JPWO2020187794A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 装置であって、
   前記装置の動作中に光（１２）を放射するように構成されたレーザ光源と、
   前記光のビーム断面及び前記光の発散に関して、第１の方向若しくは第２の方向、又は第１の方向と第２の方向の両方において、前記光を成形する光学系であって、前記第１の方向及び第２の方向は互いに垂直かつ前記光の伝播方向（Ｚ）に対して垂直である、光学系と、
   前記光学系によって成形された前記光が入射するビーム変換装置であって、前記第１の方向に関するビーム品質係数を増加させ、前記第２の方向に関するビーム品質係数を減少させるように構成されたビーム変換装置と、
   前記第２の方向に作用する対物レンズと、前記第２の方向に作用し、前記対物レンズの後方に配置された集束装置と、を備え、
   前記対物レンズ及び前記集束装置は、前記ビーム変換装置の後方の平面を前記作業面に結像するように構成され、前記作業面において前記第２の方向の前記光が、超ガウスプロファイルを備える強度分布を有することを特徴とする、装置。
2. 前記対物レンズは、２，０００ｍｍ～３０，０００ｍｍの間、５，０００ｍｍ～２０，０００ｍｍの間、又は７，０００ｍｍ～１３，０００ｍｍの間の焦点距離を有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
3. 前記対物レンズは、前記第２の方向に作用するシリンドリカルレンズを含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
4. 前記対物レンズは、前記第２の方向に作用する３つのレンズを含み、そのうちの少なくとも１つのレンズは、残りの他のレンズに対して移動可能であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
5. 前記集束装置は、前記第２の方向に作用する１つ以上のレンズを含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
6. 前記対物レンズの後側焦点面が、前記集束装置の前側焦点面と一致することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
7. 前記対物レンズと前記集束装置によって結像される平面は、前記対物レンズの前側焦点面と前記対物レンズとの間に配置されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
8. 前記強度分布の前記プロファイルの、前記作業面における被写界深度は、０．１ｍｍ又は０．５ｍｍより大きく、前記被写界深度は、前記第２の方向における前記強度分布の前記超ガウス係数が３より大きい領域に存在することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
9. 前記強度分布は、前記作業面において、その直前又は直後に配置された平面よりも大きい強度を有することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
10. 前記レーザ光源は、マルチモードレーザ光源であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
11. 前記光学系は、前記レーザ光源と前記ビーム変換装置との間に存在し、アナモルフィック光学系であることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
12. 前記装置は、前記第１の方向に作用する均質化装置を含むことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
13. 前記均質化装置は、前記ビーム変換装置の後方に配置されることを特徴とする、請求項１２に記載の装置。
14. 前記均質化装置は、前記第１の方向に作用する２つのシリンドリカルレンズアレイとフーリエレンズとを含むことを特徴とする、請求項１２に記載の装置。