JPWO2020171091A1 - 防汚層付きガラス基体および防汚層付きガラス基体の製造方法 - Google Patents

Abstract

相互に対向する一対の主面を有するガラス基体と、前記ガラス基体の主面上に形成された防汚層を備えた、防汚層付きガラス基体であって、前記防汚層付きガラス基体の内部の吸光度を、フーリエ変換型赤外分光光度計により、前記防汚層が形成された側の表面からＡＴＲ法（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）で測定する時、３９５５ｃｍ−１における吸光度の値を０．１０に設定した場合、３４００ｃｍ−１付近に発生する吸光度ピークのピーク値から、３９５５ｃｍ−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値（Ｈ２Ｏ吸光度）が、０．０１０以上である、防汚層付きガラス基体に関する。

Description

本発明は、防汚層付きガラス基体と防汚層付きガラス基体の製造方法に関する。

従来、スマートフォン、タブレットＰＣ、カーナビゲーション装置の表示装置等に用いられるタッチパネルや表示パネルの前面板として、カバーガラスが用いられている。これらタッチパネルや表示パネルは使用時に人間の指等が触れるため、指紋、皮脂、汗等による汚れが付着しやすい。そして、これらの汚れは付着すると落ちにくく、汚れが付着した部分とそうでない部分とでの光の散乱や反射の違いによって目立つため、視認性や美観を損ねるという問題があった。そのため、これらのカバーガラスとして、人間の指等が触れる部分に含フッ素有機化合物からなる防汚層を形成したガラス基体を用いる方法が知られている（特許文献１）。防汚層には、汚れの付着を抑制するために、高い撥水・撥油性が求められるとともに、付着した汚れの繰り返しの払拭に対する耐摩耗性が求められている。

日本国特開２０００−１４４０９７号公報

しかしながら、従来のカバーガラスでは防汚層の耐久性が不十分であった。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、防汚層の耐摩耗性に優れる防汚層付きガラス基体とその製造方法の提供を目的とする。

本発明は、下記防汚層付きガラス基体とその製造方法に関する。
相互に対向する一対の主面を有するガラス基体と、
前記ガラス基体の少なくとも一方の主面上に形成された防汚層を備えた、防汚層付きガラス基体であって、
前記防汚層付きガラス基体の内部の吸光度を、フーリエ変換型赤外分光光度計により、前記防汚層が形成された側の表面からＡＴＲ法（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）で測定する時、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値を０．１０に設定した場合、３４００ｃｍ^−１付近に発生する吸光度ピークのピーク値から、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値（Ｈ_２Ｏ吸光度）が、０．０１０以上である、防汚層付きガラス基体。

相互に対向する一対の主面を有するガラス基体を準備する工程と、
前記ガラス基体を、Ｋイオンを含有する溶融塩に浸漬することで化学強化する工程と、
前記ガラス基体の主面を酸処理する工程と、
前記ガラス基体の少なくとも一方の主面上に防汚層を形成する工程を有する、防汚層付きガラス基体の製造方法であって
前記化学強化工程における前記溶融塩は、さらに、１０ｐｐｍ以上のＬｉイオンまたは１００ｐｐｍ以上のＮＯ^２−イオンを含むか、Ｌｉイオン及びＮＯ^２−イオンを含み、Ｌｉイオンの含有量が１０ｐｐｍ以上またはＮＯ^２−イオンの含有量が１００ｐｐｍ以上である、製造方法。

本発明によれば、防汚層の耐摩耗性に優れる防汚層付きガラス基体を提供できる。

図１は本発明の防汚層付きガラス基体の実施形態１における模式断面図である。 図２は本発明の防汚層付きガラス基体の実施形態２における模式断面図である。 図３は本発明の防汚層付きガラス基体の変形例における模式断面図である。 図４は本発明の防汚層付きガラス基体製造方法の実施形態１における製造フローである。 図５は本発明の防汚層付きガラス基体製造方法の実施形態２における製造フローである。

本発明の防汚層付きガラス基体は、フーリエ変換型赤外分光光度計（Ｆｏｕｒｉｅｒ ｔｒａｎｓｆｏｒｍ ｉｎｆｒａｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ： 以下ＦＴＩＲ）を用いて防汚層付きガラス基体内部の吸光度を測定する方法において、防汚層付きガラス基体の防汚層が形成された側の表面をＡＴＲ法（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）で測定し、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値を０．１０に設定した場合に、観測される３４００ｃｍ^−１付近に存在する吸光度ピークのピーク値から、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値（Ｈ_２Ｏ吸光度）が、０．０１０以上であることを特徴とする。

赤外分光法（ｉｎｆｒａｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、 略称ＩＲ法）は対象物の特性を知るために用いられる測定方法で、本発明では、その中でも特に、フーリエ変換型赤外分光光度計（Ｆｏｕｒｉｅｒ ｔｒａｎｓｆｏｒｍ ｉｎｆｒａｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、略称ＦＴＩＲ）を用いて測定を行う。ＦＴＩＲを用いた測定方法のなかでも、ＡＴＲ法（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）と呼ばれる接触方法で測定法を行う。ＡＴＲ法は、試料とプリズムを接触させ、赤外光をプリズム側から入射させた時に、赤外光がプリズム内で全反射する際に試料側へ光のもぐり込みが発生する事を利用した反射測定法である。ＡＴＲ法では、試料表面から数μｍまでのＦＴＩＲスペクトルを取得できる。
ＦＴＩＲを用いた測定では、波長３４００ｃｍ^−１付近にＨ_２Ｏに起因した吸光度のピークが現れ、波長３６００ｃｍ^−１付近にＳｉ−ＯＨに起因した吸光度のピークが現れる。
ここで、吸光度とは、入射光強度Ｉ_０と透過光強度Ｉの比、つまり透過率の常用対数をとり、下記式で表される値である。
−ｌｏｇ_１０（Ｉ／Ｉ_０）

本発明では、防汚層付きガラス基体の、防汚層を形成した面の最外面にプリズムを接触させることで測定を行う。防汚層や、形成する場合は密着層、反射防止層の厚さは、それぞれ数十ｎｍ〜数百ｎｍであるため、この測定により防汚層からガラス基体までのすべての層における合計のＨ_２Ｏ量、Ｓｉ−ＯＨ量を知ることができる。

従って、本発明では、防汚層付きガラス基体のＨ_２Ｏ量、Ｓｉ−ＯＨ量を表す指標として、上記方法で測定した、波長３４００ｃｍ^−１付近に存在するＨ_２Ｏに起因した吸光度のピーク、波長３６００ｃｍ^−１付近に存在するＳｉ−ＯＨに起因した吸光度のピークから、それぞれ波長３９５５ｃｍ^−１における吸光度をベースとして差し引いた値を用いている。なお、測定のばらつきを抑制するため、波長３９５５ｍ^−１における吸光度が０．１０となる測定条件下で、各波長における吸光度の測定を行うこととする。以下では、波長３４００ｃｍ^−１付近に存在する吸光度ピークのピーク値から、波長３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値を、「Ｈ_２Ｏ吸光度」、波長３６００ｃｍ^−１付近に存在する吸光度ピークのピーク値から、波長３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値を、「Ｓｉ−ＯＨ吸光度」、等と称する。

本発明の防汚層付きガラス基体は、Ｈ_２Ｏ吸光度が０．０１０以上であることを特徴とする。すなわち、防汚層付きガラス基体の表面から数μｍの深さにおいて、Ｈ_２Ｏ含有量が一定量以上であることを意味する。本発明は、鋭意検討の結果、防汚層付きガラス基体がこのような構成を備えることにより、防汚層の耐摩耗性が改善することを発見したことに基づく。

本発明の防汚層付きガラス基体の、Ｈ_２Ｏ吸光度は０．０１０以上であり、好ましくは０．０１４以上であり、より好ましくは０．０１８以上であり、更に好ましくは０．０２０以上である。Ｈ_２Ｏ吸光度がこのような範囲にあることで、防汚層付きガラス基体のＨ_２Ｏ含有量を増加させ、防汚層の耐摩耗性を改善できる。一方、Ｈ_２Ｏ吸光度は一般的には０．１以下である。

防汚層付きガラス基体のＨ_２Ｏ含有量が増加することにより、防汚層の耐摩耗性が改善する理由として、以下が考えられる。
防汚層は、通常、有機ケイ素化合物を含み、防汚層表面にはＳｉ―Ｘ構造（Ｘとしては、例えばアルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等の加水分解性基等が挙げられる。）が存在する。ガラス基体や、密着層の表面に防汚層を形成する際、Ｓｉ―Ｘは、加水分解を受けてシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）を生成し、このシラノールが、ガラス基体やガラス基体上に形成された密着層の表面に存在するＳｉ−ＯＨと反応し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成することで、防汚層と、防汚層と接する面との密着性が向上する。
そこで、防汚層の耐摩耗性を改善する手段として、防汚層形成前に、あらかじめ、ガラス基体や密着層表面のＳｉ−ＯＨを増加させることが考えられる。
しかしながら、エネルギーバランスの問題により、防汚層形成前のガラス基体や密着層において、ガラス基体や密着層表面に増加させられるＳｉ−ＯＨの面積密度には上限がある。従って、これらの層の表面には常に、Ｓｉ−ＯＨと、Ｓｉ−Ｙ（Ｙは組成に起因してとりうるＯＨ基以外の基）が混在している状態にある。
そこで、防汚層付きガラス基体全体のＨ_２Ｏ含有量を増加させることで、防汚層を形成する際、ガラス基体や密着層表面のＳｉ−ＯＨのＯＨ基が、防汚層中のシラノールとの反応結合に消費されると、その近傍に存在するＳｉ−Ｙにおいて、ＹとＨ_２Ｏの交換反応が生じ、Ｓｉ−ＹがＳｉ−ＯＨへと変化すると考えられる。この現象により生じた新たなＳｉ−ＯＨと、防汚層中のシラノールが反応し、新たにＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成できる。
従って、防汚層付きガラス基体全体のＨ_２Ｏ含有量を増加させることで、防汚層とガラス基体、または防汚層と密着層表面の密着層を高め、耐摩耗性を改善することができると考えられる。
なお、本発明の防汚層付きガラス基体において、耐摩耗性が向上する原理としては、これに限られない。

一方、本発明の防汚層付きガラス基体の、Ｓｉ−ＯＨ吸光度は０．００７０以上であることが好ましく、より好ましくは、０．００８０以上であり、更に好ましくは０．００９０以上である。Ｓｉ−ＯＨ吸光度がこのような範囲にあることで、防汚層付きガラス基体の帯電量が減り、防汚層とガラス基体の密着力が向上する。

本発明において、Ｈ_２Ｏ含有量の高い防汚層付きガラス基体を製造する方法として、例えば以下の２通りの方法が挙げられる。

１つめに、ガラス基体と防汚層の間に密着層を形成する製造方法が挙げられる。密着層の組成は特に限られないが、例えば二酸化ケイ素を主体とする成分が用いられる。

本発明の防汚層付きガラス基体において、密着層を分析すると、密着層上部の充填密度が低く、密着層が疎になっていることが判明した。そのため、密着層上部に空隙が通常より多く存在し、空隙にＨ_２Ｏが吸着することで、防汚層付きガラス基体のＨ_２Ｏ含有量を高めることができると考えられる。

２つめに、ガラス基体をＬｉイオン、ＮＯ^２−イオンから選ばれる１または２のイオンを含むＫイオンを主体とする溶融塩に浸漬し、イオン交換処理した後に酸処理する製造方法が挙げられる。本発明の防汚層付きガラス基体の製造方法において、Ｋイオンを主体とする溶融塩は、Ｌｉイオンを１０ｐｐｍ以上、またはＮＯ^２−イオンを１００ｐｐｍ以上含むか、ＬｉイオンとＮＯ^２−イオンの両方を含み、Ｌｉが１０ｐｐｍ以上または、ＮＯ^２−イオンが１００ｐｐｍ以上であることを特徴とする。このようにすることで、密着層を設けずに、防汚層付きガラス基体のＨ_２Ｏ含有量を高めることができる。

このようにすることで、防汚層付きガラス基体のＨ_２Ｏ含有量を高めることができ、Ｈ_２Ｏ吸光度を０．０１０以上にできるため、防汚層の耐摩耗性を改善できる。なお、Ｈ_２Ｏ吸光度を０．０１０以上にする方法は、これに限られず、その他の手段で実現されても良い。

以下、図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。

（防汚層付きガラス基体の実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１における防汚層付きガラス基体の概略図である。図１に示すように、実施形態１における防汚層付きガラス基体１００は、ガラス基体１０１と、密着層１０２と、防汚層１０３を有する。

ガラス基体１０１は、相互に対向する第１の主面１０１ａ、第２の主面１０１ｂを有する。第１の主面１０１ａ上には、密着層１０２が形成される。密着層１０２は、ガラス基体１０１から遠い第１の面１０２ａとガラス基体１０１と近い第２の面１０２ｂとを有する。密着層の第１の面１０２ａ上には、防汚層１０３が形成される。防汚層１０３は、ガラス基体１０１から遠い第１の面１０３ａとガラス基体１０１と近い第２の面１０３ｂとを有する。なお、密着層１０２および防汚層１０３は第２の主面１０１ｂの側に形成されても良く、ガラス基体の両面（第１の主面１０１ａ、第２の主面１０１ｂ）に形成されても良い。
以下では、防汚層付きガラス基体１００の各構成について詳細を説明する。

（ガラス基体）
本実施形態で用いられるガラス基体１０１は、特に限定されず、二酸化ケイ素を主成分とする一般的なガラス、例えばソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等のガラス基体を使用できる。

本発明の防汚層付きガラス基体１００は、例えばスマートフォン、タブレットＰＣ、カーナビゲーション装置の表示装置等に用いられるタッチパネルや表示パネルのカバーガラスとして使用される。この場合、ガラス基体１０１に強化処理が施されていることが好ましい。強化処理は物理強化もしくは化学強化であり、特に、化学強化処理が施されることが好ましい。

本実施形態で用いられるガラス基体１０１の組成は、従って、化学強化処理による強化が可能な組成であることが好ましく、例えばナトリウム、リチウムなどのイオン半径の小さいアルカリ金属を含むことが好ましい。このようなガラスとして、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムシリケートガラス、ホウ珪酸ガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、アルミノホウ珪酸ガラス等が挙げられる。

ここで、本明細書において、化学強化を施した後のガラスを「化学強化ガラス」と称する。化学強化ガラスの母組成は、化学強化前のガラスと同じであり、化学強化ガラスの母組成とは、ガラス表面のイオン交換がなされた層を除いた、ガラス内部の組成の事である。

具体的なガラス組成（すなわち、化学強化ガラスにおける母組成）としては、例えば、以下のガラス組成であると、化学強化処理によって好ましい応力プロファイルを形成しやすい。
（１）酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２を５０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２５％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏを２〜１０％、Ｎａ_２Ｏを０〜１１％、Ｋ_２Ｏを０〜１０％、を含有し、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの含有量の合計ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが０〜１０％、ＺｒＯ_２とＴｉＯ_２の含有量の合計ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２が０〜５％であることが好ましい。
（２）酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２を５５〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２８％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏを２〜１０％、Ｎａ_２Ｏを０．５〜１１％及びＫ_２Ｏを０〜１０％を含有し、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの含有量の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０〜１０％かつＺｒＯ_２とＴｉＯ_２の含有量の合計（ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２）が０〜５％であることがより好ましい。
（３）酸化物基準の質量百分率表示でＳｉＯ_２が５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３が１０〜２５％、Ｂ_２Ｏ_３が０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏが２〜１０％、Ｎａ_２Ｏが１〜１１％、Ｋ_２Ｏが０．５〜１０％、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０〜１０％及び（ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２）が０〜５％であるとさらに好ましい。
以下、ガラス組成の各成分について詳細を説明する。以下では、％表記は特に記載のない限り質量百分率を意味する。

ＳｉＯ_２はガラスの骨格を構成する成分である。また、化学的耐久性を上げる成分であり、ガラス表面に傷がついた時のクラックの発生を低減させる成分である。ＳｉＯ_２の含有量は５０％以上が好ましく、５５％以上がより好ましく、５８％以上がさらに好ましい。
また、ガラスの溶融性を高くするためにＳｉＯ_２の含有量は８０％以下が好ましく、７５％以下がより好ましく、７０％以下がさらに好ましい。

Ａｌ_２Ｏ_３は化学強化の際のイオン交換性を向上させ、強化後の表面圧縮応力を大きくするために有効な成分であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）を高くし、ヤング率を高くする成分でもあり、１０％以上が好ましく、１３％以上がより好ましく、１５％以上がさらに好ましい。
また、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、溶融性を高くするために好ましくは２８％以下、より好ましくは２６％以下、さらに好ましくは２５％以下である。

Ｂ_２Ｏ_３は、必須ではないが、ガラス製造時の溶融性を向上させる等のために加えることができる。Ｂ_２Ｏ_３を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは２％以上である。
また、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、さらに好ましくは５％以下、特に好ましくは３％以下、最も好ましくは１％以下である。それによって、溶融時に脈理が発生し化学強化用ガラスの品質が低下するのを防ぐことができる。なお、耐酸性を高くするためにはＢ_２Ｏ_３を実質的に含有しないことが好ましい。

Ｌｉ_２Ｏは、イオン交換により表面圧縮応力を形成させる成分である。Ｌｉ_２Ｏの含有量は、圧縮応力層深さＤＯＬを大きくするために、好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上、さらに好ましくは４％以上、である。
また、ガラスの化学的耐久性を高くするためにＬｉ_２Ｏの含有量は１０％以下が好ましく、８％以下がより好ましく、７％以下がさらに好ましい。本発明の製造方法における一実施形態では、酸処理を行う事でＨ_２Ｏ吸光度を増加させる。Ｌｉ_２Ｏがこの範囲であると化学的耐久性が良く、酸処理を行う事が出来る。

Ｎａ_２Ｏは必須ではないが、Ｎａ_２Ｏはカリウムを含有する溶融塩を利用したイオン交換により表面圧縮応力層を形成する成分であり、またガラスの溶融性を向上させる成分である。Ｎａ_２Ｏの含有量は０．５％以上が好ましく、１％以上がより好ましく、１．５％以上がさらに好ましい。
また、Ｎａ_２Ｏの含有量は、好ましくは１１％以下であり、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは８％以下、特に好ましくは６％以下である。

Ｋ_２Ｏは必須ではないが、ガラスの溶融性を向上し、失透を抑制するために含有してもよい。Ｋ_２Ｏの含有量は、好ましくは０．５％以上、より好ましくは１％以上である。
また、Ｋ_２Ｏの含有量はイオン交換による圧縮応力値を大きくするために、好ましくは１０％以下、より好ましくは９％以下、さらに好ましくは８％以下である。

Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏ等のアルカリ金属酸化物は、いずれもガラスの溶解温度を低下させる成分であり、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの含有量の合計（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）は、２％以上が好ましく、５％以上がより好ましく、７％以上が更に好ましく、８％以上が更に好ましい。
（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）は、ガラスの強度を維持するために２０％以下が好ましく、１８％以下がより好ましい。

ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ等のアルカリ土類金属酸化物は、いずれもガラスの溶融性を高める成分であるが、イオン交換性能を低下させる傾向がある。
そのため、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの含有量の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。

ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのいずれかを含有する場合は、化学強化ガラスの強度を高くするためにＭｇＯを含有することが好ましい。
ＭｇＯを含有する場合の含有量は０．１％以上が好ましく０．５％以上がより好ましい。
またイオン交換性能を高くするために１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。

ＣａＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上である。イオン交換性能を高くするためには５％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

ＳｒＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上である。イオン交換性能を高くするためには５％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

ＢａＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上である。イオン交換性能を高くするためには５％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

ＺｎＯはガラスの溶融性を向上させる成分であり、含有させてもよい。ＺｎＯを含有させる場合の含有量は、好ましくは０．２％以上であり、より好ましくは０．５％以上である。ガラスの耐候性を高くするために、ＺｎＯの含有量は５％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

ＴｉＯ_２は、化学強化ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。ＴｉＯ_２を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．１％以上である。ＴｉＯ_２の含有量は、溶融時の失透を抑制するために５％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

ＺｒＯ_２は、イオン交換による表面圧縮応力を増大させる成分であり、含有させてもよい。ＺｒＯ_２を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上である。また溶融時の失透を抑制するために５％以下が好ましく、３％以下がより好ましい。

また、ＴｉＯ_２とＺｒＯ_２の含有量（ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２）は、５％以下が好ましく、３％以下がより好ましい。

Ｙ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５は、化学強化ガラスの破砕性を改善する成分であり、含有させてもよい。これらの成分を含有させる場合のそれぞれの含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上、さらに好ましくは１．５％以上であり、特に好ましくは２％以上、最も好ましくは２．５％以上である。

また、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は合計で９％以下が好ましく、８％以下がより好ましい。かかる範囲であると溶融時にガラスが失透しにくくなり化学強化ガラスの品質が低下するのを防ぐことができる。またＹ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量はそれぞれ、３％以下が好ましく、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下であり、特に好ましくは０．７％以下であり、最も好ましくは０．３％以下である。

Ｔａ_２Ｏ_５、Ｇｄ_２Ｏ_３は、化学強化ガラスの破砕性を改善するために少量含有してもよいが、屈折率や反射率が高くなるのでそれぞれ１％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。

Ｐ_２Ｏ_５は、イオン交換性能を向上させるために含有してもよい。Ｐ_２Ｏ_５を含有させる場合の含有量は、好ましくは０．５％以上であり、より好ましくは１％以上である。化学的耐久性を高くするためにはＰ_２Ｏ_５の含有量は２％以下が好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。

ガラスに着色を行い使用する際は、所望の化学強化特性の達成を阻害しない範囲において着色成分を添加してもよい。着色成分としては、例えば、Ｃｏ_３Ｏ_４、ＭｎＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｖ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＳｅＯ_２、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｅｒ_２Ｏ_３、Ｎｄ_２Ｏ_３が好適なものとして挙げられる。これらは単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。

着色成分の含有量は、合計で７％以下が好ましい。これによって、ガラスの失透を抑制できる。着色成分の含有量は、より好ましくは５％以下であり、さらに好ましくは３％以下であり、特に好ましくは１％以下である。ガラスの可視光透過率を高くしたい場合は、これらの成分は実質的に含有しないことが好ましい。

また、ガラス溶融の際の清澄剤として、ＳＯ_３、塩化物、フッ化物などを適宜含有してもよい。Ａｓ_２Ｏ_３は実質的に含有しないことが好ましい。Ｓｂ_２Ｏ_３を含有する場合は、０．３％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。

次に、ガラス基体１０１の性質について説明する。

ガラス基体１０１の形状は、図１に示したような平坦な形状のみでなく、一か所以上の屈曲部を有する曲面形状であってもよい。また、正面図としては、例えば、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。

ガラス基体１０１の厚さは、特に限られない。例えばモバイル機器用カバーガラスの場合、０．１ｍｍ〜２．５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは０．２ｍｍ〜１．５ｍｍであり、更に好ましくは０．５ｍｍ〜１ｍｍである。例えばディスプレイ装置、カーナビゲーション、コンソールパネル、計器盤などの画像表示装置の場合、ガラス基体１０１の厚さは、０．１ｍｍ〜２．１ｍｍであることが好ましい。尚、上記のガラスの厚みとは複数のガラスをラミネート材、接着剤等の方法で貼り合わせた場合、接着する前の単体の厚みを示すものとする。

（密着層）
密着層１０２は、少なくとも、ガラス基体１０１の第１の主面１０１ａ上に形成される。密着層１０２の組成は特に限られないが、例えば二酸化ケイ素、アルミナなどが挙げられる。好ましくは、二酸化ケイ素を主体する組成で構成される。

密着層１０２の一部は、密着層１０２の他の部分に比べ充填密度が低くなっていることが好ましい。充填密度が低い部分は、結晶構造に空隙が多く存在し、空隙にＨ_２Ｏが吸着することによって、ガラス基体１０１全体のＨ_２Ｏ含有量を増加させることができる。特に、密着層１０２は密度の異なる二層に分離していることが好ましい。密着層１０２の一部の充填密度を低くするためには、例えば密着層を下記製造方法の実施形態１で説明するような真空蒸着法等で形成する方法が挙げられる。

密着層１０２が二層に分離している場合、ガラス基体１０１に遠い側の層の密度が、ガラス基体１０１に近い側の層の密度より低くなっていることが好ましい。この時、密着層１０２が二酸化ケイ素であれば、ガラス基体１０１に近い側の層の膜密度は、好ましくは２．２５ｇ／ｃｍ^３以下、より好ましくは２．００ｇ／ｃｍ^３以下である。一方、１．７５ｇ／ｃｍ^３以上であると、密着層１０２の強度が確保されるため、好ましい。ガラス基体１０１に遠い側の層の膜密度は、好ましくは２．００ｇ／ｃｍ^３以下、より好ましくは１．８５ｇ／ｃｍ^３以下であると、二酸化ケイ素を主体とした結晶構造が空隙を多く含み、空隙にＨ_２Ｏを吸着しやすい。
また、ガラス基体１０１に近い側の層の厚さは、好ましくは１９ｎｍ以上であり、より好ましくは４８ｎｍ以上であると、密着層の強度を確保しやすい。ガラス基体１０１に遠い側の層の厚さは、好ましくは１．０ｎｍ以上であり、より好ましくは２．０ｎｍ以上であると、空隙がある結晶構造を十分に確保でき、吸着するＨ_２Ｏ量を増やすことができる。
密着層１０２の膜密度や二層分離を知る手段として、例えばＸ線反射法（Ｘ−Ｒａｙ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｒｙ、略称ＸＲＲ）を用いることができる。ＸＲＲによる測定では、膜密度や、膜内で密度が変化する点を知ることができる。ここで言う膜内で密度が変化する点とは、ＸＲＲスペクトルから膜厚、膜密度、表面ラフネスをパラメータとして計算フィッティングを行う際に、密着層１０２を密度の異なる複数層のモデルとして算出する値をいう。

密着層１０２の厚さは、好ましくは２０ｎｍ以上であり、より好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。密着層の厚さをこのような範囲にすることにより、密着層１０２の第１の面１０２ａに近い領域に低密度領域が形成されやすく、構造に空隙に水が吸着しやすい。一方、密着層の厚さは好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは８０ｎｍ以下であると、密着層の表面の充填密度が下がりすぎ、膜の擦り耐性が低下することを防ぐため、好ましい。

（防汚層）
防汚層１０３は、含フッ素有機化合物を含む。含フッ素有機化合物は、防汚性、撥水性、撥油性、親水性または親油性のいずれか１つ以上の特性を有するものであれば特に制限されない。防汚層１０３は、指紋跡のみならず汗や埃など様々な汚れの付着を抑える、汚れを拭き取りやすくする、汚れを目立ちにくくする等の機能を有し得る。

含フッ素有機化合物としては、例えばパーフルオロアルキル基含有化合物、パーフルオロポリエーテル基含有化合物等が挙げられ、好ましくはパーフルオロポリエーテル基を有するシラン化合物が用いられる。

パーフルオロポリエーテル基を有するシラン化合物としては、例えば、下式Ａで表される化合物及び／又はその部分加水分解縮合物を含む材料が挙げられる。
Ｒｆ^３−Ｒｆ^２−Ｚ^１ 式Ａ
式Ａ中、Ｒｆ^３は、基：Ｃ_ｍＦ_２ｍ＋１（ここで、ｍは、１〜６の整数である。）であり、
Ｒｆ^２は、基：−Ｏ−（Ｃ_ａＦ_２ａＯ）_ｎ−（ここで、ａは、１〜６の整数であり、ｎは、１以上の整数であり、ｎが２以上である場合、各−Ｃ_ａＦ_２ａＯ−単位は、同一であっても、異なっていてもよい。）であり、
Ｚ^１は、基：−Ｑ^２−｛ＣＨ_２ＣＨ（ＳｉＲ^２ _ｑＸ^２ _３−ｑ）｝_ｒ−Ｈ（ここで、Ｑ^２は、−（ＣＨ_２）_ｓ−（ここで、ｓは、０〜１２の整数である。）であるか、又はエステル結合、エーテル結合、アミド結合、ウレタン結合及びフェニレン基から選ばれる１種以上を含有する−（ＣＨ_２）_ｓ−であり、−ＣＨ_２−単位の一部又は全部は、−ＣＦ_２−単位及び／又は−ＣＦ（ＣＦ_３）−単位によって置き換えられていてもよく、Ｒ^２は、水素原子、又は炭素原子数１〜６の１価の炭化水素基であって、該炭化水素基は置換基を含有していてもよく、Ｘ^２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、ｑは、０〜２の整数であり、ｒは、１〜２０の整数である。）である。
Ｘ^２における加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられる。これらの中では、安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基およびハロゲン原子（特に塩素原子）が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１〜３のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。

防汚層１０３を構成し得る材料としては、例えば、市販されている「Ａｆｌｕｉｄ（登録商標） Ｓ−５５０」（商品名、ＡＧＣ社製）、「ＫＰ−８０１」（商品名、信越化学工業株式会社製）、「Ｘ−７１」（商品名、信越化学工業株式会社製）、「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業株式会社製）、「ＫＹ−１７８」（商品名、信越化学工業株式会社製）、「ＫＹ−１８５」（商品名、信越化学工業株式会社製）、「ＫＹ−１９５」（商品名、信越化学工業株式会社製）、「オプツール（登録商標） ＤＳＸ（商品名、ダイキン工業株式会社製）等を使用できる。さらに、市販品にオイル添加、帯電防止剤等を添加したものを使用することもできる。

防汚層１０３の厚さは、特に制限されないが、８ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、１２ｎｍ以上であることが更に好ましい。一方、防汚層１０３の厚さは、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１９ｎｍ以下であることが更に好ましい。防汚層１０３の厚さが８ｎｍ以上であれば、防汚層１０３の第２の面１０３ｂと接する層を均一に覆うことができ、耐摩耗性が向上する。また、防汚層１０３の厚さが３０ｎｍ以下であれば、防汚層１０３が積層された状態での視感反射率やヘイズ値等の光学特性が良好である。

（防汚層付きガラス基体の実施形態２）
図２は、本発明の実施形態２における防汚層付きガラス基体の概略図である。図２に示すように、実施形態２における防汚層付きガラス基体１００は、ガラス基体１０１と、防汚層１０３を有する。

ガラス基体１０１は、相互に対向する第１の主面１０１ａ、第２の主面１０１ｂを有する。第１の主面１０１ａ上には、防汚層１０３が形成される。防汚層１０３は、ガラス基体１０１から遠い第１の面１０３ａとガラス基体１０１と近い第２の面１０３ｂとを有する。なお、防汚層１０３は第２の主面１０１ｂ上に形成されても良く、第１の主面１０１ａ、第２の主面１０１ｂの両面に形成されても良い。

本発明の防汚層付きガラス基体の実施形態２を実現するためには、例えば使用するガラス原料の種類や粒度を制御する、溶解工程における雰囲気中の水分量や酸素量を制御する、成形工程における雰囲気中の水分量や酸素量を制御するという工夫が考えられる。また、ガラス基体の化学強化に用いる溶融塩に、特殊な塩を含ませる製造方法について、後述の（本発明の製造方法の実施形態２）において説明する。

（変形例）
次に、本発明における防汚層付きガラス基体の変形例について説明する。以下では、変形例として、反射防止層と防眩加工について説明するが、本発明における防汚層付きガラス基体はこれに限られず、ガラス基体の第１の主面１０１ａ上にその他の機能を持つ層が形成されても良く、ガラス基体の第１の主面１０１ａ自体にその他の処理が施されても良い。

（反射防止層）
図３に示すように、防汚層付きガラス基体１００は、ガラス基体１０１と密着層１０２の間に、反射防止層１０４を有しても良い。なお、反射防止層１０４の最表層もしくは、最表層の一部の充填密度を下げることにより、密着層１０２として機能させてもよい。反射防止層１０４は、例えば高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層されてなり、外光による反射を抑え表示画像の表示品質を高めるために形成される層である。

反射防止層１０４の構成としては、光の反射を所定範囲に抑制できる構成であれば特に限定されない。例えば、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６超の高屈折率層と、波長５５０ｎｍの光の屈折率が１．６以下の低屈折率層とが交互に積層されることにより形成される。

反射防止層１０４は、高屈折率層と低屈折率層を各一層ずつ含んでも良く、各２層以上含むことが好ましい。より好ましくは各２層〜１５層含み、更に好ましくは各４層〜１３層、更に好ましくは各４層〜１０層ずつ含む。これにより、良好な反射防止特性が得られる。

高屈折率層および低屈折率層を構成する材料は、特に制限されず、要求される反射防止性の程度や生産性を考慮して任意に選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）から１種以上を使用しても良い。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（特に、二酸化ケイ素ＳｉＯ_２）、ＳｉとＳｎとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＺｒとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＡｌとの混合酸化物を含む材料から１種以上選択し使用しても良い。

反射防止層１０４の厚さは、好ましくは１５０ｎｍ以上であると、効果的に外光の反射を抑制できる。より好ましくは２５０ｎｍ以上であり、更に好ましくは３５０ｎｍ以上である。一方、反射防止層１０４の厚さは、好ましくは１５００ｎｍ以下であると、膜のスチールウールの擦り耐性を確保するために好ましく、より好ましくは１０００ｎｍ以下、更に好ましくは８００ｎｍ以下である。

（防眩加工）
ガラス基体１０１の第１の主面１０１ａは、防眩性を付与するために凹凸形状を有していても良い。防眩加工された第１の主面１０１ａは二乗平均粗さ（ＲＭＳ）が１０〜１５００ｎｍであることが好ましく、１５ｎｍ〜１０００ｎｍであることがより好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることがさらに好ましく、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることがとくに好ましい。ＲＭＳが上記の範囲であることで、凹凸形状を有する第一の主面１０１ａのヘイズ値を３〜３０％に調整でき、その結果、得られる防汚層付きガラス基体１００に優れた防眩性を付与できる。

なお、二乗平均粗さ（ＲＭＳ）はＪＩＳ Ｂ ０６０１：（２００１）で規定される方法に準拠して測定できる。また、ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ ７１３６の規定により測定される値である。

また、凹凸形状を有する第１の主面１０１ａを上方から観察すると、円形状の孔が観察される。このように観察される円形状の孔の大きさ（真円換算での直径）は５μｍ〜５０μｍであることが好ましい。このような範囲にあることにより、防汚層付きガラス基体１００のギラツキ防止性と防眩性を両立可能である。

（本発明の製造方法の実施形態１）
次に、本発明の製造方法における実施形態１について説明する。図４には製造方法の実施形態１におけるフローを示した。

図４に示すように、本発明の防汚層付きガラス基体の第１の製造方法では、
（工程Ｓ４０１）相互に対向する一対の主面を有するガラス基体を準備する工程（ガラス基体準備工程）と、
（工程Ｓ４０２）前記ガラス基体の主面上に密着層を形成する工程（密着層形成工程）と、
（工程Ｓ４０３）前記密着層の上に防汚層を形成する工程（防汚層形成工程）と
を有する。
以下で、図１と図４を用いて各工程についての詳細を説明する。

（工程Ｓ４０１）
はじめに、相互に対向する第１の主面１０１ａと第２の主面１０１ｂを有するガラス基体１０１を準備する。ガラス基体１０１の表面に対して、研磨や洗浄、化学強化などの処理が任意になされても良い。

（化学強化処理）
ガラス基体１０１を、溶融塩に浸漬し、第１の主面１０１ａおよび第２の主面１０１ｂの表面にイオン交換処理を施すことで、化学強化することができる。イオン交換処理では、ガラス基体１０１の主面付近に存在するイオン半径が小さな金属イオン（典型的には、ＬｉイオンまたはＮａイオン）を、イオン半径のより大きいイオン（典型的には、Ｌｉイオンに対してはＮａイオンまたはＫイオンであり、Ｎａイオンに対してはＫイオン）に置換する。溶融塩としては、特に限られないが、例えばＫイオンを含有する含有塩が選択される。

溶融塩の温度としては、ガラス転移点以下の温度が選択される。ガラスと溶融塩の組成によるが、具体的には３５０℃以上、５００℃以下の温度が選択される。

浸漬時間は特に限られないが、通常１０分以上、２４時間以下である。

このような化学強化処理を施すことで、ガラス基体１０１の表面硬度を向上させることができ、カバーガラスなどに適用した際、衝撃による割れを防ぐことができるため、好ましい。

（アルカリ処理）
ガラス基体１０１をアルカリ溶液に浸漬することにより、ガラス基体の第１の主面１０１ａおよび第２の主面１０１ｂの表面に付着した有機物を除去することができる。

（プラズマ洗浄）
ガラス基体の第１の主面１０１ａに、大気下でプラズマを照射することにより、第１の主面１０１ａに付着した有機物を除去することができる。これにより、第１の主面１０１ａ上に形成される層との密着性が高まり、平坦な層が形成できる。また、プラズマを照射することにより、主面１０１ａの表面にＯＨ基などが修飾されるため、水を吸着しやすくなる。従って、防汚層付きガラス基体１００全体のＨ_２Ｏ量を増加させる効果が期待できる。

（工程Ｓ４０２）
次に、ガラス基体１０１の第１の主面１０１ａ上に密着層１０２を形成する。密着層１０２の形成方法は、特に限られないが、例えば、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法により形成できる。物理蒸着法としては、真空蒸着法やスパッタ法が挙げられ、好ましくは真空蒸着法により形成される。密着層１０２が真空蒸着法によって形成されることにより、密着層１０２中のＨ_２Ｏ濃度を増加させやすい。

真空蒸着法としては、例えば、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着法、分子線エピタキシ一法、ホットウオール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等が挙げられる。好ましくは簡便でコストが安い電子ビーム加熱法が用いられる。

電子ビーム加熱によるによる真空蒸着法では、真空蒸着装置は、真空チャンバー内に蒸着源と、蒸着源と対向するガラス基体を有し、蒸着源では試料が電子ビームにより加熱される。加熱により蒸発した試料が蒸着源から発生し、ガラス基体の第１の主面１０１ａ上に積層することで膜が形成される。

ガラス基体１０１は、ガラス基体の第１の主面１０１ａの法線が第１の主面１０１ａの中心と蒸着源の中心を結ぶ基準線に対し平行であるように設置されても良い。このようにすることで、密着層１０２はガラス基体の第１の主面１０１ａ上に平坦に形成できる。一方、ガラス基体１０１は、ガラス基体の第１の主面１０１ａの法線が主面１０１ａの中心と蒸着源の中心を結ぶ基準線に対し所定の角度をなすように傾斜させ設置しても良く、蒸着中に傾斜角度を適宜変更しても良い。このようにすることで、密着層１０２中に空隙の多い構造を実現する事ができる。

真空蒸着時のチャンバー内の圧力は、５×１０^−３Ｐａ以下であることが好ましい。チャンバー内の圧力がこの範囲であれば、真空蒸着を問題なく実施できる。一方、真空蒸着時のチャンバー内の圧力は、１×１０^−３Ｐａ以上であると、密着層１０２の蒸着速度が安定するため好ましい。

成膜時にチャンバー内に導入するガスとしては、例えばアルゴンもしくは酸素が挙げられる。酸素を使用すると、密着層１０２の酸素欠損を防ぐことができるため好ましい。酸素ガス流量は１０ｓｃｃｍ以下であると、密着層１０２のガラス基体１０１との密着力を維持するため好ましい。

真空蒸着の試料としては、二酸化ケイ素が好ましい。試料は加熱容器に入れられ、低真空下で加熱されることにより蒸発し、加熱容器に対向して設置されたガラス基体の第１の主面１０１ａ上に成膜される。

成膜レートは、５．０Å／ｓ以下であると、密着層内に低密度層を形成しやすく、Ｈ_２Ｏ含有量を増加させやすいため、好ましい。より好ましくは４．０Å／ｓ以下であり、更に好ましくは２．５Å／ｓ以下である。一方、成膜レートは０．５Å／ｓ以上であることが好ましく、より好ましくは１．０Å／ｓ以上であると、蒸着速度が安定するため好ましい。

密着層は、好ましくは２０ｎｍ以上になるまで蒸着され、より好ましくは３０ｎｍ以上になるまで、更に好ましくは５０ｎｍ以上になるまで蒸着される。密着層の厚さをこのような範囲することで、密着層内が密度の異なる二層に分離し、密着層内の一部に低密度層を形成しやすく、Ｈ_２Ｏ含有量を増加させやすいため、好ましい。密着層は好ましくは１００ｎｍ以下で蒸着され、より好ましくは８０ｎｍ以下になるまで蒸着される。このようにすることで、膜の充填密度が下がりすぎて、膜の機械的な擦り耐久性が低下することを防ぐため好ましい。

（工程Ｓ４０３）
次に、密着層１０２上に防汚層１０３を形成する。
防汚層を形成する方法としては、特に限られず、密着層１０３上にスピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレーコート法等の湿式法や、真空蒸着法に代表される乾式法が挙げられる。密着性が高く耐摩耗性が高い防汚層を形成するためには、真空蒸着法により形成することが好ましい。真空蒸着法としては、例えば、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着法、分子線エピタキシ一法、ホットウオール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等が挙げられる。好ましくは抵抗加熱法が装置が簡便であり、低コストである。

真空蒸着時のチャンバー内の圧力は、５×１０^−３Ｐａ以下であることが好ましい。チャンバー内の圧力がこの範囲であれば、真空蒸着を問題なく実施できる。一方、真空蒸着時のチャンバー内の圧力は、１×１０^−４Ｐａ以上であると、防汚層の蒸着速度を一定以上に維持できるため好ましい。

蒸着出力は、電流密度換算で２００ｋＡ／ｍ^２以上であれば、防汚層に水が吸着することを防ぐことができ、安定して成膜できるため好ましい。防汚層が密着層１０２上に形成される前に水が吸着すると、防汚剤が二量体化してしまい十分な摩耗耐久性を発現しないことが知られている。より好ましくは、３００ｋＡ／ｍ^２以上、更に好ましくは３５０ｋＡ／ｍ^２以上である。一方蒸着出力は１０００ｋＡ／ｍ^２以下であると、防汚層の原料を含浸させているスチールウールやルツボの成分が蒸発することを防ぐことができるため好ましい。

蒸着試料は、含フッ素系有機化合物をペレット状の銅容器に含浸させる形で保持されることが好ましい。含浸作業は窒素雰囲気下で行われると良い。このようにすることで、含フッ素系有機化合物が単分子原子として蒸着される層を増やすことができ、防汚層１０３の耐摩耗性が向上する。

（本発明の製造方法の実施形態２）
次に、本発明の製造方法における実施形態２について説明する。図５には製造方法の実施形態２におけるフローを示した。

図５に示すように、本発明の防汚層付きガラス基体の第１の製造方法では、
（工程Ｓ５０１）相互に対向する一対の主面を有するガラス基体を準備する工程（ガラス基体準備工程）と、
（工程Ｓ５０２）前記ガラス基体の前記主面を、Ｋイオンを主体とし、Ｌｉイオンを１０ｐｐｍ以上、またはＮＯ^２−イオンを１００ｐｐｍ以上含むか、ＬｉイオンとＮＯ^２−イオンの両方を含み、Ｌｉが１０ｐｐｍ以上または、ＮＯ^２−イオンが１００ｐｐｍ以上である溶融塩に浸漬することで化学強化する工程（化学強化工程）と、
（工程Ｓ５０３）前記ガラス基体の主面を酸処理する工程（酸処理工程）と、
（工程Ｓ５０４）前記密着層の上に防汚層を形成する工程（防汚層形成工程）と、
を有する。
以下で、図２と図５を用いて各工程についての詳細を説明する。

（工程Ｓ５０１）
はじめに、相互に対向する第１の主面１０１ａと第２の主面１０１ｂを有するガラス基体１０１を準備する。

（工程Ｓ５０２）
次に、ガラス基体１０１を、Ｋイオンを主体とする溶融塩に浸漬し、第１の主面１０１ａおよび第２の主面１０１ｂの表面にイオン交換処理を施すことで、化学強化する。Ｋイオンを主体とする溶融塩は、重量百分率でＬｉイオンを１０ｐｐｍ以上、またはＮＯ^２−イオンを１００ｐｐｍ以上含むか、ＬｉイオンとＮＯ^２−イオンの両方を含み、Ｌｉイオンが１０ｐｐｍ以上または、ＮＯ^２−イオンが１００ｐｐｍ以上であることを特徴とする。なお、溶融塩がＬｉイオン及びＮＯ^２−イオンの両方を含有するとき、Ｌｉイオン濃度が１０ｐｐｍ以上であるならば、ＮＯ^２−イオンは１００ｐｐｍ以下であっても良く、ＮＯ^２−イオンが１００ｐｐｍ以上であるならば、Ｌｉイオンは１０ｐｐｍ以下であっても良い。

溶融塩中のＬｉイオン濃度は、１０ｐｐｍ以上であり、５０ｐｐｍ以上がより好ましく、１００ｐｐｍ以上が更に好ましい。ＮＯ^２−イオンの濃度は１００ｐｐｍ以上であり、１５０ｐｐｍ以上がより好ましく、２００ｐｐｍ以上が更に好ましい。溶融塩がＬｉやＮＯ^２−イオンを含むことにより、強化中に高温でガラス表層がアルカリと反応することで構造が変化し、酸処理の効果を高められると考えられる。
一方、良好な化学強化特性を維持するためにはＬｉイオン濃度は、６０００ｐｐｍ以下が好ましく、５５００ｐｐｍ以下がより好ましく、５０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、ＮＯ^２−イオンの濃度は１００００ｐｐｍ以下が好ましく、８０００ｐｐｍ以下がより好ましく、６０００ｐｐｍ以下が更に好ましい。
なお、溶融塩中のＬｉイオンの濃度は、原子吸光光度計によって測定でき、ＮＯ^２−イオンの濃度は、ナフチルエチレンジアミン比色法によって測定することができる。

溶融塩のｐＨは、７以上であることが好ましく、好ましくは８．５以上であり、より好ましくは９以上であり、更に好ましくは９．５以上であり、特に好ましくは９．７以上である。溶融塩のｐＨを増加させることで、防汚層付きガラス基体１００のＨ_２Ｏ吸光度を増加させられる。一方、溶融塩のｐＨは１４以下であることが好ましく、１３以下であることがより好ましく、１２以下であることが更に好ましく、１１以下であることが特に好ましい。溶融塩のｐＨは、例えば溶融塩の温度や露点等を制御することにより調節される。溶融塩を強アルカリにすることにより、ガラスの主成分であるＳｉＯ_２の一部が、例えば下記反応例により溶出し、ガラス表面の凹凸が増加するため、吸着するＨ_２Ｏ量や−ＯＨ量が増加すると考えられる。
反応例）ＳｉＯ_２ ＋ ２ＮａＯＨ → Ｎａ_２ＳｉＯ_３ ＋ Ｈ_２Ｏ

溶融塩の温度としては、ガラス転移点以下の温度が選択される。ガラスと溶融塩の組成によるが、具体的には３５０℃以上、５００℃以下の温度が選択される。

浸漬時間は特に限られないが、通常１０分以上、２４時間以下である。

（工程Ｓ５０３）
次に、ガラス基体１０１を、酸に浸漬し、ガラス基体の第１の主面１０１ａおよび第２の主面１０１ｂの表面を酸処理する。ガラスの酸処理とは、酸性の溶液中に、化学強化ガラスを浸潰させることによって行う。また、洗浄工程に酸を用いることで洗浄の効果と酸処理の効果を同時に得ることもできる。

使用する酸は特に限られないが、例えば塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、酢酸、シユウ酸、炭酸及びクエン酸などが挙げられる。好ましくは硝酸が用いられる。これらの酸は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。また、酸処理の効果を高めるために超音波やキレート剤を用いることもできる。

使用する溶液は酸性であれば特に制限されず、ｐＨ７未満であればよく、酸処理の効果を高めるためにｐＨ６以下が好ましく、ｐＨ５以下がより好ましく、ｐＨ４．５以下が最も好ましい。容器腐食などを考慮するとｐＨ０．５以上が好ましい。

酸処理を行う温度は、特に限られず、用いる酸の種類や濃度、時間によっても異なるが１００℃以下であると好ましい。酸処理を行う時間は、特に限られないが、１０秒〜２時間であると好ましい。生産性の観点から、１時間以下が好ましく、４０分間以下がより好ましく、２０分間以下が最も好ましい。酸処理の効果を安定して得るためには１０秒以上が好ましく、３０秒以上がより好ましく、１分以上が最も好ましい。

酸にはキレート剤が添加されることが好ましい。キレート剤としては、例えばクエン酸、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）、ＮＴＡ（ニトリロ三酢酸）、ＣｙＤＴＡ（ｔｒａｎｓ−１，２−シクロヘキサンジアミン四酢酸）、ＤＴＰＡ（ジエチレントリアミン五酢酸）、ＧＥＤＴＡ（グリコールエーテルジアミン四酢酸）があり、好ましくはクエン酸またはクエン酸金属塩が用いられる。キレート剤が添加されることにより、酸処理の過程でガラス表面がわずかにエッチングされ、Ｈ_２Ｏ量や−ＯＨ量を増やすことができる。

このようにすることで、防汚層付きガラス基体のＨ_２Ｏ含有量を高めることができ、Ｈ_２Ｏ吸光度を０．０１０以上にできるため、防汚層の耐摩耗性を改善できる。

（変形例）
次に、本発明における製造方法の変形例について説明する。以下では、変形例として、反射防止層形成工程と防眩処理工程について説明するが、本発明における製造方法はこれに限られず、ガラス基体の第１の主面１０１ａ上にその他の機能を持つ層が形成されても良く、ガラス既知の第１の主面１０１ａ自体にその他の処理が施されても良い。

（反射防止層形成工程）
図３に示すように、防汚層付きガラス基体１００は、ガラス基体１０１と密着層１０２の間に、反射防止層１０４を有しても良い。反射防止層１０４を形成する工程は、例えば図４の製造フローにおいて、工程Ｓ４０１と工程Ｓ４０２の間で実施される。なお、この時工程Ｓ４０２は実施されなくても良い。

反射防止層１０４の形成方法は、特に限られないが、例えば、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法により形成できる。物理蒸着法としては、真空蒸着法やスパッタ法が挙げられる。

（防眩処理工程）
ガラス基体１０１の第１の主面１０１ａは、防眩性を付与するために凹凸形状を有していても良い。防眩処理としては、特に限られず、ガラス基体１０１の第１の主面１０１ａに対し化学的方法や物理的方法により施される。化学的な方法による防眩処理として具体的には、フロスト処理を施す方法が挙げられる。フロスト処理は、例えば、フッ化水素とフッ化アンモニウムの混合溶液に、被処理体であるガラス基体１０１を浸漬することで行われる。物理的方法による防眩処理として例えば、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を加圧空気でガラス基体５の表面に吹きつけるいわゆるサンドブラスト処理や、結晶質二酸化ケイ素粉、炭化ケイ素粉等を付着させたブラシを水で湿らせて、これを用いてガラス基体１０１表面を研磨する方法等で行われる。なかでも、化学的表面処理であるフロスト処理は、被処理体表面におけるマイクロクラックが生じ難く、ガラス基体１０１の強度の低下が生じ難いため、好ましく利用できる。

また、防眩処理の代わりに、ガラス基体１０１の第１の主面１０１ａ上に防眩層を形成しても良い。防眩層は、樹脂や金属等の微粒子を含む塗布液を、ウェットコート法（スプレーコート法、静電塗装法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法等）等で塗布することにより形成される。

（測定・試験方法）
次に、本発明における防汚層付きガラス基体１００の評価方法について説明する。

（吸光度測定）
フーリエ変換型赤外分光光度計（Ｆｏｕｒｉｅｒ ｔｒａｎｓｆｏｒｍ ｉｎｆｒａｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ： 以下ＦＴＩＲ）を用いて防汚層付きガラス基体内部の吸光度を測定する方法において、防汚層付きガラス基体の防汚層が形成された側の表面をＡＴＲ法（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）で測定し、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値を０．１０に設定した場合に、観測される３４００ｃｍ^−１付近に存在する吸光度ピークのピーク値から、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値（Ｈ_２Ｏ吸光度）、および、観測される３６００ｃｍ^−１付近に存在する吸光度ピークのピーク値から、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値（ＯＨ吸光度）を用いる。

（水接触角測定）
防汚層の防汚性を評価する方法として、水接触角を測定する。水接触角は大きいほど防汚性に優れていることを示す。防汚層付きガラス基体の防汚層の表面上に、約１μＬの純水の水滴を着滴させ、接触角計を用いて、水に対する接触角を測定する。

（帯電量測定）
摩擦帯電量はＪＩＳ Ｌ１０９４：２０１４に記載のＤ法（摩擦帯電減衰測定法）により求める。

（消しゴム摩擦摩耗試験）
平面摩耗試験器を用いて、荷重１ｋｇｆ、ストローク幅４０ｍｍ、速度４０ｒｐｍ、２５℃５０％ＲＨの条件で防汚層表面を直径６ｍｍの消しゴムにより７５００回摩耗させる。その後、防汚層表面の水接触角を測定する。

（スチールウール摩耗試験）
平面摩耗試験機を用いて、荷重１ｋｇｆ、ストローク幅２０ｍｍ、速度８０ｒｐｍ、２５℃５０％ＲＨの条件で１ｃｍ^２の圧子に取り付けた＃００００のスチールウールにより防汚層表面を７５００回摩耗させる。その後、防汚層表面の水接触角を測定する。

（防汚層付きガラス基体の製造例（密着層あり））
次に、本発明の防汚層付きガラス基体の製造例について説明する。本製造例では、上述の防汚層付きガラス基体の実施形態１に従い、ガラス基体と防汚層の間に密着層を形成した。ガラス基体の第１の主面上に密着層を形成した。各例の条件および評価結果は下記表１にまとめた。
なお、例１〜１０が実施例であり、例１１〜１５が比較例である。

（例１）
ガラス基体として、酸化物基準の質量百分率表示で以下の組成（組成例１）を有するガラスを準備した。
（組成例１）
ＳｉＯ_２ ６９．６ ％
Ａｌ_２Ｏ_３ １２．７ ％
ＭｇＯ ４．７ ％
ＺｒＯ_２ ２．０ ％
Ｌｉ_２Ｏ ４．０ ％
Ｎａ_２Ｏ ５．４ ％
Ｋ_２Ｏ １．６ ％
ガラス基体は１０ｃｍ×１０ｃｍの寸法になるよう切断し、ガラス基体の第１の主面を研磨した。
ガラス基体は、温度４１０℃、１００重量％の硝酸ナトリウム溶液に４時間浸漬することによって表面を１次強化した後、９９重量％の硝酸カリウムと１重量％の硝酸ナトリウムからなる温度４４０℃の混合溶液に、１時間浸漬することにより表面を２次強化した。化学強化の後、純水およびアルカリ性洗剤に浸漬することでガラス基体を洗浄した。その後、ガラス基体の第１の主面に対しプラズマを照射し、プラズマ洗浄を行った。

次に、ガラス基体の第１の主面上に、密着層を形成した。密着層の材料としては二酸化ケイ素（ＭＥＲＣＫ社製、ＳｉＯ_２蒸着源、１〜２．５ｍｍ顆粒）を使用し、抵抗加熱による真空蒸着法により成膜した。成膜時の真空チャンバー内の圧力は３．０×１０^−３Ｐａとし、蒸着出力は０．８５ｋＷ、成膜レートは１．０Å／ｓで、密着層の厚さが３０ｎｍとなるよう製膜した。

次に、密着層の第１の面上に、防汚層を形成した。防汚層の材料としては含フッ素有機化合物（Ｄａｉｋｉｎ社製、ＵＤ−５０９）を使用し、抵抗加熱による真空蒸着法により成膜した。試料は、ＳＷ内包ペレット状銅容器を前日の夜に窒素雰囲気化で試料液に３０分間含浸させたのち、真空引きすることで担持させた状態で使用した。試料は成膜時の真空チャンバー内の圧力は３．０×１０^−３Ｐａとし、蒸着出力は３１８．５ｋＡ／ｍ^２で３００ｓｅｃ間蒸着した。防汚層の厚さは１５ｎｍであった。

例２〜１５では、密着層の形成条件以外は例１と同様であった。
（例２）
例２では、成膜レートは２．５Å／ｓで、密着層の厚さが３０ｎｍとなるよう製膜した。
（例３）
例３では、成膜レートは５．０Å／ｓで、密着層の厚さが３０ｎｍとなるよう製膜した。
（例４）
例４では、成膜レートは１．０Å／ｓで、密着層の厚さが５０ｎｍとなるよう製膜した。
（例５）
例５では、成膜レートは２．５Å／ｓで、密着層の厚さが５０ｎｍとなるよう製膜した。
（例６）
例６では、成膜レートは５．０Å／ｓで、密着層の厚さが５０ｎｍとなるよう製膜した。
（例７）
例７では、成膜レートは１．０Å／ｓで、密着層の厚さが１００ｎｍとなるよう製膜した。
（例８）
例８では、成膜レートは２．５Å／ｓで、密着層の厚さが１００ｎｍとなるよう製膜した。
（例９）
例９では、成膜レートは５．０Å／ｓで、密着層の厚さが１００ｎｍとなるよう製膜した。
（例１０）
例１０では、成膜レートは２．５Å／ｓで、密着層の厚さが２０ｎｍとなるよう製膜した。

（例１１）
例１１では、成膜レートは２．５Å／ｓで、密着層の厚さが１０ｎｍとなるよう製膜した。

（例１２）
例１２ではゾル―ゲル法により得られる前駆体を、ガラス基体の第１の主面上にスピンコートで塗布し、加熱処理することで、ガラス基体の第１の主面上にＳｉＯ_２密着層を形成した。

（例１３）
例１３では、密着層をスパッタ法により製膜した。スパッタターゲットには、多結晶Ｓｉ（ケミストン社製、純度５Ｎ）を用いた。成膜時のチャンバー内の圧力は２．６×１０^−３Ｐａとし、Ａｒガスを１５ｓｃｃｍ、Ｏ_２ガスを６０ｓｃｃｍの流量で導入した。蒸着時の出力は８０Ｗ、成膜時間３００ｓｅｃで、密着層の厚さが１０ｎｍとなるよう製膜した。

（例１４）
例１４では、例１３と同様の条件のスパッタ法により密着層を形成した。例１４では、成膜時間９００ｓｅｃで、密着層の厚さが３０ｎｍとなるよう製膜した。

（例１５）
例１５では、例１３と同様の条件のスパッタ法により密着層を形成した。例１５では、成膜時間１５００ｓｅｃで、密着層の厚さが５０ｎｍとなるよう製膜した。

（評価方法）
上記実施例および比較例で得られた防汚層付きガラス基体は、以下の方法で評価した。
（吸光度測定）
ＦＴＩＲ（Ｔｈｅｒｍｏ Ｆｉｓｅｒ ＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ社、Ｎｉｃｏｌｅｔ６７００）を用い、ＡＴＲ法（Ｃｚｉｔｅｋ社、ＭｉｃｒｏＡＴＲ）と呼ばれる接触方法で測定法を行った。波長３４００ｃｍ^−１付近に存在するＨ_２Ｏに起因した吸光度のピークから、波長３９５５ｃｍ^−１における吸光度をベースとして差して計算した。

（水接触角測定）
防汚層の防汚性を評価する方法として、水接触角を測定した。防汚層付きガラス基体１００の防汚層の表面上に、約１μＬの純水の水滴を着滴させ、接触角計を用いて、水に対する接触角を測定した。

（帯電量測定）
摩擦帯電量はＪＩＳ Ｌ１０９４：２０１４に記載のＤ法（摩擦帯電減衰測定法）により求めた。

（消しゴム摩擦摩耗試験）
平面摩耗試験器（３連式）（大栄科学精器製作所製、装置名：ＰＡ−３００Ａ）を用いて、荷重１ｋｇｆ、ストローク幅４０ｍｍ、速度４０ｒｐｍ、２５℃５０％ＲＨの条件で防汚層表面を直径６ｍｍの消しゴム（ＷＯＯＪＩＮ社製 ピンクペンシル）により７５００回摩耗させた。その後、防汚層表面の水接触角を測定した。

（スチールウール摩耗試験）
平面摩耗試験機（３連式）（大栄科学精器製作所製、装置名：ＰＡ−３００Ａ）を用いて、荷重１ｋｇｆ、ストローク幅２０ｍｍ、速度８０ｒｐｍ、２５℃５０％ＲＨの条件で１ｃｍ^２の圧子に取り付けた＃００００のスチールウールにより防汚層表面を７５００回摩耗させた。その後、防汚層表面の水接触角を測定した。

下記表１には、例１〜１５における実施条件と評価結果を示した。例１〜１０では、Ｈ_２Ｏ吸光度が０．０１０以上であるため、スチールウール摩耗試験後や、消しゴム摩耗試験後でも、水接触角が９０°以上であり、耐摩耗性に優れていることが分かる。

（防汚層付きガラス基体の製造例（密着層なし））
次に、密着層を形成しない場合の製造例について説明する。密着層を形成しない場合は、上述の製造方法の実施形態２に記載の製造方法に従って、防汚層付きガラス基体を製造した。各例の条件および評価結果は下記表２にまとめた。
なお、例１６〜１８が実施例であり、例１９〜２１が比較例である。

（例１６）
ガラス基体として、酸化物基準の質量百分率表示で以下の組成（組成例４）を有するガラスを準備した。
（組成例４）
ＳｉＯ_２ ６３．５ ％
Ａｌ_２Ｏ_３ １８．０ ％
ＭｇＯ ２．０ ％
ＺｒＯ_２ ２．５ ％
Ｙ_２Ｏ_３ １．５ ％
Ｌｉ_２Ｏ ４．５ ％
Ｎａ_２Ｏ ５．５ ％
Ｋ_２Ｏ ２．０ ％
ガラス基体は１０ｃｍ×１０ｃｍの寸法になるよう切断した後、ガラス基体の第１の主面を研磨した。ガラス基体は板厚０．５５ｍｍであった。

次に、ガラス基体は、温度４１０℃の硝酸ナトリウム溶融塩に４時間浸漬することで表面を一次強化した。

次に、ガラス基体を９９重量％の硝酸カリウムと１重量％の硝酸ナトリウムからなる温度４４０℃の溶融塩に１時間浸漬することで表面を二次強化した。ここで、溶融塩はＬｉイオンを２０００ｐｐｍ、ＮＯ^２−イオンを１００ｐｐｍ含んでいた。また、この時溶融塩のｐＨは９．７であり、溶融塩のｐＨは、溶融塩にメタケイ酸ナトリウムを１．１５質量％添加することにより調製した。学強化後のガラス基体は、Ｈ_２Ｏで超音波洗浄した。

化学強化の後、温度４０℃、濃度０．１ｍｏｌ％の硝酸溶液に２分間浸漬することによりガラス基体に酸処理を施した。硝酸溶液にはキレート剤としてクエン酸カリウムを添加した。酸処理後のガラス基体は、アルカリ溶液で洗浄された。

次に、密着層の第１の面上に、防汚層を形成した。防汚層の材料としては含フッ素有機化合物（Ｄａｉｋｉｎ社製、ＵＤ−５０９）を使用し、抵抗加熱による真空蒸着法により成膜した。試料は、窒素雰囲気下でペレット状の銅容器に含浸させることで使用した。試料は成膜時の真空チャンバー内の圧力は５．０×１０^−３Ｐａとし、蒸着出力は３２８．５ｋＡ／ｍ^２で３００ｓｅｃ間蒸着した。防汚層の厚さは１５ｎｍであった。

（例１７、例１８）
例１７では、二次強化工程における硝酸カリウム溶融塩のｐＨが９．５であり、例１８では、二次強化工程における硝酸カリウム溶融塩のｐＨが７．０であった。また、酸処理工程では、硝酸塩にキレート剤を添加しなかった。その他は、例１６と同様の条件で防汚層付きガラス基体を作製した。

（例１９）
例１９では、上述の組成例１の組成を有するガラス基体を用い、１０ｃｍ×１０ｃｍの寸法になるよう切断した後、ガラス基体の第１の主面を研磨した。ガラス基体の板厚は０．５５ｍｍであった。化学強化工程においては、ガラス基体を、温度４５０℃の硝酸ナトリウム溶融塩に１．５時間浸漬することで表面を一次強化した。続けて、温度４２５℃、Ｌｉイオンを２０００ｐｐｍ、ＮＯ^２−イオンを１００ｐｐｍ含む硝酸カリウム溶融塩に１．５時間浸漬することで表面を二次強化した。化学強化後のガラス基体は、Ｈ_２Ｏで超音波洗浄した。なお、酸処理は行わず、防汚層の形成前にアルカリ処理を行った。防汚層の形成条件は、例１６と同様であった。

（例２０）
例２０では、酸処理を行わなかったこと以外は、例１６と同様の条件で防汚層付きガラス基体を作製した。

（例２１、例２２）
例２１、例２２では、二次強化工程において、ガラス基体を温度４４０℃の硝酸カリウム溶融塩に１時間浸漬した。なお、溶融塩はＬｉイオン、ＮＯ^２−イオンを含有せず、溶融塩のｐＨは７．０であった。また、酸処理工程において、例２１では硝酸の温度は６０℃とし、例２２では４０℃とした。なお、例２１、例２２では、硝酸にはキレート剤を添加しなかった。その他は、例１６と同様の条件で防汚層付きガラス基体を作製した。

下記表２に、例１６〜例２２の実施条件と評価結果を示した。なお、評価方法は上述の防汚層付きガラス基体の製造例（密着層あり）の場合と同様である。例１６〜例１８では、Ｌｉイオンを２０００ｐｐｍ、ＮＯ^２−イオンを１００ｐｐｍ含む、硝酸カリウム溶融塩で化学強化処理を行ない、さらに酸処理を実施する事により、Ｈ_２Ｏ吸光度が０．０１０以上の防汚層付きガラス基体を作製でき、スチールウール摩耗試験後や、消しゴム摩耗試験後の水接触角を９０°以上に保つことができた。特に、劣化塩がキレート剤を含む場合は、Ｈ_２Ｏ吸光度が最も高くなった。

（ガラス基体の組成の例）
次に、本発明におけるガラス基体に好適に用いられるガラス組成の例を表３に示した。組成は酸化物基準の質量百分率表示で示している。

本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０１９年２月２２日出願の日本特許出願（特願２０１９−０３０９７５）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

１００ 防汚層付きガラス基体
１０１ ガラス基体
１０１ａ ガラス基体の第１の主面
１０１ｂ ガラス基体の第２の主面
１０２ 密着層
１０２ａ 密着層の第１の面
１０２ｂ 密着層の第２の面
１０３ 防汚層
１０３ａ 防汚層１０３の第１の面
１０３ｂ 防汚層１０３の第２の面
１０４ 反射防止層

Claims (13)

1. 相互に対向する一対の主面を有するガラス基体と、
   前記ガラス基体の少なくとも一方の主面上に形成された防汚層を備えた、防汚層付きガラス基体であって、
   前記防汚層付きガラス基体の内部の吸光度を、フーリエ変換型赤外分光光度計により、前記防汚層が形成された側の表面からＡＴＲ法（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）で測定する時、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値を０．１０に設定した場合、３４００ｃｍ^−１付近に発生する吸光度ピークのピーク値から、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値（Ｈ_２Ｏ吸光度）が、０．０１０以上である、防汚層付きガラス基体。
2. 前記防汚層付きガラス基体の内部の吸光度を、フーリエ変換型赤外分光光度計により、前記防汚層が形成された側の表面からＡＴＲ法（Ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ Ｔｏｔａｌ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）で測定する時、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値を０．１０に設定した場合、３６００ｃｍ^−１付近に発生する吸光度ピークのピーク値から、３９５５ｃｍ^−１における吸光度の値をベースとして差し引いた値（Ｓｉ−ＯＨ吸光度）が、０．００７０以上である、請求項１に記載の防汚層付きガラス基体。
3. 前記ガラス基体は化学強化ガラスである、請求項１または２に記載の防汚層付きガラス基体。
4. 前記ガラス基体の組成は、酸化物基準の質量百分率表示で、
   ＳｉＯ_２を５５〜８０％、
   Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２８％、
   Ｂ_２Ｏ_３を０〜１０％、
   Ｌｉ_２Ｏを２〜１０％、
   Ｎａ_２Ｏを０．５〜１１％、
   Ｋ_２Ｏを０〜１０％、
   （ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０〜１０％、及び
   （ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２）を０〜５％、
   含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の防汚層付きガラス基体。
5. 前記ガラス基体の主面と、前記防汚層の間に、密着層が形成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の防汚層付きガラス基体。
6. 前記密着層は二酸化ケイ素膜である、請求項５に記載の防汚層付きガラス基体。
7. 前記密着層の厚さは、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、請求項５または６に記載の防汚層付きガラス基体。
8. 前記密着層が、密度の異なる２層を有する、請求項５〜７のいずれか１項に記載の防汚層付きガラス。
9. 相互に対向する一対の主面を有するガラス基体を準備する工程と、
   前記ガラス基体を、Ｋイオンを含有する溶融塩に浸漬することで化学強化する工程と、
   前記ガラス基体の主面を酸処理する工程と、
   前記ガラス基体の少なくとも一方の主面上に防汚層を形成する工程を有する、防汚層付きガラス基体の製造方法であって、
   前記化学強化工程における前記溶融塩は、さらに、１０ｐｐｍ以上のＬｉイオンまたは１００ｐｐｍ以上のＮＯ^２−イオンを含むか、Ｌｉイオン及びＮＯ^２−イオンを含み、Ｌｉイオンの含有量が１０ｐｐｍ以上またはＮＯ^２−イオンの含有量が１００ｐｐｍ以上である、製造方法。
10. 前記酸処理に用いられる酸のｐＨが４．５以下である、請求項９に記載の防汚層付きガラス基体の製造方法。
11. 前記酸処理には硝酸が用いられる、請求項９または１０に記載の防汚層付きガラス基体の製造方法。
12. 前記酸処理には、キレート剤が添加される、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の防汚層付きガラス基体の製造方法。
13. 前記溶融塩のｐＨが７以上である、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の防汚層付きガラス基体の製造方法。
    

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