KR100248164B1 - 대칭 바이폴라 트랜지스터의 제어 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 대칭 바이폴라 트랜지스터(1) 또는 대칭 바이폴라 트랜지스터 구조물의 제어에 관한 것이다. 본 발명에 따라 2개의 동작 전극(21, 22)에 전류 미러 회로(5; 6)가 접속되고, 2개의 전류 미러 회로(5; 6)의 베이스는 서로 접속되며 그것의 콜렉터는 바이폴라 트랜지스터의 제어에 필요한 제어전류를 공급하는 역 전류 미러 회로(7; 8)에 작용한다.
Description
본 발명은 대칭 바이폴라 트랜지스터 또는 대칭 바이폴라 트랜지스터 구조물의 제어에 관한 것이다.
대칭 바이폴라 트랜지스터는 수많은 용도를 갖는다. 공지된 용도에서 바이폴라 트랜지스터는 버스 시스템에 대한 결합 회로에서 역 배터리 보호소자로 사용된다. (유럽특허 공개 제 0487 759 호, 제3도). 이러한 역 배터리 보호는 버스 시스템, 컴퓨터 및 메모리 가능한 제어장치의 구성부분에 특히 적합하다. 역 배터리 보호 소자는 전기신호의 극성에 따라 신호 결합 경로를 차단하거나 연결시키는 제어가능한 소자로서 신호결합 경로에 놓인다. 공지된 바이폴라 트랜지스터는 2중 에미터 트랜지스터로 구현되며, 그것의 에미터 흐름은 양 방향으로 균일하게 제어될 수 있다.
바이폴라 트랜지스터 구조물은 다른 한편으로는 일반적으로 전위차가 일정값을 초과하는지 그리고 그에따라 한 전압이 다른 전압에 근사해지는지의 여부를 체크하는데 적합하다. 지금까지는 비교기가 사용되었다. 그러나, 필요한 비교기 회로는 통상적으로 많은 비용을 필요로 한다. 바이폴라 트랜지스터 구조물은 국내 독일출원(DE : A43 16 608)에 개시되어 있다.
특히 바이폴라 트랜지스터 구조물이 IC 회로에 집적되어야 하며, 가급적 낮은 전력손실이 발생하고 제어전류가 상응하게 낮은 것이 바람직하다.
본 발명의 목적은 가급적 낮은 제어 전류로 집적회로내의 대칭 바이폴라 트랜지스터 또는 바이폴라 트랜지스터 구조물을 제어하는 것이다.
상기 목적의 해결책은 특허청구의 범위 제1항에 따른 제어이다. 대칭 바이폴라 트랜지스터 또는 대칭 바이폴라 트랜지스터 구조물의 두 동작 전극에는 공지된 방식의 전류미러 회로가 접속된다. 특히 전류미러 회로의 에미터가 접속될 수 있다. 이 경우, 2개의 전류 미러 회로의 베이스가 서로 접속되며, 그것의 콜렉터는 바이폴라 트랜지스터의 제어에 필요한 제어전류를 공급하는 역 전류 미러에 작용한다. 이러한 방식의 장치에서는 낮은 제어 전류로 대칭 바이폴라 트랜지스터 또는 대칭 바이폴라 트랜지스터 구조물을 제어할 수 있다. 이하, 상기 두 장치를 간략히 바이폴라 트랜지스터라 한다.
제1전류 미러 회로에 제2전류 미러 회로를 보충하여, 전류 미러 회로를 확대시킬 수 있다. 상기 제2전류 미러 회로는 각각 제1전류 미러 회로의 베이스에 접속된다. 이러한 방식의 장치는 바이폴라 트랜지스터를 통해 급경사의 에지를 가진 전류펄스를 전송시키는 것을 가능하게 한다.
제2전류 미러 회로는 결합된 인에이블 스위치를 통해 제1전류 미러 회로에 접속되는 것이 바람직하다. 이 경우, 제1전류 미러 회로의 콜렉터는 인에이블 스위치를 통해 각각 하나의 제2전류 미러에 작용한다. 각각의 제2전류 미러가, 경우에 따라 인에이블 스위치의 중간 접속하에, 제1전류 미러의 베이스에 직접 접속된다. 이러한 방식의 부가제어는 단지 수 100ns의 제어지연시 매우 신속하게 이루어진다. 그러나, 보다 많은 전류를 필요로 하기 때문에, 전송의 경우에만 제2전류미러가 인에이블 스위치를 통해 접속되는 것이 바람직하다.
첨부된 도면에 개략적으로 도시된 실시예를 참고로 본 발명을 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
제1도는 각각 하나의 전류 미러 및 후속 접속된 역 전류 미러에 의한 바이폴라 트랜지스터의 제어를 나타낸 회로도이고, 제2도는 2세트의 제1도에 따른 전류미러 및 제2전류미러 회로에 의한 바이폴라 트랜지스터의 제어를 나타낸 회로도이며, 제3도는 개별 전류 미러 장치의 회로도이고, 제4도는 트랜지스터용 달링턴 회로의 전형적인 실시예이다.
제1도에 따른 바이폴라 트랜지스터(1)는 2중 에미터 트랜지스터로 구현된다. 도체(2) 및 (3)로 된 도체장치의 라인(2)에서 상기 바이폴라 트랜지스터의 동작전극이 에미터 전극에 연결된다. 단자(4)는 바이폴라 트랜지스터의 베이스로 뻗는다. 2중 에미터 트랜지스터로 구현된 바이폴라 트랜지스터의 에미터에는 각각 제1전류 미러 회로(5) 및 (6)가 접속된다. 상기 전류 미러 회로(5) 및 (6)의 베이스 단자가 서로 접속된다. 서로 연결된 제1전류 미러 회로(5) 및 (6)의 콜렉터(11)는 각각 역 전류미러 회로(7) 및 (8)에 작용한다. 저항(9) 및 경우에 따라 저항(10)은, 조절가능한 미러 특성 곡선에서 전류 미러 회로의 IC 표면에 의해 주어지는 바와 같은 전달비를 변경시키기 위해 선택적으로 제공된다.
역 전류 미러 회로의 출력은 각각 저항(12)에 접속되고, 상기 저항(12)은 접지에 대한 정전압원(13)으로 부터 전압을 공급받는다. 역 전류 미러 회로(7) 및 (8)의 출력은 또한 예컨대, 달링턴 회로내의 트랜지스터(14)의 베이스에 각각 작용한다. 트랜지스터(14)의 콜렉터는 바이폴라 트랜지스터의 제어전극인 베이스에 접속된다. 저항( 15) 및 (16)은 선형화 및 전류제한에 사용된다.
제2도에 따른 실시예에서는 제2전류 미러 회로(17) 및 (18)가 각각 인에이블 스위치(19)를 통해 제1도에 따른 회로장치에 접속된다. 상기 인에이블 스위치(19)는 각각 제1전류 미러 회로(5) 및 (6)의 또다른 콜렉터에 접속된다. 기준 전압은 재차 정전압원(13)으로 접속되며 기준 전류원(20)은 재차 제1전류 미러 회로(5) 및 (6)에 전류를 공급한다.
제1도에 따른 회로는 다음과 같이 동작한다 :
전류원으로 부터 나온 여기 전류(20)은 전류 미러 회로(5) 및 (6)의 평형이 이루어지도록 나누어진다. 즉, 동작 전극(21)이 더 높은 전위를 갖는지 또는 바이폴라 트랜지스터(1)가 더 높은 전위를 갖는지에 따라 나누어진다. 만약, 동작 전극(21)에서의 전위가 동작 전극(22)에서의 전위보다 높으면, 제1전류 미러 회로(5)가 다른 제1전류 미러 회로(6)보다 더 많은 전류를 흘린다. 그렇지 않은 경우에는 비율이 반대로 된다.
바이폴라 트랜지스터(1)가 완전히 포화됨으로써 동작 전극(21) 및 (22)에서의 전위가 동일해지면, 여기 전류(20)가 제1전류 미러 회로(5) 및 (6)로 균일하게 나누어진다. 즉, 전류 미러 회로(5) 및 (6)가 평형이 된다. 이 경우, 2개의 역 전류 미러 회로(7) 및 (8)는 동일한 전류를 흘린다. 저항(12)은, 전술한 상태에서 각각에 동일한 전압강하가 일어나도록 설계된다. 상기 전압 강하는 정전압원(13)으로 부터 나온 전압에 상응하거나 동일하다. 이로 인해, 실시예에서 달링턴 트랜지스터로 구현된 트랜지스터(14)의 베이스가 접지에 접속되므로, 전류가 바이폴라 트랜지스터(1)의 제어전극으로 부터 단자(4)를 통해 그것의 콜렉터내로 흐를 수 없다.
제1전류 미러 회로(5) 및 (6)가 평형상태가 아니면, 제어전류가 상승한다. 바이폴라 트랜지스터(1)를 통과하는 전류의 방향에 따라, 동작 전극(21) 또는 (22)의 전위가 더 낮아짐으로써, 두 트랜지스터(14)중 하나가 포지티브 제어를 받고 그로인해 바이폴라 트랜지스터(1)에 필요한 제어전류를 공급한다.
제2도에 따른 회로장치에서, 제1전류 미러 회로(5) 또는 (6)의 콜렉터가 각각 인에이블 스위치(19)를 통해 전류 미러 회로(17) 또는 (18)에 작용한다. 상기 부가 제어는 실제로 수 100ns의 제어지연에서 매우 신속하게 이루어진다. 제2전류 미러 회로(17) 및 (18)가 보다 많은 전류를 필요로 하면, 인에이블 스위치(19)를 통해 분리될 수 있다. 전송의 경우에만 인에이블 스위치(19)를 통한 접속이 이루어지는 것이 바람직하다.
제3도에는 제1전류 미러 회로(5) 또는 (6)의 다른 실시예가 도시되어 있다. 이 실시예는 이미 널리 공지되어 있다. 제4도에는 제1도에서 예컨대 달링턴 트랜지스터로 구현된 트랜지스터(14)에 대한 전형적인 실시예가 도시되어 있다.
Claims (3)
- 대칭 바이폴라 트랜지스터(1) 또는 대칭 바이폴라 트랜지스터 구조물의 제어에 있어서, 2개의 동작 전극(21, 22)에 각각 하나의 전류 미러 회로(5; 6)가 접속되고, 2개의 전류 미러 회로(5; 6)의 베이스가 서로 접속되며 그것의 콜렉터는 바이폴라 트랜지스터로 부터 필요한 베이스 전류를 흘려보내는 스위치(14)를 제어하는 역 전류 미러 회로(7; 8)에 작용하고, 대칭 바이폴라 트랜지스터의 두 동작 전극이 동일한 전위에 놓이면, 스위치(14)가 베이스 전류를 공급하지 않으며, 기준 전류(여기 전류 20)가 제1전류 미러 회로(5, 6)의 베이스 단자에 공급되는 것을 특징으로 하는 대칭 바이폴라 트랜지스터의 제어.
- 제1항에 있어서, 제1전류 미러 회로(5; 6)에 제2전류 미러(17; 18)를 보충함으로써, 전류 미러 회로가 확대되고, 상기 제2전류 미러(17; 18)는 각각 제1전류 미러 회로(5; 6)의 또다른 콜렉터에 접속되는 것을 특징으로 하는 대칭 바이폴라 트랜지스터의 제어.
- 제2항에 있어서, 제2전류 미러 회로(17, 18)는 결합된 에이블 스위치(19)를 통해 제1전류 미러 회로(5; 6)에 접속되는 것을 특징으로 하는 대칭 바이폴라 트랜지스터의 제어
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