JPWO2023033065A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2023033065A5
JPWO2023033065A5 JP2023545653A JP2023545653A JPWO2023033065A5 JP WO2023033065 A5 JPWO2023033065 A5 JP WO2023033065A5 JP 2023545653 A JP2023545653 A JP 2023545653A JP 2023545653 A JP2023545653 A JP 2023545653A JP WO2023033065 A5 JPWO2023033065 A5 JP WO2023033065A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
compound
layer
transfer film
film according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023545653A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2023033065A1 (https=
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/032836 external-priority patent/WO2023033065A1/ja
Publication of JPWO2023033065A1 publication Critical patent/JPWO2023033065A1/ja
Publication of JPWO2023033065A5 publication Critical patent/JPWO2023033065A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2023545653A 2021-08-31 2022-08-31 Pending JPWO2023033065A1 (https=)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021141512 2021-08-31
PCT/JP2022/032836 WO2023033065A1 (ja) 2021-08-31 2022-08-31 転写フィルム、転写フィルムの製造方法、パターン形成方法、回路配線の製造方法、タッチパネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2023033065A1 JPWO2023033065A1 (https=) 2023-03-09
JPWO2023033065A5 true JPWO2023033065A5 (https=) 2024-05-23

Family

ID=85412313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023545653A Pending JPWO2023033065A1 (https=) 2021-08-31 2022-08-31

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPWO2023033065A1 (https=)
CN (1) CN117940848A (https=)
WO (1) WO2023033065A1 (https=)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015146038A (ja) * 2011-12-05 2015-08-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント、タッチパネルの製造方法及び樹脂硬化膜
JP2018100988A (ja) * 2015-04-24 2018-06-28 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法
JP6207654B2 (ja) * 2016-04-07 2017-10-04 旭化成株式会社 感光性樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6022469B2 (ja) 基板のダブルパターニング方法
JP2023159163A5 (https=)
JPS6331555B2 (https=)
JPS6059583B2 (ja) マイクログラビア用感光性フイルム及びその製法
JPS60214532A (ja) パタ−ン形成方法
JPWO2023033065A5 (https=)
CN1254944A (zh) 抗蚀剂图案,形成抗蚀剂图案的工艺以及形成布线图案的工艺
JPS60230650A (ja) 微細パタ−ンの製作法
KR20100102422A (ko) 스페이서 패터닝 공정을 이용한 콘택홀 형성 방법
JP2516968B2 (ja) 二層構造電子線レジスト用平坦化材料
JPH1154460A (ja) 電導性構造を製造する方法
JPWO2022181431A5 (https=)
JP3509761B2 (ja) レジストパターン形成方法及び微細パターン形成方法
JPS60260946A (ja) パタ−ン形成用材料及びパタ−ン形成方法
TW200535991A (en) Composite layer method for minimizing ped effect
GB2230871A (en) Making metal patterns.
JPH02156244A (ja) パターン形成方法
JP3259417B2 (ja) 金属薄層パターンの製造方法及びパターン形成用フィルム並びにフィルムコンデンサー
JPWO2023032656A5 (https=)
JPS6256947A (ja) 二層構造レジスト用平坦化層組成物
KR100472733B1 (ko) 반도체장치의포토레지스트패턴형성방법
JP2692059B2 (ja) 電子線レジストパターンの形成方法
US5578186A (en) Method for forming an acrylic resist on a substrate and a fabrication process of an electronic apparatus
JP4425720B2 (ja) パターン形成方法
JPWO2023182092A5 (https=)