JPWO2022138360A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024009809A1 (ja) * 2022-07-05 2024-01-11 Agc株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
JP7392236B1 (ja) * 2022-07-05 2023-12-06 Agc株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
WO2024009819A1 (ja) * 2022-07-05 2024-01-11 Agc株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
WO2024027999A1 (en) * 2022-07-30 2024-02-08 Asml Netherlands B.V. Reflective member for euv lithography
JP2025157630A (ja) * 2022-09-09 2025-10-16 Agc株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法
WO2024162084A1 (ja) * 2023-01-31 2024-08-08 Agc株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
US20250216764A1 (en) * 2023-12-27 2025-07-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Euv lithography mask blanks, euv masks and methods
TW202548405A (zh) * 2024-06-03 2025-12-16 日商Agc股份有限公司 反射型光罩基底、反射型光罩及反射型光罩之製造方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02123730A (ja) * 1988-11-02 1990-05-11 Hitachi Ltd 放射線露光用マスクおよびその製造方法
JPH04711A (ja) * 1990-04-18 1992-01-06 Toshiba Corp X線露光マスク及びこれを用いたx線露光装置
JP3078163B2 (ja) 1993-10-15 2000-08-21 キヤノン株式会社 リソグラフィ用反射型マスクおよび縮小投影露光装置
JP3226250B2 (ja) * 1995-04-26 2001-11-05 ホーヤ株式会社 転写マスク
KR20040030501A (ko) * 2001-02-05 2004-04-09 콴티스크립트 인코포레이티드 X-ray/euv 투사 리소그래피에 의한 금속/반도체화합물 구조의 형성
JP4212025B2 (ja) 2002-07-04 2009-01-21 Hoya株式会社 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに反射型マスクの製造方法
JP4926523B2 (ja) 2006-03-31 2012-05-09 Hoya株式会社 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法
JP4602430B2 (ja) 2008-03-03 2010-12-22 株式会社東芝 反射型マスク及びその作製方法
KR101727783B1 (ko) 2010-06-15 2017-04-17 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 Euv 리소그래피를 위한 마스크, euv 리소그래피 시스템 그리고 마스크의 결상을 최적화하는 방법
WO2012121159A1 (ja) * 2011-03-07 2012-09-13 旭硝子株式会社 多層基板、多層基板の製造方法、多層基板の品質管理方法
KR101490603B1 (ko) * 2013-07-15 2015-02-09 한양대학교 산학협력단 극자외선 노광 공정용 마스크
TWI623805B (zh) * 2015-08-17 2018-05-11 S&S Tech Co., Ltd. 用於極紫外線微影之空白遮罩及使用其之光罩
TWI821984B (zh) 2016-07-27 2023-11-11 美商應用材料股份有限公司 具有合金吸收劑的極紫外線遮罩坯料及製造極紫外線遮罩坯料的方法
JP2018044979A (ja) * 2016-09-12 2018-03-22 大日本印刷株式会社 反射型マスクおよびその製造方法
WO2018074512A1 (ja) * 2016-10-21 2018-04-26 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
US11137675B2 (en) * 2018-08-14 2021-10-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Mask and method for forming the same
KR20210143748A (ko) * 2019-03-29 2021-11-29 호야 가부시키가이샤 마스크 블랭크용 기판, 다층 반사막 부착 기판, 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 투과형 마스크 블랭크, 투과형 마스크, 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20220006543A (ko) * 2019-05-21 2022-01-17 에이지씨 가부시키가이샤 Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크
US11592737B2 (en) * 2020-05-29 2023-02-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. EUV photo masks and manufacturing method thereof
US11852965B2 (en) * 2020-10-30 2023-12-26 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Extreme ultraviolet mask with tantalum base alloy absorber

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