CN1369066A - 增强凸印版上的图像的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于产生高保真和高分辨率的浮雕影像的方法。方法包括定位临近并平行与光固化材料层的载像底片透明片;定位来自光固化材料并与其实际上保持平行关系的底面的另一面;提供一个具有第一和第二相对主表面的准直器,准直器至少包括一个从第一准直面向第二准直面延伸的单元,该单元由至少一个实际上吸收入射到该表面上的光化辐射的表面确定;定位与邻近光固化材料层的光学照相底片相对的准直器;和在一段足以在光固化材料中形成浮雕潜像的时间内使光化辐射穿过准直器。
Description
技术领域
本发明涉及一种利用光固化材料制备凸印版的方法。并尤其涉及用于提高图像保真度以及形成在此凸印版上的浮雕影像的字符几何图形的装置的使用。
背景技术
浮雕影像印刷板被广泛地用于在各种衬底上印刷,衬底包括纸张、波纹生胶片、薄膜、箔片和层压制品。典型的凸印版包括一个支撑层和一层或多层固化的光聚物。
在由光固化材料制造凸印版的过程中,液体或固体材料层经过聚合、交联或其他一些暴露于光化辐射-通常是紫外光时的固化反应。典型地情况是光化辐射首先穿过照相底片再穿过光固化材料,从而以对应于底片负载的图像的图案选择性地固化或硬化材料。典型地底片是一种负载图像的透明软片,由实际上不透明的和实际上透明的区域组成。光固化发生在曝光区,即那些位置对应于底片上基本透明区域的光固化层的区域,没有或很少的光固化发生在未曝光区。光固化层也可以从底片的反面曝光。一般地,不在图像方面进行此种“背面曝光”,而将此方法用于形成一个用于正面曝光形成的被提升的印刷形迹的硬化基底。然后通过用气刀、显影剂或其他形成浮雕影像的方法去除未曝光的、未被硬化的部分而对曝光层显影。
在由半色调底片产生浮雕影像的过程中,通常需要产生较小直径的提升的印刷形迹,提升的印刷形迹以外是浮雕的凹陷区。这些区域印刷图像的较亮或“高亮”区,并且这些区域中的提升的形迹被因此称作“高亮点”。高亮点的大小和密度控制明亮的图像区的遮蔽或色调。半色调浮雕影像一般还包括较浅、小直径的凹坑,凹坑以外是浮雕的整个提升区。这些区印刷较暗的图像或“阴影”区,凹坑一般称作“阴影反转”。阴影反转的大小和密度控制较暗图像区的色调。
通过曝光技术在浮雕影像中产生令人满意的高亮点和阴影反转会出现独特的问题。由于用于产生高亮点的半色调底片中点的小尺寸,一般希望提供较大的图像曝光量,以便确保点的形成和适宜的固化深度。一般需要这种固化来把点固定到图像基底上。阴影反转典型地形成在主要透明区中底片的较小不透明区之下。大的曝光量会导致负光电不透明区以下的至少一部分光固化材料被曝光。这样把倾斜面平移成阴影反转。结果是畸变的印刷图像。
大的图像曝光量还会导致半色调底片的点区以上的区域曝光过度。这导致增大的点图像区,即大于对应的底片透明区的浮雕点。另外,曝光过度导致点的较亮、较宽的凸肩轮廓。这样会印刷出有污迹的并大于所需的点,尤其是在印刷期间有任何过深的凹坑的地方。
虽然可以用较低的曝光量减少对阴影反转的不利影响,如上所述,并且可以改善点的凸肩轮廓,较低的曝光量通常导致不能令人满意地形成和固定高亮点。另外,还观察到当采用低强度照射时,高亮点一般具有在曝光步骤期间移动或变形的较大趋势。这种点移动或变形被认为是至少由于固化时发生的光固化材料的起皱。非常不希望点移动,点移动导致点的位置移位以及点之后条纹和尾状物的形成。这些条纹和尾状物成为浮雕影像的一部分并反过来影响印刷到凸印版上的图像质量。
对于光固化系统,没有令人满意地提供高亮点和阴影反转的曝光量,并且操作着被迫在曝光量和图像质量方面做不情愿地折衷。对于其它系统,可以有一个提供一般能接受的高亮点和阴影反转的曝光量,但是这样通常出现在非常窄剂量的“窗口”,因而对曝光量有非常高的临界性。窄窗口也意味着在曝光步骤中有出错的高风险,尤其在不同光化辐射的强度或在从一点到另一点的光固化材料的光响应的地方更是如此。
虽然前述的焦点问题是制备半色调图像中遇到的图像保真度和分辨率的问题,但可以理解,类似地问题在形成其它类型的高分辨率浮雕影像如线条图像中也会出现。因为通过曝光形成的浮雕影像包括一种不仅具有长度和宽度而且具有实际的和显著深度尺寸的图像,所以对光敏系统和曝光方法有独特的要求,这种要求在用于形成二维图像的方法和系统如常规的光学照相或光学复印系统中没有提出。
在此之前已经尝试着增强形成在凸印版上的图像。威西尔斯等人于1992年9月15日发表的美国专利第5,147,761号(威西尔斯专利)公开了一种制备凸印版的方法,该专利在此引为参考。该专利中的方法包括定位一个调节挡板或一个准直器,该挡板或准直器具有多个在载像照相底片上有一个反射表面的敞开单元,该单元依次定位在光固化材料上。调节挡板的作用是把入射的辐射能量束反射并再导向一条更平行的路径,从而到达载像照相底片和光固化材料。但是如图1所示,调节挡板的反射表面仍然以与载像照相底片成钝角地导引辐射的能量A。结果是浮雕影像相应于光学照相底片上的图像由其真实尺寸发生畸变。
因此需要改进现有技术中通过光学曝光形成浮雕影像的方法。
发明内容
在一个实施例中,本发明提供了一种产生具有高保真和高分辨率的浮雕影像的方法,包括提供一个具有第一和第二相对主表面的准直器,准直器至少包括一个从第一准直面向第二准直面延伸的单元,该单元由至少一个实际上吸收入射到表面上的光化辐射的表面确定。本发明的方法包括定位与邻近光固化材料层的光学照相底片相对的准直器,并且在一段足以在光固化材料中形成浮雕潜像的时间内使光化辐射穿过准直器。
本发明的另一方法包括提供一个准直器,准直器具有第一和第二相对的主表面,准直器至少包括一个从第一准直面向第二准直面延伸的单元,单元由至少一个表面确定,此表面包括反射光化辐射的第一部分和实际上吸收入射到所述表面的光化辐射的第二部分。本发明的方法包括定位与邻近光固化材料层的光学照相底片相对的准直器,并且使光化辐射穿过准直器。
附图说明
本领域的技术人员通过参考不按比例的附图将对本发明的各项目的和优点有更好地理解。其中:
图1是在凸印版上制备浮雕影像的现有装置;
图2是根据本发明一个实施例的准直器的截面和透视图;
图3是沿图2中a-a线的准直器局部截面图;
图4是根据本发明另一个实施例的准直器的截面图;
图5是根据本发明另一个实施例的准直器的顶视图;
图6是根据本发明另一个实施例的准直器的截面和透视图;
图7是根据本发明的装置中的组件的截面示意图;
图8是根据本发明另一装置的截面示意图;
图9是用在适用于液体光固化材料的曝光的本发明中的装置截面图;
图10是图9中所示端部的放大截面图;和
图11是图9中所示装置的部分的图像曝光板平面图。
具体实施方式
本发明的准直器至少包含一个单元,最好是多个单元。这些单元由吸收光化辐射源发出的与底片平面呈锐角的辐射的壁确定。光化辐射源例如可以是单个紫外线灯,如OLEC OVAC OV45HD(商业上可以从奥立克有限公司,欧文,佐治亚(Olec Corporation,Irvine,Georgia)得到),或者例如可以是多个紫外线灯,如FLEXLIGHT3647曝光单元(商业上可以从聚酯纤维技术有限公司,亚特兰大,佐治亚(Polyfibron Technologies,Atlanta,Georgia)得到)。单元壁最好吸收这些辐射,使得剩余的辐射束在实际上平行于底片平面的方向上穿过准直器单元。从辐射源以更适中的倾角即辐射不接触单元壁地辐射不被经过准直器的通道改变。
最好准直器单元由至少一个表面确定。准直器单元由多个表面确定更好,这使得该单元为多边形。优选确定单元的面数约为3~8,4~6更好,4最好。
单元的表面可以是平的也可以是弯曲的。最好单元的表面是平的。但是如果单元的表面是弯曲的,则最好表面是一个曲率半径约为9~13英寸的凹面。
单元壁的表面必须实际上是非反射性的。非反射性特征可以以多种方式赋予单元壁。单元壁的颜色可以是一种辐射吸收的颜色(或涂覆颜色),例如黑色。或者,单元壁可以被做成某种结构,或用固有地吸收辐射的材料涂覆和形成结构。
优选实际上无反射的表面具有大约至少50%的最小反射率,10%更好,0%最好。反射率由BKY-Gardner Micro-Gloss 60°GB-4510反射测量装置确定。
参见图2,图中表示一种优选准直器10的截面和透视图,该准直器10具有多个单元12,该单元12由四个在第一和第二相对的主表面16、18之间延伸的平坦表面确定。平坦表面14实际上垂直于第一和第二相对的主表面16、18,并且实际上是非反射性的,以至于吸收辐射。
图3表示工作中的准直器10的辐射-吸收特性。由矢量A、B和C表示的辐射以相对于面16确定的平面表面各种角度地进入准直器10。由矢量A表示的辐射以相对于面16确定的平面表面的倾角接触单元12的非反射面并被表面14吸收。由矢量B表示的辐射实际上垂直于由面16确定的平面表面,不被表面14吸收地穿过单元12。同样,由矢量C表示的辐射以一定的角度穿过单元12,将角度的倾斜不足以使辐射照射到表面14。
图4是另一个可以用于本发明方法中的准直器的截面图。准直器10也由多个延伸穿过面16、18的平面表面14确定。平面表面14实际上是无反射的楔形。另一个准直器示于图5,其中界面中的单元隔壁可以有图2、3和4中所示的轮廓,但单元的开口是六边形。
准直器单元的尺寸可以从一边为5/8英寸变到一边大约为4英寸。单元开口最好为正方形,边长大小为1/4~2英寸。准直器一般具有的深度约为5/8~3英寸,最好约为1/4~2英寸。准直器的深度随着单元尺寸的增大而增加。
图6是另一个可以用于本发明方法中的准直器的截面图。准直器10也有多个延伸穿过面16、18的平坦表面14确定的单元12。平坦表面14实际上垂直于面16、18。在此实施例中,单元12的平坦表面14具有反射性的第一部分20,例如是一个反射镜,还有一个实际上为非反射性的第二部分22,如上所述。最好第一部分20和第二部分22每个大概覆盖表面14的百分之五十。第一部分20最好在与辐射源和第二部分22之间,使得第二部分22最接近光固化材料。
操作中,进入单元12并照射到第一部分20的辐射在其从单元的一侧穿到另一侧时,通过第一部分20的反射性质加强。但是,相对于图2和图4中的实施例,至少一部分被强化的辐射将被第二吸收部分22吸收,辐射的总强度将增大,由此减少形成浮雕潜像所需的时间。
在本发明的优选方法中,至少在光学照相底片和光化辐射源之间放置两个准直器。最好每隔准直器的单元输出口具有不同的面积。如果单元的表面是楔形或弯曲的形状,则尤其优选具有最大单元输出口的准直器放置成最接近辐射源,每个后续的准直器具有依次较小的单元输出口。尤其有选采用两个串联的准直器,每个准直器具有正方形的单元开口和平坦的单元表面。接近辐射源的准直器具有较大的单元开口,最好是一边为1~4英寸,而另一个准直器最好是一边为1/4~1英寸。
图7表示本发明曝光装置的优选组件的截面图。该装置30包含一个曝光灯光系统32,该系统由一个延长的灯泡阵列组成。一般地,灯是平行排列的管状的紫外光发射灯。邻近灯的位置是一个准直器34。为了用图表示,准直器34表示成具有平坦的楔形表面。较小的单元开口面对灯32。准直器34与灯32隔开,相隔的距离最好是准直器的底面和灯32的中心轴之间的距离,约为3~5英寸。位于准直器34之上的是一个玻璃支撑板36,在其上表面上有一个光学照相底片38和一个光固化材料层40。
如图7-9所示,用在本发明中的准直器(或多个准直器)与照相底片平行定位,而照相底片38与光固化层40相邻。准直器34与底片相隔的距离足以避免通过底片投下阴影或是将阴影投到将在浮雕影像中形成相应格栅的光固化层40上。但是,希望把准直器34放置得离照相底片38尽可能地近,以便将辐射源和光固化层之间的距离减到最小。已经发现,准直器34可以位于较接近光固化层40的位置处,在那儿将可分辨的阴影图案投射到光固化层40上,不在浮雕影像上显现图案。可以凭经验地、依据使用的准直器或准直器组合以及较小程度地依据光固化材料和曝光量来精确确定最小距离。以下还要描述的优选准直器系统可以令人满意地放置在与光固化层的表面相距近达1-1/4英寸的位置处,不在浮雕影像中产生阴影图像。
“光固化材料”是指任何响应于光化辐射、通常是紫外线辐射发生聚合反应、交联或任何其他固化或硬化反应的任何固体或液体材料或复合物,结果是可以选择分离材料的未曝光部分并且从曝光(固化)部分中除去,形成固化材料的三维或浮雕图案。这里使用的“浮雕潜像”指光固化层中固化的但未显影的图像。未曝光部分的分离和去除可以利用喷射气流(“气刀”)、刷洗、选择溶化或扩散在适当的显影剂或洗涤剂、隔离胶以及前述物质的组合或本领域技术人员公知的其他适当的显影方式来完成。现有技术中已知有多种光固化材料,并且这些材料的任何一种都可以用在本发明中。用于形成浮雕影像的光固化材料层的厚度至少约为0.025~0.275英寸,并且可以整个固化。
本发明装置的另一实施例示于图8,其中相同的标号表示与图7中相同的元件。在图8中,元件不同地分布,照相底片38与光固化层40相对,与支撑物36相隔。照相底片38可以与层40的表面接触,或者也可以与该表面密切地相隔一气隙或薄保护层。这些保护层以及用途在现有技术中是公知的。
底片和光固化层相隔的地方,二者之间的距离最好小于0.01英寸,小于0.005英寸更好。底片可以放置成与具有干燥的无粘性表面的光固化层直接接触,使得底片在使用中或在曝光后从该层剥离时不被损坏。
用在本发明方法中的装置的另一优选实施例示于图9,其中该装置是用于液体光聚物的曝光。如图所示,优选实施例是根据本发明的一种商业上可以得到的与一对准直器装配在一起的聚苯乙烯LF3050板制造系统。类似地机器也可以从其他的制造商那儿制造,或根据本发明翻新。
装置50包括一对伸长的紫外线灯光系统52和54。在聚苯乙烯LF3050板制造系统中,把十八个六十英寸长的发射光谱宽为300-400纳米的荧光紫外灯管用作灯光系统52的曝光辐射源。背曝光灯光系统54由九个与用于图像曝光的灯管相同类型的灯管组成。但是,也可以采用低输出或高输出的有或没有内置式反射器以及有或没有滤光片的灯。涉及一个透明的图像曝光板56以将照相底片58支撑在一个表面上。图像曝光板56是一个一英寸厚的拍勒克斯硬玻璃板,具有30×48英寸的成像面。图像曝光板是水平的,在其糙面精整的上表面上容纳照相底片58或其他类型的光学工具。真空轨道界面用作在底片58上牵拉盖片60。见图11中的真空轨道76。第二玻璃板62用作背曝光板,与图像曝光板56平行且对准设置。与图像曝光板56一样,背曝光板62有一个糙面精整的表面(图9中的下表面),并且还配置有一个与图11所示相同的界面真空轨道(未示出)。界面真空轨道用于固定一个与光固化层66接触的支持片64。
在操作中,图像曝光板56设置成制造理想厚度的印刷板所需的高度。然后把照相底片58的乳胶剂一面放置在图像曝光板56的上表面上,并且在底片上抽拉盖片60,用于保持底片的真空注满在图像曝光板56上,包围照相底片58的周围。该系统包括一个分发系统(未示出),在盖片60上分发和掺杂液体光固化材料达到一个选定的厚度,从而提供层66。液体层66散布之后,支持片64在液体光固化层66的上表面上滚动(或抽出)。随后,降低背曝光板62以靠到容限杆68(见图11),由此将液体光固化材料平化成一个高容限层66,典型地处于大约0.001英寸的所需厚度。施加真空以顶着背曝光板62抽支持片64。支持片64成为永久地粘结到光固化层,并且因而有效地充当产生的浮雕影像中的支撑物。
如图10所示,准直器70和72以一定间隔的关系设置在图像曝光灯52和图像曝光板56之间。准直器70和72的每一端由托架74和75支撑。准直器70和72具有正方形单元和垂直于由图像曝光板56确定的水平面的平坦表面。准直器具有与光固化层大致相同的平面尺寸。准直器72具有比准直器70大的单元开口。优选把最大单元的准直器放置成最接近光化辐射源以达到最佳图像保真度和分辨率。最好准直器72的单元输出面至少比准直器70的单元输出面大50%。在一个特定的优选实施例中,准直器72由多个输出口一边为1-1/2英寸长的正方形单元组成,准直器70由多个输出口一边为1/2英寸长的正方形单元组成。最好这些准直器分别具有1英寸和1/2英寸的深度。灯、准直器和光固化层之间的最佳距离可以凭经验决定。但是最好把最接近光固化层的准直器充分地移开该层,从而避免把阴影投注到该层上,在浮雕影像中形成对应的格栅图案。
参见图9的装置,准直器70可以位于与光固化层较小间距如约为1-1/2英寸的地方,不对格栅图案成像。还可以在每种情况下将准直器70和72之间的间距以及准直器72和灯52之间的间距保持为最小等,如约1~3英寸,使得灯与光固化层之间的距离大致与常规的光学成像装置中的相同。优选灯和光固化层之间的最小间隔,从而使灯发出的光化辐射被最有效地利用。在图9所示装置的优选实施例中,灯52的中心轴到曝光板56的上表面之间的距离约为0.5~3.0英寸,优选2.5~3.0英寸。在此实施例中,准直器72包括具有平坦表面和1英寸深度的1.5英寸的正方形单元,位于从其下表面到灯52的中心轴为3.125英寸距离的位置处。准直器70包括具有平坦表面和0.5英寸深度的0.5英寸的正方形单元,放置在其下表面距准直器72的上表面1英寸的位置。准直器70的上表面距曝光板56的下表面0.5英寸。虽然准直器70距光固化层只有1.5英寸,并且准直器的组合在位于该距离的表面上投下一个可分辨的阴影,但不在浮雕影像中显现阴影格栅图案。
图像曝光板56一般对用于固化或硬化光固化混合物的辐射是透明的。背曝光板62对于这种辐射也可以是透明的,从而允许光固化层被背曝光,由此形成一个充当浮雕影像基底的硬化的聚合物层。背曝光一般是一种总体的非图像类的曝光,虽然如果需要也可以用于图像曝光。光固化材料曝光后,真空被释放,背曝光板62被升高,成像板被移开,盖片60和支持片64处于适当的位置。移开盖片60,同时支持片64永久地保持与光固化层粘结。然后利用气刀、显影剂或其他方式除去未固化的液体光固化材料。显影之后,一般地对板进行进一步地整体曝光,从而进一步固化浮雕影像。
典型的盖片60是一个0.001英寸厚的聚丙烯膜,在底片成像区上拉制和降低真空,从而形成一个对液体光聚物的阻挡界面。盖片60的使用允许底片58或其他光学工具被无限地再利用。
在本优选实施例中,支持片64是一个0.005英寸厚的聚酯膜。支持片被胶合机装置所采用,胶合机装置将支持片滚压到液体光固化材料的上表面并还挤出多余的材料。
如上所述,本发明的曝光法可以提供显著提高分辨率的浮雕影像以及光固化层的曝光,其中该光固化层同时在半色调浮雕影像中形成所需的高亮点和阴影反转。另外,本方法可以提供范围增大的曝光量,而此曝光量用于提供此性能。
本领域的技术人员通过对下列实例的检查将能更清晰地理解本发明的其它目的、优点和特点,但下列的实例并非是限定性的。
实施例
固体光聚物板-图像增强技术:
成像
把FLEXLIGHT HSE.067-一种可以从聚酯纤维技术有限公司,亚特兰大,佐治亚得到的商用光聚物弹性印版材料放置到FLEXLIGHT3647曝光装置的成像板上,商用曝光装置也可以从聚酯纤维得到,不可移去的聚酯放置在用于版底显影的背曝光灯泡的方向。降低盖子之后,背曝光光聚物材料。背曝光之后,升高盖子并翻转光聚物材料,剥去可移除的盖片。此时,放置成像胶片,在感光聚酯板表面上投影或照相制版。然后通过放置在四个一英寸的金属块上、每个角上一块地把具有0.5”×0.5”×0.5”单元的壁厚约为0.017英寸的18”×20”黑色准直器悬在紫外线灯和曝光压印板之间。曝光压印板及准直器顶部之上约一英寸的此悬挂的准直器底部处于曝光灯泡以下约0.90英寸。降低盖子并开启灯管。到达凸印版的大部分紫外线光垂直于版平面。对于具有上下两个曝光灯的片聚酯曝光装置,准直器板可以悬挂在曝光压印板之上并以与一组灯光曝光装置相同的方式使用。
处理
把固化的光聚物板放置在FLEXLIGHT5280板处理器中,商用处理装置可以从聚酯纤维技术有限公司,亚特兰大,佐治亚得到,其中的未曝光光聚物树脂通过冲洗搅拌和商用板清洗剂如SOLVIT处理溶剂(商业上可以从聚酯纤维技术有限公司,亚特兰大,佐治亚得到)去除。冲洗之后,在华氏140度的热循环空气中对成像的凸印版烘干2小时。然后对烘干的版用紫外线光后曝光,一边进一步彻底固化和定位表面。
评估
通过对浮雕线条、点和反转进行截面测量来检查完成的凸印版材料。测量表明,通过散射板成像的板具有比利用相同胶片成像的常规凸印版细的线条、尖点和深的翻转。
液体光聚物板-图像增强技术
成像
采用LETTERFLEX 150SP,一种由聚酯纤维技术有限公司,亚特兰大,佐治亚得到的制造装置的商用液体光聚物凸印版。把壁厚约为0.067英寸的具有多个0.5”×0.5”×0.5”单元的15”×18”黑色准直器悬在紫外线灯和下玻璃板之间,其中每个单元具有平坦的垂直于由灯确定的平面的无反射表面,使得准直器的顶部约在玻璃的底部0.50英寸以下。把载像底片放置在曝光压印板的上侧,并把聚乙烯膜铺在胶片上作为玻璃和聚合物之间的保护性阻挡层。
引入真空压强以在胶片和玻璃之间提供紧密的接触。感光液体光聚物薄层铺到胶片上之后,把树脂层与用作支撑的聚酯清洁薄膜夹置到一起。把包含凸印版背曝光紫外线灯的上玻璃腔降到用于所需的版厚度的固定垫片上。背曝光通过照射顶灯大约50秒完成。然后被面曝光灯照明,使穿过准直器板的紫外线光透射到清洁玻璃上,从而固化胶片上的树脂(约15分钟)。光化强度约为1.05mW/cm2。甚至在有一些光在玻璃上散射的情况下,大部分光也垂直穿过玻璃。
处理
在Merigraph Rotary冲洗装置中用FLEXOWASH X-100清洗成像板,FLEXOWASH X-100是一种可以从聚酯纤维技术有限公司,亚特兰大,佐治亚得到的商用板清洗剂。然后对板进行后曝光以进一步固化和定位表面。然后在华氏120度的热循环空气中对成像的凸印版烘干。
评估
通过对浮雕线条、点和反转进行截面测量来检查完成的凸印版材料。测量表明,通过散射板成像的板具有比利用相同胶片成像的常规凸印版细的线条、尖点和深的翻转。
比较例
比较例1
参见表1,根据本发明的上述方法制备九个0.067英寸的液体光聚物板(准直器)。为了比较,根据上述程序不用准直器(标准)地制备额外地九个液体光聚物板。在后一程序中,把红色滤光片放置在下玻璃和灯泡之间,把紫外线强度降低到曝光准直器板所承受的水平。制备三个用于每种曝光技术的凸印版,用于在大约1.05mW/cm2强度的紫外线光下曝光13、15和17分钟。进行本领域技术人员熟悉的一系列测量,如凸肩宽度和反转深度以评估两种曝光技术。表1中总结的数据表明利用根据本发明一个实施例的准直器制备的凸印版的反转深度、凸肩尖度以及点的尖度都有显著地改进。较深的较尖的点都对凸印版的整体印刷质量有益。
比较例2
在FLEX-LOGHT 3647板制备系统中制备三个EPIC0.045PRX板。第一个板利用根据本发明的一个准直器制备。第二个板用现有的反射式准直器制备。第三隔板通过比较例1中所述的常规技术制备。准直器位于凸印版以上约0.96”以上的位置,采用的准直器上的单元大小为0.5”×0.5”×0.5”。紫外线灯的强度为16.0mW/cm2。进行本领域技术人员熟悉的一系列测量,如凸肩宽度和反转深度以评估两种曝光技术。数据总结在表2中。
观察数据发现,反转越深,线条宽度越窄,并且与根据常规的凸印版制备技术制备的反射式准直器制成的凸印版相比,利用非反射准直器致病的凸印版上的高亮点越细。较深的反转和尖细的点对凸印版的整体印刷质量有益。
本领域的技术人员在不脱离本发明精神和范围的前提下可以对本发明的优选实施例做各种变化和改型。因此,所附的 将覆盖本发明范围和实质之内的所有等同变换。
表1:比较版的测量值-无反射格栅与常规方法
版材是LETTERFLEX 150SP液体光聚物*:所有的标号代表0.0001英寸x:数据无效
行 | 类型 | FEX时间 | 30mil反转 | 15mil反转 | 15mil线条 | 15mil凸肩 | 3%133宽度 | 3%133凸肩 | 3%133宽度 | 3%100凸肩 | 3%133深度 |
1 | 格栅 | 13 | 18.30 | 8.20 | 14.05 | 19.30 | 1.20 | 7.90 | 1.80 | 8.90 | 18.00 |
2 | 格栅 | 13 | 19.50 | 8.20 | 14.35 | 18.40 | 1.30 | 7.30 | 1.75 | 8.50 | 22.00 |
3 | 格栅 | 13 | 19.20 | 7.50 | 14.20 | 18.90 | 1.35 | 7.00 | 1.90 | 8.90 | x |
4 | 格栅 | 15 | 17.85 | 7.20 | 14.25 | 19.70 | 1.60 | 6.50 | 1.95 | 8.00 | 18.00 |
5 | 格栅 | 15 | 17.40 | 8.40 | 14.20 | 17.70 | 1.00 | 7.90 | 1.70 | 8.20 | 24.00 |
6 | 格栅 | 15 | 19.00 | 9.00 | 14.90 | 17.70 | 1.25 | 6.55 | 1.85 | 8.40 | 24.00 |
7 | 格栅 | 17 | 16.80 | 8.60 | 14.00 | 18.50 | 1.55 | 6.40 | 1.95 | 9.20 | 20.00 |
8 | 格栅 | 17 | 17.75 | 8.10 | 14.30 | 19.20 | 1.50 | 7.80 | 2.05 | 8.15 | 20.00 |
9 | 格栅 | 17 | 19.45 | 9.40 | 14.25 | 17.85 | x | x | 1.85 | 8.60 | 20.00 |
10 | 常规 | 13 | 10.05 | 4.30 | 14.40 | 21.60 | 1.75 | 4.80 | 2.40 | x | 8.00 |
11 | 常规 | 13 | 15.00 | 6.80 | 14.40 | 20.20 | 1.50 | 5.00 | 2.25 | 6.90 | 10.00 |
12 | 常规 | 13 | 11.60 | 5.05 | x | x | 2.16 | 3.85 | 2.45 | 6.20 | 10.00 |
13 | 常规 | 15 | 11.70 | 6.50 | 14.80 | 21.50 | 2.30 | x | 2.60 | x | 16.00 |
14 | 常规 | 15 | 10.20 | 6.60 | 14.90 | 20.85 | 2.15 | x | 2.60 | x | 14.00 |
15 | 常规 | 15 | 11.20 | 6.60 | 14.90 | 21.40 | 2.20 | x | 2.60 | x | 18.00 |
16 | 常规 | 17 | 8.00 | 3.94 | 14.90 | 23.50 | 2.90 | 5.40 | 2.90 | 6.05 | 8.00 |
17 | 常规 | 17 | 12.60 | 6.50 | 14.30 | 21.00 | 2.20 | 4.70 | 3.45 | 7.00 | 10.00 |
18 | 常规 | 17 | 10.60 | 5.60 | 14.10 | 21.10 | 2.60 | 6.25 | 3.00 | 4.50 | 10.00 |
表2:比较版测量:非反射型格栅-反射型格栅
30反转 | 15反转 | 15行 | 2% 150 | |
e非反射式准直器 | 15.0 | 8.1 | 14.9/19.4 | 1.40/5.50 |
反射式准直器 | 11.4 | 5.90 | 15.0/21.7 | 1.60/3.50 |
常规(无准直器) | 11.0 | 5.80 | 15.4/22.3 | 1.8/3.30 |
*所有的数字代表0.001英寸
*版材料是FLEXLIGHT HSE0.067片光聚物
Claims (26)
1.一种方法,包括步骤:
提供一个具有第一和第二相对主表面的准直器,准直器至少包括一个从第一准直面向第二准直面延伸的单元,该单元由至少一个实际上吸收入射到表面上的光化辐射的表面确定;
定位与邻近光固化材料层的光学照相底片相对的准直器;和
使光化辐射穿过准直器。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于准直器的面实际上平行。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于准直器具有多个单元。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于多个单元具有一个连续的表面。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于多个单元具有一个被切割成多个小面的表面。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于至少一个单元的表面具有不大于10%的最小反射率。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于最小反射率约为0%。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于至少一个单元的表面是黑的。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于所述准直器与照相底片接触。
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于所述准直器不与照相底片接触。
11.如权利要求9所述的方法,其特征在于所述准直器与照相底片相隔约1英寸。
12.如权利要求1所述的方法,其特征在于在一段时间内并且在有效固化光固化材料的条件下光化辐射穿过所述准直器。
13.如权利要求1所述的方法,还包括去除未固化光固化材料的步骤。
14.一种方法,包括步骤:
提供一个具有第一和第二相对主表面的准直器,准直器至少包括一个从第一准直面向第二准直面延伸的单元,单元由至少一个表面确定,此表面包括反射光化辐射的第一部分和实际上吸收入射到所述表面的光化辐射的第二部分;
定位与邻近光固化材料层的光学照相底片相对的准直器;和
使光化辐射穿过所述准直器。
15.如权利要求14所述的方法,其特征在于所述准直器的面实际上平行。
16.如权利要求14所述的方法,其特征在于所述准直器具有多个单元。
17.如权利要求16所述的方法,其特征在于多个单元具有一个连续的表面。
18.如权利要求16所述的方法,其特征在于多个单元具有一个被切割成多个小面的表面。
19.如权利要求14所述的方法,其特征在于所述表面的第二部分具有不大于10%的最小反射率。
20.如权利要求19所述的方法,其特征在于最小反射率约为0%。
21.如权利要求14所述的方法,其特征在于第一部分是一个反射镜。
22.如权利要求14所述的方法,其特征在于所述准直器与照相底片接触。
23.如权利要求14所述的方法,其特征在于所述准直器不与照相底片接触。
24.如权利要求23所述的方法,其特征在于所述准直器与照相底片相隔约1英寸。
25.如权利要求14所述的方法,其特征在于在一段时间内并且在有效固化光固化材料的条件下光化辐射穿过准直器。
26.如权利要求14所述的方法,还包括去除未固化光固化材料的步骤。
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |