JPWO2022030498A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2022030498A5 JPWO2022030498A5 JP2022541568A JP2022541568A JPWO2022030498A5 JP WO2022030498 A5 JPWO2022030498 A5 JP WO2022030498A5 JP 2022541568 A JP2022541568 A JP 2022541568A JP 2022541568 A JP2022541568 A JP 2022541568A JP WO2022030498 A5 JPWO2022030498 A5 JP WO2022030498A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- support frame
- exposure
- film
- original plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims 3
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023107557A JP2023120441A (ja) | 2020-08-05 | 2023-06-29 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020133262 | 2020-08-05 | ||
| JP2020133262 | 2020-08-05 | ||
| PCT/JP2021/028798 WO2022030498A1 (ja) | 2020-08-05 | 2021-08-03 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023107557A Division JP2023120441A (ja) | 2020-08-05 | 2023-06-29 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2022030498A1 JPWO2022030498A1 (https=) | 2022-02-10 |
| JPWO2022030498A5 true JPWO2022030498A5 (https=) | 2023-04-25 |
| JP7307281B2 JP7307281B2 (ja) | 2023-07-11 |
Family
ID=80118068
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022541568A Active JP7307281B2 (ja) | 2020-08-05 | 2021-08-03 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
| JP2023107557A Pending JP2023120441A (ja) | 2020-08-05 | 2023-06-29 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023107557A Pending JP2023120441A (ja) | 2020-08-05 | 2023-06-29 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US12078923B2 (https=) |
| EP (1) | EP4155430A4 (https=) |
| JP (2) | JP7307281B2 (https=) |
| KR (2) | KR102689722B1 (https=) |
| CN (1) | CN115735160A (https=) |
| TW (2) | TWI889355B (https=) |
| WO (1) | WO2022030498A1 (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023151129A (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-16 | 三井化学株式会社 | Ｅｕｖリソグラフィ用ペリクル |
| DE102023105501A1 (de) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Pellikel für euv-lithografiemasken und verfahren zu deren herstellung |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02168613A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-06-28 | Canon Inc | Ｘ線透過膜保持枠、ｘ線マスクブランクス、ｘ線マスク構造体及びそれらの製造方法 |
| JP3361429B2 (ja) * | 1996-02-29 | 2003-01-07 | スカイアルミニウム株式会社 | 耐光性に優れた低反射回路転写装置用防塵枠部材およびその製造方法 |
| JPH11167196A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-06-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | リソグラフィー用ペリクル |
| JP3388162B2 (ja) | 1997-12-03 | 2003-03-17 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用ペリクルの製造方法 |
| EP1787955A4 (en) | 2004-07-27 | 2010-06-23 | Nat Inst Of Advanced Ind Scien | A SINGLE-LAYER CARBONNANE TUBE AND ARRANGED CARBONNANORA TUBE COLLAR STRUCTURE, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, MANUFACTURING DEVICE THEREFOR AND USE THEREOF |
| JP2006184704A (ja) | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 液晶用大型ペリクル |
| JP2007005661A (ja) | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Ses Co Ltd | ベベル研磨方法及びベベル研磨装置 |
| JP5657407B2 (ja) | 2011-01-31 | 2015-01-21 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル枠体、ペリクル及びペリクル枠体の製造方法 |
| JP5517360B2 (ja) * | 2011-07-05 | 2014-06-11 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル及びその製造方法 |
| JP5742661B2 (ja) * | 2011-10-25 | 2015-07-01 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP6008784B2 (ja) | 2013-04-15 | 2016-10-19 | 信越化学工業株式会社 | ペリクルフレーム及びその製作方法とペリクル |
| EP3007206A4 (en) * | 2013-05-24 | 2017-03-15 | Mitsui Chemicals, Inc. | Pellicle and euv exposure device comprising same |
| JP2015178250A (ja) | 2014-03-19 | 2015-10-08 | 日立化成株式会社 | シート状乾燥材と支持体付き接着フィルムとを重ねた積層体、及び支持体付き接着フィルムの保存方法 |
| JP6460778B2 (ja) * | 2014-12-25 | 2019-01-30 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| KR101920172B1 (ko) * | 2015-02-24 | 2018-11-19 | 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 | 펠리클막, 펠리클 프레임체, 펠리클 및 그 제조 방법 |
| JP6509704B2 (ja) * | 2015-10-14 | 2019-05-08 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法 |
| FI3477387T3 (fi) * | 2016-06-28 | 2026-01-23 | Mitsui Chemicals Inc | Pellikkelikalvo, pellikkelikehysrunko, pellikkeli ja menetelmä pellikkelin valmistamiseksi |
| KR102809564B1 (ko) | 2016-07-05 | 2025-05-20 | 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 | 펠리클막, 펠리클 프레임체, 펠리클, 그 제조 방법, 노광 원판, 노광 장치, 반도체 장치의 제조 방법 |
| KR101813186B1 (ko) * | 2016-11-30 | 2017-12-28 | 삼성전자주식회사 | 포토마스크용 펠리클과 이를 포함하는 레티클 및 리소그래피용 노광 장치 |
| TWI614217B (zh) * | 2016-12-13 | 2018-02-11 | 行政院原子能委員會核能研究所 | 用於分離、純化二氧化碳之鎂鐵複合氧化物及其製造方法 |
| SG11201907482YA (en) * | 2017-02-17 | 2019-09-27 | Mitsui Chemicals Inc | Pellicle, exposure original plate, exposure device, and semiconductor device manufacturing method |
| JP2018180252A (ja) * | 2017-04-12 | 2018-11-15 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠及びその製造方法 |
| EP3404486B1 (en) * | 2017-05-15 | 2021-07-14 | IMEC vzw | A method for forming a pellicle |
| JP6787851B2 (ja) * | 2017-08-08 | 2020-11-18 | エア・ウォーター株式会社 | ペリクルおよびペリクルの製造方法 |
| JP2021076620A (ja) * | 2018-03-14 | 2021-05-20 | 株式会社カネカ | 炭素質膜を含むペリクル及び炭素質膜を含むペリクルの製造方法 |
| JP7019472B2 (ja) | 2018-03-22 | 2022-02-15 | 三井化学株式会社 | カーボンナノチューブ自立膜の製造方法、およびペリクルの製造方法 |
| JP7061494B2 (ja) * | 2018-03-28 | 2022-04-28 | 三井化学株式会社 | 検査方法、ペリクルの製造方法、および検査装置 |
| JP2020133262A (ja) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 年晶 伴 | 木造建築物 |
-
2021
- 2021-08-03 US US18/002,692 patent/US12078923B2/en active Active
- 2021-08-03 WO PCT/JP2021/028798 patent/WO2022030498A1/ja not_active Ceased
- 2021-08-03 KR KR1020227044419A patent/KR102689722B1/ko active Active
- 2021-08-03 KR KR1020247025075A patent/KR20240121338A/ko active Pending
- 2021-08-03 CN CN202180046004.1A patent/CN115735160A/zh active Pending
- 2021-08-03 JP JP2022541568A patent/JP7307281B2/ja active Active
- 2021-08-03 EP EP21854474.0A patent/EP4155430A4/en active Pending
- 2021-08-04 TW TW113119754A patent/TWI889355B/zh active
- 2021-08-04 TW TW110128704A patent/TWI845855B/zh active
-
2023
- 2023-06-29 JP JP2023107557A patent/JP2023120441A/ja active Pending
-
2024
- 2024-07-23 US US18/780,630 patent/US20240385510A1/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6181704B2 (ja) | 感光性樹脂積層体及びその熱加工 | |
| KR101762957B1 (ko) | 펠리클 및 그 부착 방법, 그리고 펠리클 부착 마스크 및 마스크 | |
| JP5368642B2 (ja) | フレキソ刷版の印刷性能を改善する方法 | |
| JP6028057B2 (ja) | 感光性樹脂積層体及びその熱加工 | |
| JP5975885B2 (ja) | フレキソ刷版の印刷性能を改善する方法 | |
| JPWO2022030498A5 (https=) | ||
| US5776661A (en) | Process for imaging of liquid photopolymer printing plates | |
| TWI554842B (zh) | 曝露裝置 | |
| JP2023120441A5 (https=) | ||
| JP6356798B2 (ja) | パターン化されたスタンプの製造方法、パターン化されたスタンプのインプリント方法及びインプリントされた物 | |
| TW201211675A (en) | A photomask unit comprising a photomask and a pellicle attached to the photomask and a method for fabricating a photomask unit | |
| CN111919171A (zh) | 防护件用支撑框、防护件及其制造方法以及使用这些的露光底版、半导体装置制造方法 | |
| JP2013214627A (ja) | ナノインプリント用マスターテンプレート及びレプリカテンプレートの製造方法 | |
| CN1369066A (zh) | 增强凸印版上的图像的方法 | |
| JP2013035243A (ja) | ローラーモールド、ローラーモールド用基材及びパターン転写方法 | |
| JP2016131257A (ja) | ナノインプリント用マスターテンプレート及びレプリカテンプレートの製造方法 | |
| JP2007178783A (ja) | パターン形成体の製造方法、および、パターン形成体製造装置 | |
| JP2005056981A (ja) | 露光マスク | |
| CN107219648B (zh) | 一种曝光机机台、曝光系统及其曝光方法 | |
| JP2006269936A (ja) | 回路パターン転写装置及び方法 | |
| JP3977093B2 (ja) | マスク多重露光による近接場光露光方法 | |
| JP4858030B2 (ja) | インプリント用モールド、インプリント用モールド製造方法およびパターン形成方法 | |
| CN111724816A (zh) | 在衬底上形成图案的方法 | |
| JPH09211842A (ja) | 光学的手段を用いた電子回路形成における光反射防止方法及びその装置とその製品 | |
| WO2019114361A1 (zh) | 二次成像光学光刻方法和设备 |