KR0150944B1 - 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린 - Google Patents

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Description

대전방지 및 방현성 화상표시 스크린

제1도는 본 발명에 따른 피복조성물로 형성된 대전방지 및 방현성 피막의 광투과율을 나타낸 그래프.

제2도는 본 발명에 따른 피복조성물로 형성된 대전방지 및 방현성 피막과 종래의 대전방지성 피막의 유도전압과 경과시간, 즉 그 감쇠시간의 관계를 나타낸 그래프이다.

본 발명은 대전방지(antistatic) 및 방현(防眩; non glare or glare reducing)성 화상표시 스크린에 관한 것으로, 더 상세히는 대전방지성 피복조성물과 그 제조방법 및 이를 이용한 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린에 관한 것이다.

CRT나 LCD등의 기판, 쇼우 윈도우 등의 화상표시 스크린으로 사용되는 투명기재로는 유리 또는 플라스틱등이 주로 사용된다. 그런데 이 유리 또는 플라스틱등은 절연체이므로 그 표면저항이 높아 그 표면에 정전하가 축적되기 쉽다. 이러한 정전하가 대전되면 외기중의 먼지 등의 이물질이 화상표시 스크린의 표면에 흡착되어 이를 오염시킴으로써 표시화상의 해상도를 저하시킬뿐아니라 사용자가 이에 접촉할 때 전기적 쇼크를 가하게 되는 문제점이 발생하게 된다. 특히 LCD등의 기판 등에 정전하가 대전되면 구동전압이 인가되지않은 세그먼트가 구동되는 등의 오동작이 발생되며, 최근 컴퓨터 모니터로 사용되는 CRT에 있어서는 화면 접촉에 의한 데이터의 입력방식 등의 채용에 따라 사용자의 화면접촉기회가 더욱 많아지므로 전술한 전기적 쇼크와 문제와 오동작의 문제가 심각해지고 있다.

한편 유리 또는 플라스틱등은 그 표면이 평활면인 경우에는 경면반사(鏡面反射)를 하게되므로 스크린의 표면이 외래광(ambient light)을 정반사하여 스크린에 표시되는 화상을 판독하기 어렵게 만들게 된다. 이러한 경향은 특히 외래광이 강할수록 심하여 LCD등 발광휘도가 낮은 표시장치는 외부조도가 큰 곳에서는 판독이 거의 불가능하고, TV나 모니터로 사용되는 CRT도 화상이 명확치 못하여 장시간 사용하면 사용자에게 눈의 피로를 야기하게 되므로 화상표시 스크린의 표면에 적절한 방현, 즉 반사방지(non glare) 또는 반사감소(glare reducing)처리가 필요하였다.

이에 따라 화상표시 스크린의 방현방법으로 여러 가지가 제안되어 왔다. 그 일례로서 기계적 연마 또는 불산 등의 약품으로 선택적 에칭(etching)하는 방법으로 스크린의 표면을 조면(粗面)으로 형성하는 방법이 있었으나, 이는 가공시의 공해발생과 스크린의 손상을 야기하고 스크린의 재생이 불가능하며, 특히 스크린의 투명도를 저하시킬 뿐 아니라 먼지 등의 흡착이 더욱 용이해져 화상의 해상도를 저하시키는 문제점이 있었다.

또 스크린의 표면에 플라스틱 필름이나 규산 알칼리염 수용액(소위 물유리)을 도포 피복하는 방법이 있었으나 이는 피막 손상이 쉽고 유기용제나 알칼리가 용출되어 표면이 백탁화(白濁化)하기 쉬워 스크린의 해상도를 저하시키는 문제점이 있었다.

한편 스크린의 표면에 도전성 금속을 증착이나 스퍼터링(sputtering) 등에 의해 피착(被着)시켜 방현과 대전방지 성능을 동시에 부여하는 방법이 있었으나 이것은 그 피막의 내구성등 피막강도가 매우 약하고 대형의 복잡한 증착장치 등이 필요하여 공업적으로 사용될수 없었다.

일본 특허공개공보 소61-118932호에는 Si(OR)₄(R:알킬기)의 일반식으로 표현되는 알킬 실리케이트의 알콜용액을 도포하여 중축합시킴으로써 미세한 요철을 가진 SiO₂피막을 형성하는 방법이 개시되었다. 이것은 방현 성능뿐 아니라 그 표면에 잔류하는 실라놀기(silanol 基; ≡ Si-OH)가 공기중의 수분과 반응하여 도전성을 갖게 되므로 이 피막을 접지함으로써 대전방지 효과도 얻을 수 있었다.

그러나 이것은 충분한 막강도를 얻기위하여 200℃ 이상의 고온 소성이 필요하므로 플라스틱등의 투명기재에는 적용할수 없을 뿐아니라 이 소성과정에서 실라놀기가 축합되어 버리므로 도전성이 충분치 못하게 된다. 이에 따라 일본 특허공개공보 소61-118946호에는 알킬 실리케이트의 알콜용액을 도포하여 이를 저온소성하는 방법이 개시되어 있으나 이러한 기술들은 모두 소위 이온도전성이어서 그 도전성이 외기중의 습도에 의존하게 되므로 건조지역이나 건조시기에는 충분한 대전방지효과를 발휘할 수 없게되며 초기 피막강도가 불안정하여 손상이 발생되기 쉽고 그 대전방지특성이 시간의 경과에 따라 열화되어 안정성이 낮으며 내구성도 약한 문제점이 있었다.

한편 일본 특허공개공보 소61-16452호에는 실리게이트에 무기금속 화합물을 함유시켜 도전성의 향상을 기도한 기술이 개시되었으나 이 경우 피막내에 도전성을 갖는 SiO₂등의 화합물이 존재하지 않을때에는 피막의 전기적 저항을 감소시킬 수 없으며, PdCl₂같은 흡습성 무기금속화합물을 함유하는 피막은 그 흡습성을 이용하여 표면저항을 감소시킴으로써 대전방지효과를 얻는것이므로 외기중의 습도가 낮은 조건하에서는 충분한 대전방지효과를 나타낼수 없게되며, 특히 내수성(耐水性), 내약품성등 피막의 내구성이 약한 문제도 있었다.

한편 일본 공개특허공보 소63-131408호에는 지르코늄염에서 얻어진 지르코니아를 매트릭스로 하여 도전성산화물입자를 분산시키는 조성이 개시되었는데, 이것은 도전성산화물입자를 형성하는데 원료의 가수분해와 여과, 세정, 소성과 분쇄, 탈알칼리처리 등의 복잡한 공정을 요하며 조성물 제조시 분쇄를 위한 분쇄장치와 균일한 조성이 되도록 하기 위한 분산장치와 성장방지제 등의 첨가물이 필요하게 되어 제조단가가 상승되고, 형성된 피막이 다공성이므로 스크린의 투명도를 저하시키는 문제점이 있었다.

본 발명은 상술한 종래기술들의 문제점을 감안하여 이를 해결하고자 창출한 것이다.

즉 본 발명은 대전방지성이 우수하고 경시(經時)변화가 없어 안정되며, 스크린의 투명도를 저하시키지 않으며, 내구성이 우수하고 제조가 매우 용이한 대전방지성 피복조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 상술한 대전방지성 피복조성물을 제조하는데 특히 적합한 제조방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 상술한 대전방지성 피복조성물을 이용한 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린을 제공하는 것이다.

상술한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 대전방지성 피복조성물은 실리케이트(silicate)물질을 부분 가수분해시킨 실리케이트 용액과, 유기용매와 물에 가용성인 무기화합물을 수화반응시킨 함수산화물에 이 무기화합물과 이종의 금속화합물을 도프(dope)시킨 형태의 도전성 물질을 포함하는 도전성 용액을 혼합하여 가수분해반응 및 중축합 반응을 진행시키는 것을 특징으로 한다.

여기서 가수분해성 실리케이트 물질은 바람직하기로는 알킬 실리케이트(실리콘 알콕시드; Si(OR)₄, 단 R:알킬기)또는 그 축합체인 폴리 알킬 실록산 또는 그 혼합물으로서, 예를 들어 에틸 실리케이트(Si(OC₂H₅)₄) 등을 사용할수 있다. 유기용매는 알콜류, 케톤류, 아세테이트류등 알콜용매나 극성용매중의 하나 또는 둘이상을 조합하여 사용하며, 필요에 따라 촉매로서 적절한 산을 첨가할수 있다. 이 유기용매에 용해시킨 가수분해성 실리케이트물질에 소량의 물과 염산 또는 질산 등의 소량의 산을 첨가함으로써 부분 가수분해를 행하게 되며, 이에 따라 실리케이트 용액을 형성하게 된다.

도전성 용액의 형성에 사용되는 물질은 유기용매 및 물에 가용성인 무기금속화합물, 예를 들어 Zr, Li, Sn, In 등의 화합물인 것이 바람직한데, 이것은 본 발명 특징에 따라 함수산화물의 형태로 사용되며, 그 표면에 Sb나 Sn 등의 화합물이 도프된 형태로서 안정된 도전성 물질을 형성하여, 이 도전성 물질을 포함하는 투명도전성 용액을 형성하게 된다.

이와 같이 안정된 도전성 물질을 포함한 투명도전성용액을 형성하는데 적합한 방법은, 가용성 무기화합물 또는 그 수화물을 유기용매에 용해시키고 소량의 물 및/ 또는 염기를 첨가함으로써 수화시켜된 상기 무기화합물의 함수산화물을 포함하는 함수산화물 용액을 형성하고,

상기 가용성 무기화합물과 이종인 금속의 화합물 또는 그 수화물을 이 함수산화물 용액에 가하여 교반 시킴으로써 상기 무기화합물의 함수산화물에 상기 동종 또는 이종의 금속화합물을 도프시킨 형태의 혼탁용액을 형성하고,

이 혼탁용액에 충분한 양의 물과 산을 가하고 가열교반함으로써 이를 교질화(peptize)시키는 것을 특징으로 한다.

여기서 가용성 무기화합물이나 유기용매는 전술한 바와 같은 것을 각각 사용하는 것이 바람직한바, 이 가용성 무기화합물은 예를 들어 Zr 의 경우 옥시질산 지르코늄 수화물[ZrO(NO₃)₂·2H₂O)또는 옥시 염화 지르코늄 수화물[ZrOCl₂·8H₂O), Li의 경우 질산리튬(LiNO₃) 또는 초산리튬(CH₃COOLi), Sn의 경우 염화주석 수화물(SnCl₄·nH₂O), In의 경우 질산 인듐수화물(In(NO₃)₃·nH₂O) 또는 염화인듐수화물(InCl₂·nH₂O)등이 사용될수 있다.

한편 이에 도프되는 Sn 또는 Sb화합물은 예를 들어 염화 안티몬(SbCl₃) 또는 염화주석 수화물 (SnCl₄·nH₂O)이 사용될수 있으며, 미량 첨가되는 염기는 예를 들어 NH₄OH등이다.

한편 동종 또는 이종 무기화합물의 도프가 이뤄진 가용성 무기화합물의 함수산화물 형태의 도전성 물질을 포함하는 도전성 용액은 그 용액상태가 혼탁하여 이를 그대로 실리케이트용액에 혼합하여 피막을 형성하는 경우에는 피막의 투명도를 저하시키게 되므로 이에 충분한 양의 물과 산을 가하고 가열 교반하여 이를 교질화함으로써 투명하게 하는 것이 바람직하다.

이와 같이 제조된 도전성 용액과 전술한 실리케이트용액을 혼합하여 된 본 발명의 대전방지성 피복조성물에 있어서, 가수분해성 실리케이트 물질은 전체 조성물에 대해 20wt%를 초과하면 조성물의 점도가 지나치게 높아져 도포에 부적합하므로 바람직하기로는 1~20wt%의 범위로 혼합된다. 한편 도프된 도전성물질은 전체 조성물에 대해 0.03wt%이하일때는 도전성이 불충분하고 7wt% 이상일때는 피막의 막강도를 저하시키게 되므로 0.03~7wt%, 특히 0.1~5wt%의 범위로 혼합되는 것이 바람직하다. 이 조성범위는 도전성용액 총량을 기준으로 할 때 약 0.02 ~ 6wt%의 범위가 된다.

이와 같은 피복조성물을 이용한 화상표시 스크린은 실리케이트물질을 부분 가수분해시킨 실리케이트 용액과, 가용성 무기화합물의 함수산화물에 이 무기화합물과 이종의 무기화합물을 도프시킨 형태의 도전성물질을 포함하는 도전성 용액을 형성하고,

상기 실리케이트용액과 도전성 용액을 혼합하여 가수분해반응 및 중축합반응을 진행시켜된 대전방지성 피복조성물용액을 화상표시 스크린의 투면기재 표면에 도포하여 피막을 형성한 뒤,

이 피막을 80℃ 내지 500℃의 온도로 소성하여 된 대전방지 및 방현성 피막을 구비하는 것을 특징으로 한다.

이 화상표시 스크린의 형성에 사용되는 실리케이트용액과 도전성 용액은 전술한 본 발명의 조성 및 제조방법으로 제조되는 것이 바람직하다.

또 그 도포방법은 스핀코팅(spin coating), 침지(dipping; 浸漬), 분무코팅(spray coating) 등의 방법을 사용할수 있다.

한편 본 발명의 소성온도범위에 있어서 화상표시 스크린의 투명기재가 열에 취약한 플라스틱등 합성수지의 경우에는 150℃ 이하, 즉 80℃ ~ 150℃의 저온 범위에서 행하여지는 것이 바람직하고, 투명기재가 유리등인 경우에는 고온이어도 무방하므로 이러한 제한이 없다. 또 그 소성시간은 예를 들어 상대적으로 단시간인 5분내지 60분, 바람직하기로는 30분 내외가 적당하다.

본 발명에 따른 피복조성물 용액의 성막기구(成膜 mechanism)는 다음과 같다고 파악된다.

즉 가수분해성 실리케이트 물질, 예를 들어 알킬 실리케이트는 가수분해 되어 실라놀기를 형성한다.

≡ Si - OR - H₂O →≡Si - OH + ROH

이 실라놀기는 중충합되며 다음과 같이 실록산(Siloxane)결합을 형성하며 고화(固化)된다.

≡ Si - OH + RO - Si ≡→≡ Si - O - Si ≡ + ROH

≡ Si - OH + HO - Si ≡→≡ Si - O - Si ≡ + H₂O

여기서 실라놀기는 외기중의 수분을 흡수하여 도전성을 가지게 되므로 일본 특허공개공보 소 61-118932호등에서는 이 실라놀기에 의한 표면 저항의 감소에 의해 대전방지효과를 얻음은 전술한바와 같다. 한편 실록산 결합은 실리케이트 피막을 화상표시 스크린의 표면에 강고히 부착시키고 자체강도를 유지하는 역할을 하게 되는데, 실라놀기가 실록산 결합을 하기위하여는 소성 등의 가열이 필요하게 된다. 따라서 상술한 종래기술에 있어서는 소성을 거치고 나서 실록산 결합을 이루지 않은 잔류 실라놀기에 의해 도전성을 가지게 되는 것이므로, 소성이 불충분하면 도전성은 유지되나 피막 강도가 부족하고 소성이 충분하면 피막강도는 유지되나 도전성은 저하하게된다.

한편 상기 실록산결합은 그 원자구조상 불규칙한 일종의 망목(網目) 구조를 형성하게되는데 도전성 금속 또는 그 화합물이 첨가되는 경우 이 망목구조의 골격내에 도전성 금속 또는 금속화합물을 견고히 고정한 강한 결합을 하게 된다. 그런데 전술한 일본특허 공개공보 소 61-16452호 등에서와 같이 첨가되는 금속 또는 금속화합물이 입자 형태인 경우에는 아무리 미립자로 분쇄한다 하더라도 이 금속 또는 금속화합물입자의 입경(粒經)이 지나치게 크므로 원자구조인 실록산 결합의 망목구조내에 포함될 수가 없어서 강한 결합을 이루지 못하게되고, 이에 따라 금속 또는 금속화합물 입자의 선택적 부식이나 탈락이 현저하므로 그 피막강도가 현저히 낮았던 것이다.

이와 같은 성막기구에 있어서, 본 발명에 따른 피복조성물은 도전성 용액에 포함된 도전성 물질이 함수산화물의 형태이므로 실록산 결합의 망목구조내에 용이하게 결합되어 망목구조를 골격으로 견고하게 고정되므로 종래의 대전방지성 피막에 비해 내수성 및 내약품성이 우수하며, 공기중의 습도에 영향을 받지않고 저습도 조건하에서도 안정된 대전방지 특성을 나타내게 된다. 이하에 본 발명의 몇가지 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.

[실시예 1]

에탄올 20ml에 용해시킨 옥시염화 지르코늄 수화물(ZrOCL₂·8H₂O)5g 용액에 미량의 NH₄OH를 가하여 지르코늄 함수산화물이 형성된 백색의 혼탁 용액을 얻는다. 이 혼탁용액에 염화주석 수화물(SnCl₄·nH₂O) 4.5g을 에탄올 10ml에 용해시킨 용액과 소량의 물, 5ml의 물을 가하여 충분히 교반함으로써 주석이 지르코늄 함수산화물에 균일하게 도프된 도전성물질을 포함하는 용액을 얻는다. 이용액은 백색의 혼탁용액이므로 이에 충분한 양의 물과 산, 물 20ml와 HNO₃또는 HCL 3ml를 가하여 약 80℃로 가열 교반함으로써 교질화된 투명 도전성 용액을 얻게된다.

이와 별도로 에틸실리케이트(Si(OC₂H₅)₄) 용액 20ml를 메탄올과 프로판올을 1:1로 혼합된 혼합용매 450ml에 용해시킨 뒤, 이에 소량의 물과 산, 즉 물 5ml와 HNO₃또는 HCl 3ml를 가하여 에틸실리케이트를 부분 가수분해시킨 실리케이트 용액을 얻게된다.

얻어진 실리케이트 용액과 도전성 용액을 혼합시켜 가수분해 및 중축합 반응을 진행시킴으로써 본 발명에 따른 대전방지 및 방현성 피복조성물 용액을 얻게된다.

다음 유리기재로 된 CRT의 전면 패널 표면의 먼지, 이물, 유지(油脂) 등을 세정하고 이에 상술한 피복조성물을 도포한 뒤 건조시켜 피막을 형성한다.

다음 이 피막을 약 450℃에서 약 30분간 가열하여 소성시킴으로써 대전방지 및 방현성 피막을 완성시키고, 도전성테이프 등에 의해 이 피막을 CRT의 방폭밴드 및/또는 외부 흑연막 등에 접지(接地)시킨다.

[실시예 2]

질산리듐(LiNO₃)을 알콜에 용해시킨 용액에 소량의 물과 염기를 가하여 리듐함수산화물이 포함된 혼탁용액을 형성한 뒤, 이에 염화주석수화물(SnCl₄·nH₂O)의 알콜용액과 물을 가하여 리듐함수산화물에 주석이 균일하게 도프된 도전성물질이 포함된 혼탁용액을 형성하고, 이에 충분한 양의 물과 산을 가한 뒤 교반하여 투명한 도전성 용액을 형성한다.

다음 실시예1과 같이 형성된 실리케이트 용액과 혼합하여 피복조성물 용액을 형성한 뒤 이를 CRT의 전면 패널에 도포하여 건조시키고 180℃로 소성하여 접지시킨다.

[실시예 3]

염화 주석 수화물(SnCl₄·nH₂O)의 알콜용액에 염기를 가하여 주석함수산화물 용액을 형성한 뒤 염화안티몬(SbCl₃)의 알콜용액과 물을 가하고 교질화시켜 안티몬이 도프된 주석함수산화물의 도전성물질이 포함된 투명 도전성 용액을 형성한다.

다음 프로판올과 부탄올의 혼합용매에 용해시킨 에틸실리케이트의 실리케이트 용액과 혼합하고 실시예 1과 같이 대전방지 및 방현성 피막을 형성하여 접지하는데, 이때 소성온도는 250℃이다.

[실시예 4]

질산 인듐 수화물(In(NO₃)₃·nH₂O)의 알콜용액에 염기를 가하여 인듐 함수산화물 용액으로 한 뒤 염화주석수화물(SnCl₄·nH₂O)의 알콜용액과 물을 가하고 교질화시켜 인듐함수산화물에 주석이 도프된 도전성 물질을 포함하는 투명한 도전성 용액을 형성한다.

다음 메탄올, 에탄올, 메틸 이소 부틸 케톤의 혼합 유기용매에 에틸 실리케이트를 용해시킨 실리케이트 용액과 혼합하고 실시예1과 같이 대전방지 및 방현성 피막을 형성하여 접지하는데, 이때 소성온도는 200℃이다.

[비교예 1]

(일본 특허공개공보 소61-118932호에 개시된 실라놀기의 도전성 이용한 대전방지성 피막)

에틸실리케이트(Si(OC₂H₅)₄)를 에탄올(C₂H₅OH)에 용해시킨 실리케이트 용액을 CRT 전면패널에 도포후 200℃로 30분간 소성하여 피막을 형성한 뒤 접지한다.

[비교예 2]

(일본 특허공개공보 소61-16452호에 개시된 무기금속화합물 포함한 대전방지성 피막)

리듐실리케이트 용액 45ml와 염화 팔라듐(PdCl₂)용액 (4g/100ml)1.75와 증류수 455ml를 혼합한 실리케이트 용액을 CRT 전면패널에 도포후 120℃로 10분간 소성하여 피막을 형성한 뒤 접지한다.

이상과 같이 형성된 본 발명 실시예들과 비교예의 시험결과는 다음과 같다.

제1도에 도시된 것은 본 발명 실시예들의 광투과율을 나타낸 그래프이다.(PHOTAL사의 MCPD100기기 사용하여 측정함)

실시예 1내지 실시예 4는 가시광선 파장대인 380~720nm파장대에 있어서, 400nm 이상의 광에 대해서는 80% 이상의 높은 광투과율을 나타내어 화상표시 스크린의 해상도를 저하시키지 않는 투명피막을 형성함을 확인할 수 있었다.

본 발명 대전방지성 피복조성물의 도전성, 즉 대전방지성의 안정성여부는 수조(水槽) 침지(浸漬) 시험과 저습도 시험으로 확인하였다.

즉 본 발명의 실시예1과 비교예 2를 각각 순수(純水)의 수조내에 24시간 침지시킨 뒤 표면저항을 측정한 결과를 표1에 보였다.

(측정에는 일본 Shishido Electrostatic사의 megaresta 사용 하였으며 인가전압은 500V임)

화상표시 스크린의 투명기재로 사용되는 광학유리의 표면저항은 상온에서 10 ~10 Ω 정도이므로 대전방지피막으로 사용될수 있는 피막의 표면 저항은 대체로 최대 10 Ω 전후 정도인바 무기금속화합물 입자를 포함한 비교예 2에 있어서는 침지후 표면저항이 현저히 증대하여 도전성, 즉 대전방지성을 상실한 반면, 본 발명의 실시예1에 있어서는 표면저항에 큰 변화가 없으므로 실시예1은 내수성이 강하여 안정된 도전성을 제공함을 알수 있었다.

한편 본 발명의 실시예1과 비교예 1,2를 각각 저습도시험을 행하여 그 결과를 표2와 제2도에 보였다.(여기서 시험기기는 전술한 meraresta 기기와 STATIRON이다)

표2에는 상대습도 RH=15~20%의 저습도 조건에서 24시간 방치한 뒤 500V를 인가한 경우 계측된 표면저항을 비교하였다.

여기서 알 수 있는 바와 같이 실라놀기를 이용한 비교예1이나 무기금속화합물을 함유하는 비교예2는 저습도조건, 즉 건조시기나 건조지역에서는 그 대전방지성을 상실하는 반면, 본 발명에 따른 피막은 수조침지시험에서와 같이 저습도 조건에 있어서도 도전성, 즉 대전방지성이 크게 열화되지 않음이 확인되었다.

한편 제2도에 도시된 것은 전술한 저습도조건(RH15~20%)에서 24시간 방치후의 피막에 인가전압을 가한 후 대전방지 피막상의 유도전압의 경과시간에 대한 시간적 변화, 즉 유도전압의 감쇠시간을 도시한 것이다.(전술한 STATIRON사용하여 측정 도시함)

본 발명의 실시예들에 있어서는 전압 인가시의 유도전압이 40KV 정도로 매우낮고, 약 2.2초내에 0KV로 수렴하게 되어 그 대전방지 효과가 매우 우수함을 알수 있다.

이에 비해 비교예 1, 비교예 2는 모두 50KV의 초기 유도전압으로부터 매우 완만히 감쇠되어 약 35초가 경과하면 44KV정도의 유도전압을 나타내며 그 이후는 매우 서서히 감소하게 된다. 비교예1, 비교예2 모두 저습도조건에서 그 도전성을 상실하므로 이러한 시험결과는 CRT의 기재인 유리자체의 유도저항 감쇠특성을 나타내는 것이라 판단된다.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 대전방지성 피복조성물은 그 도전성이 외기 습도의 고저에 따라 거의 변화하지 않으므로 안정된 대전방지 특성을 나타내며, 그 피막의 기본구조가 매우 견고한 결합으로 이뤄져 있으므로 내산성·내알카리성 등의 내약품성과 내수성도 우수한 대전방지 및 방현성 피막을 얻을수 있게 된다.

또한 그 제조방법도 분쇄나 분산 등의 복잡한 공정이나 첨가제를 요하지 않으므로 매우 간단하고 염가이며, 장기간 방치하면 오히려 도전성 물질등의 수화반응 및 중축합 반응이 진행되어 바람직한 결과를 초래하므로 폿 라이프(pot life)가 매우 길어 장기간 보관 사용이 가능한 장점이 있다.

Claims (10)

1. 실리케이트 물질과 도전성 물질을 포함하는 대전방지성 피복조성물에 있어서, 상기 대전방지성 피복조성물은, 실리케이트 물질을 부분 가수분해시킨 실리케이트 용액: 및 Zr 화합물, Li 화합물, Sn 화합물, 및 In 화합물로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나의 가용성 무기화합물의 함수산화물에 Sn 화합물 및 Sb화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 화합믈을 도프시켜 얻은 도전성 물질을 상기 피복조성물의 총중량을 기준으로 0.03~7중량% 함유하는 도전성 용액을 혼합하고, 상기 혼합용액을 가수분해시키고 중축합시켜 얻은 것임을 특징으로 하는 대전방지성 피복조성물.
2. 제1항에 있어서, 상기 가수분해성 실리케이트는, 알킬 실리케이트 및 알킬 실리케이트의 축합체로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지성 피복조성물.
3. 제1항에 있어서, 상기 실리케이트 용액과 도전성용액의 용매는, 알콜류, 케톤류, 및 아세테이트류로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지성 피복조성물.
4. 제1항에 있어서, 상기 가수분해성 실리케이트가 상기 피복조성물의 총중량을 기준으로 1~20중량% 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 대전방지성 피복조성물.
5. 실리케이트 물질을 부분 가수분해시킨 실리케이트 용액과, Zr 화합물, Li 화합물, Sn 화합물, 및 In 화합물로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나의 가용성 무기화합물의 함수산화물에 Sn 화합물 및 Sb화합물로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나의 화합물을 도프시켜 얻은 도전성 물질을 상기 피복조성물의 총중량을 기준으로 0.03~7중량% 함유하는 도전성 용액을 혼합하고, 상기 혼합용액을 가수분해시키고 중축합시켜 얻은 대전방지성 피복조성물 용액을 화상표시 스크린의 투명기재면에 도포하여 피막을 형성한 다음, 상기 피막을 80℃ 내지 500℃의 온도로 소성하여 된 대전방지 및 방현성 피막을 구비한 것을 특징으로 하는 대전방지성 및 방현성 화상표시 스크린.
6. 제5항에 있어서, 상기 투명기재가 유리인 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린.
7. 제5항에 있어서, 상기 투명기재가 합성수지이며 상기 소성 온도가 80℃ 내지 150℃인 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린.
8. 제5항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 피막의 소성시간이 5분 내지 60분인 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린.
9. 제5항에 있어서, 상기 대전방지 및 방현성 피막을 접지하는 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린.
10. 제5항에 있어서, 상기 대전방지성 피복조성물 용액의 도포방법이 스핀코팅, 침지, 및 분무코팅으로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 대전방지 및 방현성 화상표시 스크린.

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