JP2013243128A5 - - Google Patents
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Claims (13)
- 走査顕微鏡を使用して試料の画像を迅速に形成する方法であって、
画素の第１のセットからなる前記試料の第１のエリアの最初の走査または最初の走査セットを実行して、前記画素の第１のセット中のそれぞれの前記画素の第１のグレー・レベル値を決定するステップと、
前記画素の第１のセット中の前記画素の前記第１のグレー・レベル値を解析して、前記第１のエリア内の対象の構造体を表す第１の領域を識別するステップであり、前記第１の領域が、前記画素の第１のセットの画素数よりも少ない数の画素を含むステップと、
前記第１の領域の追加の走査を、前記走査顕微鏡を用いて実行して、前記第１の領域の画素についてのみ第２のグレー・レベル値を決定するステップであり、前記第２のグレー・レベル値が、前記第１のグレー・レベル値を決定するのに使用した走査の回数よりも多くの回数の走査を統合することによって決定され、それによって、前記第１の領域内の画素のグレー・レベル測定値の正確さを向上させ、一方で、前記追加の走査に含める画素を減らすステップと
を含む方法。 - 前記画素の第１のセット中の前記画素の前記第１のグレー・レベル値を解析して第１の領域を識別するステップが、前記画素の前記第１のグレー・レベル値をしきい値と比較するステップを含み、前記しきい値が、前記画素の前記第１のグレー・レベル値を決定するのに使用した統合された走査の回数に依存する、請求項１に記載の方法。
- 前記画素の第１のセット中の前記画素の前記第１のグレー・レベル値を解析して第１の領域を識別するステップが、前記画素の前記第１のグレー・レベル値をしきい値と比較するステップを含み、前記しきい値が、隣接する画素のグレー・レベルに依存する、請求項１に記載の方法。
- 追加の走査を実行するステップが、前記第２のセット中の前記画素の前記第２のグレー・レベル値を解析して、前記エリア内の前記対象の構造体を表す第２の領域を識別するステップを含み、前記第２の領域が、前記第１のセットのサブセットであり、前記画素の第１のセットよりも少ない数の画素を含み、追加の走査を実行するステップがさらに、前記第２の領域の追加の走査を実行して、前記第２の領域の画素についてのみ第３のグレー・レベル値を決定するステップを含み、前記第３のグレー・レベル値が、前記第２のグレー・レベル値を決定するのに使用した走査の回数よりも多い回数の走査を統合することによって決定される、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第１のエリアを含む材料の層を前記試料から除去することによって第２のエリアを露出させるステップと、
前記第２のエリアの第２の領域を走査するステップであり、前記第２の領域が、前記第２のエリア内の画素のサブセットを含み、前記第１の領域によって決定されるステップと
をさらに含む、請求項１から４のいずれかに一項に記載の方法。 - 材料を漸進的に除去して新たな表面を露出させるステップと、
新たな表面が露出するたびに、それぞれの新たな表面の限定された領域を走査するステップであり、前記限定された領域が、以前の走査における画素のグレー・レベルによって決定されるステップと
をさらに含む、請求項３に記載の方法。 - 前記しきい値が、近隣の画素のグレー・レベルおよび以前の表面の同じ位置の画素のグレー・レベルによって決定される、請求項１、４または５のいずれか一項に記載の方法。
- 走査ビームを使用して画像を形成する方法であって、
ある視野の中の試料の表面を走査して、前記視野の中の画素値を決定するステップと、
前記画素値を解析して、対象の特徴部分を表す画素のサブセットを決定するステップと、
前記対象の特徴部分の画像を生成するために、前記走査ビームを使用して、画素の前記サブセットだけに対して追加の走査を実行するステップであって、前記試料の次の表面を露出するために前記試料から材料の層を除去することと、走査される前記次の表面の前記画素が以前に走査された表面の前記対応する画素のグレー・レベルによって決定され、前記走査ビームを使用して前記次の表面を走査することとを含むステップと
を含む方法。 - 前記画素値を解析するステップが、画素のグレー・レベルをしきい値と比較するステップを含む、請求項８に記載の方法。
- 前記しきい値が、前記画素値を決定するのに使用した走査の回数に依存する、請求項９に記載の方法。
- 前記しきい値が、隣接する画素のグレー・レベルに依存する、請求項９に記載の方法。
- 前記試料の次の表面を露出するために前記試料から材料の層を除去することと、走査される前記次の表面の前記画素が以前に走査された表面の前記対応する画素のグレー・レベルによって決定され、前記走査ビームを使用して前記次の表面を走査することとを繰り返して、３次元画像を形成する、請求項５−１１のいずれか一項に記載の方法。
- 走査荷電粒子ビーム・システムであって、
荷電粒子源と、
荷電粒子ビームで試料を走査する偏向器と、
前記荷電粒子ビームを前記試料の表面に集束させるレンズと、
前記荷電粒子と前記試料の衝突に反応した前記試料からの放出を検出する検出器と、
前記走査荷電粒子ビーム・アセンブリの動作を制御するコンピュータと、
請求項１に記載の方法を実行するための命令を記憶したコンピュータ可読記憶装置と
を備える走査荷電粒子ビーム・システム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US13/474,176 US9041793B2 (en) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | Scanning microscope having an adaptive scan |
| US13/474,176 | 2012-05-17 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013243128A JP2013243128A (ja) | 2013-12-05 |
| JP2013243128A5 true JP2013243128A5 (ja) | 2016-06-23 |
| JP6479303B2 JP6479303B2 (ja) | 2019-03-06 |
Family
ID=48366268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013097243A Active JP6479303B2 (ja) | 2012-05-17 | 2013-05-07 | 適応走査を有する走査顕微鏡 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9041793B2 (ja) |
| EP (1) | EP2665083A3 (ja) |
| JP (1) | JP6479303B2 (ja) |
| CN (1) | CN103424419B (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007045897A1 (de) * | 2007-09-26 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Verfahren zur mikroskopischen dreidimensionalen Abbildung einer Probe |
| WO2013177617A1 (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | Macquarie University | Two-directional scanning for luminescence microscopy |
| EP2879156A1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-06-03 | Fei Company | Charged-particle microscopy with enhanced electron detection |
| US9502211B1 (en) | 2015-05-03 | 2016-11-22 | Fei Company | Adaptive scanning for particle size using directed beam signal analysis |
| US10535131B2 (en) * | 2015-11-18 | 2020-01-14 | Kla-Tencor Corporation | Systems and methods for region-adaptive defect detection |
| JP6522535B2 (ja) * | 2016-02-29 | 2019-05-29 | 富士フイルム株式会社 | 細胞観察装置および方法 |
| US11506877B2 (en) | 2016-11-10 | 2022-11-22 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Imaging instrument having objective axis and light sheet or light beam projector axis intersecting at less than 90 degrees |
| WO2019078813A1 (en) * | 2017-10-16 | 2019-04-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | 3D PRINTER |
| EP3598474A1 (en) * | 2018-07-19 | 2020-01-22 | FEI Company | Adaptive specimen image acquisition using an artificial neural network |
| US20200118786A1 (en) * | 2018-10-15 | 2020-04-16 | Applied Materials, Inc. | System and method for selective autofocus |
| US11164721B2 (en) | 2019-03-28 | 2021-11-02 | Massachusetts Institute Of Technology | System and method for learning-guided electron microscopy |
| CN113804918B (zh) * | 2021-08-30 | 2023-12-26 | 广州大学 | 基于感兴趣区域的电化学扫描成像方法、装置及介质 |
Family Cites Families (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0340351A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-21 | Nippon Steel Corp | 析出物の解析方法および装置 |
| JP3037006B2 (ja) * | 1992-12-25 | 2000-04-24 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡における自動画像調整方法 |
| US5435850A (en) | 1993-09-17 | 1995-07-25 | Fei Company | Gas injection system |
| US5851413A (en) | 1996-06-19 | 1998-12-22 | Micrion Corporation | Gas delivery systems for particle beam processing |
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| EP1425729B1 (en) | 2001-08-23 | 2014-06-11 | Fei Company | Graphical automated machine control and metrology |
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| US20070031043A1 (en) * | 2005-08-02 | 2007-02-08 | Perz Cynthia B | System for and method of intelligently directed segmentation analysis for automated microscope systems |
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-
2012
- 2012-05-17 US US13/474,176 patent/US9041793B2/en active Active
-
2013
- 2013-05-07 JP JP2013097243A patent/JP6479303B2/ja active Active
- 2013-05-16 CN CN201310181310.3A patent/CN103424419B/zh active Active
- 2013-05-16 EP EP13167952.4A patent/EP2665083A3/en not_active Withdrawn
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