JP3234748B2 - 基板の選択的撥水処理方法、遮光部材形成基板及びこの遮光部材形成基板を用いたカラ−フィルタ−基板の製造方法 - Google Patents
基板の選択的撥水処理方法、遮光部材形成基板及びこの遮光部材形成基板を用いたカラ−フィルタ−基板の製造方法Info
- Publication number
- JP3234748B2 JP3234748B2 JP17899995A JP17899995A JP3234748B2 JP 3234748 B2 JP3234748 B2 JP 3234748B2 JP 17899995 A JP17899995 A JP 17899995A JP 17899995 A JP17899995 A JP 17899995A JP 3234748 B2 JP3234748 B2 JP 3234748B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- light
- shielding member
- water
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/38—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal at least one coating being a coating of an organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/006—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by plasma or corona discharge
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
部分的に遮光部材が形成されていて、しかも遮光部材上
のみに撥水性を付与する処理方法及び該処理方法により
得られる遮光部材形成基板に関し、特に、色特性が優
れ、表面の平滑性が良好なカラーフィルター製造方法と
本方法により作成された映像素子用カラーフィルター基
板に関するものである。
形成された赤、緑、黄の三原色の画素を一絵素とし多数
の絵素から構成される。そして各画素間には、表示コン
トラストを高めるために一定の幅を持つ遮光領域が設け
られており、通常この遮光領域は黒色でブラックマトリ
クスと呼称する。
グラフィの手法を用いて形成した可染媒体を染色する方
法、顔料分散感光性組成物を用いる方法、パターニング
した電極を利用した電着法等の他、低コストの製造方法
として印刷法やインクジェット法で着色部分を形成する
方法がある。
ィルターを提供できる印刷法やインクジェット法では、
各着色領域の滲みや隣り合う着色領域間の混色等を防止
して高精度の着色を実現するために、予めフォトリソグ
ラフィ法で作成できるブラックマトリクスを利用する試
みが提案されている。そのため、ブラックマトリクスを
形成する材料に、着色剤の着色目的領域外への広がりを
防止する効果の付与を求めている。
は、三色の色素を基板上に配置するのにインクジェット
法を用いる技術を開示している。色素の目的領域外への
広がりを防止するために、濡れ性の悪い物質で拡散防止
パターンの形成が有効と称しているが、具体的な技術の
開示がない。また、印刷法によるカラーフィルター製造
方法に係わる特開昭62−106407号公報でも、印
刷インクとして仕切り壁に対して濡れにくいものを推奨
している。しかし、基板には濡れやすく、仕切り壁には
濡れにくいインク材料の選定は非常に困難である。ま
た、特開平4−195101号公報ではブラックマトリ
クスに感光性樹脂層(一般にポジ型レジストと呼称す
る)及びシリコーンゴム層をこの順に形成し、ブラック
マトリクスを露光用マスクとして基板裏面より露光、現
像することで露光部の感光性樹脂層とその上のシリコー
ンゴム層が同時に除去され、表面が撥水・撥油性のシリ
コーンゴム層からなりブラックマトリクスと一致した仕
切り壁のパターンが形成される。
法ではブラックマトリクス裏面から露光するためLSI
製造工程に見られるフォトマスクと基板のアライメント
制御は不要になるが、感光性樹脂及びシリコーンゴムと
いった高価な材料を使用しなければならず、また、感光
性樹脂層及びシリコーンゴム層を形成するための塗布工
程も当然必要とし、この結果、原材料費及び工程数が増
しコストの上昇及び歩留まりの低下といった問題が生じ
る。
と無機材料との間の結合促進剤としてや、撥水性や分散
性を材料に付与するために広く用いられてきた。一般に
シランカップリング剤は芳香族炭化水素、脂肪族炭化水
素、フロン等のハロゲン化炭化水素等の溶剤で希釈し、
この溶液に浸漬したりまたはこの溶液をスプレー法等に
より基体表面に塗布、乾燥することで用いられてきた。
これらの溶剤を用いた方法では、廃液や溶剤から発生す
るガスに対する環境対策、防火対策等が必要で余り好ま
しいものではなく、さらに光学用部品の加工時には浸漬
用治具への取り付け方法が問題となっていた。そのた
め、特開平6−122776では特に撥水性を得るため
の方法として被加工用基体を配置した真空容器内にフル
オロアルキルシラン等のシランカップリング剤を導入し
高周波や直流によるプラズマ放電を生じさせ、プラズマ
反応により被加工用基体表面に撥水性を持つ層を得ると
いった乾式処理方法が報告されている。
る方法で得られる撥水性表面を綿密に調査したところ、
被加工基体の材質により撥水性に差異が存在することを
発見した。表−1にその測定値を示す。
表面に湿式法でシランカップリング剤を塗布した場合、
従来はガラス表面の方が金属表面よりシランカップリン
グ剤が固定しやすく効果があるといわれてきた。しかし
表−1に見られる測定結果によれば、プラズマ反応を用
いた乾式でのシランカップリング剤塗布を行った場合、
若干ながら従来言われてきたことと逆の特性が得られる
ことが判明した。
前記の問題点を解決した基板の選択的撥水処理方法、遮
光部材形成基板及びこの遮光部材形成基板を用いたカラ
−フィルタ−基板の製造方法を提供することを目的とす
る。
未だ不明であるが、得られた基体材質の違いによる撥水
性の差異をより強調する手法を様々検討した結果、乾式
でのシランカップリング剤塗布を行った基板表面に酸素
プラズマ照射をすることでガラス等の誘電体表面上に形
成された撥水膜と金属表面に形成された撥水膜の撥水性
をさらに大きくすることが可能なことを発見し本発明に
至ったものであって、前記の目的は以下の手段によって
達成される。
成してなる基板上にシランカップリング剤からなる撥水
層を形成した後、該基板表面に酸素プラズマを照射する
ことを特徴とする基板の選択的撥水処理方法を提案する
ものであり、前記撥水層が真空中でのプラズマ重合法ま
たは蒸着法により形成されたこと、前記遮光部材が予め
パターン化された金属部分からなることを含む。
より処理された遮光部材と遮光部材に被われていない部
分に撥水性の差を有することを特徴とする遮光部材形成
基板を提案するものである。
の、前記遮光部材に被われていない基板部分にインクを
塗布することを特徴とするカラ−フィルタ−基板の製造
方法を提案するものである。
属薄膜からなるブラックマトリクスを部分的に形成した
カラーフィルター基板の断面図である。
板、ポリカーボネート基板、アルミナといったセラミッ
クス等の誘電体が好適に用いられる。
はCr,Mo,Ta,Ti,W,Al等の金属及びそれ
らの合金が用いられ、遮光性及び耐食性、密着性等の必
要性を有するものであればよく、上記金属、合金に限定
されるものではない。例えば樹脂を用いて遮光部材を構
成することもできる。金属膜はより薄い方が好ましいが
遮光性を考慮すると50〜1000nm程度に形成する
のが好ましく基板1上に形成した遮光成膜をフォトリソ
法等により、所望のパターンにエッチングすることによ
り図1に示すような基板1上に部分的に金属部2を形成
してなるカラーフィルター基板が得られる。
れた画素間の遮光性部位が金属薄膜2で形成されている
基板上にシランカップリング剤による撥水膜を真空容器
内でプラズマ重合法により好ましくは厚み0.5〜50
nm程度に形成する。
フルオロデシルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラ
ン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、N−2−(アミノエチル)3−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙
げられる。
するには金属薄膜2をパターニングしてある基板を図2
の真空容器3の中に設置し、真空容器3内のガスを真空
ポンプで真空排気し、真空容器3内にシランカップリン
グ剤を配管8及びバルブ9を介して導入する。
より条件は異なるが、シランカップリング剤の蒸気を得
るためにシランカップリング剤容器及び真空容器3まで
の配管8とバルブ9を室温〜150℃に加熱するのが好
ましい。
がら排気コンダクタンスバルブ4により調整する。
放電用電極にRF電源7よりRF電界を電界パワー10
0〜1000Wで1秒〜10分印加し、シランカップリ
ング剤蒸気のプラズマを生じさせ、基板表面に撥水膜1
2を形成する。
ング剤蒸気を排気する。
になった後真空容器3内に配管10及び流量調整弁11
を介し酸素ガスを導入し、排気コンダクタンスバルブ4
を調整し、真空容器内の圧力を1×10−4〜1×10
−2Torr程度にするのが好ましい。真空容器3内の
圧力が安定したら前記プラズマ放電電極6にRF電源7
よりRF電界を印加し酸素プラズマを生じさせ、前記の
撥水膜を形成した基板表面に酸素プラズマを照射する。
このときのRF電界パワーは10〜1000Wで、10
秒〜30分が好ましい。
気し、窒素、Ar、He、CO2等の乾燥ガス導入し前
記真空容器3内の圧力が大気圧になった後基板を取り出
し、処理加工が終了する。
水層は公知の蒸着法によって形成してもよい。
た画素間の遮光性部位が金属薄膜で形成されている光透
過性基板上に、シランカップリング剤を原材料とする撥
水膜を真空容器内でプラズマ重合法または蒸着法により
形成し、その後真空容器内に酸素ガスを導入し酸素プラ
ズマを発生させこれを前記予めパターン化された画素間
の遮光性部位が形成されている光透過性基板表面に照射
することにより、ブラックマトリクスとなる金属薄膜部
は撥水性を維持し、カラーフィルターの画素となるガラ
ス部分は親水性となる。その後前記基板を真空容器から
取り出し、画素として用いるガラス部分に染色用のイン
クを塗布するが前記金属部は撥水性を維持しているため
塗布したインクは親水性のガラス部分に広がるが金属部
には広がることができない。この結果、インクはガラス
面の画素部のみを染色することになり、隣り合う画素間
で異なる色のインクが混じり合わず、高品位のカラーフ
ィルターを簡単に製造できる。
に限定されるものではない。
なる金属薄膜2がパターニングしてある基板1を図−2
の真空容器3の中に設置し、この真空容器内のガスを5
E−3Paまで図示していない真空ポンプで真空排気し
た。
リング剤(信越化学工業製、ヘプタデカフルオロデシル
トリメトキシシラン)を配管8及びバルブ9を介して5
E−2Paまで導入した。
ためにシランカップリング剤容器及び真空容器3までの
配管8とバルブ9を約100℃に加熱した。真空容器3
内の圧力は真空計5で測定しながら排気コンダクタンス
バルブ4により行った。
3内に予め設置してあるプラズマ放電用電極6にRF電
源7よりRF電界を印加し、前記シランカップリング剤
蒸気のプラズマを生じさせ、前記の基板表面に撥水膜を
形成した。このときのRF電界パワーは500(W)で
10秒放電した。撥水膜形成後真空容器内のシランカッ
プリング剤蒸気を排気した。
た後、真空容器3内に配管10及び流量調整弁11を介
し酸素ガスを導入し排気コンダクタンスバルブ4を調整
し真空容器3内の圧力を1E−2Paにした。真空容器
3内の圧力が安定したら前記プラズマ放電用電極6にR
F電源7よりRF電界を印加し酸素プラズマを生じさ
せ、前記の撥水膜を形成した基板表面に酸素プラズマを
照射した。このときのRF電界パワーは75(W)で5
分放電した。その後、前記真空容器3内の酸素ガスを排
気し、乾燥窒素を導入し前記真空容器3内の圧力が大気
圧になった後、基板1を取り出し加工を終了した。
の差は以上の工程により簡単に再現性よく得られた。さ
らに図−4に示すように、前記基板材料1にガラス等の
透光性材料を使用し、金属2に被われていない部分にイ
ンクジェット法により赤、緑、青のインク13を塗布す
ることで撥水性の小さいガラス部分は濡れやすく高品位
に染色され、撥水性の大きい金属部分12はインクがは
じかれる。この結果、ガラス部分に塗布されたインクが
金属部分上に滲みだし隣接して塗布された異なる色のイ
ンクが混じり合う、という画素間の混色が発生せず簡単
に高品位のカラーフィルターを製造できた。
%)合金をパターニングした基板表面にシランカップリ
ング剤(信越化学工業製、ヘプタデカフルオロデジルト
リメトキシシラン)による撥水膜を膜厚15nm形成
し、その後1E−2Paの圧力で酸素プラズマを5分間
照射した。このときの酸素プラズマ生成に用いた高周波
パワーとガラス表面と金属薄膜表面の撥水膜の水接触変
化を図3に示した。
ター用基板は遮光層の部分は撥水性が大きく、染色用の
ガラス部分は撥水性が小さいためインクジェット法によ
り染色用画素部にインクを塗布したとき、画素部内では
インクがよく広がり染色でき隣り合った画素間には撥水
性の大きいバラックマトリクス部分があり異なる色のイ
ンクが混じり合うことがない。さらに染色用画素部は撥
水性が小さく濡れ性が良いため必ずしも画素中心部にイ
ンクを塗布する必要がないので、インク塗布時の失敗が
回避されるという効果もある。
ーニングしてなるカラーフィルター基板の断面図であ
る。
酸素プラズマを照射した後のカラーフィルター基板上の
金属薄膜製ブラックマトリクス表面と染色用画素部のガ
ラス表面の水に対する接触角変化を酸素プラズマ形成に
用いたRF(高周波)電力に対してプロットしたグラフ
である。
膜が残留した基板のガラス部分にインクジェット法によ
りインクを塗布したところの断面図である。
た撥水膜 13 ガラス部分に塗布されたインク
Claims (5)
- 【請求項1】 部分的に遮光部材を形成してなる基板上
にシランカップリング剤からなる撥水層を形成した後、
該基板表面に酸素プラズマを照射することを特徴とする
誘電体基板の選択的撥水処理方法。 - 【請求項2】 前記撥水層が真空中でのプラズマ重合法
または蒸着法により形成された請求項1に記載の選択的
撥水処理方法。 - 【請求項3】 前記遮光部材が予めパターン化された金
属部分からなる請求項1に記載の選択的撥水処理方法。 - 【請求項4】 請求項1に記載の選択的撥水処理方法に
より処理された遮光部材と遮光部材に被われていない部
分に撥水性の差を有することを特徴とする遮光部材形成
基板。 - 【請求項5】 請求項4に記載の遮光部材形成基板の、
前記遮光部材に被われていない基板部分にインクを塗布
することを特徴とするカラ−フィルタ−基板の製造方
法 。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17899995A JP3234748B2 (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 基板の選択的撥水処理方法、遮光部材形成基板及びこの遮光部材形成基板を用いたカラ−フィルタ−基板の製造方法 |
US08/677,739 US6228435B1 (en) | 1995-07-14 | 1996-07-10 | Process for treating base to selectively impart water repellency, light-shielding member formed substrate, and production process of color filter substrate for picture device |
EP96111216A EP0758629B1 (en) | 1995-07-14 | 1996-07-11 | Process for treating base to selectively impart water repellency, light-shielding member formed substrate, and production process of color filter substrate for picture device |
DE69601989T DE69601989T2 (de) | 1995-07-14 | 1996-07-11 | Verfahren zur Behandlung eines Substrats zur selektiven Verleihung von wasserabweisenden Eigenschaften, auf einem Substrat geformtes Lichtabschirmelement und Herstellungsverfahren eines Farbfiltersubstrats für ein Bildgerät |
CN96113232A CN1081798C (zh) | 1995-07-14 | 1996-07-12 | 彩色滤光器基板的制造方法 |
KR1019960028356A KR100253259B1 (ko) | 1995-07-14 | 1996-07-13 | 기판의 선택적 발수 처리 방법과 그를 이용한 차광 부재 형성 기판 및 화상 소자용 칼라 필터 기판의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17899995A JP3234748B2 (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 基板の選択的撥水処理方法、遮光部材形成基板及びこの遮光部材形成基板を用いたカラ−フィルタ−基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0933711A JPH0933711A (ja) | 1997-02-07 |
JP3234748B2 true JP3234748B2 (ja) | 2001-12-04 |
Family
ID=16058352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17899995A Expired - Fee Related JP3234748B2 (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 基板の選択的撥水処理方法、遮光部材形成基板及びこの遮光部材形成基板を用いたカラ−フィルタ−基板の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6228435B1 (ja) |
EP (1) | EP0758629B1 (ja) |
JP (1) | JP3234748B2 (ja) |
KR (1) | KR100253259B1 (ja) |
CN (1) | CN1081798C (ja) |
DE (1) | DE69601989T2 (ja) |
Families Citing this family (68)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3996979B2 (ja) * | 1996-08-08 | 2007-10-24 | キヤノン株式会社 | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター及び液晶表示装置 |
DE69807554T2 (de) | 1997-03-21 | 2003-05-22 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Verfahren zur Herstellung eines bedruckten Substrats, elektronenemittierendes Element, Elektronenquelle und Bilderzeugungsgerät |
CN100530760C (zh) | 1998-03-17 | 2009-08-19 | 精工爱普生株式会社 | 薄膜构图的衬底及其表面处理 |
US6630274B1 (en) | 1998-12-21 | 2003-10-07 | Seiko Epson Corporation | Color filter and manufacturing method therefor |
WO2000037972A1 (fr) * | 1998-12-21 | 2000-06-29 | Seiko Epson Corporation | Filtre colore et son procede de fabrication |
WO2001019745A1 (en) * | 1999-09-13 | 2001-03-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method for partially treating a water-repellent glass sheet and the partially treated glass sheet |
JP2001272527A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびその製造方法 |
KR100635036B1 (ko) * | 2001-04-04 | 2006-10-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 컬러필터 기판의 제조 방법 |
JP2003273111A (ja) | 2002-03-14 | 2003-09-26 | Seiko Epson Corp | 成膜方法及びその方法を用いて製造したデバイス、並びにデバイスの製造方法 |
JP2004006700A (ja) * | 2002-03-27 | 2004-01-08 | Seiko Epson Corp | 表面処理方法、表面処理基板、膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 |
US20030183245A1 (en) * | 2002-04-01 | 2003-10-02 | Min-Shyan Sheu | Surface silanization |
US20040069634A1 (en) * | 2002-10-11 | 2004-04-15 | Hanzel David K. | Vapor phase method for producing silane coatings |
KR101167534B1 (ko) * | 2003-04-25 | 2012-07-23 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 패턴의 제작방법 및 액적 토출장치 |
US7011529B2 (en) * | 2004-03-01 | 2006-03-14 | Anritsu Company | Hermetic glass bead assembly having high frequency compensation |
TWI236549B (en) * | 2004-05-10 | 2005-07-21 | Chunghwa Picture Tubes Ltd | Color filter of liquid crystal display panel and method of fabricating the same |
US20050255253A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-11-17 | White John M | Apparatus and methods for curing ink on a substrate using an electron beam |
US20050253917A1 (en) * | 2004-05-13 | 2005-11-17 | Quanyuan Shang | Method for forming color filters in flat panel displays by inkjetting |
US20060092218A1 (en) * | 2004-11-04 | 2006-05-04 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for inkjet printing |
US20060093751A1 (en) * | 2004-11-04 | 2006-05-04 | Applied Materials, Inc. | System and methods for inkjet printing for flat panel displays |
US7413272B2 (en) * | 2004-11-04 | 2008-08-19 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for precision control of print head assemblies |
US7625063B2 (en) * | 2004-11-04 | 2009-12-01 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for an inkjet head support having an inkjet head capable of independent lateral movement |
US20070042113A1 (en) * | 2004-11-04 | 2007-02-22 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays using pattern data |
US20060109296A1 (en) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Bassam Shamoun | Methods and apparatus for inkjet printing color filters for displays |
US20060159843A1 (en) * | 2005-01-18 | 2006-07-20 | Applied Materials, Inc. | Method of substrate treatment for manufacturing of color filters by inkjet printing systems |
US20060185587A1 (en) * | 2005-02-18 | 2006-08-24 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for reducing ink conglomerates during inkjet printing for flat panel display manufacturing |
US7460267B2 (en) * | 2005-07-15 | 2008-12-02 | Applied Materials, Inc. | Green printing ink for color filter applications |
US20070015847A1 (en) * | 2005-07-15 | 2007-01-18 | Applied Materials, Inc. | Red printing ink for color filter applications |
US7544723B2 (en) * | 2005-07-15 | 2009-06-09 | Applied Materials, Inc. | Blue printing ink for color filter applications |
US7410734B2 (en) * | 2005-08-25 | 2008-08-12 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Method of fabricating color filter |
US20070065571A1 (en) * | 2005-09-19 | 2007-03-22 | Applied Materials. Inc. | Method and apparatus for manufacturing a pixel matrix of a color filter for a flat panel display |
US20070070132A1 (en) * | 2005-09-27 | 2007-03-29 | Fan-Cheung Sze | Inkjet delivery module |
US20070068560A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Quanyuan Shang | Methods and apparatus for inkjet print head cleaning |
US20070070109A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | White John M | Methods and systems for calibration of inkjet drop positioning |
US20070076040A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for inkjet nozzle calibration |
US7611217B2 (en) * | 2005-09-29 | 2009-11-03 | Applied Materials, Inc. | Methods and systems for inkjet drop positioning |
US20080018677A1 (en) * | 2005-09-29 | 2008-01-24 | White John M | Methods and apparatus for inkjet print head cleaning using an inflatable bladder |
US7371487B2 (en) * | 2005-11-25 | 2008-05-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of fabricating black matrix of a color filter |
JP4640151B2 (ja) * | 2005-12-13 | 2011-03-02 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
US7923057B2 (en) * | 2006-02-07 | 2011-04-12 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for reducing irregularities in color filters |
US20070256709A1 (en) * | 2006-04-29 | 2007-11-08 | Quanyuan Shang | Methods and apparatus for operating an inkjet printing system |
US20070263026A1 (en) * | 2006-04-29 | 2007-11-15 | Quanyuan Shang | Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures |
US20070252863A1 (en) * | 2006-04-29 | 2007-11-01 | Lizhong Sun | Methods and apparatus for maintaining inkjet print heads using parking structures with spray mechanisms |
US7992956B2 (en) * | 2006-06-07 | 2011-08-09 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for calibrating inkjet print head nozzles using light transmittance measured through deposited ink |
JP2008016300A (ja) * | 2006-07-05 | 2008-01-24 | Seiko Epson Corp | 有機発光装置の製造方法、有機発光装置および電子機器 |
US20080024548A1 (en) * | 2006-07-26 | 2008-01-31 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for purging a substrate during inkjet printing |
US20080024532A1 (en) * | 2006-07-26 | 2008-01-31 | Si-Kyoung Kim | Methods and apparatus for inkjet printing system maintenance |
WO2008013902A2 (en) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for improved manufacturing of color filters |
US20080204501A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-08-28 | Shinichi Kurita | Inkjet print head pressure regulator |
KR20080051617A (ko) * | 2006-12-06 | 2008-06-11 | 주식회사 엘지화학 | 컬러 필터의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 컬러 필터 |
KR100943145B1 (ko) * | 2007-02-02 | 2010-02-18 | 주식회사 엘지화학 | 컬러필터 및 컬러필터의 제조방법 |
US7857413B2 (en) | 2007-03-01 | 2010-12-28 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for controlling and testing jetting stability in inkjet print heads |
US7637587B2 (en) * | 2007-08-29 | 2009-12-29 | Applied Materials, Inc. | System and method for reliability testing and troubleshooting inkjet printers |
US20090141218A1 (en) * | 2007-10-26 | 2009-06-04 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for curing pixel matrix filter materials |
US20090185186A1 (en) * | 2007-12-06 | 2009-07-23 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for improving measurement of light transmittance through ink deposited on a substrate |
CN101889239A (zh) * | 2007-12-06 | 2010-11-17 | 应用材料股份有限公司 | 使用线性扫描摄影机测量基板上的像素井中沉积墨水的方法及设备 |
US20090251504A1 (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for wet in-situ calibration using measurement of light transmittance through ink deposited on a substrate |
US11786036B2 (en) | 2008-06-27 | 2023-10-17 | Ssw Advanced Technologies, Llc | Spill containing refrigerator shelf assembly |
US8286561B2 (en) | 2008-06-27 | 2012-10-16 | Ssw Holding Company, Inc. | Spill containing refrigerator shelf assembly |
EP2346678B1 (en) | 2008-10-07 | 2017-10-04 | Ross Technology Corporation | Spill resistant surfaces having hydrophobic and oleophobic borders |
MX343584B (es) | 2009-11-04 | 2016-11-10 | Ssw Holding Co Inc | Superficies de equipos de coccion que tienen una estructura para la contencion de derrames y metodos de fabricarlas. |
MX2012010669A (es) | 2010-03-15 | 2013-02-07 | Ross Technology Corp | Destacadores y metodos para producir supreficies hidrofobas. |
MX2013009609A (es) | 2011-02-21 | 2013-09-16 | Ross Technology Corp | Revestimiento suoerhidrofobos y oleofobos con sistemas aglutinantes con bajo contenido de compuestos organicos volatiles. |
DE102011085428A1 (de) | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Schott Ag | Einlegeboden |
EP2791255B1 (en) | 2011-12-15 | 2017-11-01 | Ross Technology Corporation | Composition and coating for superhydrophobic performance |
EP2864430A4 (en) | 2012-06-25 | 2016-04-13 | Ross Technology Corp | ELASTOMERIC COATINGS WITH HYDROPHOBIC AND / OR OLEOPHOBIC PROPERTIES |
CN106458720A (zh) * | 2015-03-27 | 2017-02-22 | 华为技术有限公司 | 一种终端设备用彩色玻璃板及其形成方法、终端设备 |
JP6863788B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2021-04-21 | 株式会社Screenホールディングス | フィルタ連結装置およびこれを備えた基板処理装置 |
CN112445019A (zh) * | 2019-09-05 | 2021-03-05 | 咸阳彩虹光电科技有限公司 | 一种功能基板、液晶显示面板及显示器 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4521805A (en) | 1981-04-24 | 1985-06-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Printing apparatus or system |
US4538182A (en) | 1981-05-11 | 1985-08-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Image processing apparatus |
JPS5975205A (ja) | 1982-10-25 | 1984-04-27 | Seiko Epson Corp | カラ−フイルタの製造方法 |
JPS62106407A (ja) | 1985-11-01 | 1987-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示用カラ−フイルタの製造方法 |
JPH0335031A (ja) | 1989-06-30 | 1991-02-15 | Fukui Pref Gov | 防曇性付与法 |
JPH04195102A (ja) | 1990-11-28 | 1992-07-15 | Toray Ind Inc | カラーフィルタ製造法 |
JP3035031B2 (ja) | 1991-10-11 | 2000-04-17 | 三菱重工業株式会社 | 電子ビーム計測装置 |
EP0577187B1 (en) | 1992-06-29 | 1995-12-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of providing a metal pattern on glass in an electroless process |
JP3353057B2 (ja) | 1992-10-09 | 2002-12-03 | 株式会社シンクロン | 表面処理された眼鏡レンズの製造方法 |
JP2952143B2 (ja) | 1993-12-21 | 1999-09-20 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP3376169B2 (ja) | 1994-06-17 | 2003-02-10 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法及びその方法により製造されたカラーフィルタ |
-
1995
- 1995-07-14 JP JP17899995A patent/JP3234748B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-07-10 US US08/677,739 patent/US6228435B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-11 EP EP96111216A patent/EP0758629B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-11 DE DE69601989T patent/DE69601989T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-07-12 CN CN96113232A patent/CN1081798C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-13 KR KR1019960028356A patent/KR100253259B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0758629A1 (en) | 1997-02-19 |
CN1081798C (zh) | 2002-03-27 |
CN1167265A (zh) | 1997-12-10 |
KR100253259B1 (ko) | 2000-04-15 |
DE69601989D1 (de) | 1999-05-12 |
US6228435B1 (en) | 2001-05-08 |
JPH0933711A (ja) | 1997-02-07 |
EP0758629B1 (en) | 1999-04-07 |
DE69601989T2 (de) | 1999-12-16 |
KR970007400A (ko) | 1997-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3234748B2 (ja) | 基板の選択的撥水処理方法、遮光部材形成基板及びこの遮光部材形成基板を用いたカラ−フィルタ−基板の製造方法 | |
JP3996979B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター及び液晶表示装置 | |
KR100298824B1 (ko) | 칼라필터의제조방법,이에의해제조된칼라필터및이칼라필터를이용한액정디스플레이장치 | |
JPH09230129A (ja) | カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 | |
TWI278667B (en) | Color filter and production method thereof | |
EP1014195B1 (en) | Method of drying resinous composition layer, method of manufacturing color filter substrate using the same drying method, and liquid crystal display device | |
JP2002131524A (ja) | カラーフィルタとその製造方法、液晶素子 | |
JP4138130B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法および液晶表示装置の製造方法 | |
JPH08179113A (ja) | カラーフィルタの製造方法、該方法により得られたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを配して構成した液晶表示パネル | |
JPH09127327A (ja) | カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 | |
JP3147863B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
JPH10319229A (ja) | 色素転写及びリフトオフによりカラーフィルタ配列を製造する方法 | |
JPH09265086A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルター及びその製造方法 | |
JP3644118B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 | |
JPH11189861A (ja) | 有機着色薄膜の製造法 | |
JPH0713147A (ja) | カラーフィルター基板及び液晶表示素子 | |
JP2009025764A (ja) | カラーフィルタ用基板の製造方法、カラーフィルタの製造方法 | |
KR100334012B1 (ko) | 액정디스플레이용컬러필터의제조방법 | |
JPH0675110A (ja) | ブラックマトリックス基板の製造方法 | |
JP2000193816A (ja) | カラ―フィルタの製造方法およびカラ―フィルタ | |
JP3295155B2 (ja) | ブラックマトリックス基板作成用の感光材料 | |
JPH10197716A (ja) | 液晶用カラーフィルターの製造方法 | |
JPH05255641A (ja) | カラーフィルター保護膜形成用組成物、カラーフィルター付き電極基板及び液晶表示素子 | |
JPH07128518A (ja) | カラーフィルター | |
JPH095730A (ja) | ブラックマトリクス基板、およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070921 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090921 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090921 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130921 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |