KR0168150B1 - 반도체 소자 제조 방법 - Google Patents
반도체 소자 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR0168150B1 KR0168150B1 KR1019950046303A KR19950046303A KR0168150B1 KR 0168150 B1 KR0168150 B1 KR 0168150B1 KR 1019950046303 A KR1019950046303 A KR 1019950046303A KR 19950046303 A KR19950046303 A KR 19950046303A KR 0168150 B1 KR0168150 B1 KR 0168150B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- photoresist
- semiconductor device
- patterned
- manufacturing
- blanket
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 claims 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/31051—Planarisation of the insulating layers
- H01L21/31053—Planarisation of the insulating layers involving a dielectric removal step
- H01L21/31055—Planarisation of the insulating layers involving a dielectric removal step the removal being a chemical etching step, e.g. dry etching
- H01L21/31056—Planarisation of the insulating layers involving a dielectric removal step the removal being a chemical etching step, e.g. dry etching the removal being a selective chemical etching step, e.g. selective dry etching through a mask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02112—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer
- H01L21/02123—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon
- H01L21/02164—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon the material being a silicon oxide, e.g. SiO2
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
- H01L21/0226—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process
- H01L21/02282—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a deposition process liquid deposition, e.g. spin-coating, sol-gel techniques, spray coating
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
- G03F7/70641—Focus
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
본 발명은 토포로지 단차가 큰 소자를 단차가 낮은 영역의 포토레지스트는 노광 장치의 포커스(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 단차가 높은 영역의 포토레지스트는 디포커스(DeFocus)를 발생시켜 패터닝이 형성이 되지 않게 하여 평탄화시키므로서 소자의 평탄화를 높이고, 공정 시간의 단축 및 공정의 단순화를 할 수 있도록 한 반도체 소자 제조 방법이 개시된다.
Description
제1a 내지 1e도는 본 발명에 따른 반도체 소자 제조 방법을 설명하기 위한 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 실리콘 기판 2 : 전도성 패턴
3 : 절연층 4 : 포토레지스트
5 : SOG막
본 발명은 반도체 소자 제조 방법에 관한 것으로, 특히 소자의 토포로지(Topology)단차를 완화하여 소자의 평탄화를 높일 수 있도록 한 반도체 소자 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 종래의 반도체 소자의 평탄화 공정에는 SDD(Selective Dielectric Deposition), CMP(Chemical Mechanical Polishing), TLP(Two Layer Planarization)등의 공정 방법이 사용되어 왔다. 그러나, SDD공정은 표면 상태에 따라 민감하고, CMP 공정은 오염 및 긁힘의 유발가능성, TLP 공정은 추가의 사진 및 식각 공정의 어려운 단점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 단점을 해결하기 위하여 소자의 평탄화를 높일 수 있도록 한 반도체 소자 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 패터닝 된 실리콘 기판상에 SiO2층 및 포토레지스트를 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트는 블랭킷 스트립 마스크(Blanket Stripe Mask)를 이용하여 노광에 의해 패터닝 되는 단계와, 상기 SiO2층은 엣치-백(Etch-Back)공정으로 SiO2층의 일부분이 식각된 후 패터닝 된 포토레지스트를 제거하는 단계와, 상기 전체 구조 상부에 SOG(Spin On Glass)막을 도포하는 단계와, 상기 SOG막이 엣치-백(Etch-Back)공정으로 전체 상부면을 평탄화 시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
제1a 및 1e 도는 본 발명에 따른 반도체 소자 제조 방법을 설명하기 위한 단면도이다.
제1a도와 관련하여, 실리콘 기판(1)상에 소정의 전도성 패턴(2)이 형성되고 전도성 패턴(2)을 포함한 절연청(3) 및 포토레지스트(4)가 순차적으로 형성된다. 상기 포토 레지스트(4)는 효과적인 평탄화를 위하여 토포로지의 단차보다 두껍게 도포된다.
제1b도와 관련하여, 상기 포토레지스트(4)는 블랭킷 스트립 마스크(Blanket Stripe mask)를 이용하여 노광에 의해 토포로지 단차가 낮은 영역의 포토 레지스트(4)는 노광 장치의 포커서(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 토포로지 단차가 높은 영역의 포토 레지스트(4)는 디포커스(DeFocus)를 유발시켜 패턴이 형성이 되지 않게 한다. 상기 블랭킷 스트립 마스크의 패턴 라인 폭은 토포로지 단차와 같은 크기로 만든다. 상기 최적 포커스 오프 셋(Offset)은 포토 리지스트(4)의 두께가 증가됨에 따라 포커스 마진(Margin)이 감소되므로 토포로지에 따른 포토 레지스트(4)의 두께 변동을 고려하여 스트립 패턴 라인 (Stripe Pattern Line)폭을 조정하는 것이다.
제1c도와 관련하여, 상기 절연층(3)은 엣치-백(Etch-Back) 공정이 실시되어 절연층(3)의 일부분이 식각된다. 상기 낮은 영역에 패터닝되어 형성된 포토레지스트(4)는 제거된다.
제1d도와 관련하여, 상기 전체 구조 상부에 SOG막(5)이 도포된다.
제1e도와 관련하여, 상기 SOG막(5)은 엣치-백(Etch-Back)공정이 실시되어 전체 구조 상부면이 평탄화가 된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 토포로지차가 큰 소자를 단차가 낮은 영역의 포토레지스트는 노광 장치의 포커스(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 단차가 높은 영역의 포토레지스트는 디포커스(DeFocus)를 발생시켜 패터닝이 형성이 되지 않게 하여 소자의 평탄화를 높일 수 있는 탁월한 효과가 있다.
Claims (3)
- 반도체 소자 제조 방법에 있어서, 실리콘 기판(1)상에 소정의 전도성 패턴(2)이 형성되고 전도성 패턴(2)을 포함한 절연층(3) 및 포토레지스트(4)가 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트는 블랭킷 스트립 마스크(Blanket Stripe Mask)를 이용하여 노광에 의해 패터닝 되는 단계와, 상기 SiO2층은 엣치-백(Etch-Back)공정으로 SiO2층의 일부분이 식각된 후 패터닝 된 포토레지스트를 제거하는 단계와, 상기 전체 구조 상부에 SOG(Spin On Glass)막을 도포하는 단계와, 상기 SOG막이 엣치-백(Etch-Back)공정으로 전체 상부면을 평탄화 시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 토포로지 단차가 낮은 영역의 포토레지스트는 노광 장치의 포커스(Focus)를 맞춰 패터닝하고 상대적으로 단차가 높은 영역의 포토레지스트는 디포커스(DeFocus)를 유발시켜 패턴이 형성 되지 않게 하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
- 제1항에 있어서 상기 블랭킷 스트립 마스크의 패턴 라인 폭은 토포로지 단차와 같은 크기로 만드는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950046303A KR0168150B1 (ko) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 반도체 소자 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950046303A KR0168150B1 (ko) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 반도체 소자 제조 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970052780A KR970052780A (ko) | 1997-07-29 |
KR0168150B1 true KR0168150B1 (ko) | 1999-02-01 |
Family
ID=19437524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950046303A KR0168150B1 (ko) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 반도체 소자 제조 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0168150B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10503072B2 (en) | 2014-09-05 | 2019-12-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of fabricating semiconductor devices with flattened hardmask layers |
-
1995
- 1995-12-04 KR KR1019950046303A patent/KR0168150B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10503072B2 (en) | 2014-09-05 | 2019-12-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Methods of fabricating semiconductor devices with flattened hardmask layers |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR970052780A (ko) | 1997-07-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6281115B1 (en) | Sidewall protection for a via hole formed in a photosensitive, low dielectric constant layer | |
KR0168150B1 (ko) | 반도체 소자 제조 방법 | |
KR100367695B1 (ko) | 반도체소자의비아콘택형성방법 | |
US6537866B1 (en) | Method of forming narrow insulating spacers for use in reducing minimum component size | |
KR100912958B1 (ko) | 반도체 소자의 미세 패턴 제조 방법 | |
KR100685618B1 (ko) | 반도체 소자의 제조 방법 | |
KR100333726B1 (ko) | 반도체소자제조방법 | |
KR100587036B1 (ko) | 반도체소자의 컨택 형성방법 | |
KR19990057781A (ko) | 반도체장치의 폴리실리콘 플러그패드 형성방법 | |
KR100205095B1 (ko) | 반도체 소자의 비트라인 형성방법 | |
KR100265835B1 (ko) | 반도체소자의금속배선형성방법 | |
KR0179000B1 (ko) | 반도체 장치의 평탄화방법 | |
KR100466026B1 (ko) | 고집적 반도체 소자의 도전체 패턴 제조 방법 | |
KR100267771B1 (ko) | 반도체소자의 제조방법 | |
KR100186504B1 (ko) | 반도체 소자의 폴리 플러그 제조방법 | |
KR0166134B1 (ko) | 반도체 소자의 게이트 전극 형성 방법 | |
KR950010853B1 (ko) | 반도체장치의 역 콘택 제조 방법 | |
KR0137433B1 (ko) | 반도체 소자의 콘택홀 형성방법 | |
KR100456420B1 (ko) | 반도체 소자의 구리 배선 형성 방법 | |
KR100202657B1 (ko) | 트랜지스터의 제조방법 | |
KR0122508B1 (ko) | 미세콘택홀 형성방법 | |
KR100248345B1 (ko) | 반도체 소자의 금속 배선 형성 방법 | |
KR19980025845A (ko) | 반도체소자 제조방법 | |
KR950009284B1 (ko) | 미세패턴 형성방법 | |
KR100294690B1 (ko) | 반도체장치의콘택홀형성방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20100920 Year of fee payment: 13 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |