JPWO2020166505A1 - 偏光板およびその製造方法、ならびに該偏光板を用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

優れた屈曲性を有し、かつ、屈曲による光学特性の変化が抑制された偏光板が提供される。本発明の偏光板は、偏光子と、偏光子の一方の側に配置された保護層と、偏光子のもう一方の側に配置された光学機能層と、を含む。偏光子の突き刺し強度は１０ｇｆ／μｍ以上である。１つの実施形態においては、光学機能層は、上記保護層とは別の保護層として機能する。別の実施形態においては、光学機能層は、円偏光機能または楕円偏光機能を有する位相差層である。

Description

本発明は、偏光板およびその製造方法、ならびに該位偏光板を用いた画像表示装置に関する。

近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、代表的には偏光板および位相差板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられている（例えば、特許文献１）。近年、湾曲した画像表示装置および／または折り曲げもしくは折り畳可能な画像表示装置に対する要望が高まっていることに伴い、偏光板（結果として、位相差層付偏光板）についても機械的特性としての優れた屈曲性および屈曲により光学特性が変化しないことが求められている。しかし、このような特性を満足する偏光板（結果として、位相差層付偏光板）は、実用化に向けて検討の余地が残されている。

特許第３３２５５６０号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、優れた屈曲性を有し、かつ、屈曲による光学特性の変化が抑制された偏光板を提供することにある。

本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光子の一方の側に配置された保護層と、該偏光子のもう一方の側に配置された光学機能層と、を含み、該偏光子の突き刺し強度が１０ｇｆ／μｍ以上である。
１つの実施形態においては、上記光学機能層の厚みは２０μｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記光学機能層は、上記保護層とは別の保護層として機能する。
別の実施形態においては、上記光学機能層は、円偏光機能または楕円偏光機能を有する位相差層である。この場合、一例としては、上記位相差層は液晶化合物の配向固化層の単一層であり、該位相差層のＲｅ（５５０）は１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、該位相差層の遅相軸と時応期偏光子の吸収軸とのなす角度は４０°〜５０°である。別の例としては、上記位相差層は、第１の液晶化合物の配向固化層と第２の液晶化合物の配向固化層との積層構造を有し；該第１の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）は２００ｎｍ〜３００ｎｍであり、その遅相軸と上記偏光子の吸収軸とのなす角度は１０°〜２０°であり；該第２の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）は１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、その遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度は７０°〜８０°である。
１つの実施形態においては、上記偏光子の厚みは１０μｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記保護層の厚みは５０μｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記偏光板は、総厚みが６０μｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記偏光子は、ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成されている。１つの実施形態においては、上記偏光子は、アセトアセチル変性されたポリビニルアルコール系樹脂を含む。
本発明の別の局面によれば、上記偏光板の製造方法が提供される。この製造方法は、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること；および、該積層体を延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光子とすること；を含み、該偏光子の突き刺し強度は１０ｇｆ／μｍ以上である。
１つの実施形態においては、上記製造方法は、上記熱可塑性樹脂基材の片側にヨウ化物または塩化ナトリウムとポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成することを含む。
１つの実施形態においては、上記製造方法は、上記積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、長手方向に搬送しながら加熱することにより、幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理と、をこの順に施すことを含む。
１つの実施形態においては、上記空中補助延伸における幅残存率と自由収縮幅残存率との差は２％以上である。
１つの実施形態においては、上記空中補助延伸における延伸倍率は２．３倍以上である。
本発明のさらに別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、上記の偏光板を備える。
１つの実施形態においては、上記画像表示装置は、有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である。１つの実施形態においては、上記画像表示装置は、折り曲げまたは折り畳み可能である。

本発明によれば、偏光子の突き刺し強度を所定値以上とすることにより、優れた屈曲性を有し、かつ、屈曲による光学特性の変化が抑制された偏光板を得ることができる。

本発明の１つの実施形態による偏光板の概略断面図である。 本発明の偏光板に用いられる偏光子の製造方法における加熱ロールを用いた乾燥収縮処理の一例を示す概略図である。

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。

Ａ．偏光板の全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による偏光板の概略断面図である。本実施形態の偏光板１００は、偏光子１０と、偏光子１０の一方の側に配置された保護層３０と、偏光子のもう一方の側に配置された光学機能層２０と、を含む。本発明の実施形態においては、偏光子の突き刺し強度は１０ｇｆ／μｍ以上である。偏光子の突き刺し強度をこのような範囲とすることにより、優れた屈曲性を有する偏光板を実現することができる。突き刺し強度は、所定の強さで偏光子を突き刺した時の偏光子の割れ耐性を示す。突き刺し強度は、例えば、圧縮試験機に所定のニードルを装着し、当該ニードルを所定速度で偏光子に突き刺したときに偏光子が割れる強度として表され得る。なお、単位から明らかなとおり、突き刺し強度は、偏光子の単位厚み（１μｍ）あたりの突き刺し強度を意味する。

光学機能層２０は、その厚みが好ましくは２０μｍ以下である。このような構成であれば、きわめて薄い偏光板を実現することができる。１つの実施形態においては、光学機能層は、保護層３０とは別の保護層として機能する。このような保護層は、所定の位相差および光学特性を有する位相差層としても機能し得る。別の実施形態においては、光学機能層は、円偏光機能または楕円偏光機能を有する位相差層である。このような位相差層は、偏光子の保護層としても機能し得る。光学機能層が位相差層である場合、１つの実施形態においては、位相差層は液晶化合物の配向固化層である。位相差層は、配向固化層の単一層であってもよく、第１の配向固化層と第２の配向固化層との積層構造を有していてもよい。以下、光学機能層が位相差層である偏光板を、位相差層付偏光板と称する場合がある。

偏光板を構成する各層または光学フィルムは、代表的には接着層を介して貼り合わせられている。接着層としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。本発明の実施形態においては、接着剤層が好適に採用され得る。このような構成であれば、偏光板のさらなる薄型化が可能となる。接着剤層を構成する接着剤としては、代表的には、活性エネルギー線硬化型接着剤（例えば、紫外線硬化型接着剤）が挙げられる。

位相差層付偏光板には、別の位相差層が設けられてもよい。別の位相差層は、代表的には、位相差層２０の外側（偏光子１０と反対側）に設けられる。別の位相差層は、代表的には、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す。このような別の位相差層は、好ましくは、位相差層が配向固化層の単一層である場合に設けられる。なお、便宜上、位相差層２０を第１の位相差層と称し、別の位相差層を第２の位相差層と称する場合がある。位相差層付偏光板は、その他の位相差層をさらに含んでいてもよい。その他の位相差層の光学的特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数、光弾性係数）、厚み、配置位置等は、目的に応じて適切に設定され得る。

偏光板には、導電層または導電層付等方性基材が設けられてもよい。導電層または導電層付等方性基材は、代表的には、光学機能層２０の外側（偏光子１０と反対側）に設けられる。偏光板が位相差層と別の位相差層とを有する位相差層付偏光板である場合には、別の位相差層ならびに導電層または導電層付等方性基材は、代表的には、位相差層（光学機能層）２０側からこの順に設けられる。導電層または導電層付等方性基材が設けられる場合、偏光板または位相差層付偏光板は、画像表示セル（例えば、有機ＥＬセル）と偏光板との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。

本発明の偏光板は、枚葉状であってもよく長尺状であってもよい。本明細書において「長尺状」とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状を意味し、例えば、幅に対して長さが１０倍以上、好ましくは２０倍以上の細長形状を含む。長尺状の偏光板は、ロール状に巻回可能である。

実用的には、光学機能層の偏光子と反対側には粘着剤層（図示せず）が設けられ、偏光板は画像表示セルに貼り付け可能とされている。さらに、粘着剤層の表面には、偏光板が使用に供されるまで、剥離フィルムが仮着されていることが好ましい。剥離フィルムを仮着することにより、粘着剤層を保護するとともに、ロール形成が可能となる。

偏光板の総厚みは、好ましくは１００μｍ以下であり、より好ましくは８０μｍ以下であり、さらに好ましくは７０μｍ以下であり、特に好ましくは６０μｍ以下である。総厚みの下限は、例えば２５μｍであり得る。本発明の実施形態によれば、このようにきわめて薄い偏光板を実現することができる。このような偏光板は、上記の偏光子の突き刺し強度による効果との相乗的な効果により、きわめて優れた屈曲性を有し得る。このような偏光板は、湾曲した画像表示装置、折り曲げ若しくは折り畳み可能な画像表示装置に好適に適用され得、折り曲げ若しくは折り畳み可能な画像表示装置に特に好適に適用され得る。なお、偏光板の総厚みとは、粘着剤層を除き、偏光板を構成するすべての層の厚みの合計をいう。

以下、偏光板の構成要素について、より詳細に説明する。

Ｂ．偏光子
偏光子１０は、その突き刺し強度が上記のとおり１０ｇｆ／μｍ以上であり、例えば１３ｇｆ／μｍ以上であり、好ましくは２０ｇｆ／μｍ以上であり、より好ましくは３０ｇｆ／μｍ以上であり、さらに好ましくは４０ｇｆ／μｍ以上である。突き刺し強度の上限は、例えば８０ｇｆ／μｍであり得る。偏光子の突き刺し強度をこのような範囲とすることにより、優れた屈曲性を有する偏光板を実現することができる。

偏光子は、代表的には、二色性物質（代表的には、ヨウ素）を含むポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルムで構成される。好ましくは、ＰＶＡ系樹脂フィルム（実質的には、偏光子）を構成するＰＶＡ系樹脂は、アセトアセチル変性されたＰＶＡ系樹脂を含む。このような構成であれば、所望の突き刺し強度を有する偏光子が得られ得る。アセトアセチル変性されたＰＶＡ系樹脂の配合量は、ＰＶＡ系樹脂全体を１００重量％としたときに、好ましくは５重量％〜２０重量％であり、より好ましくは８重量％〜１２重量％である。配合量がこのような範囲であれば、突き刺し強度をより好適な範囲とすることができる。

偏光子のホウ酸含有量は、好ましくは１０重量％以上であり、より好ましくは１３重量％〜２５重量％である。偏光子のホウ酸含有量がこのような範囲であれば、後述のヨウ素含有量との相乗的な効果により、貼り合わせ時のカール調整の容易性を良好に維持し、かつ、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、加熱時の外観耐久性を改善することができる。ホウ酸含有量は、例えば、中和法から下記式を用いて、単位重量当たりの偏光子に含まれるホウ酸量として算出することができる。

偏光子のヨウ素含有量は、好ましくは２．０重量％以上であり、より好ましくは２．０重量％〜１０重量％である。偏光子のヨウ素含有量がこのような範囲であれば、上記のホウ酸含有量との相乗的な効果により、貼り合わせ時のカール調整の容易性を良好に維持し、かつ、加熱時のカールを良好に抑制しつつ、加熱時の外観耐久性を改善することができる。本明細書において「ヨウ素含有量」とは、偏光子（ＰＶＡ系樹脂フィルム）中に含まれるすべてのヨウ素の量を意味する。より具体的には、偏光子中においてヨウ素はヨウ素イオン（Ｉ⁻）、ヨウ素分子（Ｉ_２）、ポリヨウ素イオン（Ｉ_３ ⁻、Ｉ_５ ⁻）等の形態で存在するところ、本明細書におけるヨウ素含有量は、これらの形態をすべて包含したヨウ素の量を意味する。ヨウ素含有量は、例えば、蛍光Ｘ線分析の検量線法により算出することができる。なお、ポリヨウ素イオンは、偏光子中でＰＶＡ−ヨウ素錯体を形成した状態で存在している。このような錯体が形成されることにより、可視光の波長範囲において吸収二色性が発現し得る。具体的には、ＰＶＡと三ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ_３ ⁻）は４７０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、ＰＶＡと五ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ_５ ⁻）は６００ｎｍ付近に吸光ピークを有する。結果として、ポリヨウ素イオンは、その形態に応じて可視光の幅広い範囲で光を吸収し得る。一方、ヨウ素イオン（Ｉ⁻）は２３０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、可視光の吸収には実質的には関与しない。したがって、ＰＶＡとの錯体の状態で存在するポリヨウ素イオンが、主として偏光子の吸収性能に関与し得る。

偏光子の厚みは、好ましくは１μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは１μｍ〜８μｍであり、さらに好ましくは２μｍ〜５μｍである。偏光子の厚みは、１つの実施形態においては５μｍ〜８μｍである。

偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率Ｔｓは、好ましくは４０．０％〜４８．０％であり、より好ましくは４１．０％〜４６．０％である。偏光子の偏光度Ｐは、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。単体透過率は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定し、視感度補正を行なったＹ値である。上記偏光度は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定して視感度補正を行なった平行透過率Ｔｐおよび直交透過率Ｔｃに基づいて、下記式により求められる。
偏光度（％）＝｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^１／２×１００

偏光子は、代表的には、二層以上の積層体を用いて作製され得る。積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。偏光子の製造方法の詳細については、Ｇ項で後述する。

Ｃ．光学機能層
Ｃ−１．保護層である光学機能層
光学機能層２０が保護層３０とは別の保護層として機能する場合、当該保護層は、上記のとおり、好ましくは厚み２０μｍ以下の薄型保護層である。保護層の厚みは、より好ましくは１８μｍ以下であり、さらに好ましくは１５μｍ以下であり、特に好ましくは１０μｍ以下である。保護層の厚みの下限は、例えば１μｍであり得る。

保護層（光学機能層）は、樹脂フィルムで構成されていてもよく、塗布膜の固化物で構成されていてもよい。樹脂フィルムを構成する樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。塗布膜の固化物は、例えば、所定のアクリル系樹脂の有機溶媒溶液の塗布膜の固化物であり得る。保護層が塗布膜の固化物で構成される場合、樹脂フィルムに比べて厚みを格段と薄くすることができる。

保護層（光学機能層）は、代表的には、偏光板を画像表示装置に適用した場合に画像表示セル側に配置される。１つの実施形態においては、保護層は光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が−１０ｎｍ〜＋１０ｎｍであることをいう。別の実施形態においては、保護層は、任意の適切な位相差値を有する位相差層であってもよい。この場合、保護層（位相差層）の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１１０ｎｍ〜１５０ｎｍである。

Ｃ−２．円偏光機能または楕円偏光機能を有する位相差層である光学機能層
光学機能層２０が円偏光機能または楕円偏光機能を有する位相差層である場合、当該位相差層は、樹脂フィルムの延伸フィルムであってもよく、液晶化合物の配向固化層であってもよい。好ましくは、液晶化合物の配向固化層である。液晶化合物を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを延伸フィルムに比べて格段に小さくすることができる。その結果、位相差層付偏光板のさらなる薄型化を実現することができる。その結果、偏光子の突き刺し強度の効果との相乗的な効果により、きわめて優れた屈曲性を有する位相差層付偏光板を実現することができる。以下、液晶化合物の配向固化層について詳細に説明する。なお、樹脂フィルムの延伸フィルムで構成される位相差層については、例えば、特開２０１７−５４０９３号公報、特開２０１８−６００１４号公報に記載されている。これらの公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。本実施形態においては、代表的には、棒状の液晶化合物が第１の位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。

液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。

液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋（すなわち、硬化）させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第１の位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第１の位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。

液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃〜１００℃であり、最も好ましくは６０℃〜９０℃である。

上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。

液晶化合物の配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。１つの実施形態においては、基材は任意の適切な樹脂フィルムであり、当該基材上に形成された配向固化層は、偏光子１０の表面に転写され得る。

上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。

液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。

配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。

液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。

配向固化層の別の例としては、ディスコティック液晶化合物が、垂直配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの状態で配向している形態が挙げられる。ディスコティック液晶化合物は、代表的には、ディスコティック液晶化合物の円盤面が第１の位相差層のフィルム面に対して実質的に垂直に配向している。ディスコティック液晶化合物が実質的に垂直とは、フィルム面とディスコティック液晶化合物の円盤面とのなす角度の平均値が好ましくは７０°〜９０°であり、より好ましくは８０°〜９０°であり、さらに好ましくは８５°〜９０°であることを意味する。ディスコティック液晶化合物とは、一般的には、ベンゼン、１，３，５−トリアジン、カリックスアレーンなどのような環状母核を分子の中心に配し、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された円盤状の分子構造を有する液晶化合物をいう。ディスコティック液晶の代表例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されている、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体や、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されているシクロヘキサン誘導体、および、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系のマクロサイクルが挙げられる。ディスコティック液晶化合物のさらなる具体例としては、例えば、特開２００６−１３３６５２号公報、特開２００７−１０８７３２号公報、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の化合物が挙げられる。上記文献および公報の記載は、本明細書に参考として援用される。

１つの実施形態においては、位相差層（光学機能層）２０は、液晶化合物の配向固化層の単一層である。位相差層（以下、上記のとおり第１の位相差層と称する場合がある）が液晶化合物の配向固化層の単一層で構成される場合、その厚みは、好ましくは０．５μｍ〜７μｍであり、より好ましくは１μｍ〜５μｍである。液晶化合物を用いることにより、樹脂フィルムよりも格段に薄い厚みで樹脂フィルムと同等の面内位相差を実現することができる。

第１の位相差層は、代表的には、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。第１の位相差層は、代表的には偏光板に反射防止特性を付与するために設けられ、第１の位相差層が配向固化層の単一層である場合にはλ／４板として機能し得る。この場合、第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ〜１９０ｎｍ、より好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍ、さらに好ましくは１３０ｎｍ〜１６０ｎｍである。なお、ここで「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＞ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。

第１の位相差層のＮｚ係数は、好ましくは０．９〜１．５であり、より好ましくは０．９〜１．３である。このような関係を満たすことにより、得られる位相差層付偏光板を画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。

第１の位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。１つの実施形態においては、第１の位相差層は、逆分散波長特性を示す。この場合、位相差層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１未満であり、より好ましくは０．８以上０．９５以下である。このような構成であれば、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。

第１の位相差層２０の遅相軸と偏光子１０の吸収軸とのなす角度θは、好ましくは４０°〜５０°であり、より好ましくは４２°〜４８°であり、さらに好ましくは約４５°である。角度θがこのような範囲であれば、上記のように第１の位相差層をλ／４板とすることにより、非常に優れた円偏光特性（結果として、非常に優れた反射防止特性）を有する位相差層付偏光板が得られ得る。

別の実施形態においては、第１の位相差層２０は、第１の配向固化層と第２の配向固化層との積層構造を有し得る。この場合、第１の配向固化層および第２の配向固化層のいずれか一方がλ／４板として機能し、他方がλ／２板として機能し得る。したがって、第１の配向固化層および第２の配向固化層の厚みは、λ／４板またはλ／２板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。例えば、第１の配向固化層がλ／２板として機能し、第２の配向固化層がλ／４板として機能する場合、第１の配向固化層の厚みは例えば２．０μｍ〜３．０μｍであり、第２の配向固化層の厚みは例えば１．０μｍ〜２．０μｍである。この場合、この場合、第１の配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは２００ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２３０ｎｍ〜２９０ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。第２の配向固化層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、単一層の配向固化層に関して上記で説明したとおりである。第１の配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°〜２０°であり、より好ましくは１２°〜１８°であり、さらに好ましくは約１５°である。第２の配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは７０°〜８０°であり、より好ましくは７２°〜７８°であり、さらに好ましくは約７５°である。このような構成であれば、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることが可能であり、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。第１の配向固化層および第２の配向固化層を構成する液晶化合物、第１の配向固化層および第２の配向固化層の形成方法、光学特性等については、単一層の配向固化層に関して上記で説明したとおりである。

Ｄ．第２の位相差層
第２の位相差層は、上記のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す、いわゆるポジティブＣプレートであり得る。第２の位相差層としてポジティブＣプレートを用いることにより、斜め方向の反射を良好に防止することができ、反射防止機能の広視野角化が可能となる。第２の位相差層は、好ましくは、第１の位相差層が配向固化層の単一層である場合に設けられる。第２の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは−５０ｎｍ〜−３００ｎｍ、より好ましくは−７０ｎｍ〜−２５０ｎｍ、さらに好ましくは−９０ｎｍ〜−２００ｎｍ、特に好ましくは−１００ｎｍ〜−１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。すなわち、第２の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ未満であり得る。

ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を有する第２の位相差層は、任意の適切な材料で形成され得る。第２の位相差層は、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムからなる。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該位相差層の形成方法の具体例としては、特開２００２−３３３６４２号公報の［００２０］〜［００２８］に記載の液晶化合物および当該位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、第２の位相差層の厚みは、好ましくは０．５μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ〜８μｍであり、さらに好ましくは０．５μｍ〜５μｍである。

Ｅ．保護層
保護層３０は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。

本発明の偏光板または位相差層付偏光板は、後述するように代表的には画像表示装置の視認側に配置され、保護層３０は、代表的にはその視認側に配置される。したがって、保護層３０には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。さらに／あるいは、保護層３０には、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、（楕）円偏光機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、偏光板または位相差層付偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。

保護層の厚みは、好ましくは５０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ〜４０μｍである。なお、表面処理が施されている場合、外側保護層の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。

Ｆ．導電層または導電層付等方性基材
導電層は、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、任意の適切な基材上に、金属酸化物膜を成膜して形成され得る。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。

導電層が金属酸化物を含む場合、該導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、より好ましくは３５ｎｍ以下である。導電層の厚みの下限は、好ましくは１０ｎｍである。

導電層は、上記基材から光学機能層（または、存在する場合には第２の位相差層）に転写されて導電層単独で位相差層付偏光板の構成層とされてもよく、基材との積層体（導電層付基材）として光学機能層（または、存在する場合には第２の位相差層）に積層されてもよい。好ましくは、上記基材は光学的に等方性であり、したがって、導電層は導電層付等方性基材として偏光板に用いられ得る。

光学的に等方性の基材（等方性基材）としては、任意の適切な等方性基材を採用し得る。等方性基材を構成する材料としては、例えば、ノルボルネン系樹脂やオレフィン系樹脂などの共役系を有さない樹脂を主骨格としている材料、ラクトン環やグルタルイミド環などの環状構造をアクリル系樹脂の主鎖中に有する材料などが挙げられる。このような材料を用いると、等方性基材を形成した際に、分子鎖の配向に伴う位相差の発現を小さく抑えることができる。等方性基材の厚みは、好ましくは５０μｍ以下であり、より好ましくは３５μｍ以下である。等方性基材の厚みの下限は、例えば２０μｍである。

上記導電層および／または上記導電層付等方性基材の導電層は、必要に応じてパターン化され得る。パターン化によって、導通部と絶縁部とが形成され得る。結果として、電極が形成され得る。電極は、タッチパネルへの接触を感知するタッチセンサ電極として機能し得る。パターニング方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。パターニング方法の具体例としては、ウエットエッチング法、スクリーン印刷法が挙げられる。

Ｇ．偏光子の製造方法
偏光子は、例えば、長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とポリビニルアルコール系樹脂（ＰＶＡ系樹脂）とを含むポリビニルアルコール系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂層）を形成して積層体とすること、および、積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理と、をこの順に施すことを含む方法により作製され得る。ＰＶＡ系樹脂層におけるハロゲン化物の含有量は、好ましくは、ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対して５重量部〜２０重量部である。乾燥収縮処理は、加熱ロールを用いて処理することが好ましく、加熱ロールの温度は、好ましくは、６０℃〜１２０℃である。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は、好ましくは、２％以上である。このような製造方法によれば、上記Ｂ項で説明した偏光子を得ることができる。特に、ハロゲン化物を含むＰＶＡ系樹脂層を含む積層体を作製し、上記積層体の延伸を空中補助延伸及び水中延伸を含む多段階延伸とし、延伸後の積層体を加熱ロールで加熱することにより、優れた光学特性（代表的には、単体透過率および偏光度）を有するとともに、光学特性のバラつきが抑制された偏光子を得ることができる。具体的には、乾燥収縮処理工程において加熱ロールを用いることにより、積層体を搬送しながら、積層体全体に亘って均一に収縮することができる。これにより、得られる偏光子の光学特性を高めることができるだけでなく、光学特性に優れる偏光子を安定して生産することができ、偏光子の光学特性（特に、単体透過率）のバラつきを抑制することができる。

Ｇ−１．積層体の作製
熱可塑性樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を作製する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、熱可塑性樹脂基材の表面に、ハロゲン化物とＰＶＡ系樹脂とを含む塗布液を塗布し、乾燥することにより、熱可塑性樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成する。上記のとおり、ＰＶＡ系樹脂層におけるハロゲン化物の含有量は、好ましくは、ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対して５重量部〜２０重量部である。

塗布液の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ナイフコート法（コンマコート法等）等が挙げられる。上記塗布液の塗布・乾燥温度は、好ましくは５０℃以上である。

ＰＶＡ系樹脂層の厚みは、好ましくは、３μｍ〜４０μｍ、さらに好ましくは３μｍ〜２０μｍである。

ＰＶＡ系樹脂層を形成する前に、熱可塑性樹脂基材に表面処理（例えば、コロナ処理等）を施してもよいし、熱可塑性樹脂基材上に易接着層を形成してもよい。このような処理を行うことにより、熱可塑性樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との密着性を向上させることができる。

Ｇ−１−１．熱可塑性樹脂基材
熱可塑性樹脂基材としては、任意の適切な熱可塑性樹脂フィルムが採用され得る。熱可塑性樹脂基材の詳細については、例えば特開２０１２−７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。

Ｇ−１−２．塗布液
塗布液は、上記のとおり、ハロゲン化物とＰＶＡ系樹脂とを含む。上記塗布液は、代表的には、上記ハロゲン化物および上記ＰＶＡ系樹脂を溶媒に溶解させた溶液である。溶媒としては、例えば、水、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、各種グリコール類、トリメチロールプロパン等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等のアミン類が挙げられる。これらは単独で、または、二種以上組み合わせて用いることができる。これらの中でも、好ましくは、水である。溶液のＰＶＡ系樹脂濃度は、溶媒１００重量部に対して、好ましくは３重量部〜２０重量部である。このような樹脂濃度であれば、熱可塑性樹脂基材に密着した均一な塗布膜を形成することができる。塗布液におけるハロゲン化物の含有量は、好ましくは、ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対して５重量部〜２０重量部である。

塗布液に、添加剤を配合してもよい。添加剤としては、例えば、可塑剤、界面活性剤等が挙げられる。可塑剤としては、例えば、エチレングリコールやグリセリン等の多価アルコールが挙げられる。界面活性剤としては、例えば、非イオン界面活性剤が挙げられる。これらは、得られるＰＶＡ系樹脂層の均一性や染色性、延伸性をより一層向上させる目的で使用され得る。

上記ＰＶＡ系樹脂としては、任意の適切な樹脂が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５モル％〜１００モル％であり、好ましくは９５．０モル％〜９９．９５モル％、さらに好ましくは９９．０モル％〜９９．９３モル％である。ケン化度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子が得られ得る。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。上記のとおり、ＰＶＡ系樹脂は、好ましくはアセトアセチル変性されたＰＶＡ系樹脂を含む。

ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択し得る。平均重合度は、通常１０００〜１００００であり、好ましくは１２００〜４５００、さらに好ましくは１５００〜４３００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。

上記ハロゲン化物としては、任意の適切なハロゲン化物が採用され得る。例えば、ヨウ化物および塩化ナトリウムが挙げられる。ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム、およびヨウ化リチウムが挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ヨウ化カリウムである。

塗布液におけるハロゲン化物の量は、好ましくは、ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対して５重量部〜２０重量部であり、より好ましくは、ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対して１０重量部〜１５重量部である。ＰＶＡ系樹脂１００重量部に対するハロゲン化物の量が２０重量部を超えると、ハロゲン化物がブリードアウトし、最終的に得られる偏光子が白濁する場合がある。

一般に、ＰＶＡ系樹脂層が延伸されることによって、ＰＶＡ系樹脂中のポリビニルアルコール分子の配向性が高くなるが、延伸後のＰＶＡ系樹脂層を、水を含む液体に浸漬すると、ポリビニルアルコール分子の配向が乱れ、配向性が低下する場合がある。特に、熱可塑性樹脂とＰＶＡ系樹脂層との積層体をホウ酸水中延伸する場合において、熱可塑性樹脂の延伸を安定させるために比較的高い温度で上記積層体をホウ酸水中で延伸する場合、上記配向度低下の傾向が顕著である。例えば、ＰＶＡフィルム単体のホウ酸水中での延伸が６０℃で行われることが一般的であるのに対し、Ａ−ＰＥＴ（熱可塑性樹脂基材）とＰＶＡ系樹脂層との積層体の延伸は７０℃前後の温度という高い温度で行われ、この場合、延伸初期のＰＶＡの配向性が水中延伸により上がる前の段階で低下し得る。これに対して、ハロゲン化物を含むＰＶＡ系樹脂層と熱可塑性樹脂基材との積層体を作製し、積層体をホウ酸水中で延伸する前に空気中で高温延伸（補助延伸）することにより、補助延伸後の積層体のＰＶＡ系樹脂層中のＰＶＡ系樹脂の結晶化が促進され得る。その結果、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ポリビニルアルコール分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得る。これにより、染色処理および水中延伸処理など、積層体を液体に浸漬して行う処理工程を経て得られる偏光子の光学特性を向上し得る。

Ｇ−２．空中補助延伸処理
特に、高い光学特性を得るためには、乾式延伸（補助延伸）とホウ酸水中延伸を組み合わせる、２段延伸の方法が選択される。２段延伸のように、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂基材の結晶化を抑制しながら延伸することができ、後のホウ酸水中延伸において熱可塑性樹脂基材の過度の結晶化により延伸性が低下するという問題を解決し、積層体をより高倍率に延伸することができる。さらには、熱可塑性樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂を塗布する場合、熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度の影響を抑制するために、通常の金属ドラム上にＰＶＡ系樹脂を塗布する場合と比べて塗布温度を低くする必要があり、その結果、ＰＶＡ系樹脂の結晶化が相対的に低くなり、十分な光学特性が得られない、という問題が生じ得る。これに対して、補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂上にＰＶＡ系樹脂を塗布する場合でも、ＰＶＡ系樹脂の結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成することが可能となる。また、同時にＰＶＡ系樹脂の配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡ系樹脂の配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成することが可能になる。

空中補助延伸の延伸方法は、固定端延伸（例えば、テンター延伸機を用いて延伸する方法）でもよいし、自由端延伸（たとえば、周速の異なるロール間に積層体を通して一軸延伸する方法）でもよい。１つの実施形態においては、空中補助延伸の延伸方法は、例えば、テンター延伸機を用いた二軸延伸であり得る。二軸延伸の延伸条件を適切に設定することにより、得られる偏光子に所定の二軸性が付与され得る。その結果、所望の突き刺し強度を有する偏光子を実現することができる。

空中補助延伸における長手方向の延伸倍率は、好ましくは２．３倍以上であり、より好ましくは２．４倍〜３．５倍である。本発明の実施形態においては、上記のとおり二軸延伸を採用することにより、幅残存率（元の幅に対する収縮後の幅：％）を制御する。具体的には、空中補助延伸における（すなわち、空中補助延伸後の）幅残存率と自由収縮幅残存率との差は、好ましくは２％以上であり、より好ましくは３％以上であり、さらに好ましくは５％以上である。当該差の最大値は、例えば１５％であり得る。ここで、自由収縮幅残存率とは、同じ延伸倍率で長手方向に自由端延伸した場合の幅残存率である。具体的には、延伸倍率をｘ倍としたときの自由収縮幅残存率は、（１／ｘ^１／２）×１００で算出され得る。例えば２．４倍に延伸する場合には、自由収縮幅残残存率は、（１／（２．４）^１／２）×１００＝６４．５％である。これは、自由収縮において長手方向に延伸した場合に、幅方向と厚み方向が同じ割合で収縮するとの考えに起因する。なお、空中補助延伸と水中延伸とを組み合わせた場合の最大延伸倍率（長手方向）は、積層体の元長に対して、好ましくは５．０倍以上、より好ましくは５．５倍以上、さらに好ましくは６．０倍以上である。本明細書において「最大延伸倍率」とは、積層体が破断する直前の延伸倍率をいい、別途、積層体が破断する延伸倍率を確認し、その値よりも０．２低い値をいう。

空中補助延伸の延伸温度は、熱可塑性樹脂基材の形成材料、延伸方式等に応じて、任意の適切な値に設定することができる。延伸温度は、好ましくは熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度（Ｔｇ）以上であり、さらに好ましくは熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度（Ｔｇ）＋１０℃以上、特に好ましくはＴｇ＋１５℃以上である。一方、延伸温度の上限は、好ましくは１７０℃である。このような温度で延伸することで、ＰＶＡ系樹脂の結晶化が急速に進むのを抑制して、当該結晶化による不具合（例えば、延伸によるＰＶＡ系樹脂層の配向を妨げる）を抑制することができる。空中補助延伸後のＰＶＡ系樹脂の結晶化指数は、好ましくは１．３〜１．８であり、より好ましくは１．４〜１．７である。ＰＶＡ系樹脂の結晶化指数は、フーリエ変換赤外分光光度計を用い、ＡＴＲ法により測定することができる。具体的には、偏光を測定光として測定を実施し、得られたスペクトルの１１４１ｃｍ^−１および１４４０ｃｍ^−１の強度を用いて、下記式に従って結晶化指数を算出する。
結晶化指数＝（Ｉ_Ｃ／Ｉ_Ｒ）
ただし、
Ｉ_Ｃ ：測定光を入射して測定したときの１１４１ｃｍ^−１の強度
Ｉ_Ｒ ：測定光を入射して測定したときの１４４０ｃｍ^−１の強度
である。

Ｇ−３．不溶化処理、染色処理および架橋処理
必要に応じて、空中補助延伸処理の後、水中延伸処理や染色処理の前に、不溶化処理を施す。上記不溶化処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬することにより行う。上記染色処理は、代表的には、ＰＶＡ系樹脂層を二色性物質（代表的には、ヨウ素）で染色することにより行う。必要に応じて、染色処理の後、水中延伸処理の前に、架橋処理を施す。上記架橋処理は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。不溶化処理、染色処理および架橋処理の詳細については、例えば特開２０１２−７３５８０号公報（上記）に記載されている。

Ｇ−４．水中延伸処理
水中延伸処理は、積層体を延伸浴に浸漬させて行う。水中延伸処理によれば、上記熱可塑性樹脂基材やＰＶＡ系樹脂層のガラス転移温度（代表的には、８０℃程度）よりも低い温度で延伸し得、ＰＶＡ系樹脂層を、その結晶化を抑えながら、高倍率に延伸することができる。その結果、優れた光学特性を有する偏光子を製造することができる。

積層体の延伸方法は、任意の適切な方法を採用することができる。具体的には、固定端延伸でもよいし、自由端延伸（例えば、周速の異なるロール間に積層体を通して一軸延伸する方法）でもよい。好ましくは、自由端延伸が選択される。積層体の延伸は、一段階で行ってもよいし、多段階で行ってもよい。多段階で行う場合、後述の積層体の延伸倍率（最大延伸倍率）は、各段階の延伸倍率の積である。

水中延伸は、好ましくは、ホウ酸水溶液中に積層体を浸漬させて行う（ホウ酸水中延伸）。延伸浴としてホウ酸水溶液を用いることで、ＰＶＡ系樹脂層に、延伸時にかかる張力に耐える剛性と、水に溶解しない耐水性とを付与することができる。具体的には、ホウ酸は、水溶液中でテトラヒドロキシホウ酸アニオンを生成してＰＶＡ系樹脂と水素結合により架橋し得る。その結果、ＰＶＡ系樹脂層に剛性と耐水性とを付与して、良好に延伸することができ、優れた光学特性を有する偏光子を製造することができる。

上記ホウ酸水溶液は、好ましくは、溶媒である水にホウ酸および／またはホウ酸塩を溶解させることにより得られる。ホウ酸濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜１０重量部であり、より好ましくは２．５重量部〜６重量部であり、特に好ましくは３重量部〜５重量部である。ホウ酸濃度を１重量部以上とすることにより、ＰＶＡ系樹脂層の溶解を効果的に抑制することができ、より高特性の偏光子を製造することができる。なお、ホウ酸またはホウ酸塩以外に、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等を溶媒に溶解して得られた水溶液も用いることができる。

好ましくは、上記延伸浴（ホウ酸水溶液）にヨウ化物を配合する。ヨウ化物を配合することにより、ＰＶＡ系樹脂層に吸着させたヨウ素の溶出を抑制することができる。ヨウ化物の具体例は、上述のとおりである。ヨウ化物の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは０．０５重量部〜１５重量部、より好ましくは０．５重量部〜８重量部である。

延伸温度（延伸浴の液温）は、好ましくは４０℃〜８５℃、より好ましくは６０℃〜７５℃である。このような温度であれば、ＰＶＡ系樹脂層の溶解を抑制しながら高倍率に延伸することができる。具体的には、上述のように、熱可塑性樹脂基材のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＰＶＡ系樹脂層の形成との関係で、好ましくは６０℃以上である。この場合、延伸温度が４０℃を下回ると、水による熱可塑性樹脂基材の可塑化を考慮しても、良好に延伸できないおそれがある。一方、延伸浴の温度が高温になるほど、ＰＶＡ系樹脂層の溶解性が高くなって、優れた光学特性が得られないおそれがある。積層体の延伸浴への浸漬時間は、好ましくは１５秒〜５分である。

水中延伸による延伸倍率は、好ましくは１．５倍以上、より好ましくは３．０倍以上である。積層体の総延伸倍率は、積層体の元長に対して、好ましくは５．０倍以上であり、さらに好ましくは５．５倍以上である。このような高い延伸倍率を達成することにより、光学特性に極めて優れた偏光子を製造することができる。このような高い延伸倍率は、水中延伸方式（ホウ酸水中延伸）を採用することにより、達成し得る。

Ｇ−５．乾燥収縮処理
上記乾燥収縮処理は、ゾーン全体を加熱して行うゾーン加熱により行ってもよいし、搬送ロールを加熱する（いわゆる加熱ロールを用いる）ことにより行う（加熱ロール乾燥方式）こともできる。好ましくは、その両方を用いる。加熱ロールを用いて乾燥させることにより、効率的に積層体の加熱カールを抑制して、外観に優れた偏光子を製造することができる。具体的には、加熱ロールに積層体を沿わせた状態で乾燥することにより、上記熱可塑性樹脂基材の結晶化を効率的に促進させて結晶化度を増加させることができ、比較的低い乾燥温度であっても、熱可塑性樹脂基材の結晶化度を良好に増加させることができる。その結果、熱可塑性樹脂基材は、その剛性が増加して、乾燥によるＰＶＡ系樹脂層の収縮に耐え得る状態となり、カールが抑制される。また、加熱ロールを用いることにより、積層体を平らな状態に維持しながら乾燥できるので、カールだけでなくシワの発生も抑制することができる。この時、積層体は、乾燥収縮処理により幅方向に収縮させることにより、光学特性を向上させることができる。ＰＶＡおよびＰＶＡ／ヨウ素錯体の配向性を効果的に高めることができるからである。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は、好ましくは１％〜１０％であり、より好ましくは２％〜８％であり、特に好ましくは４％〜６％である。加熱ロールを用いることにより、積層体を搬送しながら連続的に幅方向に収縮させることができ、高い生産性を実現することができる。

図２は、乾燥収縮処理の一例を示す概略図である。乾燥収縮処理では、所定の温度に加熱された搬送ロールＲ１〜Ｒ６と、ガイドロールＧ１〜Ｇ４とにより、積層体２００を搬送しながら乾燥させる。図示例では、ＰＶＡ樹脂層の面と熱可塑性樹脂基材の面を交互に連続加熱するように搬送ロールＲ１〜Ｒ６が配置されているが、例えば、積層体２００の一方の面（たとえば熱可塑性樹脂基材面）のみを連続的に加熱するように搬送ロールＲ１〜Ｒ６を配置してもよい。

搬送ロールの加熱温度（加熱ロールの温度）、加熱ロールの数、加熱ロールとの接触時間等を調整することにより、乾燥条件を制御することができる。加熱ロールの温度は、好ましくは６０℃〜１２０℃であり、さらに好ましくは６５℃〜１００℃であり、特に好ましくは７０℃〜８０℃である。熱可塑性樹脂の結晶化度を良好に増加させて、カールを良好に抑制することができるとともに、耐久性に極めて優れた光学積層体を製造することができる。なお、加熱ロールの温度は、接触式温度計により測定することができる。図示例では、６個の搬送ロールが設けられているが、搬送ロールは複数個であれば特に制限はない。搬送ロールは、通常２個〜４０個、好ましくは４個〜３０個設けられる。積層体と加熱ロールとの接触時間（総接触時間）は、好ましくは１秒〜３００秒であり、より好ましくは１〜２０秒であり、さらに好ましくは１〜１０秒である。

加熱ロールは、加熱炉（例えば、オーブン）内に設けてもよいし、通常の製造ライン（室温環境下）に設けてもよい。好ましくは、送風手段を備える加熱炉内に設けられる。加熱ロールによる乾燥と熱風乾燥とを併用することにより、加熱ロール間での急峻な温度変化を抑制することができ、幅方向の収縮を容易に制御することができる。熱風乾燥の温度は、好ましくは３０℃〜１００℃である。また、熱風乾燥時間は、好ましくは１秒〜３００秒である。熱風の風速は、好ましくは１０ｍ／ｓ〜３０ｍ／ｓ程度である。なお、当該風速は加熱炉内における風速であり、ミニベーン型デジタル風速計により測定することができる。

Ｇ−６．その他の処理
好ましくは、水中延伸処理の後、乾燥収縮処理の前に、洗浄処理を施す。上記洗浄処理は、代表的には、ヨウ化カリウム水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。

Ｈ．画像表示装置
上記Ａ項からＧ項に記載の偏光板は、画像表示装置に適用され得る。したがって、本発明は、そのような偏光板を用いた画像表示装置を包含する。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）が挙げられる。本発明の実施形態による画像表示装置は、その視認側に上記Ａ項からＧ項に記載の偏光板を備える。偏光板は、光学機能層が画像表示セル（例えば、液晶セル、有機ＥＬセル、無機ＥＬセル）側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。１つの実施形態においては、画像表示装置は、湾曲した形状（実質的には、湾曲した表示画面）を有し、および／または、折り曲げもしくは折り畳み可能である。このような画像表示装置においては、本発明の偏光板の効果が顕著となる。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。
（１）厚み
実施例および比較例に用いた偏光子／熱可塑性樹脂基材の積層体の状態で、干渉膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＭＣＰＤ−３０００」）を用いて測定した。厚み算出に用いた計算波長範囲は４００ｎｍ〜５００ｎｍで、屈折率は１．５３とした。ただし、比較例３および４については、偏光子単体を、デジタルゲージ (ピーコック尾崎製作所社製、製品名「ＤＧ２０５」)を用いて測定した。
（２）単体透過率および偏光度
実施例および比較例に用いた偏光子／熱可塑性樹脂基材の積層体から偏光子を剥離し、当該偏光子について、紫外可視分光光度計（日本分光社製Ｖ−７１００）を用いて測定した単体透過率Ｔｓ、平行透過率Ｔｐ、直交透過率Ｔｃをそれぞれ、偏光子のＴｓ、ＴｐおよびＴｃとした。これらのＴｓ、ＴｐおよびＴｃは、ＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により測定して視感度補正を行なったＹ値である。
得られたＴｐおよびＴｃから、下記式により偏光度Ｐを求めた。
偏光度Ｐ（％）＝｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^１／２×１００
（３）ホウ酸含有量
実施例および比較例に用いた偏光子／熱可塑性樹脂基材の積層体から偏光子を剥離し、所定量を採取したのち、１２０℃で２時間乾燥させて水分を蒸発させ、重量を測定した。続いて、適量の熱水により偏光子を溶解させたのち、中和法により、偏光子中のホウ酸重量を定量した。得られたホウ酸重量と熱水溶解前の偏光子重量との比率から、ホウ酸含有量（重量％）を算出した。
（４）突き刺し強度
実施例および比較例に用いた偏光子／熱可塑性樹脂基材の積層体から偏光子を剥離し、ニードルを装着した圧縮試験機（カトーテック社製、製品名「ＮＤＧ５」、ニードル貫通力測定仕様）に載置し、室温（２３℃±３℃）環境下、突き刺し速度０．３３ｃｍ／秒で突き刺し、偏光子が割れたときの強度を突き刺し強度とした。評価値は試料片１０個の突き刺し強度を測定し、その平均値を用いた。なお、ニードルは、先端径１ｍｍφ、０．５Ｒのものを用いた。測定する偏光子については、直径１１ｍｍの円形の開口部を有する治具を偏光子両面から固定し、開口部の中央部に突き刺し試験を行った。
（５）折り曲げ試験
実施例および比較例で得られた位相差層付偏光板を１２０ｍｍ（偏光子の吸収軸方向と直交する方向）×３０ｍｍ（吸収軸方向）のサイズに切り出し、測定試料とした。この測定試料について、無負荷Ｕ字伸縮モードの連続折り曲げ試験装置（ユアサシステム機器社製、製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」）を用いて連続折り曲げ試験を行った。折り曲げ速度は６０ｒｐｍ、折り曲げの振幅は２０ｍｍ、折り曲げの曲率半径は０．５ｍｍ、折り曲げ回数は５００００回であった。また、折り曲げは、測定試料の長手方向端部を把持した状態で当該把持部をスライドさせることにより、測定試料の位相差層が内側となるようにして行った。以下の基準で評価した。
○：５００００回の折り曲げで割れが生じなかった
×：５００００回未満の折り曲げで構成要素のいずれかに割れが生じた
なお、測定試料に割れが生じる場合、当該割れは吸収軸方向（測定試料の幅方向）に沿ったものであった。

［実施例１］
１．偏光子の作製
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーＺ４１０」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加し、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１４０℃に温度調整したテンター延伸機で、横方向の収縮を制御しながら縦方向（長手方向）に２．４倍に延伸（実質的な二軸延伸）した（空中補助延伸処理）。空中延伸処理における幅残存率は７５．０％であり、幅残存率と自由収縮幅残存率との差（幅残存率−自由収縮幅残存率）は１０．５％であった。
次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所定値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃の浴（水１００重量部に対してヨウ化カリウムを５重量部配合し、偏光子のホウ酸含有量が所定値となるようにホウ酸濃度を調整したホウ酸水溶液）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸（２．３倍）を行った（水中延伸処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに約２秒接触させた（乾燥収縮処理）。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は５．２％であった。
このようにして、樹脂基材上に厚み５μｍの偏光子を形成した。偏光子の突き刺し強度は２６．４ｇｆ／μｍであった。また、偏光子の単体透過率は４２．０％であり、偏光度は９９．９９６％であった。

２．偏光板の作製
上記で得られた偏光子の表面（樹脂基材とは反対側の面）に、保護層としてアクリル系フィルム（表面屈折率１．５０、４０μｍ）を、紫外線硬化型接着剤を介して貼り合せた。具体的には、硬化型接着剤の総厚みが１．０μｍになるように塗工し、ロール機を使用して貼り合わせた。その後、ＵＶ光線を保護層側から照射して接着剤を硬化させた。次いで、両端部をスリットした後に、樹脂基材を剥離し、保護層／偏光子の構成を有する長尺状の偏光板を得た。

３．位相差層を構成する液晶化合物の配向固化層（液晶配向固化層）の作製
ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名「Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２」、下記式で表される）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：商品名「イルガキュア９０７」）３ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。

ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み３８μｍ）表面を、ラビング布を用いてラビングし、配向処理を施した。配向処理の方向は、偏光板に貼り合わせる際に偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て４５°方向となるようにした。この配向処理表面に、上記液晶塗工液をバーコーターにより塗工し、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶化合物を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて１００ｍＪ/ｃｍ^２の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層Ａを形成した。液晶配向固化層Ａの厚みは１．０μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。さらに、液晶配向固化層Ａは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有していた。

４．位相差層付偏光板の作製
上記２．で得られた偏光板の偏光子表面に、上記３．で得られた液晶配向固化層Ａを転写した。転写（貼り合わせ）は、上記２．で用いた紫外線硬化型接着剤（厚み１．０μｍ）を介して行った。このようにして、保護層／接着層／偏光子／接着層／位相差層（液晶配向固化層）の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を上記（４）の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例２］
位相差層を液晶配向固化層の２層構造としたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。具体的には、以下のとおりである。塗工厚みを変更したこと、および、配向処理方向を偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て１５°方向となるようにしたこと以外は実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層Ｂ１を形成した。液晶配向固化層Ｂ１の厚みは２．０μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は２７０ｎｍであった。さらに、配向処理方向を偏光子の吸収軸の方向に対して視認側から見て７５°方向となるようにしたこと以外は実施例１と同様にして、ＰＥＴフィルム上に液晶配向固化層Ｂ２を形成した。液晶配向固化層Ｂ２の厚みは１．０μｍ、面内位相差Ｒｅ（５５０）は１４０ｎｍであった。次いで、実施例１と同様の偏光子表面に、上記で得られた液晶配向固化層Ｂ１およびＢ２をこの順に転写した。それぞれの転写（貼り合わせ）は、実施例１で用いた紫外線硬化型接着剤（厚み１．０μｍ）を介して行った。このようにして、保護層／接着層／偏光子／接着層／位相差層（第１の液晶配向固化層／接着層／第２の液晶配向固化層）の構成を有する位相差層付偏光板を得た。得られた位相差層付偏光板の総厚みは５１μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例３］
光学機能層として位相差層の代わりに別の保護層としてシクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ）フィルム（厚み１３μｍ）を用いたこと以外は実施例１と同様にして偏光板を作製した。偏光板の総厚みは６０μｍであった。得られた偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例４］
保護層として厚み２０μｍのアクリル系フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板の総厚みは２８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例５］
保護層をアクリル系フィルムからＣＯＰフィルム（厚み１３μｍ）に変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板の総厚みは２１μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例６］
偏光子の単体透過率が４３．０％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の偏光度は９９．９９０％、突き刺し強度は２８．７ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例７］
ＰＶＡ系樹脂層の厚みを２０μｍとしたこと（結果として、偏光子の厚みを８μｍとしたこと）、および、偏光子の単体透過率が４３．１％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例６と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の偏光度は９９．９９１％、突き刺し強度は２６．６ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは５１μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例８］
偏光子の単体透過率が４４．５％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の偏光度は９９．７５０％、突き刺し強度は２７．６ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例９］
空中補助延伸における幅残存率と自由収縮幅残存率との差が３．１％となるよう延伸条件を変更したこと、および、偏光子の単体透過率が４１．９％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の厚みは５．５μｍであり、偏光度は９９．９９７％、突き刺し強度は１３．６ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８．５μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例１０］
空中補助延伸における幅残存率と自由収縮幅残存率との差が３．１％となるよう延伸条件を変更したこと、および、偏光子の単体透過率が４１．２％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の厚みは５．５μｍであり、偏光度は９９．９９７％、突き刺し強度は１１．６ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８．５μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例１１］
空中補助延伸における幅残存率と自由収縮幅残存率との差が３．５％となるよう延伸条件を変更したこと、および、偏光子の単体透過率が４３．０％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の厚みは５．５μｍであり、偏光度は９９．９９４％、突き刺し強度は２０．５ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８．５μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例１２］
空中補助延伸の延伸倍率を３．０倍および水中延伸の倍率を１．８倍としたこと、空中補助延伸における幅残存率と自由収縮幅残存率との差が１０．３％となるよう延伸条件を変更したこと、および、偏光子の単体透過率が４３．０％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の偏光度は９９．９９０％、突き刺し強度は２８．３ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［比較例１］
アセトアセチル変性ＰＶＡを用いずにＰＶＡ系樹脂層を形成したこと、空中補助延伸における幅残存率と自由収縮幅残存率との差が０．５％となるよう延伸条件を変更したこと、および、偏光子の単体透過率が４１．９％となるよう染色処理の条件を変更したこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。偏光子の偏光度は９９．９９７％、突き刺し強度は８．４ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［比較例２］
偏光子を以下のようにして作製した。
熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加し、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１５０℃でロール間延伸により５．０倍延伸を行った（空中延伸処理）。空中延伸処理における幅残存率は４３．９％であり、幅残存率と自由収縮幅残存率との差（幅残存率−自由収縮幅残存率）は−０．８％であった。
次いで、積層体を、液温３０℃の染色浴（ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比の水溶液で、偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所定値となるように水の量を調整して濃度を調整した液）に６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（第１架橋処理）。
その後、積層体を、液温６０℃の架橋浴（水１００重量部に対してヨウ化カリウムを５重量部配合し、偏光子のホウ酸含有量が所定値となるようにホウ酸濃度を調整したホウ酸水溶液）に浸漬させた。実施例１のような水中延伸は行わなかった。（第２架橋処理）。
その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
その後、９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに約２秒接触させた（乾燥収縮処理）。乾燥収縮処理による積層体の幅方向の収縮率は４．０％であった。
このようにして、樹脂基材上に厚み５μｍの偏光子を形成した。偏光子の単体透過率は４２．０％、偏光度は９９．９２０％、突き刺し強度は６．５ｇｆ／μｍであった。

上記の偏光子を用いたこと以外は実施例１と同様にして位相差層付偏光板を作製した。得られた位相差層付偏光板の総厚みは４８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［比較例３］
１．偏光子の作製
平均重合度が２，４００、ケン化度が９９．９モル％、厚みが６０μｍであるポリビニルアルコール系樹脂フィルム（クラレ社製、ＰＥ６０００）を、周速比の異なるロール間で、２０℃の膨潤浴（水浴）中に３０秒間浸漬して膨潤しながら搬送方向に２．４倍に延伸し（膨潤工程）、続いて、３０℃の染色浴（ヨウ素濃度が０．０３重量％、ヨウ化カリウム濃度が０．３重量％である水溶液）中で最終延伸後の単体透過率が所望の値となるように浸漬して染色しながら元のポリビニルアルコールフィルム（搬送方向に全く延伸していないポリビニルアルコールフィルム）を基準にして搬送方向に３．７倍に延伸した（染色工程）。この時の浸漬時間は約６０秒であった。次いで、染色したポリビニルアルコールフィルムを、４０℃の架橋浴（ホウ酸濃度が３．０重量％、ヨウ化カリウム濃度が３．０重量％である水溶液）中で浸漬しながら元のポリビニルアルコールフィルムを基準にして搬送方向に４．２倍まで延伸した（架橋工程）。さらに、得られたポリビニルアルコールフィルムを、６４℃の延伸浴（水１００重量部に対してヨウ化カリウムを５重量部配合し、偏光子のホウ酸含有量が所定値となるようにホウ酸濃度を調整したホウ酸水溶液）中で５０秒間浸漬して元のポリビニルアルコールフィルムを基準にして搬送方向に６．０倍まで延伸した（延伸工程）後、２０℃の洗浄浴（ヨウ化カリウム濃度が３．０重量％である水溶液）中で５秒間浸漬した（洗浄工程）。洗浄したポリビニルアルコールフィルムを、３０℃で２分間乾燥して偏光子（厚み２５μｍ）を作製した。偏光子のホウ酸含有量、突き刺し強度はこの状態のものを測定した。

２．偏光板の作製
接着剤として、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール樹脂（平均重合度が１，２００、ケン化度が９８．５モル％、アセトアセチル化度が５モル％）とメチロールメラミンとを重量比３：１で含有する水溶液を用いた。この接着剤を用いて、上記で得られた偏光子の一方の面に実施例１と同様のアクリル系フィルム（厚み４０μｍ）をロール貼合機で貼り合わせた後、オーブン内で加熱乾燥（温度が６０℃、時間が５分間）させて、保護層（厚み４０μｍ）／接着層／偏光子の構成を有する偏光板を作製した。

３．位相差層付偏光板の作製
上記２．で得られた偏光板の偏光子の表面に、実施例１と同様にして液晶配向固化層Ａを転写して、保護層／接着層／偏光子／接着層／位相差層（液晶配向固化層）の構成を有する位相差層付偏光板を作製した。偏光子の単体透過率は４２．４％、偏光度は９９．９９７％、突き刺し強度は６．７ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは６８μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［比較例４］
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムとしてＰＥ６０００の代わりにＰＥ３０００（クラレ社製、平均重合度２，４００、ケン化度９９．９モル％、厚み３０μｍ）を用いたこと以外は比較例３と同様にして、保護層／接着層／偏光子／接着層／位相差層（液晶配向固化層）の構成を有する位相差層付偏光板を作製した。偏光子の厚みは１２μｍ、単体透過率は４２．５％、偏光度は９９．９９７％、突き刺し強度は６．９ｇｆ／μｍであった。得られた位相差層付偏光板の総厚みは５５μｍであった。得られた位相差層付偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。

［評価］
実施例と比較例とを比較すると明らかなように、本発明の実施例によれば、優れた屈曲性を有する偏光板（位相差層付偏光板）が得られることがわかる。さらに、実施例においては、屈曲による光学特性の変化が実用上許容範囲内であることも確認した。

本発明の偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置および無機ＥＬ表示装置等の画像表示装置に好適に用いられる。

１０ 偏光子
２０ 位相差層
３０ 保護層
１００ 偏光板

Claims (19)

1. 偏光子と、該偏光子の一方の側に配置された保護層と、該偏光子のもう一方の側に配置された光学機能層と、を含み、
   該偏光子の突き刺し強度が１０ｇｆ／μｍ以上である、
   偏光板。
2. 前記光学機能層の厚みが２０μｍ以下である、請求項１に記載の偏光板。
3. 前記光学機能層が、前記保護層とは別の保護層として機能する、請求項１または２に記載の偏光板。
4. 前記光学機能層が、円偏光機能または楕円偏光機能を有する位相差層である、請求項１から３のいずれかに記載の偏光板。
5. 前記位相差層が液晶化合物の配向固化層の単一層であり、
   該位相差層のＲｅ（５５０）が１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、
   該位相差層の遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が４０°〜５０°である、
   請求項４に記載の偏光板。
6. 前記位相差層が、第１の液晶化合物の配向固化層と第２の液晶化合物の配向固化層との積層構造を有し、
   該第１の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）が２００ｎｍ〜３００ｎｍであり、その遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が１０°〜２０°であり、
   該第２の液晶化合物の配向固化層のＲｅ（５５０）が１００ｎｍ〜１９０ｎｍであり、その遅相軸と該偏光子の吸収軸とのなす角度が７０°〜８０°である、
   請求項４に記載の偏光板。
7. 前記偏光子の厚みが１０μｍ以下である、請求項１から６のいずれかに記載の偏光板。
8. 前記保護層の厚みが５０μｍ以下である、請求項１から７のいずれかに記載の偏光板。
9. 総厚みが６０μｍ以下である、請求項１から８のいずれかに記載の偏光板。
10. 前記偏光子が、ヨウ素を含むポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成されている、請求項１から９のいずれかに記載の偏光板。
11. 前記偏光子が、アセトアセチル変性されたポリビニルアルコール系樹脂を含む、請求項１０に記載の偏光板。
12. 長尺状の熱可塑性樹脂基材の片側に、ポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体とすること、および
    該積層体を延伸および染色して、該ポリビニルアルコール系樹脂層を偏光子とすること、を含み
    該偏光子の突き刺し強度が１０ｇｆ／μｍ以上である、
    請求項１から１１のいずれかに記載の偏光板の製造方法。
13. 前記熱可塑性樹脂基材の片側にヨウ化物または塩化ナトリウムとポリビニルアルコール系樹脂とを含むポリビニルアルコール系樹脂層を形成する、請求項１２に記載の製造方法。
14. 前記積層体に、空中補助延伸処理と、染色処理と、水中延伸処理と、長手方向に搬送しながら加熱することにより、幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理と、をこの順に施すことを含む、請求項１３に記載の製造方法。
15. 前記空中補助延伸における幅残存率と自由収縮幅残存率との差が２％以上である、請求項１４に記載の製造方法。
16. 前記空中補助延伸における延伸倍率が２．３倍以上である、請求項１４または１５に記載の製造方法。
17. 請求項１から１１のいずれかに記載の偏光板を備える、画像表示装置。
18. 有機エレクトロルミネセンス表示装置または無機エレクトロルミネセンス表示装置である、請求項１７に記載の画像表示装置。
19. 折り曲げまたは折り畳み可能である、請求項１７または１８に記載の画像表示装置。
    

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