JP7222417B2 - アンチグレアガラス基板 - Google Patents
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Description
また、このような表示装置においては、カバーをなすガラス基板表面に人の指等が触れる機会が多く、人の指等が触れた場合に、ガラス基板表面に脂等が付着し易い。そして、脂等が付着した場合には視認性に影響を及ぼすことから、アンチグレア処理が施されたガラス基板の表面に防汚処理が施されたものが用いられている。
本実施形態のアンチグレアガラス基板について図1を用いて説明する。図1は本実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。図1に示すアンチグレアガラス基板10は、ガラス基板11の第1の主面にアンチグレア処理が施された構成である。図1に示すガラス基板11において、上面が第1の主面、第1の主面に対向する下面が第2の主面である。本実施形態のアンチグレアガラス基板10は、ガラス基板11の第1の主面の表面にアンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分20と、ガラス基板11の第1の主面の表面にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分30とを備えている。また、ガラス基板11の第1の主面上には防汚膜12が設けられている。
本実施形態では、ガラス基板11の第1の主面に表面処理を施して、凹凸形状を形成することで、アンチグレアガラス基板10のアンチグレア処理部分20を形成する。上記の目的で実施する表面処理方法は特に限定されず、ガラス基板の主面に表面処理を施して、所望の凹凸形状を形成する方法を利用でき、一般的にはエッチングが用いられる。
上述した効果を奏するためには、ガラス基板11の第1の主面の表面に占める非アンチグレア処理部分30の面積比が20%以下であることが好ましく、15%以下がより好ましく、10%以下がさらに好ましい。
本実施形態において、アンチグレア処理部分20と、非アンチグレア処理部分30とのガラス基板11の板厚方向における高さの差hが10μm以上200μm以下である。なお、本明細書において、アンチグレア処理部分20と、非アンチグレア処理部分30とのガラス基板の板厚方向における高さの差hとは、ガラス基板11の第1の主面上に防汚膜12が設けられた状態での両者の高さの差である。高さの差hが10μm未満の場合は、アンチグレア処理部分20と非アンチグレア処理部分30との境界において高さが不十分であり、アンチグレア処理部分20と非アンチグレア処理部分30との接続領域における角度が緩やかとなる。このため、アンチグレアガラス基板10の上面視において境界領域の外観が、その他のアンチグレア処理部分20及び非アンチグレア処理部分30と異なるように見え、汚れのような白曇りが視認されることがある。この白曇りは、アンチグレア処理が短時間であるが故に、アンチグレア処理に使用した薬剤とガラス基板11との反応が不均質となり生じうる。この接続領域に、さらに防汚剤を塗布すると防汚剤と接続領域との反応性の不均質のため、防汚剤の凝集が発生することがある。防汚剤が凝集すると接続領域において防汚剤の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤として十分に機能しなくなる恐れがある。加えて、防汚剤が凝集することによる外観の低下も懸念される。高さの差hを10μm以上とすることで上記の問題を回避できる。但し、高さの差hが200μm超だと、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる。高さの差hは10μm以上100μm以下が好ましい。
このような機能膜としては、例えば、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とできる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ1層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ2層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ2層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜(層)が積層された積層体が好ましい。例えば該積層体は全体で2層以上6層以下の膜の積層が好ましく、2層以上4層以下の膜の積層がより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、窒化ケイ素(SiN)、酸化タンタル(Ta2O5)から選択された1種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素(SiO2)を好ましく利用できる。高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体がより好ましい。膜厚としては40nm以上500nm以下が好ましく、100nm以上300nm以下がより好ましい。
形状としては、平坦部と屈曲部との両方を有する板であってもよく、板に限らずフィルム状であってもよい。
ガラス基板11は、透明であればよく、視認性の確保等の機能を損なわない限り、色を付与した基材でよい。
(i)酸化物基準のモル%で表示した組成で、SiO2を63~73%、Al2O3を0.1~5.2%、Na2Oを10~16%、K2Oを0~1.5%、Li2Oを0~5%、MgOを5~13%及びCaOを4~10%を含むガラス。
(ii)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を50~74%、Al2O3を1~10%、Na2Oを6~14%、K2Oを3~11%、Li2Oを0~5%、MgOを2~15%、CaOを0~6%およびZrO2を0~5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が75%以下、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12~25%、MgOおよびCaOの含有量の合計が7~15%であるガラス。
(iii)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を68~80%、Al2O3を4~10%、Na2Oを5~15%、K2Oを0~1%、Li2Oを0~5%、MgOを4~15%およびZrO2を0~1%含有するガラス。
(iv)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を67~75%、Al2O3を0~4%、Na2Oを7~15%、K2Oを1~9%、Li2Oを0~5%、MgOを6~14%およびZrO2を0~1.5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が71~75%、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12~20%であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であるガラス。
(v)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を50~80%、Al2O3を2~25%、Li2Oを0~10%、Na2Oを0~18%、K2Oを0~10%、MgOを0~15%、CaOを0~5%およびZrO2を0~5%を含むガラス。
(vi)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を50~74%、Al2O3を1~10%、Na2Oを6~14%、K2Oを3~11%、MgOを2~15%、CaOを0~6%およびZrO2を0~5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が75%以下、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12~25%、MgOおよびCaOの含有量の合計が7~15%であるガラス。
(vii)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を68~80%、Al2O3を4~10%、Na2Oを5~15%、K2Oを0~1%、MgOを4~15%およびZrO2を0~1%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が80%以下であるガラス。
(viii)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を67~75%、Al2O3を0~4%、Na2Oを7~15%、K2Oを1~9%、MgOを6~14%、CaOを0~1%およびZrO2を0~1.5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が71~75%、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12~20%であるガラス。
(ix)酸化物基準のモル%で表示した組成が、SiO2を60~75%、Al2O3を0.5~8%、Na2Oを10~18%、K2Oを0~5%、MgOを6~15%、CaOを0~8%含むガラス。
(x)酸化物基準の質量%で表示した組成が、SiO2を63~75%、Al2O3を3~12%、MgOを3~10%、CaOを0.5~10%、SrOを0~3%、BaOを0~3%、Na2Oを10~18%、K2Oを0~8%、ZrO2を0~3%、Fe2O3を0.005~0.25%含有し、R2O/Al2O3(式中、R2OはNa2O+K2Oである)が2.0以上4.6以下であるガラス。
(xi)酸化物基準の質量%で表示した組成が、SiO2を66~75%、Al2O3を0~3%、MgOを1~9%、CaOを1~12%、Na2Oを10~16%、K2Oを0~5%含有するガラス。
本実施形態のアンチグレアガラス基板について図3を用いて説明する。図3は本実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。図3に示すアンチグレアガラス基板40は、ガラス基板41の第1の主面にアンチグレア処理が施された構成である。図3に示すガラス基板41において、上面が第1の主面、第1の主面に対向する下面が第2の主面である。本実施形態のアンチグレアガラス基板40では、ガラス基板41の第1の主面の表面にアンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分50と、ガラス基板41の第1の主面の表面にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分60とを備えている。本実施形態では、ガラス基板41の第1の主面上にアンチグレア膜42を設けることにより、アンチグレア処理部分50を形成する点で前記した第1の実施形態と異なる。本実施形態では、ガラス基板41の第1の主面上にアンチグレア膜42を設けなかった部分が非アンチグレア処理部分60となる。
本実施形態において、アンチグレア処理部分50と、非アンチグレア処理部分60とのガラス基板41の板厚方向における高さの差hが10μm以上200μm以下である。なお、本明細書において、アンチグレア処理部分50と、非アンチグレア処理部分60とのガラス基板の板厚方向における高さの差hとは、ガラス基板41の第1の主面上に防汚膜43が設けられた状態での両者の高さの差である。高さの差hが10μm未満の場合は、アンチグレア処理部分50と非アンチグレア処理部分60との境界において高さが不十分であり、アンチグレア処理部分50と非アンチグレア処理部分60との接続領域における角度が緩やかとなる。このため、アンチグレアガラス基板40の上面視において境界領域の外観が、その他のアンチグレア処理部分50及び非アンチグレア処理部分60と異なるように見え、汚れのような白曇りが視認されることがある。この白曇りは、アンチグレア処理が短時間であるが故に、アンチグレア処理に使用した薬剤とガラス基板41との反応が不均質となっている可能性がある。この接続領域に、さらに防汚剤を塗布すると防汚剤と接続領域との反応性の不均質のため、防汚剤の凝集が発生することがある。防汚剤が凝集すると接続領域において防汚剤の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤として十分に機能しなくなる恐れがある。加えて、防汚剤が凝集することによる外観の低下も懸念される。高さの差hを10μm以上とすることで上記の問題を回避できる。但し、高さの差hが200μm超だと、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる。高さの差hは10μm以上100μm以下が好ましい。
このような機能膜としては、例えば、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とできる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ1層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ2層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ2層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態であることが好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜(層)が積層された積層体が好ましい。例えば該積層体は全体で2層以上6層以下の膜の積層が好ましく、2層以上4層以下の膜の積層がより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、窒化ケイ素(SiN)、酸化タンタル(Ta2O5)から選択された1種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素(SiO2)を好ましく利用できる。
高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体がより好ましい。膜厚としては40nm以上500nm以下が好ましく、100nm以上300nm以下がより好ましい。
またガラス基板41としては、上述と同様のガラス基板が使用できる。
本実施形態のアンチグレアガラス基板について図5を用いて説明する。図5は本実施形態のアンチグレアガラス基板を模式的に表した斜視図である。図5に示すアンチグレアガラス基板70は、ガラス基板71の第1の主面にアンチグレア処理が施された構成である。図5に示すガラス基板71において、上面が第1の主面、第1の主面に対向する下面が第2の主面である。本実施形態のアンチグレアガラス基板70では、ガラス基板71の第1の主面の表面にアンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分80と、ガラス基板71の第1の主面の表面にアンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分90とを備えている。また、ガラス基板71の第1の主面上には防汚膜73が設けられている。
本実施形態において、アンチグレア処理部分80、および非アンチグレア処理部分90の形成手順は特に限定されないが、例えば、以下の手順で形成できる。ガラス基板71の第1の主面全体に表面処理を施して、凹凸形状を形成する。この状態では、ガラス基板71の第1の主面全体がアンチグレア処理部分となる。この状態から、非アンチグレア処理部分となる部位に対し研磨処理を施す、具体的には、レーザ処理、円柱の研磨砥石による研磨、またはアンチグレア処理部分とする部分をマスキングした状態で、バフまたはブラシなどによる研磨を行うことで、非アンチグレア処理部分を形成できる。但し、非アンチグレア処理部分の表面粗さRaが大きいと、カメラ機能、指紋センサー機能等が十分に得られなくなる点に留意する必要がある。
本実施形態において、アンチグレア処理部分80と、非アンチグレア処理部分90とのガラス基板71の板厚方向における高さの差hが10μm以上200μm以下である。なお、本明細書において、アンチグレア処理部分80と、非アンチグレア処理部分90とのガラス基板の板厚方向における高さの差hとは、ガラス基板71の第1の主面上に防汚膜73が設けられた状態での両者の高さの差である。高さの差hが10μm未満の場合は、アンチグレア処理部分80と非アンチグレア処理部分90との境界において高さが不十分であり、アンチグレア処理部分80と非アンチグレア処理部分90との接続領域における角度が緩やかとなる。このため、アンチグレアガラス基板70の上面視において境界領域の外観が、その他のアンチグレア処理部分80及び非アンチグレア処理部分90と異なるように見え、汚れのような白曇りが視認されることがある。この白曇りは、アンチグレア処理が短時間であるが故に、アンチグレア処理に使用した薬剤とガラス基板71との反応が不均質となっている可能性がある。この接続領域に、さらに防汚剤を塗布すると防汚剤と接続領域との反応性の不均質のため、防汚剤の凝集が発生することがある。防汚剤が凝集すると接続領域において防汚剤の疎水基同士が結合してしまい、防汚剤として十分に機能しなくなる恐れがある。加えて、防汚剤が凝集することによる外観の低下も懸念される。高さの差hを10μm以上とすることで上記の問題を回避できる。但し、高さの差hが200μm超だと、指で触った時のさわり心地が悪い、境界が目立つため外観が悪くなる等の問題が生じる。高さの差hは10μm以上100μm以下であることが好ましい。
このような機能膜としては、たとえば、低反射膜が挙げられる。低反射膜の材料は特に限定されるものではなく、反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば低反射膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成とできる。
高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ1層ずつ含む形態であってもよいが、それぞれ2層以上含む構成であってもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ2層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態が好ましい。
十分な反射防止性能とするためには、低反射膜は複数の膜(層)が積層された積層体が好ましい。例えば該積層体は全体で2層以上6層以下の膜の積層が好ましく、2層以上4層以下の膜の積層がより好ましい。ここでの積層体は、上記の様に高屈折率層と低屈折率層とを積層した積層体が好ましく、高屈折率層と低屈折率層との層の数の総計が上記範囲であることが好ましい。
高屈折率層、低屈折率層の材料は特に限定されるものではなく、要求される反射防止の程度や生産性等を考慮して選択できる。高屈折率層を構成する材料としては、例えば酸化ニオブ(Nb2O5)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)、窒化ケイ素(SiN)、酸化タンタル(Ta2O5)から選択された1種以上を好ましく利用できる。低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素(SiO2)を好ましく利用できる。
高屈折率層としては生産性や、屈折率の程度から、特に酸化ニオブを好ましく利用できる。このため、低反射膜は、酸化ニオブ層と酸化ケイ素層との積層体がより好ましい。膜厚としては40nm以上500nm以下が好ましく、100nm以上300nm以下がより好ましい。
またガラス基板71としては、上述と同様のガラス基板が使用できる。
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、例1~4、6、7、13、14は実施例、例5、8~12、15~17は比較例である。
[例1]
以下の手順により、アンチグレアガラスサンプル1を製造した。
本例ではガラス基板に未強化の化学強化用ガラス(旭硝子株式会社製、商品名:ドラゴントレイル(登録商標)サイズ:300mm×300mm、厚さ1.3mm。)を用いた。
このようにして、酸化ニオブ(ニオビア)と酸化ケイ素(シリカ)が総計4層の低反射膜を、化学強化されたアンチグレアガラス基板上に形成した。
前加工でガラス基板の厚みを80μm除去し、例1と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例1と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル2を作製した。
前加工でガラス基板の厚みを15μm除去し、マスクを剥がさず保護フィルムを剥離した状態でフロスト処理後、マスクを剥がし、フッ化水素溶液でエッチング処理を行った以外は、例1と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル3を作製した。
前加工を実施せずに例1と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例1と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル4を作製した。
前加工でガラス基板の厚みを5μm除去し、例3と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例3と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル5を作製した。
ヘイズ率を25%に調整した以外は、例1と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル6を作製した。
前加工でガラス基板の厚みを15μm除去し、フロスト処理後、マスクを剥がし、フッ化水素溶液でエッチング処理を行った以外は、例6と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル7を作製した。
前加工でガラス基板の厚みを5μm除去し、例7と同じヘイズ率となるよう、エッチング処理におけるエッチング条件を調整した以外は、例7と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル8を作製した。
例1と同様に、ガラス基板に(旭硝子株式会社製、商品名:ドラゴントレイル(登録商標)サイズ:300mm×300mm、厚さ1.3mm。)を用いた。ガラス基板のアンチグレア処理部分を形成しない側の主面(第2の主面)に、耐酸性の保護フィルムを貼合した。次いで、このガラス基板を、3重量%のフッ化水素溶液に浸漬し、ガラス基板表面に付着した汚れを除去した。さらに、ガラス基板を15重量%フッ化水素と15重量%フッ化カリウムとの混合溶液に3分間浸漬し、ガラス基板の保護フィルムを貼合していない側の主面(第1の主面)に対してフロスト処理を行った。上記フロスト処理後のガラス基板を、10重量%フッ化水素溶液に4分間浸漬(エッチング時間4分)してエッチング処理することで、ヘイズ率を15%に調整した。その後、エッチング処理後の面のほぼ中央部を、φ5mmの円柱形状の研磨砥石、ヌープ硬度が3000の酸化セリウムの研磨砥粒を用いて研磨を行ない、φ20mmの範囲を15μmの深さでエッチング処理後の面の除去を行った。その後、例1と同様に化学強化、低反射膜形成処理、防汚膜形成処理を行った。なお、エッチング処理後の主面(第1の主面)のうち、研磨によりエッチング処理した面を除去した中央部(ガラス除去部)が平滑部分、それ以外の部分がアンチグレア処理部分となる。以上より、アンチグレアガラスサンプル9を得た。
研磨による除去量を600μmの深さとした以外は、例9と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル10を作製した。
研磨による除去量を5μmの深さ、ガラス除去部の底面と側面の角度が160°になるような研磨砥石を用いた以外は、例9と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル11を作製した。
例9と同様の方法でエッチング処理まで行った。その後、エッチング処理を施した面(第1の主面)のほぼ中央部のφ20mmの範囲を除き、保護フィルムを貼り、#10000のセラミック砥粒を用いてテープで研磨を行い10μmの深さでエッチング処理を施した面の除去を行った。その後例1と同様に化学強化、低反射膜形成処理、防汚膜形成処理を行った。なお、エッチング処理後の主面のうち、保護フィルムを貼らなかったφ20mmの中央部が非アンチグレア処理部分、それ以外の部分がアンチグレア処理部分となる。以上より、アンチグレアガラスサンプル12を得た。
例1と同様の方法で予め化学強化したガラス基板(旭硝子株式会社製、商品名:ドラゴントレイル(登録商標)サイズ:300mm×300mm、厚さ1.3mm。)を用いた。ガラス基板のアンチグレア処理部分を形成する側の主面(第1の主面)のほぼ中央部にφ20mmに切り出した耐酸性のマスクを貼った。ついで、該ガラス基板の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄した後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。次に、ガラス基板を表面温度が80℃になるようにオーブンで加熱し、中空シリカ微粒子分散液をスプレイ法にて、スプレイ圧力:0.4MPa、塗布液量:7mL/分、ノズル移動速度:750mm/分、スプレーピッチ:22mm、ノズル先端とガラス基板との距離:115mm、液滴径:6.59μmでガラス基板上に膜厚が10μmとなるように塗布し、ヘイズ率が10%のアンチグレア膜を形成した。その後、マスクを除去し、例1と同様の方法で低反射膜形成処理、防汚膜形成処理を行った。なお、アンチグレア膜を形成した側の主面のうち、マスクを貼ったφ20mmの中央部が平滑部分、それ以外の部分がアンチグレア処理部分となる。以上より、アンチグレアガラスサンプル13を得た。
アンチグレア膜の膜厚を50μmにして、ヘイズ率を8%とした以外は例13と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル14を作製した。
アンチグレア膜の膜厚を5μmにして、ヘイズ率を12%とした以外は例13と同様の条件でアンチグレアガラスサンプル15を作製した。
マスクを貼らず例13の方法と同様にアンチグレア膜の形成、低反射膜形成処理および防汚膜形成処理を行った。その後、例9と同様の方法で研磨を行い、アンチグレアガラスサンプル16を作製した。
例16と同様の方法でアンチグレア処理、低反射膜形成処理および防汚膜形成処理を行った。その後、例12と同様の方法で研磨を行い、アンチグレアガラスサンプル17を作製した。
以下の例1~例17において得られたアンチグレアガラス基板の特性評価方法について以下に説明する。
例1~例17で作製した防汚膜成膜後の試料の平滑部分の表面形状について、レーザ顕微鏡(キーエンス社製、商品名:VK-9700)を用いて、1000倍の倍率で平面プロファイルを測定した。そして、得られた平面プロファイルから、JIS B 0601(2001)に基づいて表面粗さRa、RMSの値を算出した。平滑部分のうち、Ra<10nmとなる部分を非アンチグレア処理部分と定義した。なお、アンチグレアガラスサンプル9~12、16、17は、平滑部分のRaは10nm未満とならず、非アンチグレア処理部分は得られなかった。
また、平滑部分の端点より2mm離れた領域をアンチグレア処理部分の代表部位とし、平滑部分との高低差(高さの差h)を得た。次に、アンチグレア処理部分の代表部位のRSmの二倍相当の領域にグリット状に区切ってRzを測定視野全体に対して算出し、アンチグレア処理部分の代表部位と同等のRzを有する領域をアンチグレア処理部位と定義した。アンチグレア処理部分と平滑部分に挟まれた領域を勾配部位と定義し、その長さYを測定した。そして、h/Y=tan(X/180×π)となるXを計算し、角度Xと定義した。
例1~例17で製作した防汚膜成膜後の試料のアンチグレア処理部分における透過へイズ率の測定を行った。ヘイズ率の測定は、ヘイズメーター(スガ試験機株式会社製、型式:HZ-V3)を用いて行った。
例1~例17で製作した防汚膜成膜後の試料の平滑部分における透過率の測定を行った。透過率の測定は島津製作所製紫外可視分光光度計SolidSpec-3700で実施した。
アンチグレア処理部分の防汚膜について以下の手順により指紋拭き取り性の確認を行った。各試料の段差部に同等の押しつけ力で、人口汗使用して指紋を付けた。その後、エタノールを付けたガーゼを用い、指紋が消えるまでの拭き取り回数を確認する拭き取り試験を実施した。10回以内で指紋拭き取れた場合を○とし、11回~50回の拭き取りで取れたものを△とし、50回拭き取りを実施しても取れなかった場合は×とした。
アンチグレア処理部分と平滑部分との境界付近について触り心地の評価を行った。10人による、1:とても良い、2:良い、3:問題ない、4:悪い、5:非常に悪い、の5段階評価の平均値で評価した。
本出願は、2017年3月23日出願の日本特許出願2017-057280に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
11,41,71 ガラス基板
12,43,73 防汚膜
20,50,80 アンチグレア処理部分
30,60,90 非アンチグレア処理部分
42 アンチグレア膜
Claims (10)
- 第1の主面と、前記第1の主面に対向する第2の主面とを有するガラス基板であり、前記第1の主面の表面にアンチグレア処理が施され、さらに防汚膜であるフッ素含有有機ケイ素化合物被膜が積層されたアンチグレアガラス基板であって、前記第1の主面の一部に前記アンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分を有し、前記非アンチグレア処理部分の表面粗さRaが10nm未満であり、前記アンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分と非アンチグレア処理部分とのガラス基板の板厚方向における高さの差が10μm以上200μm以下であり、ガラスの厚さが0.7mm以上である、アンチグレアガラス基板。
- 第1の主面と、前記第1の主面に対向する第2の主面とを有するガラス基板であり、前記第1の主面の表面にアンチグレア処理が施され、さらに防汚膜であるフッ素含有有機ケイ素化合物被膜が積層されたアンチグレアガラス基板であって、前記第1の主面の一部に前記アンチグレア処理が施されていない非アンチグレア処理部分を有し、前記非アンチグレア処理部分の表面粗さRaが10nm未満であり、前記アンチグレア処理が施されたアンチグレア処理部分と非アンチグレア処理部分とのガラス基板の板厚方向における高さの差が10μm以上100μm以下であり、ガラスの厚さが0.5mm以上である、アンチグレアガラス基板。
- 前記アンチグレア処理部分における可視光領域の透過光のヘイズ率が2%以上30%以下である請求項1または2に記載のアンチグレアガラス基板。
- 前記非アンチグレア処理部分の表面粗さRaが5nm以下である請求項1乃至3の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
- ガラス基板の板厚方向における高さが、前記アンチグレア処理部分よりも前記非アンチグレア処理部分が大きい請求項1乃至4の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
- ガラス基板の板厚方向における高さが、前記アンチグレア処理部分よりも前記非アンチグレア処理部分が小さい請求項1乃至4の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
- 前記非アンチグレア処理部分と勾配部位が錐台形状をなしており、ガラス基板の板厚方向の断面形状において、前記錐台形状の側面とガラス基板の前記第1の主面とのなす角度Xが、90°<X≦150°である請求項1乃至6の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
- 前記第1の主面の表面に低反射膜、フッ素含有有機ケイ素化合物被膜の順に積層されている請求項1乃至7の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
- 前記ガラス基板は、アルミノシリケートガラスである請求項1乃至8の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
- 前記ガラス基板は、化学強化ガラスである請求項1乃至9の何れか一項に記載のアンチグレアガラス基板。
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