KR100253259B1 - 기판의 선택적 발수 처리 방법과 그를 이용한 차광 부재 형성 기판 및 화상 소자용 칼라 필터 기판의 제조 방법 - Google Patents

기판의 선택적 발수 처리 방법과 그를 이용한 차광 부재 형성 기판 및 화상 소자용 칼라 필터 기판의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 유리와 같은 기판상에 부분적으로 차광 부재가 형성되어 있고, 게다가 차광 부재 위에만 발수성을 부여하는 처리 방법과 그 방법을 이용한 차광 부재 형성 기판에 관한 것으로, 특히 우수한 칼라 특성과 표면 평탄화가 양호한 칼라 필터의 제조 방법과 그 방법을 이용한 화상 소자용 칼라 필터 기판에 관한 것이다.
본 발명은, 착색성이 우수하고, 표면 평탄성이 양호한 유전체 기판의 선택적 발수 처리 방법과, 그를 이용한 차광 부재 형성 기판 및 화상 소자용 칼라 필터 기판의 제조 방법을 제공함에 있다.
본 발명에 따른 기판의 선택적 발수 처리 방법은, 차광 부재가 부분적으로 형성된 기판상에 실란 결합제로 이루어진 발수층을 형성하는 단계와, 그 후 산소 플라즈마에 기판의 표면에 노출시키는 단계를 구비하고, 차광 부재 형성 기판은, 상술된 처리 방법으로 기판을 처리함으로써 얻어지며, 화상 소자용 칼라 필터 기판 제조방법은, 차광 부재가 부분적으로 형성된 기판상에 실란 결합제로 구성된 발수층을 형성하는 단계와 산소 플라즈마에 기판의 표면을 노출시키는 단계 및, 기판의 투명한 영역상에 스펙트럼 특성이 서로 다른 다수의 착색 부재를 배치하는 단계를 구비한다.

Description

기판의 선택적 발수 처리 방법과 그를 이용한 차광 부재 형성 기판 및 화상 소자용 칼라 필터 기판의 제조 방법
도1은 기판상에 금속 박막제 블랙 매트릭스를 패터닝하여 이루어진 칼라 필터 기판의 단면도.
도2는 본 발명에 이용되는 진공 용기의 개략도.
도3은 실란 결합제를 원료로 이용한 발수막에 산소 플라즈마를 조사한 후의 칼라 필터 기판상의 금속 박막제 블랙 매트릭스 표면과 염색용 화소부의 유리 표면의 물에 대한 접촉각 변화를 산소 플라즈마 형성에 이용한 RF(radio-frequency; 고주파)전원에 대해 도시한 그래프.
도4는 산소 플라즈마 조사에 의해 금속 박막 부분만을 발수막이 잔류한 기판의 유리 부분에 잉크를 도포한 것을 도시한 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 칼라 필터 2 : 금속제 블랙 매트릭스 패턴
3 : 진공 용기 4 : 배기량 조정 밸브
5 : 압력계 6 : 플라즈마 형성용 고주파 전극
7 : 플라즈마 형성용 고주파 전력 8 : 발수(撥水)막 원료용 배관
9 : 발수막 원료용 흐름량 조정 밸브
10 : 산소용 배관 11 : 산소용 유량 조정 밸브
12 : 금속제 블랙 매트릭스 패턴상에 잔류한 발수막
13 : 유리 부분에 도포된 잉크
[발명의 목적]
[발명이 속하는 기술분야 및 그 분야의 종래기술]
본 발명은, 차광 부재의 표면에 발수성(water repellency)을 부여하기 위해 부분적으로 차광 부재가 형성되어 있는 유리와 같은 기판 및 그 방법을 이용한 차광 부재 형성 기판에 관한 것으로, 특히 우수한 칼라 특성과 표면 평탄화가 양호한 칼라 필터의 제조 방법과 그 방법을 이용한 화상 소자용 칼라 필터 기판에 관한 것이다.
화상 소자들의 일례로서, 액정 디스플레이 장치에 사용된 액정 칼라 필터는 다수의 화상 단위들로 이루어지는 바, 그중 하나는 투명한 기판상에 형성된 레드(RED), 옐로우(YELLOW), 그린(GREEN)의 3원색 픽셀로 형성된다. 디스플레이 콘트라스트를 높이기 위해, 일정한 폭을 가지는 차광 영역은 개개의 픽셀들 사이에 제공된다. 일반적으로, 이들 차광 영역은 블랙으로, 블랙 매트릭스를 이룬다.
칼라 필터의 제조 방법은, 포토리소그래피 기술을 사용해 형성한 염색 매질이 염료가 되도록 하는 염색 공정과, 색소가 분산된 감광성 조성물을 사용하는 공정 및, 패턴화된 전극을 이용하는 전착 공정을 포함한다. 더욱이, 낮은 비용의 제조 공정으로서, 프린팅법 또는 잉크 젯법과 같은 방법에 의해 착색 부분을 형성하는 공정이 있다.
종래의 제조 공정중, 낮은 비용의 칼라 필터를 제공할 수 있는 프린팅 공정과 잉크젯 공정에서는, 각 착색 영역의 서로 인접하는 착색 영역들 사이의 색 혼합을 방지하여 고선명의 착색을 실현하기 위해 미리 포토리소그래피법을 이용하여 만들 수 있는 블랙 매트릭스들을 이용하는 것이 제안되었다. 그러므로, 블랙 매트릭스를 형성하는 재료로 착색제의 착색 목적 영역으로의 번짐을 막는 효과를 주는 것이 필요하다.
예를 들어, 일본 특허 출원 제59-75205호 공보에서는, 3가지 색의 색소를 기판상에 제공하는 것에 잉크 젯 시스템을 사용한 기술이 발표되어 있는 바, 색소가 예정된 영역 외부로 번지는 것을 막기 위해서는 젖기 어려운 물질로 확산 방지 패턴을 형성하는 것이 효과적이라고 서술되어 있지만, 이에 관한 어떤 자세한 기술도 발표되지 않았다. 게다가, 심지어 프린팅 공정에 의한 칼라 필터의 제조 공정에 관한 일본 특허 출원 제62-106407호 공보에서도 칸막이 벽을 적시기 어려운 잉크의 사용을 권장하고 있다. 그러나, 기판을 젖게 하기는 쉬우나 칸막이 벽을 젖게 하는 것이 어려운 잉크용 재료를 선택하기는 매우 어렵다. 일본 특허 출원 제4-195101호 공보에서는, 블랙 매트릭스에 감광성 수지층(일반적으로, 포지티브 레지스트라고 칭함)과 실리콘 고무층을 그 순서로 형성하고, 블랙 매트릭스를 노광용 마스크로서 기판의 뒷면에서 노광, 현상하는 것으로 노광부의 감광성 수지층과 그 위의 실리콘 고무층이 동시에 제거되며, 표면이 발수 및 발유성의 실리콘 고무층으로 이루어지는 블랙 매트릭스와 일치한 칸막이 벽의 패턴이 형성되는 기술이 발표되었다.
상기 포토리소그래피 공정에서는, 블랙 매트릭스의 반대편으로부터 노광하기 위한 LSI 제조 공정에서 나타나는 포토 마스크와 기판의 정렬 제어가 불필요하게 되지만, 이 공정은 감광성 수지 및 실리콘 고무와 같은 비싼 재료를 사용해야 되고, 자연적으로 감광성 수지층과 실리콘 고무층을 형성하기 위한 도포 단계가 필요하다. 결과적으로, 원재료 비용과 공정 수가 증가하여 수율 저하와 비용의 증대 문제가 생긴다.
그런데, 실란 결합제는 재료에 발수성과 분산성을 주기 위해, 유기 재료와 무기 재료 사이의 접착제로서 이전부터 널리 사용된다. 일반적으로, 실란 결합제는 용액을 준비하기 위해 플론과 같은 할로겐화 탄화 수소 또는 지방족 탄화 수소와 방향족 탄화 수소와 같은 용매로 그들을 묽게 하고, 침지나 분사에 의해 기판 표면으로 도포하고, 건조하는 것으로 이용된다. 그런 용제를 사용하는 공정은, 잔류 용액과 용매로부터 발생된 가스에 대한 환경 대책과 방화 대책을 요구하기 때문에 그리 바람직하지 않다. 더욱이, 광학 부분이 가공시에 공구에 대한 고정 방법이 문제가 된다. 그러므로, 일본 특허 출원 제6-122776호에서는, 특히 발수성을 얻기 위한 방법으로서 피가공용 기체를 배치한 진공 용기내에 플루오르 알킬 실란과 같은 실란 결합제를 도입하여 고주파나 직류에 의한 플라즈마 방전을 일으켜 플라즈마 반응에 의해 피가공용 기체 표면에 발수성을 갖는 층을 얻은 건조 처리 방법이 공고되어 있다.
그러나, 일본 특허 출원 제6-122776호에 공고된 방법으로 얻어진 발수성 표면을 조사한 것으로, 본 발명자들에 의한 상세한 실험을 통해 피가공 기체의 재질에 따라 발수성의 차이가 있다는 것을 발견했다. 그 측정된 값이 표 1에 나타낸다.
[표 1]
(주) 7059 : 코닝사에 의해 제조된 유리의 상품명
유리 등의 유전체 표면이나 탄탈늄 또는 몰리브덴과 같은 재료의 표면과 실란 결합제를 도포한 경우, 종래는 유리 표면 쪽이 금속 표면 쪽보다 실란 결합제를 고정시키기가 더욱 쉬워 효과적이라고 말해 왔다. 그러나, 표 1에 나타낸 측정 결과는, 실란 결합제가 플라즈마 반응을 사용하는 건식 공정에 의해 도포될 때, 약간임에도 불구하고 이전에 진술된 사실의 역 특성이 주어진다는 것을 나타낸다.
[발명이 이루고자 하는 기술적 과제]
본 발명의 목적은, 화상 소자용 칼라 필터 기판과 차광 부재 형성 기판에 발수성을 선택적으로 주기 위한 기판 처리 방법을 제공하여 상술한 바와 같은 종래의 기술에 내포된 문제를 해결함에 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은, 다른 영역이 낮은 발수성을 갖는 동안 차광층이 높은 발수성을 갖는 형태로 차광층에 발수성을 선택적으로 주기 위한 기판 처리방법을 제공함에 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은, 다른 색의 잉크가 착색하기 위해 각각의 픽셀 부분으로 완전하게 퍼질 수 있고, 높은 발수성을 가지는 차광 부재가 인접하는 픽셀 사이에 정렬되기 때문에 잉크가 서로 섞이지 않는 차광 부재가 형성된 기판을 제공함에 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은, 차광 부재가 배치되는 영역과 다른 영역간의 발수성의 차이가 커서 잉크가 상기 다른 영역상에 안정되게 유지될 수 있는 칼라 필터 기판을 제공함에 있다.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은, 생산량을 증가시키기 위한 칼라 필터 기판의 제조 공정을 제공함에 있다.
[발명의 구성 및 작용]
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 다음의 구조를 갖는다.
본 발명에 따른 기판의 선택적 발수 처리 방법은, 차광 부재가 부분적으로 형성된 기판상에 실란 결합제로 이루어진 발수층을 형성하는 단계와, 그 후 산소 플라즈마에 기판의 표면을 노출시키는 단계를 구비한다.
본 발명에 따른 차광 부재 형성 기판은, 상술된 처리 방법으로 기판을 처리함으로써 얻어진다.
본 발명에 따르면, 투명한 기판상에 차광 부재 및 스펙트럼 특성이 서로 다른 다수의 착색 부재를 선택적으로 배열함으로써 구성되는 화상 소자용 칼라 필터 기판을 제조하는 방법은, 차광 부재가 부분적으로 형성된 기판 상에 실란 결합제로 구성된 발수층을 형성하는 단계와, 산소 플라즈마에 기판의 표면을 노출시키는 단계 및, 기판의 투명한 영역상에 스펙트럼 특성이 서로 다른 다수의 착색 부재를 배치하는 단계를 구비한다.
또한, 본 발명은 상술된 생산 공정에 의해 생산된 칼라 필터 기판을 포함한다.
그런 구성을 갖는 본 발명에 따르면, 상술된 목적이 달성될 수 있다.
도1은 블랙 매트릭스가 기판상에 차광 부재로서 부분적으로 형성된 금속 박막으로 만들어진 칼라 필터 기판의 단면도이다.
본 발명의 실시예에 유용한 기판(1)으로서, 유리 기판과 폴리 카보네이트 같은 유전체와 알루미나 같은 세라믹이 적절히 사용된다.
기판(1)상에 형성된 차광 부재로서, Cr, Mo, Ta, Ti, W, AI과 그들의 화합물 같은 금속이 차광 특성과, 내식성 및, 접착 특성과 같은 필요한 특성을 가지고 있는 한 어떤 제한 없이 사용될 수 있다. 차광 부재용 재료는 상기 금속과 화합물에 제한되지 않는다. 예컨대, 차광 부재는 수지로 구성된다. 금속막의 두께는 가능한 얇은 것이 용이하다. 그러나, 막은 차광 특성면에서 약 50 내지 1,000nm의 두께가 용이하다. 기판(1)에 형성된 차광 막은 포토리소그래피 공정 또는 그와 같은 공정으로서 요구된 패턴에 따라 식각되고, 금속 부분(2)이 도1에 도시된 바와 같이 기판(1)상에 형성된 칼라 필터 기판을 얻는다.
패턴화된 팩셀들간에 금속 박막(2)으로 차광 부분이 미리 형성된 칼라 필터 용의 기판 상에, 진공 용기 내에서의 플라즈마 중합 공정에 의해, 실란 결합제로 구성된 발수막이 바람직하게는 약 0.5 내지 50nm의 두께로 형성된다.
실란 결합제의 예들로는, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란과, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리(2-메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, N-2-(아니노에틸)-3아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페네틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 및, 3-클로로프로필트리메톡시실란을 포함한다.
실란 결합제로 된 발수막의 형성은, 패턴을 따라 금속 박막(2)이 형성되어 있는 기판(1)을 도2에 도시된 진공 용기(3) 내에 배치하고, 진공 펌프로 진공 용기(3)내의 가스를 배기한 다음, 파이프(8)와 밸브(9)를 통해 진공 용기(3)안으로 실란 결합제를 도입함으로써 이루어진다.
이 경우, 실란 결합제의 증기를 얻기 위해, 사용된 실란 결합제의 종류에 의존하여 실온(25℃) 내지 150℃의 온도로 진공 용기(3)와 발수막 원료용 유량 조정밸브(9)까지의 발수막 원료 배관(8), 즉 실란 결합제를 위해 용기를 가열하는 것이 용이하다.
진공 용기(3)내 압력은 진공 압력계(5)에 의해 압력을 측정하는 동안 배기량 조정밸브(4)에 의해 제어된다.
진공 용기(3)내에서 압력이 안정되었을 때, 고주파 전계는 기판의 표면상에 발수막을 형성함으로써, 실란 결합제 증기의 플라즈마를 만들기 위해 100 내지 1000W의 필드 전력에서 1 내지 10초 동안 플라즈마 형성용 고주파 전원(7)으로부터 플라즈마 방전을 위해 전극으로 공급된다.
발수막 형성 후, 진공 용기내에서 실란 결합제 증기는 배출된다.
진공 용기(3)내에서 압력이 0.1 Torr 또는 그 이하로 줄여진 후, 산소 가스는 산소용 유량 조정 밸브(11)와 산소용 배관(10)을 통해 진공 용기(3)속으로 도입된다.
진공 용기(3)내 압력은 배기량 조정밸브(4)를 제어함으로 약 1×10-4내지 1×10-2로 용이하게 조정된다. 진공 용기(3)내에서의 압력이 안정할 때, 고주파 전력은 발수막이 형성된 기판의 표면으로 산소 플라즈마를 제조하기 위해 고주파 발생기(7)로부터 플라즈마 방전을 위한 전극(6)으로 공급되고, 노광된다. 이 때, 고주파 전력은 10 내지 1,000W가 용이하고, 25 내지 100W가 더 용이하며, 노광은 거의 10초 내지 30분 동안 수행된다.
이후, 진공 용기(3)내의 산소 가스가 배기되고, 질소, Ar, He 또는 CO2와 같은 건조 가스가, 진공 용기(3)내의 압력이 대기압에 이를 때까지 도입된다. 그 다음, 기판이 용기 밖으로 꺼내지며 처리가 완료된다.
부수적으로, 실란 결합제로 구성된 발수층은 공지된 기상 증착 공정에 의해 형성될 수 있다.
즉, 본 발명에 따르면, 진공 용기에서 플라즈마 중합 공정 또는 증착에 의해, 차광 부분이 앞서 패턴화된 픽셀들 사이에 얇은 금속막으로 형성된 광전도기판상에 원료로서 실란 결합제로 만들어진 발수막이 형성된다. 픽셀로서 공급하기 위한 노광된 유리 부분이 친수성이 되는 동안, 블랙 매트릭스로서 공급하기 위한 금속 박막 부분이 좋은 발수성을 유지함으로써, 차광 부분이 앞서 패턴화된 팩셀 사이에 형성된 광전도기판의 표면에 산소 플라즈마를 제조하기 위한 진공 용기 속으로 도입 되고, 노광된다. 그러므로, 바로 처리된 기판은 진공 용기 밖으로 꺼내지고, 서로로부터 스펙트럼 특성이 다른 다수의 착색 부재(예컨데, 염색 잉크)가 픽셀로서 사용되는 유리 부분으로 공급된다. 그 결과, 공급된 착색 부재는 각각의 친수성 유리부분 위로는 퍼지지만, 금속 부분은 양호한 발수성을 갖기 때문에 금속 부분으로는 도포될 수 없다. 결과적으로, 착색 부재(예를 들면, 잉크)가 유리 표면상의 픽셀 부분만을 착색시키고, 다른 색들의 착색 부재는 인접하는 픽셀들 사이에서 서로 혼합되지 않아 고품질의 칼라 필터가 쉽게 제조될 수 있다.
본 발명은 이하의 다음의 예들로서 보다 다양하게 설명될 것이다. 그러나, 본 발명은 이들 예에 한정되지 않는다.
[예 1]
기판(1)은, 도1에 도시된 바와 같은 패턴으로 금속 박막(2)이 Ta와 Mo의 합성으로 구성된 투명한 유리 시이트로 만들어지고, 도2에 도시된 바와 같이 진공 용기(3)로 옮겨지며, 이 진공 용기(3)내 가스는 진공 펌프(도시되지 않음)에 의해 5.0×10-3Pa로 배출된다.
실란 결합제(헵타데카플루오로데실트리메톡시실란 : 신에츠화학사 제품)가 발수막 원료용 배관(8)과 발수막 원료용 유량 조정밸브(9)를 통해 5.0×10-2Pa로 진공 용기(3)로 도입된다. 그때, 실란 결합제를 위한 진공 용기, 즉 진공 용기(3)와 발수막 원료용 유량 조정밸브(9)까지 발수막 원료용 배관(8)은 실란 결합제의 증기를 공급하기 위해 약 100℃로 가열된다. 진공 용기(3)내 압력은 진공 압력계(5)에 의해 압력을 측정하는 동안 배기량 조정 밸브(4)에 의해 제어된다.
진공 용기(3)내 압력이 안정화될 때, RF계는 기판의 표면상에 발수막을 형성함으로써, 실란 결합제 증기의 플라즈마를 제조하기 위한 고주파 발생기(7)로부터, 진공 용기(3)에서 앞서 정렬된 플라즈마 방전을 위한 전극(6)으로 공급된다. 이 때, 고주파의 전력은 500W이고, 플라즈마 방전은 10초 동안 전도된다. 발수막 형성 후, 진공 용기 내의 실란 결합제 증기는 배출된다.
진공 용기(3)내 압력이 1.0×10-3Pa로 줄여진 후, 산소 가스는 흐름 조절 밸브(11)와 파이프(6)를 통해 진공 용기(3)로 도입된다. 진공 용기(3)내 압력은 배기량 조정밸브(4)를 제어함으로써 1.0×10-2Pa로 조정된다. 진공용기(3)내 압력이 안정화 될 때, 고주파는 발수막이 형성된 기판의 표면에 산소 플라즈마를 만들기 위한 고주파 발생기(7)로부터 플라즈마 방전을 위한 전극(6)으로 제공되고, 노광된다. 이때, 고주파 전력은 75W이고, 플라즈마 방전은 5분 동안 전도된다. 그러므로, 진공 용기(3)내 산소 가스가 배기되고, 건조 질소는 진공 용기(3)내 압력이 대기압에 이를때까지 도입된다. 그 다음, 기판(1)은 진공 용기(3)밖으로 꺼내지고 처리는 완료된다.
상기한 공정에 의해 기판상의 유전체 노출면과 금속 부분간에 발수성의 차이가 쉽고 재현성 있게 발생할 수 있었다. 도4에 도시된 바와 같이, 유리와 같은 광전도재료가 기판(1)을 위한 재료료서 사용되고, 각각으로부터 스팩트럼 특성이 다른 다수의 착색 부재로서 레드, 그린, 블루의 잉크(13)가 잉크 젯 시스템에 의해 금속(2)으로 덮이지 않은 부분으로 공급된다. 즉, 금속제 블랙 매트릭스 패턴상에 잔류한 발수막(12)이 잉크에 반발하는 좋은 발수성을 갖는 동안, 낮은 발수성을 갖는 유리 부분은 젖기 쉽게 되고, 높은 질로 착색된다. 그 결과, 잉크가 유리 부분으로 공급된 픽셀 사이에서 색 혼합의 발생은 금속 부분으로 번져 다른 색의 잉크가 서로에 인접하도록 공급되고, 서로의 혼합하는 것을 막아 높은 질의 칼라 필터가 쉽게 제조될 수 있었다.
[예 2]
실란 결합제(헵타데카플루오로데실트리메톡시실란 : 신에츠화학사 제품)로 만들어지고, 얇은 금속막이 몰리브덴-탄탈늄 화합물로 구성된 그린 플랫 유리로 만들어진 기판의 표면에 형성된 15nm두께의 막을 가지는 발수막이 패턴화된 후, 바로 얻어진 기판은 5.0×10-2Pa의 압력하에서 5분 동안 산소 플라즈마로 노광된다. 이때, 금속 박막의 표면상에 발수막과 유리 표면 사이 물과의 접촉간 차이는 산소 플라즈마의 제작에 사용된 고주파 전력 대 접촉각의 그래프로 도3에 도시되어 있다.
산소 플라즈마 처리에 의해 영향을 받는 물과의 각은 도3을 통하여 이해된다.
본 발명이 현재 고려된 언급된 실시 형태에 각각으로 서술되는 동안, 본 발명은 공표된 실시예에 한정되는 것이 아니라는 것이 이해된다. 대조적으로, 본 발명은 첨부된 청구항의 범위와 요지 내에 포함된 균등한 구성과 여러 가지 변화를 수용하도록 의도되었다. 다음의 청구 범위는 그런 변화와 균등한 구조 및 기능을 포함하도록 가장 넓은 해석을 요하게 된다.

Claims (20)

  1. 기판에 선택적으로 발수성(water-repellency)을 제공하도록 가판을 처리하는 방법에 있어서, 차광 부재가 부분적으로 형성된 기판 상에 실란 결합제(silane coupling agent)로 이루어진 발수층을 형성하는 단계; 및 상기 기판의 표면을 산소 플라즈마에 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 발수층은 진공 상태에서 플라즈마 중합 공정 또는 기상 증착 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 차광 부재는 패턴화된 금속 부분으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 따른 처리 방법으로 기판을 처리함으로써 얻어지는 차광 부재 형성기판.
  5. 투명한 기판상에 차광 부재 및 스펙트럼 특성이 서로 다른 다수의 착색 부재를 선택적으로 배치함으로써 구성되는 화상 소자용 칼라 필터 기판을 제조하는 방법에 있어서, 차광 부재가 부분적으로 형성된 기판상에 실란 결합제로 구성된 발수층을 형성하는 단계 ; 상기 기판의 표면을 산소 플라즈마에 노출시키는 단계; 및 상기 기판의 투명한 영역상에 스펙트럼 특성이 서로 다른 다수의 착색 부재를 배치하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 차광 부재가 금속 또는 합금으로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 금속 또는 합금은 한 성분으로 Cr, Mo, Ta, Ti, W 및 Al 에서 선택된 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 차광 부재가 50 내지 1,000nm 의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제5항에 있어서, 상기 차광 부재가 수지로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제5항에 있어서, 상기 발수층이 플라즈마 중합 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 발수층이 0.5 내지 50nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제5항에 있어서, 상기 발수층의 형성시, 상기 실란 결합제의 원료가 진공 용기로 공급되는 통로인 파이프가 25 내지 150℃의 온도범위로 유지되는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제5항에 있어서, 상기 발수층의 형성은 진공 용기에서 플라즈마를 발생시킴으로써 실시되는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제5항에 있어서, 상기 플라즈마는 무선 주파수 전계를 사용하여 100내지 1,000W의 전력을 인가함으로써 발생되는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제5항에 있어서, 상기 산소 플라즈마는 1×10-4내지 1×10-2Torr 의 진공상태로 유지된 진공 용기의 내부에서 발생되는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 산소 플라즈마는 상기 진공 용기 속으로 산소 가스를 유입시키고 무선 주파수 전계를 인가함으로써 발생되는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 무선 주파수 전계의 전력은 10 내지 1,000W의 범위 이내인 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 무선 주파수 전계의 전력은 25 내지 100W의 범위 이내인 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제5항에 있어서, 상기 스펙트럼 특성이 서로 다른 착색 부재들은 각각의 잉크로 구성된 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 착색 부재는 잉크 젯 시스템에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
KR1019960028356A 1995-07-14 1996-07-13 기판의 선택적 발수 처리 방법과 그를 이용한 차광 부재 형성 기판 및 화상 소자용 칼라 필터 기판의 제조 방법 KR100253259B1 (ko)

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Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3996979B2 (ja) * 1996-08-08 2007-10-24 キヤノン株式会社 カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター及び液晶表示装置
DE69807554T2 (de) 1997-03-21 2003-05-22 Canon Kk Verfahren zur Herstellung eines bedruckten Substrats, elektronenemittierendes Element, Elektronenquelle und Bilderzeugungsgerät
CN100530758C (zh) 1998-03-17 2009-08-19 精工爱普生株式会社 薄膜构图的衬底及其表面处理
US6630274B1 (en) 1998-12-21 2003-10-07 Seiko Epson Corporation Color filter and manufacturing method therefor
KR100506068B1 (ko) * 1998-12-21 2005-08-05 세이코 엡슨 가부시키가이샤 컬러필터 및 그 제조방법
EP1218306A1 (en) 1999-09-13 2002-07-03 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method for partially treating a water-repellent glass sheet and the partially treated glass sheet
JP2001272527A (ja) * 2000-03-27 2001-10-05 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびその製造方法
KR100635036B1 (ko) * 2001-04-04 2006-10-17 삼성에스디아이 주식회사 컬러필터 기판의 제조 방법
JP2003273111A (ja) 2002-03-14 2003-09-26 Seiko Epson Corp 成膜方法及びその方法を用いて製造したデバイス、並びにデバイスの製造方法
JP2004006700A (ja) * 2002-03-27 2004-01-08 Seiko Epson Corp 表面処理方法、表面処理基板、膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器
US20030183245A1 (en) * 2002-04-01 2003-10-02 Min-Shyan Sheu Surface silanization
US20040069634A1 (en) * 2002-10-11 2004-04-15 Hanzel David K. Vapor phase method for producing silane coatings
CN100467141C (zh) * 2003-04-25 2009-03-11 株式会社半导体能源研究所 图形的制作方法和液滴排出装置
US7011529B2 (en) * 2004-03-01 2006-03-14 Anritsu Company Hermetic glass bead assembly having high frequency compensation
TWI236549B (en) * 2004-05-10 2005-07-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd Color filter of liquid crystal display panel and method of fabricating the same
US20050255253A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 White John M Apparatus and methods for curing ink on a substrate using an electron beam
US20050253917A1 (en) * 2004-05-13 2005-11-17 Quanyuan Shang Method for forming color filters in flat panel displays by inkjetting
US7413272B2 (en) * 2004-11-04 2008-08-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for precision control of print head assemblies
US20060092218A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing
US20060093751A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Applied Materials, Inc. System and methods for inkjet printing for flat panel displays
US20070042113A1 (en) * 2004-11-04 2007-02-22 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays using pattern data
US20060109296A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-25 Bassam Shamoun Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays
US7625063B2 (en) * 2004-11-04 2009-12-01 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for an inkjet head support having an inkjet head capable of independent lateral movement
US20060159843A1 (en) * 2005-01-18 2006-07-20 Applied Materials, Inc. Method of substrate treatment for manufacturing of color filters by inkjet printing systems
US20060185587A1 (en) * 2005-02-18 2006-08-24 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing ink conglomerates during inkjet printing for flat panel display manufacturing
US20070015847A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-18 Applied Materials, Inc. Red printing ink for color filter applications
US7544723B2 (en) * 2005-07-15 2009-06-09 Applied Materials, Inc. Blue printing ink for color filter applications
US7460267B2 (en) * 2005-07-15 2008-12-02 Applied Materials, Inc. Green printing ink for color filter applications
US7410734B2 (en) * 2005-08-25 2008-08-12 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Method of fabricating color filter
US20070065571A1 (en) * 2005-09-19 2007-03-22 Applied Materials. Inc. Method and apparatus for manufacturing a pixel matrix of a color filter for a flat panel display
US20070070132A1 (en) * 2005-09-27 2007-03-29 Fan-Cheung Sze Inkjet delivery module
US7611217B2 (en) * 2005-09-29 2009-11-03 Applied Materials, Inc. Methods and systems for inkjet drop positioning
US20070068560A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 Quanyuan Shang Methods and apparatus for inkjet print head cleaning
US20070070109A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 White John M Methods and systems for calibration of inkjet drop positioning
US20080018677A1 (en) * 2005-09-29 2008-01-24 White John M Methods and apparatus for inkjet print head cleaning using an inflatable bladder
US20070076040A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-05 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for inkjet nozzle calibration
US7371487B2 (en) * 2005-11-25 2008-05-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of fabricating black matrix of a color filter
JP4640151B2 (ja) * 2005-12-13 2011-03-02 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルターの製造方法
US7923057B2 (en) * 2006-02-07 2011-04-12 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for reducing irregularities in color filters
US20070252863A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-01 Lizhong Sun Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures with spray mechanisms
US20070263026A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-15 Quanyuan Shang Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures
US20070256709A1 (en) * 2006-04-29 2007-11-08 Quanyuan Shang Methods and apparatus for operating an inkjet printing system
US7992956B2 (en) * 2006-06-07 2011-08-09 Applied Materials, Inc. Systems and methods for calibrating inkjet print head nozzles using light transmittance measured through deposited ink
JP2008016300A (ja) * 2006-07-05 2008-01-24 Seiko Epson Corp 有機発光装置の製造方法、有機発光装置および電子機器
US20080024548A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for purging a substrate during inkjet printing
US20080024532A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Si-Kyoung Kim Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance
WO2008013902A2 (en) * 2006-07-28 2008-01-31 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for improved manufacturing of color filters
US20080204501A1 (en) * 2006-12-01 2008-08-28 Shinichi Kurita Inkjet print head pressure regulator
KR20080051617A (ko) * 2006-12-06 2008-06-11 주식회사 엘지화학 컬러 필터의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 컬러 필터
KR100943145B1 (ko) * 2007-02-02 2010-02-18 주식회사 엘지화학 컬러필터 및 컬러필터의 제조방법
US7857413B2 (en) 2007-03-01 2010-12-28 Applied Materials, Inc. Systems and methods for controlling and testing jetting stability in inkjet print heads
US7637587B2 (en) * 2007-08-29 2009-12-29 Applied Materials, Inc. System and method for reliability testing and troubleshooting inkjet printers
US20090141218A1 (en) * 2007-10-26 2009-06-04 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for curing pixel matrix filter materials
CN101889239A (zh) * 2007-12-06 2010-11-17 应用材料股份有限公司 使用线性扫描摄影机测量基板上的像素井中沉积墨水的方法及设备
WO2009076248A1 (en) * 2007-12-06 2009-06-18 Applied Materials, Inc. Systems and methods for improving measurement of light transmittance through ink deposited on a substrate
US20090251504A1 (en) * 2008-03-31 2009-10-08 Applied Materials, Inc. Systems and methods for wet in-situ calibration using measurement of light transmittance through ink deposited on a substrate
US11786036B2 (en) 2008-06-27 2023-10-17 Ssw Advanced Technologies, Llc Spill containing refrigerator shelf assembly
US8286561B2 (en) 2008-06-27 2012-10-16 Ssw Holding Company, Inc. Spill containing refrigerator shelf assembly
WO2010042191A1 (en) 2008-10-07 2010-04-15 Ross Technology Corporation Highly durable superhydrophobic, oleophobic and anti-icing coatings and methods and compositions for their preparation
WO2011056742A1 (en) 2009-11-04 2011-05-12 Ssw Holding Company, Inc. Cooking appliance surfaces having spill containment pattern and methods of making the same
MX2012010669A (es) 2010-03-15 2013-02-07 Ross Technology Corp Destacadores y metodos para producir supreficies hidrofobas.
BR112013021231A2 (pt) 2011-02-21 2019-09-24 Ross Tech Corporation revestimentos super-hidrofóbicos e oleofóbicos com sistemas ligantes de baixo voc
DE102011085428A1 (de) 2011-10-28 2013-05-02 Schott Ag Einlegeboden
WO2013090939A1 (en) 2011-12-15 2013-06-20 Ross Technology Corporation Composition and coating for superhydrophobic performance
CA2878189C (en) 2012-06-25 2021-07-13 Ross Technology Corporation Elastomeric coatings having hydrophobic and/or oleophobic properties
WO2016154822A1 (zh) * 2015-03-27 2016-10-06 华为技术有限公司 一种终端设备用彩色玻璃板及其形成方法、终端设备
JP6863788B2 (ja) * 2017-03-21 2021-04-21 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス フィルタ連結装置およびこれを備えた基板処理装置
CN112445019A (zh) * 2019-09-05 2021-03-05 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种功能基板、液晶显示面板及显示器

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4521805A (en) 1981-04-24 1985-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Printing apparatus or system
US4538182A (en) 1981-05-11 1985-08-27 Canon Kabushiki Kaisha Image processing apparatus
JPS5975205A (ja) 1982-10-25 1984-04-27 Seiko Epson Corp カラ−フイルタの製造方法
JPS62106407A (ja) 1985-11-01 1987-05-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示用カラ−フイルタの製造方法
JPH0335031A (ja) 1989-06-30 1991-02-15 Fukui Pref Gov 防曇性付与法
JPH04195102A (ja) 1990-11-28 1992-07-15 Toray Ind Inc カラーフィルタ製造法
JP3035031B2 (ja) 1991-10-11 2000-04-17 三菱重工業株式会社 電子ビーム計測装置
EP0577187B1 (en) 1992-06-29 1995-12-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of providing a metal pattern on glass in an electroless process
JP3353057B2 (ja) 1992-10-09 2002-12-03 株式会社シンクロン 表面処理された眼鏡レンズの製造方法
JP2952143B2 (ja) 1993-12-21 1999-09-20 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法
JP3376169B2 (ja) 1994-06-17 2003-02-10 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法及びその方法により製造されたカラーフィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
CN1081798C (zh) 2002-03-27
EP0758629B1 (en) 1999-04-07
DE69601989D1 (de) 1999-05-12
US6228435B1 (en) 2001-05-08
DE69601989T2 (de) 1999-12-16
CN1167265A (zh) 1997-12-10
KR970007400A (ko) 1997-02-21
JPH0933711A (ja) 1997-02-07
JP3234748B2 (ja) 2001-12-04
EP0758629A1 (en) 1997-02-19

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