JPWO2021044553A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2021044553A5
JPWO2021044553A5 JP2021543868A JP2021543868A JPWO2021044553A5 JP WO2021044553 A5 JPWO2021044553 A5 JP WO2021044553A5 JP 2021543868 A JP2021543868 A JP 2021543868A JP 2021543868 A JP2021543868 A JP 2021543868A JP WO2021044553 A5 JPWO2021044553 A5 JP WO2021044553A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
condition
charged particle
particle beam
information
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021543868A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2021044553A1 (ja
JP7194837B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2019/034838 external-priority patent/WO2021044553A1/ja
Publication of JPWO2021044553A1 publication Critical patent/JPWO2021044553A1/ja
Publication of JPWO2021044553A5 publication Critical patent/JPWO2021044553A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7194837B2 publication Critical patent/JP7194837B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (3)

  1. 荷電粒子線装置であって、
    荷電粒子線を試料に対して照射する照射部と、
    前記荷電粒子線の前記試料への照射に起因する信号を出力する検出部と、
    複数の条件セットのうちから1つの条件セットを選択するための条件選択インタフェースを出力するインタフェース出力部と、
    着目対象物に関する評価を実行する評価部と、
    を備え、
    前記条件セットは、
    ‐複数の学習済みモデルのうちから、1つの学習済みモデルを特定する情報と、
    ‐照射条件および検出条件の少なくとも一方を含む複数の探索条件のうちから、1つの探索条件を特定する情報と、
    ‐前記照射部および前記検出部の少なくとも一方の動作を規定する複数の解析条件のうちから、1つの解析条件を特定する情報と、
    を含み、
    前記荷電粒子線装置は、
    ‐前記条件選択インタフェースを介して前記条件セットの選択を受け付け、
    ‐特定された前記探索条件に基づき、前記試料の第1の領域に対して前記荷電粒子線を照射し、当該照射に起因する第1の信号を検出し、
    ‐特定された前記学習済みモデルに、前記第1の信号に基づく情報を受け渡し、
    ‐特定された前記学習済みモデルから、前記着目対象物の候補の位置を含む前記試料の第2の領域を表す情報を取得し、前記第2の領域は前記第1の領域の一部であって前記第1の領域より小さく、
    ‐特定された前記解析条件に基づき、前記第2の領域に対して前記荷電粒子線を照射し、当該照射に起因する第2の信号を検出し、
    ‐前記第2の信号に基づく情報を前記評価部に入力し、
    前記荷電粒子線装置は、
    ‐第1の探索条件に基づいて前記第2の領域を表す情報を取得し、
    ‐前記第1の探索条件に係る前記第2の領域を表す情報が所定の条件を満たさない場合に、前記第1の探索条件の少なくとも一部を変更した第2の探索条件に基づいて前記第2の領域を表す情報を取得し、
    ‐前記第2の探索条件に係る前記第2の領域を表す情報が前記所定の条件を満たす場合に、前記第2の探索条件を前記条件セットの一部として記憶する、
    荷電粒子線装置。
  2. 前記第1の信号は、前記試料に前記荷電粒子線が照射された際に生じる電子に基づく信号であり、
    前記第2の信号は、前記試料に前記荷電粒子線が照射された際に生じるX線に基づく信号である、
    請求項1に記載の荷電粒子線装置。
  3. 前記条件セットは、前記評価部の動作を規定する複数の評価条件のうちから、1つの評価条件を特定する情報をさらに含む、
    請求項1に記載の荷電粒子線装置。
JP2021543868A 2019-09-04 2019-09-04 荷電粒子線装置 Active JP7194837B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2019/034838 WO2021044553A1 (ja) 2019-09-04 2019-09-04 荷電粒子線装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2021044553A1 JPWO2021044553A1 (ja) 2021-03-11
JPWO2021044553A5 true JPWO2021044553A5 (ja) 2022-05-13
JP7194837B2 JP7194837B2 (ja) 2022-12-22

Family

ID=74853076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021543868A Active JP7194837B2 (ja) 2019-09-04 2019-09-04 荷電粒子線装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US12051563B2 (ja)
JP (1) JP7194837B2 (ja)
KR (1) KR102602005B1 (ja)
CN (1) CN114270182B (ja)
WO (1) WO2021044553A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230141195A (ko) 2022-03-31 2023-10-10 엘지디스플레이 주식회사 발광 표시 장치

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001156135A (ja) * 1999-11-29 2001-06-08 Hitachi Ltd 欠陥画像の分類方法及びその装置並びにそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JP3993817B2 (ja) * 2002-12-11 2007-10-17 株式会社日立製作所 欠陥組成分析方法及び装置
KR20070038089A (ko) * 2004-06-03 2007-04-09 이메이고 사이언티픽 인스트루먼츠 코포레이션 레이저 원자 탐침 방법
JP5277008B2 (ja) * 2009-02-06 2013-08-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン測定条件設定方法、及びパターン測定条件設定装置
RU2415380C1 (ru) * 2009-08-20 2011-03-27 Алексей Валентинович Кучеренко Способ измерения линейных размеров (варианты) и растровый электронный микроскоп
JP5303517B2 (ja) 2010-07-15 2013-10-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置、および欠陥観察装置、および管理サーバ
CN105074896B (zh) * 2013-02-20 2018-04-27 株式会社日立高新技术 图案测定装置以及半导体测量系统
US9518934B2 (en) * 2014-11-04 2016-12-13 Kla-Tencor Corp. Wafer defect discovery
US10650508B2 (en) 2014-12-03 2020-05-12 Kla-Tencor Corporation Automatic defect classification without sampling and feature selection
JP2018106832A (ja) * 2016-12-22 2018-07-05 株式会社日立ハイテクサイエンス 荷電粒子ビーム装置、及び制御方法
JP6668278B2 (ja) * 2017-02-20 2020-03-18 株式会社日立ハイテク 試料観察装置および試料観察方法
JP6736498B2 (ja) 2017-02-23 2020-08-05 株式会社日立ハイテク 計測装置及び観測条件の設定方法
JP2018170166A (ja) * 2017-03-30 2018-11-01 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP6935641B2 (ja) 2017-09-27 2021-09-15 株式会社日立ハイテク システム、特定検査向け支援方法およびプログラム
JP7291047B2 (ja) * 2019-09-24 2023-06-14 株式会社日立ハイテクサイエンス 粒子ビーム照射装置
US11515927B2 (en) * 2020-10-30 2022-11-29 Qualcomm Incorporated Beam management with backtracking and dithering
JP2023020665A (ja) * 2021-07-30 2023-02-09 株式会社キーエンス 分析装置、分析方法、分析プログラム及び分析プログラムを記憶したコンピュータ読取可能な記憶媒体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018510403A5 (ja)
JP2017227624A5 (ja)
EA201890935A1 (ru) Способ получения и анализа аэрофотоснимков
IL299819B2 (en) Learnable defect detection for semiconductor applications
RU2015102631A (ru) Кластерный анализ неизвестных в множестве данных sem-eds
US10706287B2 (en) Method for performing behavioral experiments with rodents
RU2013135653A (ru) Анализ энергий при обратном рассеянии для классификации материалов на основании позиционной некоммутативности
JP2014021124A5 (ja)
EP2518897A3 (en) Signal processing device, method thereof, program, and data recording medium
JP2014041147A5 (ja)
JP2010517015A (ja) スペクトル解析のための高度パターン認識システム
JP2013243128A5 (ja)
JP2018068748A5 (ja)
JP2017511884A5 (ja)
JPWO2021044553A5 (ja)
JP2018531087A5 (ja)
JP2019100814A (ja) ゴム材料の引き裂き挙動解析方法
JP2012105903A5 (ja)
JP6009963B2 (ja) 試料分析方法および試料分析装置
JP6588362B2 (ja) 相分析装置、相分析方法、および表面分析装置
JP6467572B2 (ja) レーザによる放射線測定方法及びその装置
JP2009217399A5 (ja)
EP3012613A1 (en) Analyzing system and analyzing appratus
JP2014035334A (ja) 蛍光x線分析方法及び蛍光x線分析装置
JP2014512546A5 (ja)