g(301밀리몰)을 자석 교반기, 물 분리기, 온도계 및 적하 깔대기가 구비된 1.5l들이 술폰화 플라스크에서 질소하에 시클로헥산 300ml에 용해시킨다. 몰리브덴 산화물 4.3g(30밀리몰)을 부가한다. 3차부틸 과수소화물 70%수용액 154g(1.2몰)을 시클로헥산 35ml로 3회 추출하고, 각 경우에 유기상을 황산 나트륨으로 건조시켜 적하깔대기로 이전시킨다. 이 반응 혼합물을 가온하여 환류시키고, 2시간에 걸쳐 3차부틸 과수소화물을 적가한다. 2시간이 더 지나면, 물이 완전히 제거된다. 혼합물을 환류온도에서 밤새 방치한 다음 25℃로 냉각시키고 촉매를 여과제거한다. 얼음을 부가하고, 과량의 과수소화물을 제거하기 위해 소량의 아황산 나트륨을 부가한 다음 유기상을 분리제거하고, 물로 세척하여 황산 나트륨으로 건조하고 용매를 Rotavap에서 제거한다.
수율: 85g(95%)
분석할 목적으로, 액체를 벌브관에서 증류시킨다. 이 무색 액체는 115℃/0.05mmHg에서 끓는다.
GC 분석: 96%
미량분석
계산치 실측치
C 68.65 68.57
H 10.51 10.49
N 4.71 4.56
1H-NMR(CDC13):
1.19ppm(12H, s): CH2-C
1.08 - 2.02ppm(14H, m): -CH2-
2.01ppm(3H, s): CH3-COO
4.95 - 5.05ppm(1H, m):
A2c) 1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘
수산화 칼슘 24g(428밀리몰)을 원뿔형 플라스크에서 메탄올 600ml에 용해시킨다. 1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-아세톡시피페리딘 85g(286밀리몰)을 교반하면서 가온 용액에 붓는다. 그 다음 이 혼합물을 얼음상에 붓고 디에틸에테르로 추출한다. 디에틸에테르 용액을 황산나트륨으로 건조한 후에, 에테르를 증발시키고 점성잔류물을 가온 아세토니트릴 300ml에 용해시킨다. 이 용액을 여과하고 결정화되도록한다;
수율: 50g(68%).
이 무색 물질의 융점을 78.5℃이고; GC 분석에 따른 순도는 96%.
미량분석
계산치 실측치
C 70.54 70.55
H 11.45 11.59
N 5.48 5.36
1H-NMR(CDCl3):
1.14ppm 및 1.24ppm(12H, s): CH3
1.08 - 2.07ppm(14H, m): -CH2-
3.57 - 3.62ppm(1H, m):
4.95 - 5.05ppm(1H, m):
3.90 - 3.99ppm(1H, m):
A2d) 1-시클로헥실옥시-2,2,6-6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘
수산화 나트륨 78.4g(1.96몰)을 교반기, 온도계 및 적하 깔대기가 구비된 750ml 들이 술폰화 플라스크에서 아르곤하에 물 80ml에 용해시킨다. 톨루엔 250ml에 용해된 테트라부틸암모늄 브로마이드 12.6g(39.2밀리몰) 및 1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 100g(392밀리몰)을 부가한다. 이 혼합물을 50 내지 55℃로 가온하고, 혼합물을 격렬하게 교반하면서 에피클로로히드린 90.7g(980밀리몰)을 45분에 걸쳐 적가한다. 혼합물을 55℃에서 3시간 동안 더 교반한 다음 냉수 1l에 붓고, 유기상을 분리한 후 물로 한번 세척한다. 유기상을 황산 나트륨으로 건조하여 활성칸으로 탈색시키고 여과 및 증발시킨다. 잔류물 Vigreux 관에서 증류한다:
비점 116 내지 117℃/0.06mmHg.
수율: 78.7g(64%).
GC 순도: 98%
미량분석
계산치 실측치
C 69.41 69.34
H 10.68 11.24
N 4.50 4.39
1H-NMR(CDCl3):
1.13ppm 및 1.119ppm(12H, s): CH3-
1.08ppm - 2.04ppm(14H, m): -CH2-
2.59ppm - 2.81ppm(2H, m): CH2에폭시드 고리
3.10ppm - 3.43ppm(2H, m): CH2에폭시드
3.56ppm - 3.73ppm(3H, m) : CH 에폭시드 고리 및 6원 고리의 CH-0
A3) 1-옥틸옥시-2,2,6-6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘
수산화 나트륨 100g(2.5몰)을 기계식 교반기, 온도계, 적하 깔대기 및 응축기가 구비된 750ml들이 술폰화 플라스크에서 물 100ml에 용해시킨다. 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 71.9g(0.25몰) 및 테트라부틸암모늄 브로마이드 16.1g(0.05몰)을 20℃에서 부가한다. 이 혼합물을 격렬하게 교반하면서 30℃로 가온한다. 에피클로로히드린 277.5g(3몰) 및 1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 71.9g(0.25몰)의 용액을 75분에 걸쳐 35℃에서 적가한다. 이 반응 용액을 상온에서 16시간 동안 교반한 다음 얼음 1kg 및 중탄산 나트륨 100g에 붓는다. 유기상을 분리한다. 수상을 에틸 아세테이트로 추출한다. 두개의 유기상을 염화나트륨으로 포화된 물로 세척하고 황산 나트륨으로 건조하여 Rotavap에서 증발시킨다.
이 잔류물을 130 내지 134℃/0.01mmHg에서 증류시킴으로써 맑은 무색 액체를 수득한다.
미량분석:
C H N
계산치 70.34 11.51 4.10
실측치 70.59 11.56 4.19
1H-NMR(CDCl3)
0.836- 1.81ppm(32H, m): CH3, CH2피페리딘: CH3, CH2i-옥틸, n-옥틸
2.59 - 2.61ppm 및 2.78 - 2.81ppm(2H, m): CH2(에폭시드)
3.10 - 3.15ppm(1H, m): CH(에폭시드)
3.38 - 3.44ppm(1H, m): C-O-CH2
3.56 - 3.85ppm(3H, m) : C-O-CH2,
A4) 1- 벤질-2,2,6-6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘
수산화 나트륨 200g(5몰)을 기계식 교반기, 온도계, 응축기 및 적하 깔대기가 구비된 1.5l들이 술폰화 플라스크에서 물 200ml에 용해시킨다. 1-벤질-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 247.4g, 테트라부틸암모늄 브로마이드 32.2g(0.1몰) 및 톨루엔 500ml을 50℃에서 부가한다. 격렬하게 교반하면서 50 내지 55℃에서 에피클로히드린 185g(2몰)을 적가한다. 이 혼합물 16시간 동안 55℃에서 교반한다. 냉각된 용액을 물 2l 및 중탄산 나트륨 220g에 붓고 에틸 아세테이트로 2회 추출한다. 유기상을 건조 및 증발시킨다. 이 잔류물을 120℃/0.008mmHg에서 증류함으로써 맑은 액체 165g(54%)를 수득한다.
미량분석:
C H N
계산치 75.21 9.63 4.62
실측치 75.17 9.58 4.71
1H-NMR(CDC13):
0.98 및 1.11ppm(12H, s): CH3
1.44 - 1.54ppm 및 1.88 - 1.97ppm(4H, m): CH2(피페리딘)
2.62 - 2.64ppm 및 2.79 - 2.83ppm(2H, m): CH2(에폭시드 고리)
3.13 - 3.19ppm(1H, m): CH(에폭시드 고리)
3.45 - 3.51ppm 및 3.73 - 3.78ppm(2H, m): CH2(에폭시드)
3.68 - 3.77ppm(1H, m):
3.81ppm(2H, s): N-CH2-방향족
7.11 - 7.42ppm(5H, m): H-방향족
A5) 2,2,6-6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘의 제조
수산화 나트륨 64.0g(1.6몰)을 기계식 교반기, 응축기, 온도계 및 100ml 적하 깔대기가 구비된 750ml들이 술폰화 플라스크에서 아르곤하에 물 64ml에 용해시킨다. 톨루엔 170ml, 테트라부틸암모늄 브로마이드 10.3g(31.8밀리몰) 및 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘 50g(318밀리몰)을 부가한다. 에피클로로히드린 58.8g(636밀리몰)을 45℃에서 적가한다. 이 혼합물을 4시간 동안 50℃에서 교반한다. 이 반응 혼합물을 상온으로 냉각하여 냉수 1l에 붓고, 유기상을 분리한 다음 황산 나트륨을 사용하여 건조하고 회전식 증발기상에 증발시킨다. 잔류물을 8 x 10-3mmHg으로 증류시킨다. 비점: 48℃, 수율: 28g(41%).
GC: 98%
미량분석:
계산치 실측치
C 67.57 67.73
H 10.87 10.92
N 6.57 6.51
1H-NMR(CDC13):
0.577ppm(1H): NH
0.81 - 0.98ppm(2H, m): CH2(피페리딘 고리)
1.01 및 1.05ppm(12H, s): CH3기
1.77 - 1.87ppm(2H, m) CH2(피페리딘 고리)
2.47 - 2.50ppm 및 2.66 - 2.69ppm(2H, m): CH2(에폭시드 고리)
2.99 - 3.04ppm(1H, m): CH(에폭시드 고리)
3.31 - 3.37ppm 및 3.61 - 3.67ppm(3H, m): CH2(에폭시드) 및 CH-0(피페리딘 고리)
B) 중합체의 제조
B1) 폴리[1,2,2,6-6-펜타메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘]
A1)에서 제조된 에폭시드 80g(352밀리몰)을 250ml들이 습기 부재의 둥근 바닥 플라스크에 아르곤 존재하에 넣는다. 칼슘 3차부톡시드 1.6g(14.1밀리몰) 및 18-크라운-6 1.4g(5.3밀리몰)을 부가한다. 이 혼합물을 자석 교반기로 교반하는 동안 발열 중합반응이 자발적으로 개시된다. 2시간 후에, 혼합물의 점도는 높아진다. 이 혼합물을 테트라히드로푸란에 용해시키고, 활성탄으로 처리하여 여과시킨 후 생성물을 아세토니트릴에 침전시킨다. 오일을 분리하고 테트라히드로푸란에 재용해시켜 아세토니트릴에 침전시킨다. 그 결과 제조된 오일을 고진공하에 건조시킨다.
고점성 중합체의 수율: 59.4g(71%)
미량분석;
계산치 실측치
C 68.68 68.45
H 11.07 11.49
N 6.16 5.94
1H-NMR(CDC13): 2.4 내지 3.4ppm 범위에서 에폭시드 고리 양성자가 나타나지 않음, 즉 더 이상 단량체가 존재하지 않는다.
1.01ppm 및 1.15ppm(12H, s): CH3-C
1.24 - 1.87ppm(4H, m): C-CH2-C
2.22ppm(3H, s): CH3N
3.49 - 3.67ppm(6H, m): CH-O 및 CH2-O
GPC(THF): Mn= 2170; Mw= 3630; Mw/Mn= 1.67
B2) 폴리[1-시클로헥실옥시-2,2,6-6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘]
B2a) 나트륨 메톡시드를 사용한 중합반응
A2)에서 제조된 에폭시드 35g(112.5밀리몰)을 자석 교반기가 구비된 50ml 들이의 건조 둥근 바닥 플라스크에 넣는다. 나트륨 메톡시드 0.2g(3.7밀리몰) 및 15-크라운-5 0.8g(3.6밀리몰)을 아르곤하에 부가한다. 이 혼합물을 150℃에서 15시간 동안 중합되도록 한다. 이 고점성 물질을 테트라히드로푸란 100ml에 용해시켜 아세토니트릴 600ml에 침전시킨다. 재용해 및 침전시킨 후 고진공하에 건조시킴으로써 고점성 물질을 제조한다.
수율:23.5g(67%)
미량분석:
계산치 실측치
C 69.41 68.99
H 10.68 10.73
N 4.50 4.38
1H-NMR(CDCl3): 에폭시드 고리 양성자가 더 이상 보이지 않음
GPC(THF): Mn= 1783; Mw= 2327; Mw/Mn= 1.3.
B2b) 칼슘 3차부톡시드를 사용한 중합반응
A2)에서 제조된 에폭시드 15g(48.2밀리몰), 칼슘 3차부톡시드 0.2g(1.8밀리몰) 및 18-크라운-6 0.2g(0.7밀리몰)을 앰풀에 이전시켜 150℃에서 14시간 동안 고진공하에 중합되도록 한다. 이 고체를 THF 60ml에 용해시키고 아세토니트릴 600ml에서 침전시킨다. 그 결과 제조된 오일을 THF에 재용해시킨 다음, 아세토니트릴에서 침전시킨다. 3시간 동안 40℃에서 건조시킴으로써 고점성 물질을 제조한다.
수율: 6g(40%)
미량분석:
계산치 실측치
C 69.41 68.90
H 10.68 10.67
N 4.50 4.33
1H-NMR(CDCl3): 에폭시드 고리 양성자가 보이지 않음
GPC(THF): Mn= 4670; Mw= 12500; Mw/Mn= 2.68
B3) 폴리[1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘]
A3)에서 제조된 물질 85g(249밀리몰), 칼슘 3차부톡시드 1.12g(10밀리몰) 및 18-크라운-6 1.12g을 자석 교반기가 구비된 10ml들이 둥근 바닥 플라스크에 넣는다. 이혼합물을 3회 탈기하고 아르곤하에 20시간 동안 150℃에서 중합되도록 한다. 이 고체를 THF에 용해시키고, 활성탄으로 처리하여 여과하고 아세토니트릴에서 침전시킨다. THF에 재용해시키고 아세토니트릴에서 침전시켜 중합체 20.2g(24%)를 수득한다.
미량분석:
C H N
계산치 70.34 11.51 4.10
실측치 68.84 11.47 4.09
GPC(THF): Mn= 2390, Mw= 3490
TGA(20℃/분, 질소): 240℃에서 중량 손실 5%, 2단계 중량 손실
(220-280℃: 옥틸옥시기의 제거; 350-440℃: 남아있는 구조의 분해)
B4) 폴리[1-벤질-2,2,6,6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘]
단량체 A4) 30g(98.8밀리몰), 칼슘 3차부톡시드 0.44g(4밀리몰) 및 18-크라운-60.44g(1.66밀리몰)을 100ml 앰풀에 넣고 산소를 제거한다. 이 혼합물을 150℃에서 16시간 동안 아르곤하에 중합시킨다. 이 고체를 THF에 용해시키고 아세토니트릴에서 침전시킨다. 반복하여 침전 및 용해시킨다. 고진공하에 건조시킴으로써 연한 베이지색 고체 23.1g(78%)를 제조한다.
미량분석:
C H N
계산치 75.21 9.63 4.62
실측치 74.50 9.61 4.27
GPC(THF): Mn= 3350, Mw= 5900
TGA(20℃/분, 질소): 370℃에서 중량 손실 5%
DTA(10℃/분); 융점 47℃
B5) 폴리[2,2,6,6-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘]
A5)에서 제조된 에폭시드 53g(248밀리몰), 칼슘 3차부톡시드 1.2g(10밀리몰) 및 18-크라운-6 에테르 1.2g을 자석 교반기가 구비된 100ml들이 둥근 바닥 플라스크에 넣는다. 이 혼합물을 3회 탈기하고 아르곤하에 6시간 동안 150℃에서 반응되도록 한다. 이 고체를 THF에 용해시키고, 활성탄을 사용하여 탈색시키고 여과 및 증발하여 모든 용매(물, n-헥산 등)에 가용적인 중합체를 제조한다. 이 중합체를 4시간 동안 70℃에서 건조시키고 고진공에서 1시간 동안 100℃에서 건조시킴으로써 약간 점착성 있는 고체 50.3g(95%)를 수득한다.
미량분석:
C H N
계산치 67.57 10.87 6.57
실측치 67.44 10.86 6.51
GPC(DMF 0.05M LiBr): Mn= 11000, Mw= 12000
MALDI(Matrix Assisted Desorption ionization) Mn; 5100, Mw; 6100
1H-NMR(CDC13):
0.97 - 1.04ppm(2H, m): CH2(피페리딘 고리)
1.14 및 1.18ppm(12H, s): CH3
1.93 - 1.96ppm(2H, m): CH2(피페리딘 고리)
3.54 - 3.67ppm(6H, m): CH, CH2(에폭시드) 및 CH-0(피페리딘)
TGA(2℃/분, 공기): 290℃에서 중량 손실 10%
B6) A1 및 A2의 공중합체
1,2,2,6,6,-펜타메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘(단량체 A1) 24.3g(107밀리몰), 1-시클로헥실옥시-2,2,6,6,-테트라메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘(단량체 A2) 33.3g(107밀리몰), 칼슘 3차부톡시드 2.40mg(2.14밀리몰) 및 18-크라운-6240mg(0.91밀리몰)을 탈기하여 아르곤하에 18시간 동안 150℃에 방치한다. 상온으로 냉각시킨 후에, 유리질 고체를 THF에 용해시키고 아세토니트릴에서 침전시킨다. 이렇게 제조된 물질을 THF에 재용해시키고 활성탄을 사용하여 탈색시킨 후 아세토니트릴에서 침전시켜 고진공하에 건조된 베이지색 분말을 수득한다.
수율: 51.3g(89%)
미량분석:
C H N
계산치 69.10 10.85 5.20
실측치 68.42 10.04 5.15
1H-NMR(CDC13): 1:1 공중합체, 에폭시드 고리가 더 이상 보이지 않음
GPC(THF): Mn=3500, Mw= 520
DSC(10℃/분); Tg= 18℃
B7) A1 및 A5의 공중합체
1,2,2,6,6-펜타메틸-4-(2,3-에폭시프로폭시)피페리딘(단량체 A1) 22.7g(0.1 몰), 4-(2,3-에폭시프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘(단량체 A5) 21.3g(0.1몰), 칼슘 3차부톡시드 448mg(4밀리몰) 및 18-크라운-6 448mg을 100ml들이 둥근 바닥 플라스크에 넣고 산소를 제거한다. 이 혼합물을 아르곤하에 20시간 동안 150℃에 방치한다. 중합체를 THF에 용해시키고 아세토니트릴에서 침전시킨다. 이 과정을 반복한다. 침전된 중합체를 고진공하에 60℃에서 건조시킨다.
수율: 16.5g(37%);
1H-NMR(CDC13): CH2(펜타메틸피페리딘) 1.83 - 1.91ppm; CH2
(테트라메틸피페리딘) 1.91 - 2.00ppm; 1:1 공중합체.
GPC(THF): Mn=1000, Mw= 1800.
C) 용도예
[실시예 C1]
폴리프로필렌 섬유의 광안정화
트리스(2,4-디-3차부틸페닐) 포스파이트 1g, 모노에틸 3,5-디-3차부틸-4-히드록시벤질포스폰산 칼슘 1g, 스테아르산 칼슘 1g 및 이산화티탄 (Kronos RN 57) 2.5g과 본 발명에 따른 안정화제 2.5g을 폴리프로필렌 분말 1000g(융점 지수 = 12g/10분, 230℃/2.16kg에서 측정함)과 함께 터보 혼합기에서 혼합한다.
이 혼합물을 200 내지 230℃에서 압출시켜 과립제를 제조하고; 후속적으로 하기 조건하에 파일럿 플랜트(Leonard;Sumirago/VA, 이탈리아)를 사용하여 섬유로 전환시킨다:
압출 온도: 200 내지 230℃
다이헤드 온도: 255 내지 260℃
연신비: 1:3.5
연신 온도: 100℃
섬유: 10 den
이렇게 제조된 섬유를 ASTM D 2565-85에 따라 63℃의 블랙 판넬로 Weather-O-Meter 65WR에서 백색 바탕에 노출시킨다. 여러 노출 시간을 측정한 후에, 쌤플의 잔류 인장강도를 측정한다. 측정값을 사용하여 쌤플 인장강도가 반이 되는데 소요되는 노출 시간 (T50)을 계산한다.
비교하기 위해, 본 발명의 안정화제를 함유하지 않는 섬유를 제조하여 상기한 바와 동일한 조건하에 시험한다. 그 결과는 하기 표 C1에 나타나 있다.
[표 C1]
본 발명에 따라 안정화된 섬유는 우수한 점착성을 갖는다.
[실시예 C2]
2회 피복 마무리의 안정화.
광안정화제를 크실렌 5 내지 10g에 혼입하여 하기 조성의 니스에서 시험한다:
1) Acrylate 수지, Hoechst AG: 크실렌/부탄올 26:9의 65% 용액
2) Acrylate 수지, Hoechst AG: Solvesso1004)의 75% 용액
3) Melamin 수지, Hoechst AG: 이소부탄올의 55% 용액
4) 제조: ESSO
5) 제조: Shell
6) Solvesso150의 1%; 제조: Bayer AG
이 니스에, 니스의 고형분 기준으로, 안정화제 1%를 부가한다. 안정화제를 포함하지 않는 니스를 비교용으로 사용한다. Solvesso100을 사용하여 이 니스를 분무 가능한 컨시스턴시로 희석시키고 제조된 알루미늄 쉬트(코일 피복, 충진재, 은 금속성 기제 피복)상으로 분무한 다음 30분 동안 130℃에서 경화하여 니스 두께 40 내지 45㎛의 건식 필름을 제조한다.
이렇게 제조된 쌤플을 4시간 동안 60℃에서 UV방사선 싸이클로 UVCON노출 장치(아틀라스사 제, UVB-313 램프)에서 노출시켜 4시간 동안 50℃에서 축합시킨다.
쌤플의 균열에 대해 정기적으로 조사한다. 그 결과는 표 2C에 나타나 있다.
[표 C2]
본 발명에 따른 안정화제를 함유하는 쌤플은 고도의 내균열성을 가진다.
[실시예 C3]
사진 물질의 안정화
하기식의 황색 발색제(a) 0.087g를 본 발명에 따른 안정화제의 에틸 아세테이트 용액 2.0ml(2.25g/100ml)에 용해시킨다. pH가 6.5로 조정되고 하기식의 습윤제(b) 1.744g/1를 포함하는 젤라틴 2.3%수용액 9.0ml를 이 용액의 1.0ml에 부가한다:
은 함량 6.0g/l의 브롬화 은 유화액 2ml 및 일반식의 경화제 0.7% 수용액 1.0ml을 제조된 발색제 유화액 5.0ml에 부가한 다음, 이 혼합물을 13 x 18cm 플라스틱 도포된 종이상에 붓는다. 7일동안 경화시킨 후에, 이 쌤플을 실버 스텝 웨지뒤에서 125Lux.s로 노출시키고 후속적으로 Kodak Ektaprint 2공정으로 처리한다.
제조된 황색 웨지를 UV 필터 (Kodak 2C)뒤에서 2500W 크세논 램프에 의해 Atlas Weather-O-Meter에서 총 60kJ/cm2로 조사한다.
안정화제 부재의 쌤플을 표준방법으로 동일하게 도포한다.
조사 도중에, 황색 염료의 최대 흡광에서 색 밀도가 저하되는 것을 Macbeth TR 924A 밀도측정계를 사용하여 측정한다.
색 밀도 저하로부터 광 안정화 효과가 명확히 나타난다. 밀도 저하도가 작을수록, 광안정화 효과가 높다.
본 발명에 따른 안정화제는 양호한 광 안정화 작용을 나타낸다.

Claims (6)

  1. 하기식(I)의 폴리에테르:
    상기식에서, m은 0 또는 1이며;
    n은 3 내지 100 범위의 정수이고;
    R1은, m이 0 또는 1인 경우에, 각가 비치환 또는 C5-C8시클로알킬로 치환되고, C5-C8시클로알킬렌이나 산소 또는 황이나 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되 거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C11-C36알킬 또는 C7-C36아르알킬; C3-C36알켄일; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴이고; m이 0인 경우에, 이와는 달리, 수소; 각각 비치환 또는 C5-C8시클로알킬에 의해 치환되고, C5-C8시클로알킬렌 또는 산소나 황 또는 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되어 있거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C1-C36알콕시 또는 C7-C36아르알콕시; C3-C36알켄일옥시; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 혹은 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴옥시이며; R11은 C1-C18알킬, C5-C8시클로알킬, 페닐 또는 C7-C9페닐알킬이고; X는 산소 또는 황원자이다.
  2. (a) 빛, 산소 및/또는 열에 의해 분해되기 쉬운 유기 물질, 및 (b) 안정화제로서, 제1항에 따른 일반식(I)의 폴리에테르를 포함하는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 성분(a) 및 (b)이외에 종래 부가제가 존재하는 조성물.
  4. 제2항에 있어서, 조성물의 중량기준으로, 성분(b) 0.01 내지 10중량%를 포함하는 조성물.
  5. 안정화제로서 제1항에 따른 일반식(I)의 폴리에테르를 중합체와 혼합하는 것을 포함하는, 빛 산소 및/또는 열에 대해 유기 중합체를 안정화시키는 방법.
  6. 하기식(Ⅱ)의 화합물을 음이온성 중합반응시킴으로써 제조될 수 있는 폴리에테르:
    상기식에서, m은 0 또는 1이며; R1은, m이 0 또는 1인 경우에, 각각 비치환 또는 C5-C8시클로알킬로 치환되고, C5-C8시클로알킬렌이나 산소 또는 황이나 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되거나 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 C1-C36알킬 또는 C7-C36아르알킬; C3-C36알켄일; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알킬; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴이고; m이 0인 경우에, 이와는 달리, 수소; 각각 비치환 또는 C5-C8시클로알킬에 의해 치환되고, C5-C8시클로알킬렌 또는 산소나 황 또는 -NR11-이 지방족 부분 중간에 결합되어 있거나 C1-C4알킬 및 또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 3이 방향족 부분에 치환된 C1-C36알콕시 또는 C7-C36아르알콕시; C3-C36알켄일옥시; 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C5-C12시클로알콕시; 혹은 비치환 또는 C1-C4알킬 및/또는 C1-C4알콕시 라디칼 1 내지 4에 의해 치환된 C6-C10아릴옥시이며; R11은 C1-C18알킬, C5-C8시클로알킬, 페닐 또는 C7-C9페닐알킬이고; X는 산소 또는 황원자이다.
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