TW202045349A - 偏光板及其製造方法、以及使用該偏光板之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明可提供一種具有優異撓曲性且撓曲造成之光學特性之變化經抑制之偏光板。本發明之偏光板包含偏光件、配置於偏光件之一側的保護層及配置於偏光件之另一側的光學機能層。偏光件之穿刺強度為10gf/μm以上。在一實施形態中，光學機能層作為上述保護層之外的另一保護層發揮功能。在另一實施形態中，光學機能層為具有圓偏光機能或楕圓偏光機能之相位差層。

Description

偏光板及其製造方法、以及使用該偏光板之影像顯示裝置
本發明涉及一種偏光板及其製造方法、以及使用該偏光板之影像顯示裝置。
近年來，代表上有液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)之影像顯示裝置急速普及。影像顯示裝置代表上係使用偏光板及相位差板。在實際應用上，廣泛使用偏光板與相位差板一體化而成的附相位差層之偏光板(例如專利文獻1)。近年來隨著對於彎曲的影像顯示裝置及/或是可彎折或可折疊的影像顯示裝置之需求提高，對於偏光板(結果而言為附相位差層之偏光板)亦要求以機械特性來說優異之撓曲性及光學特性不因撓曲而變化。但，可滿足這種特性之偏光板(結果來說為附相位差層之偏光板)走實用化尚有檢討之餘地。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利第3325560號公報
發明欲解決之課題 本發明係為了解決上述以往之課題而成者，其主要目的在於提供一種具有優異撓曲性且撓曲所致光學特性之變化經抑制的偏光板。
用以解決課題之手段 本發明偏光板包含偏光件、配置於該偏光件之一側的保護層及配置於該偏光件之另一側的光學機能層，且該偏光件之穿刺強度為10gf/μm以上。 在一實施形態中，上述光學機能層之厚度為20μm以下。 在一實施形態中，上述光學機能層作為上述保護層之外的另一保護層發揮功能。 在另一實施形態中，上述光學機能層為具有圓偏光機能或楕圓偏光機能之相位差層。此時，舉一例來說，上述相位差層為液晶化合物之定向固化層的單一層，且該相位差層的Re(550)為100nm~190nm，該相位差層之慢軸與上述偏光件之吸收軸形成之角度為40°~50°。舉另一例來說，上述相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層結構；該第1液晶化合物之定向固化層的Re(550)為200nm~300nm，且其慢軸與上述偏光件之吸收軸形成之角度為10°~20°；該第2液晶化合物之定向固化層的Re(550)為100nm~190nm，且其慢軸與該偏光件之吸收軸形成之角度為70°~80°。 在一實施形態中，上述偏光件之厚度為10μm以下。 在一實施形態中，上述保護層之厚度為50μm以下。 在一實施形態中，上述偏光板的總厚度在60μm以下。 在一實施形態中，上述偏光件代表上係以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成。在一實施形態中，上述偏光件包含經乙醯乙醯基改質之聚乙烯醇系樹脂。 根據本發明之另一面向，可提供一種上述偏光板之製造方法。該製造方法包含以下步驟：於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層而製成積層體；及，將該積層體延伸及染色，以將該聚乙烯醇系樹脂層製成偏光件；並且，該偏光件之穿刺強度為10gf/μm以上。 在一實施形態中，上述製造方法包含下述步驟：於上述熱塑性樹脂基材之單側形成含碘化物或氯化鈉與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。 在一實施形態中，上述製造方法包含下述步驟：對上述積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一邊將上述積層體沿長邊方向輸送一邊加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上。 在一實施形態中，上述空中輔助延伸之寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差為2%以上。 在一實施形態中，上述空中輔助延伸的延伸倍率為2.3倍以上。 根據本發明之另一面向，可提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具備上述偏光板。 在一實施形態中，上述影像顯示裝置係有機電致發光顯示裝置或無機電致發光顯示裝置。在一實施形態中，上述影像顯示裝置可彎折或可折疊。
發明效果 根據本發明，藉由將偏光件之穿刺強度設為預定值以上，可獲得具有優異撓曲性且撓曲造成之光學特性的變化經抑制之偏光板。
以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態限定。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率成最大的方向(亦即慢軸方向)之折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率，而「nz」為厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)＝(nx-ny)×d求得。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向的相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。 (4)Nz係數 Nz係數可以Nz=Rth/Re求得。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向之順時針及逆時針兩者。因此，例如「45°」係指±45°。
A.偏光板之整體構成 圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。本實施形態之偏光板100包含偏光件10、配置於偏光件10之一側的保護層30、及配置於偏光件之另一側的光學機能層20。在本發明實施形態中，偏光件之穿刺強度為10gf/μm以上。藉由將偏光件之穿刺強度設為所述範圍，可實現具有優異撓曲性之偏光板。穿刺強度表示以預定強度穿刺偏光件時之偏光件的破裂耐性。穿刺強度例如可以於壓縮試驗機上裝設預定之針，並將該針以預定速度穿刺偏光件時偏光件要破裂之強度來表示。此外，從單位可明顯知道，穿刺強度意指偏光件之每單位厚度(1μm)的穿刺強度。
光學機能層20其厚度宜為20μm以下。只要為所述構成，便可實現極薄之偏光板。在一實施形態中，光學機能層作為保護層30之外的另一保護層發揮功能。所述保護層亦可作為具有預定之相位差及光學特性之相位差層發揮功能。在另一實施形態中，光學機能層為具有圓偏光機能或楕圓偏光機能之相位差層。所述相位差層亦可作為偏光件之保護層發揮功能。光學機能層為相位差層時，在一實施形態中，相位差層係液晶化合物的定向固化層。相位差層可為定向固化層的單一層，亦可具有第1定向固化層與第2定向固化層的積層結構。以下有時將光學機能層為相位差層的偏光板稱為附相位差層之偏光板。
構成偏光板之各層或光學薄膜代表上係透過接著層貼合。作為接著層可舉接著劑層、黏著劑層。本發明實施形態中，可適宜採用接著劑層。只要為所述構成，便可使偏光板更薄型化。構成接著劑層之接著劑代表上可舉如活性能量線硬化型接著劑(例如紫外線硬化型接著劑)。
亦可於附相位差層之偏光板設置另一相位差層。另一相位差層代表上可設於相位差層20之外側(與偏光件10相反之側)。另一相位差層代表上折射率特性係顯示nz＞nx＝ny之關係。所述之另一相位差層宜在相位差層為定向固化層之單一層時設置。此外，為求方便，有時會將相位差層20稱為第1相位差層，且將另一相位差層稱為第2相位差層。附相位差層之偏光板亦可更包含有其他相位差層。其他相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可按目適當設定。
偏光板上亦可設有導電層或附導電層之各向同性基材。導電層或附導電層之各向同性基材代表上可設於光學機能層20之外側(與偏光件10相反之側)。偏光板為具有相位差層與另一相位差層之附相位差層之偏光板時，另一相位差層以及導電層或附導電層之各向同性基材代表上係從相位差層(光學機能層)20側起依序設置。在設置有導電層或附導電層之各向同性基材時，偏光板或附相位差層之偏光板可應用於在影像顯示單元(例如有機EL單元)與偏光板之間組入觸控感測器而成的所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。
本發明偏光板可為薄片狀亦可為長條狀。本說明書中所謂「長條狀」意指相對於寬度而言長度足夠長的細長形狀，舉例而言包含相對於寬度而言長度為10倍以上之細長形狀，且宜為20倍以上之細長形狀。長條狀偏光板可捲成捲狀。
於實際使用上，可於光學機能層之與偏光件相反之側設置黏著劑層(未圖示)，且偏光板可貼附於影像顯示單元。並且，黏著劑層之表面宜在偏光板供於使用之前暫時黏附剝離薄膜。藉由暫時黏附剝離薄膜，可在保護黏著劑層的同時形成捲料。
偏光板的總厚度宜為100μm以下，且宜為80μm以下，更宜為70μm以下，尤宜為60μm以下。總厚度的下限例如可為25μm。根據本發明實施形態，可實現如所述極薄之偏光板。所述偏光板藉由與上述偏光件之穿刺強度所帶來之效果的相乘效果，可具有極優異之撓曲性。所述偏光板可適宜應用於彎曲的影像顯示裝置、可彎曲或可折疊的影像顯示裝置，尤可適宜應用於可彎曲或可折疊的影像顯示裝置。此外，偏光板之總厚度係指排除黏著劑層之構成偏光板的所有層之厚度的合計。
以下針對偏光板的構成要素進行更詳細說明。
B.偏光件 偏光件10其穿刺強度如上述為10gf/μm以上，例如為13gf/μm以上，宜為20gf/μm以上，且宜為30gf/μm以上，更宜為40gf/μm以上。穿刺強度之上限例如可為80gf/μm。藉由將偏光件之穿刺強度設為所述範圍，可實現具有優異撓曲性之偏光板。
偏光件代表上係以含二色性物質(代表上為碘)之聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜構成。較佳為構成PVA系樹脂薄膜(實質上為偏光件)之PVA系樹脂包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。只要為所述構成，便可獲得具有所期望之穿刺強度的偏光件。當設PVA系樹脂整體為100重量%時，經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂之摻混量宜為5重量%~20重量%，更宜為は8重量%~12重量%。只要摻混量為所述範圍，便可將穿刺強度設為更適宜之範圍。
偏光件的硼酸含量宜為10重量%以上，較佳為13重量%~25重量%。只要偏光件之硼酸含量在所述範圍內，便可藉由其與後述碘含量之加乘效果來良好維持貼合時調整捲曲的容易性且良好抑制加熱時之捲曲，同時改善加熱時之外觀耐久性。硼酸含量例如可由中和法使用下述式以每單位重量之偏光件所含硼酸量之形式來算出。 [數學式1]
Figure 02_image001
偏光件的碘含量宜為2.0重量%以上，較佳為2.0重量%~10重量%。只要偏光件之碘含量在所述範圍內，便可藉由其與上述硼酸含量之加乘效果來良好維持貼合時調整捲曲的容易性且良好抑制加熱時之捲曲，同時改善加熱時之外觀耐久性。本說明書中的「碘含量」意指偏光件(PVA系樹脂薄膜)中所含之所有碘的量。更具體而言，碘在偏光件中以碘離子(I- )、碘分子(I2 )、多碘離子(I3 - 、I5 - )等形態存在，而本說明書中的碘含量意指包含所有該等形態之碘的量。碘含量可利用譬如螢光X射線分析之檢量曲線法來算出。另，多碘離子在偏光件中係以形成有PVA-碘錯合物之狀態存在。藉由形成所述錯合物，可在可見光之波長範圍內展現吸收二色性。具體而言，PVA與三碘化物離子之錯合物(PVA・I3 - )在470nm附近具有吸光峰；PVA與五碘化物離子之錯合物(PVA・I5 - )在600nm附近具有吸光峰。結果，多碘離子可根據其形態在可見光之寬廣範圍內吸收光。另一方面，碘離子(I- )在230nm附近具有吸光峰，其與可見光之吸收無實質關聯。因此，以與PVA之錯合物狀態存在的多碘離子才係主要與偏光件之吸收性能有關。
偏光件的厚度宜為1μm~10μm，1μm~8μm較佳，2μm~5μm更佳。偏光件之厚度在一實施形態中為5μm~8μm。
偏光件宜在波長380nm~780nm的任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率Ts宜為40.0%~48.0%，較宜為41.0%~46.0%。偏光件的偏光度P以97.0%以上為佳，99.0%以上較佳，99.9%以上更佳。單體透射率代表上係使用紫外線可見光分光光度計來測定並進行視感度校正所得之Y值。上述偏光度代表上係基於使用紫外線可見光分光光度計測定並進行視感度校正所得之平行透射率Tp及正交透射率Tc，透過下述式來求得。 偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2 ×100
偏光件在代表上可使用兩層以上之積層體來製作。使用積層體而獲得之偏光件的具體例，可舉出使用樹脂基材與經塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光件，例如可透過以下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；及，將該積層體延伸及染色以將PVA系樹脂層製成偏光件。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成包含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中並延伸。並且，延伸可因應需求更包含下述步驟：在硼酸水溶液中延伸之前，在高溫(例如95℃以上)下將積層體進行空中延伸。並且，在本實施形態中，較佳為積層體係供於一邊沿長邊方向輸送一邊加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上之乾燥收縮處理。代表上，本實施形態之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即便是在將PVA塗佈於熱塑性樹脂上時仍可提升PVA之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光件的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向收縮，可提升光學特性。可以直接使用所得樹脂基材/偏光件之積層體(即，可將樹脂基材作為偏光件之保護層)，亦可從樹脂基材/偏光件之積層體剝離樹脂基材並於該剝離面視目的積層任意適當的保護層後來使用。關於偏光件之製造方法的詳細內容將於G項說明。
C.光學機能層 C-1.屬保護層的光學機能層 光學機能層20作為保護層30之外的另一保護層發揮功能時，該保護層如上述宜為厚度20μm以下之薄型保護層。保護層之厚度宜為18μm以下，更宜為15μm以下，尤宜為10μm以下。保護層之厚度的下限例如可為1μm。
保護層(光學機能層)可以樹脂薄膜構成，亦可以塗佈膜之固化物構成。構成樹脂薄膜之樹脂可舉如環烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂。塗佈膜之固化物可為例如預定之丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物。當保護層係以塗佈膜的固化物構成時，可使其厚度較樹脂薄膜薄上甚多。
保護層(光學機能層)代表上在將偏光板應用於影像顯示裝置時係配置於影像顯示單元側。在一實施形態中，保護層宜於光學上宜為各向同性。本說明書中，「在光學上為各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm，且厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。在另一實施形態中，保護層亦可為具有任意適當之相位差值的相位差層。此時，保護層(相位差層)之面內相位差Re(550)例如為110nm~150nm。
C-2.屬具有圓偏光機能或楕圓偏光機能之相位差層的光學機能層 光學機能層20為具有圓偏光機能或楕圓偏光機能之相位差層時，該相位差層可為樹脂薄膜之延伸薄膜，亦可為液晶化合物之定向固化層。較佳為液晶化合物的定向固化層。藉由使用液晶化合物，可使所得相位差層的nx與ny之差比非液晶材料大上甚多，因此可使用以獲得期望之面內相位差之相位差層的厚度比延伸薄膜小上甚多。結果可實現附相位差層之偏光板之進一步薄型化。結果，藉由與偏光件之穿刺強度之效果的相乘效果，可實現具有極優異之撓曲性的附相位差層之偏光板。以下針對液晶化合物之定向固化層進行詳細說明。此外，關於以樹脂薄膜之延伸薄膜構成之相位差層，例如記載於日本特開2017-54093號公報、日本特開2018-60014號公報。本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
本說明書中所謂「定向固化層」係指液晶混合物在層內於預定方向定向，且其定向狀態已受固定之層。另外，「定向固化層」此一概念包含如後述使液晶單體硬化而得的定向硬化層。在本實施形態中，代表上係於棒狀液晶化合物沿第1相位差層之慢軸方向排列之狀態下定向(沿面定向)。
液晶化合物可舉例如液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。所述液晶化合物例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性的表現機構可為溶致亦可為熱致。液晶聚合物及液晶單體分別可單獨使用，也可組合使用。
液晶化合物為液晶單體時，該液晶單體宜為聚合性單體及交聯性單體。其係因藉由使液晶單體進行聚合或交聯(亦即硬化)可固定液晶單體的定向狀態之故。在將液晶單體定向之後，例如只要使液晶單體彼此聚合或交聯，即可藉此固定上述定向狀態。在此係藉由聚合來形成聚合物，藉由交聯來形成3維網狀結構，惟該等為非液晶性。因此，所形成之第1相位差層譬如不會於液晶性化合物發生特有的因溫度變化而轉變為液晶相、玻璃相、結晶相之情形。結果第1相位差層會成為不受溫度變化影響而穩定性極優異的相位差層。
液晶單體展現液晶性之溫度範圍會因其種類而異。具體來說，該溫度範圍宜為40℃~120℃，更宜為50℃~100℃，最宜為60℃~90℃。
上述液晶單體可採用任意適當之液晶單體。例如可使用日本特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等所記載之聚合性液晶原化合物等。所述聚合性液晶原化合物之具體例可舉例如BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。液晶單體宜為例如向列性液晶單體。
液晶化合物之定向固化層可藉由以下方式來形成：於預定基材之表面施行定向處理，並於該表面塗敷含液晶化合物的塗敷液而使該液晶化合物於對應於上述定向處理之方向定向，再固定該定向狀態。在一實施形態中，基材為任意適當之樹脂薄膜，而形成於該基材上的定向固化層可轉印至偏光件10之表面。
上述定向處理可採用任意適當之定向處理。具體可舉機械性定向處理、物理性定向處理、化學性定向處理。機械性定向處理的具體例可舉磨擦處理、延伸處理。物理性定向處理的具體例可舉磁場定向處理、電場定向處理。化學性定向處理的具體例可舉斜向蒸鍍法、光定向處理。各種定向處理的處理條件可按目的採用任意適當之條件。
液晶化合物的定向可因應液晶化合物的種類於可展現液晶相之溫度下進行處理來進行。藉由進行所述溫度處理，液晶化合物會變為液晶狀態，而該液晶化合物會因應基材表面之定向處理方向而定向。
在一實施形態中，定向狀態之固定係藉由冷卻已依上述方式定向之液晶化合物來進行。在液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體時，定向狀態之固定係藉由對已依上述方式定向之液晶化合物施行聚合處理或交聯處理來進行。
液晶化合物之具體例及定向固化層的形成方法的詳細內容記載於日本特開2006-163343號公報。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。
定向固化層之另一例可舉盤狀液晶化合物在垂直定向、混合定向及傾斜定向之任一狀態下定向之形態。盤狀液晶化合物在代表上係定向成盤狀液晶化合物之圓盤面相對於第1相位差層之薄膜面在實質上呈垂直。所謂盤狀液晶化合物在實質上呈垂直意指薄膜面與盤狀液晶化合物之圓盤面形成之角度的平均值宜為70°~90°，且80°~90°更佳，85°~90°又更佳。所謂盤狀液晶化合物一般而言係指一種具有圓盤狀分子結構的液晶化合物，該圓盤狀分子結構是將如苯、1,3,5-三
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、杯芳烴等之環狀母核配置於分子中心，且直鏈的烷基、烷氧基、取代苄醯氧基等作為其側鏈呈放射狀取代者。盤狀液晶之代表例可舉：C.Destrade等人之研究報告，Mol.Cryst.Liq.Cryst.第71期第111頁(1981年)所記載之苯衍生物、聯伸三苯衍生物、參茚并苯衍生物、酞青素衍生物；B.Kohne等人之研究報告，Angew.Chem.第96期第70頁(1984年)所記載之環己烷衍生物；以及J.M.Lehn等人之研究報告，J.Chem.Soc.Chem.Commun.第1794頁(1985年)、J.Zhang等人之研究報告，J.Am.Chem.Soc.第116期第2655頁(1994年)所記載之氮雜冠醚系或苯乙炔系的大環。盤狀液晶化合物的更多具體例可舉例如日本專利特開2006-133652號公報、日本專利特開2007-108732號公報、日本專利特開2010-244038號公報所記載之化合物。本說明書中係援用上述文獻及公報之記載作為參考。
在一實施形態中，相位差層(光學機能層)20係液晶化合物之定向固化層的單一層。當相位差層(以下，如上述有時稱為第1相位差層)是以液晶化合物之定向固化層的單一層所構成時，其厚度宜為0.5μm~7μm，且1μm~5μm更佳。藉由使用液晶化合物，可以較樹脂薄膜薄上甚多的厚度實現與樹脂薄膜同等的面內相位差。
第1相位差層代表上折射率特性係展現nx＞ny＝nz之關係。第1相位差層在代表上係為了賦予偏光板抗反射特性而設置，而在第1相位差層為定向固化層的單一層時可作為λ/4板發揮功能。此時，第1相位差層的面內相位差Re(550)宜為100nm~190nm，且宜為110nm~170nm，更宜為130nm~160nm。此外，在此「ny＝nz」不只是ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有ny＞nz或ny＜nz之情形。
第1相位差層的Nz係數宜為0.9~1.5，更宜為0.9~1.3。藉由滿足所述關係，在將所得之附相位差層之偏光板使用於影像顯示裝置時，可達成非常優異之反射色相。
第1相位差層可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆分散波長特性，亦可展現相位差值隨測定光之波長變小的正常波長分散特性，又可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長分散特性。在一實施形態中，第1相位差層展現逆分散波長特性。此時，相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1，更宜為0.8以上且0.95以下。若為所述構成，即可實現非常優異的抗反射特性。
第1相位差層20的慢軸與偏光件10的吸收軸形成之角度θ宜為40°~50°，且宜為42°~48°，更宜為約45°。只要角度θ在所述範圍內，如上述藉由以第1相位差層作為λ/4板，可製得具有非常優異圓偏光特性(結果為非常優異的抗反射特性)的附相位差層之偏光板。
在另一實施形態中，第1相位差層20可具有第1定向固化層與第2定向固化層之積層結構。此時，第1定向固化層及第2定向固化層之任一者可作為λ/4板發揮功能，另一者可作為λ/2板發揮功能。因此，第1定向固化層及第2定向固化層的厚度可為了獲得λ/4板或λ/2板的期望面內相位差而進行調整。譬如，第1定向固化層作為λ/2板發揮功能、第2定向固化層作為λ/4板發揮功能時，第1定向固化層的厚度例如為2.0μm~3.0μm，而第2定向固化層的厚度例如為1.0μm~2.0μm。此時，第1定向固化層的面內相位差Re(550)宜為200nm~300nm，且宜為230nm~290nm，更宜為250nm~280nm。而第2定向固化層的面內相位差Re(550)，如同就上述有關單一層之定向固化層所說明。第1定向固化層的慢軸與偏光件的吸收軸形成之角度宜為10°~20°，且宜為12°~18°，更宜為約15°。第2定向固化層的慢軸與偏光件的吸收軸形成之角度宜為70°~80°，且宜為72°~78°，更宜為約75°。只要為所述構成，即可獲得接近理想之逆波長分散特性的特性，結果可實現非常優異之抗反射特性。關於構成第1定向固化層及第2定向固化層之液晶化合物、第1定向固化層及第2定向固化層之形成方法、光學特性等，如同就上述有關單一層之定向固化層所說明。
D.第2相位差層 第2相位差層如同上述，可為折射率特性展現nz＞nx＝ny之關係的所謂正C板(Positive C-plate)。藉由使用正C板作為第2相位差層，可良好地防止斜向之反射，而可使抗反射功能廣視角化。第2相位差層宜在第1相位差層為定向固化層之單一層時設置。第2相位差層的厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm，且宜為-70nm~-250nm，更宜為-90nm~-200nm，尤宜為-100nm~-180nm。在此，「nx=ny」不僅包含nx與ny精確相等之情況，還包含nx與ny實質相等之情況。即，第2相位差層的面內相位差Re(550)可小於10nm。
具有nz＞nx＝ny之折射率特性的第2相位差層可以任意適當之材料形成。第2相位差層宜由包含固定為垂面定向之液晶材料的薄膜構成。可使垂面定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體亦可為液晶聚合物。該液晶化合物及該相位差層之形成方法的具體例可舉如日本特開2002-333642號公報中段落[0020]~[0028]記載之液晶化合物及該相位差層之形成方法。此時，第2相位差層的厚度宜為0.5μm~10μm，且宜為0.5μm~8μm，更宜為0.5μm~5μm。
E.保護層 保護層30係以可作為偏光件之保護層使用的任意適當的薄膜形成。成為該薄膜之主成分的材料之具體例，可舉出三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，還可舉出(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉出例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且，亦可使用日本特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂之樹脂組成物，例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。
本發明之偏光板或附相位差層之偏光板如後述代表上係配置於影像顯示裝置的視辨側，而保護層30代表上係配置於其視辨側。因此，保護層30亦可視需要施行有硬塗處理、抗反射處理、抗黏著處理、防眩處理等表面處理。並且/或者，保護層30亦可視需求施行有用以改善透過偏光太陽眼鏡視辨時之視辨性的處理(代表上為賦予(橢)圓偏光機能、賦予超高相位差)。藉由施行所述處理，即使透過偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視辨顯示畫面時，仍可實現優異的視辨性。因此，偏光板或附相位差層之偏光板亦可適宜用於可用於屋外之影像顯示裝置。
保護層的厚度宜為50μm以下，較宜為5μm~40μm。另外，在施有表面處理時，外側保護層之厚度係包含表面處理層之厚度。
F.導電層或附導電層之各向同性基材 導電層可利用任意適當之成膜方法(例如真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍法、噴霧法等)，將金屬氧化物膜成膜於任意適當之基材上來形成。金屬氧化物可舉例如氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦錫複合氧化物、錫銻複合氧化物、鋅鋁複合氧化物、銦鋅複合氧化物。其中宜為銦錫複合氧化物(ITO)。
導電層包含金屬氧化物時，該導電層的厚度宜為50nm以下，更宜為35nm以下。導電層厚度的下限宜為10nm。
導電層可製成為由上述基材轉印至光學機能層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)而以導電層單獨作為附相位差層之偏光板的構成層，亦可以導電層與基材之積層體(附導電層之基材)的形式積層於光學機能層(或若有第2相位差層存在則為第2相位差層)。較佳為上述基材在光學上為各向同性，因此導電層可以附導電層之各向同性基材之形式用於偏光板。
在光學上為各向同性的基材(各向同性基材)可採用任意適當之各向同性基材。構成各向同性基材之材料可舉例如以降莰烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂為主骨架的材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構的材料等。若使用所述材料，則可將形成各向同性基材時伴隨分子鏈定向而展現之相位差抑制得較小。各向同性基材的厚度宜為50μm以下，更宜為35μm以下。各向同性基材厚度的下限例如20μm。
上述導電層及/或上述附導電層之各向同性基材的導電層可因應需要進行圖案化。藉由圖案化可形成導通部與絕緣部。結果可形成電極。電極可作為用以感測對觸控面板之接觸的觸控感測電極發揮功能。圖案化方法可採用任意適當之方法。圖案化方法的具體例可舉濕式蝕刻法、網版印刷法。
G.偏光件之製造方法 偏光件例如可經由包含以下步驟之製造方法而得：於長條狀熱塑性樹脂基材單側形成聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層)而做成積層體，該聚乙烯醇系樹脂層含有鹵化物與聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)；及，對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一邊沿長邊方向輸送積層體一邊加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上。PVA系樹脂層中之鹵化物含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。乾燥收縮處理宜使用加熱輥進行處理，且加熱輥溫度宜為60℃~120℃。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率宜為2%以上。根據所述製造方法可獲得在上述B項所說明之偏光件。尤其是藉由下述方式可獲得具有優異光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)並且光學特性參差經抑制的偏光件：製作包含含有鹵化物之PVA系樹脂層的積層體後，將上述積層體之延伸進行包含空中輔助延伸及水中延伸的多階段延伸，再將延伸後之積層體以加熱輥進行加熱。具體而言，藉由在乾燥收縮處理步驟中使用加熱輥，可一邊輸送積層體一邊使積層體整體全部均勻收縮。藉此不僅可提升所得偏光件的光學特性，還能穩定生產光學特性優異的偏光件，並可抑制偏光件之光學特性(尤其是單體透射率)的參差。
G-1.製作積層體 製作熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體的方法可採用任意適當之方法。較佳為將含有鹵化物與PVA系樹脂之塗佈液塗佈於熱塑性樹脂基材之表面並乾燥，藉此於熱塑性樹脂基材上形成PVA系樹脂層。如上述，PVA系樹脂層中之鹵化物含量宜相對於PVA系樹脂100重量份為5重量份~20重量份。
塗佈液之塗佈方法可採用任意適當的方法。例如可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗號塗佈法等)等。上述塗佈液之塗佈、乾燥溫度宜為50℃以上。
PVA系樹脂層之厚度宜為3μm~40μm，更宜為3μm~20μm。
在形成PVA系樹脂層之前，可對熱塑性樹脂基材施行表面處理(例如電暈處理等)，也可於熱塑性樹脂基材上形成易接著層。藉由進行所述處理，可提升熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之密著性。
G-1-1.熱塑性樹脂基材 熱塑性樹脂基材可採用任意適當的熱塑性樹脂薄膜。關於熱塑性樹脂薄膜基材的詳細內容，例如記載於日本特開2012-73580號公報。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。
G-1-2.塗佈液 塗佈液係如上述包含鹵化物與PVA系樹脂。上述塗佈液代表上係使上述鹵化物及上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成之溶液。作為溶劑，可舉例如水、二甲亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可將二種以上組合使用。該等中又以水為佳。溶液之PVA系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。只要為所述樹脂濃度，便可形成密著於熱塑性樹脂基材且均勻的塗佈膜。塗佈液中之鹵化物含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。
塗佈液中亦可摻混添加劑。添加劑可舉如塑化劑、界面活性劑等。塑化劑可舉例如乙二醇或丙三醇等多元醇。界面活性劑可舉例如非離子性界面活性劑。該等可為了進一步提升所得PVA系樹脂層的均勻性或染色性、延伸性而使用。
上述PVA系樹脂可採用任意適當的樹脂。可舉例如聚乙烯醇及乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度係依JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂，可獲得耐久性優異的偏光件。皂化度太高時，會有膠化之虞。如上述，PVA系樹脂宜包含經乙醯乙醯基改質之PVA系樹脂。
PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~4500，更宜為1500~4300。另，平均聚合度可按JIS K 6726-1994而求得。
上述鹵化物可採用任意適當之鹵化物。可舉例如碘化物及氯化鈉。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鈉及碘化鋰。該等之中又以碘化鉀為佳。
塗佈液中之鹵化物量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份，更佳為相對於PVA系樹脂100重量份為10重量份~15重量份。若鹵化物之量相對於PVA系樹脂100重量份為大於20重量份，則會有鹵化物溢出而使最後製得之偏光件變白濁之情形。
一般而言，PVA系樹脂層經延伸，會使PVA樹脂層中之聚乙烯醇分子之定向性變高，但若將延伸後之PVA系樹脂層浸漬於含水之液體中，則會有聚乙烯醇分子之定向紊亂而定向性降低之情形。尤其是在對熱塑性樹脂與PVA系樹脂層之積層體進行硼酸水中延伸時，為了穩定熱塑性樹脂之延伸而在相對較高溫度下在硼酸水中將上述積層體進行延伸時，上述定向度降低之傾向很顯著。舉例而言，PVA薄膜單體在硼酸水中之延伸一般而言係在60℃下進行，相對於此，A-PET(熱塑性樹脂基材)與PVA系樹脂層之積層體之延伸係在70℃前後之溫度即較高溫度下進行，此時，延伸初始之PVA的定向性會在因水中延伸而上升之前的階段便降低。對此，藉由製作含有鹵化物之PVA系樹脂層與熱塑性樹脂基材之積層體，並將積層體於在硼酸水中進行延伸前在空氣中進行高溫延伸(輔助延伸)，可促進輔助延伸後之積層體之PVA系樹脂層中的PVA系樹脂之結晶化。結果，在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光件的光學特性。
G-2.空中輔助延伸處理 尤其為了獲得高光學特性，會選擇組合乾式延伸(輔助延伸)與硼酸水中延伸之2段延伸之方法。如2段延伸之方式，藉由導入輔助延伸，可一邊抑制熱塑性樹脂基材之結晶化一邊進行延伸，解決在之後的硼酸水中延伸中因熱塑性樹脂基材之過度結晶化造成延伸性降低之問題，從而可以更高倍率延伸積層體。並且，在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂基材上時，為了抑制熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度之影響，必須使塗佈溫度比將PVA系樹脂塗佈於一般的金屬滾筒上之情況更低，結果會產生PVA系樹脂之結晶化相對變低而無法獲得充分光學特性之問題。對此，藉由導入輔助延伸，即使是在將PVA系樹脂塗佈於熱塑性樹脂上時仍可提升PVA系樹脂之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA系樹脂之定向性，可防止在之後的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，PVA系樹脂之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。
空中輔助延伸之延伸方法可為固定端延伸(例如使用拉幅延伸機來延伸之方法)，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過不同周速的輥件間來進行單軸延伸之方法)。在一實施形態中，空中輔助延伸之延伸方法例如可為使用拉幅延伸機之雙軸延伸。藉由適當設定雙軸延伸之延伸條件，可對所得偏光件賦予預定之雙軸性。結果，可實現具有所期望之穿刺強度的偏光件。
空中輔助延伸之長邊方向之延伸倍率宜為2.3倍以上，較佳為2.4倍~3.5倍。本發明實施形態中，如上述藉由採用雙軸延伸來控制寬度殘存率(收縮後之寬度相對於原寬度：%)。具體來說，空中輔助延伸之(即空中輔助延伸後之)寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差宜為2%以上，且宜為3%以上，更宜為5%以上。該差的最大值例如可為15%。在此，自由收縮寬度殘存率係指以相同延伸倍率沿長邊方向自由端延伸時之寬度殘存率。具體來說，設延伸倍率為x倍時之自由收縮寬度殘存率係以(1/x1/2 )×100算出。例如延伸2.4倍時，自由收縮寬度殘存率為(1/(2.4)1/2 )×100＝64.5%。其係因在自由收縮中沿長邊方向延伸時，寬度方向與厚度方向係以相同比率收縮之故。此外，組合空中輔助延伸與水中延伸時之最大延伸倍率(長邊方向)，相對於積層體原長以5.0倍以上為宜，以5.5倍以上為佳，以6.0倍以上為更佳。本說明書中「最大延伸倍率」意指積層體將要斷裂前的延伸倍率，係另外確認積層體斷裂的延伸倍率後比其值低0.2之值。
空中輔助延伸之延伸溫度可因應熱塑性樹脂基材之形成材料、延伸方式等設定成任意適當之值。延伸溫度宜為熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以上，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)+10℃以上更適宜，Tg+15℃以上特別適宜。另一方面，延伸溫度的上限宜為170℃。藉由在所述溫度下延伸可抑制PVA系樹脂之結晶化急速進展，從而可抑制該結晶化所造成的不良情況(例如，因延伸而妨礙PVA系樹脂層之定向)。空中輔助延伸後之PVA系樹脂的結晶化指數宜為1.3~1.8，較宜為1.4~1.7。PVA系樹脂之結晶化指數可用傅立葉轉換紅外光譜光度計，藉由ATR法進行測定。具體上是以偏光作為測定光來實施測定，並用所得光譜之1141cm-1 及1440cm-1 之強度，按下述式算出結晶化指數。 結晶化指數＝(IC /IR ) 惟， IC ：入射測定光並進行測定時之1141cm-1 的強度， IR ：入射測定光並進行測定時之1440cm-1 的強度。
G-3.不溶解處理、染色處理及交聯處理 視需要在空中輔助延伸處理之後且在水中延伸處理或染色處理之前，施行不溶解處理。上述不溶解處理代表上係將PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。上述染色處理代表上係以二色性物質(代表上為碘)將PVA系樹脂層染色來進行。視需要在染色處理之後且在水中延伸處理之前，施行交聯處理。上述交聯處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。關於不溶解處理、染色處理及交聯處理的詳細內容，例如記載於日本特開2012-73580號公報(上述)。
G-4.水中延伸處理 水中延伸處理係使積層體浸漬於延伸浴來進行。藉由水中延伸處理，可在比上述熱塑性樹脂基材或PVA系樹脂層之玻璃轉移溫度(代表上為80℃左右)更低的溫度下延伸，而可在抑制PVA系樹脂層結晶化的同時進行高倍率延伸。結果可製出具有優異光學特性之偏光件。
積層體之延伸方法可採用任意適當的方法。具體而言，可為固定端延伸，亦可為自由端延伸(例如使積層體通過周速相異之輥件間進行單軸延伸的方法)。較佳為選擇自由端延伸。積層體之延伸可在一階段中進行亦可分多階段進行。分多階段進行時，後述積層體之延伸倍率(最大延伸倍率)為各階段之延伸倍率之積。
水中延伸宜使積層體浸漬於硼酸水溶液中來進行(硼酸水中延伸)。藉由使用硼酸水溶液作為延伸浴，可對PVA系樹脂層賦予得以承受延伸時所受張力的剛性與不溶於水的耐水性。具體上，硼酸在水溶液中會生成四羥基硼酸陰離子而可藉由氫鍵與PVA系樹脂交聯。結果可賦予PVA系樹脂層剛性與耐水性，進行良好地延伸，從而製出具有優異光學特性之偏光件。
上述硼酸水溶液宜使硼酸及/或硼酸鹽溶解於屬溶劑的水而獲得。硼酸濃度相對於水100重量份宜為1重量份~10重量份，更宜為2.5重量份~6重量份，尤宜為3重量份~5重量份。藉由將硼酸濃度設為1重量份以上，可有效抑制PVA系樹脂層之溶解，製造特性更高之偏光件。此外，除硼酸或硼酸鹽外，還可使用將硼砂等之硼化合物、乙二醛、戊二醛等溶解於溶劑而得之水溶液。
宜於上述延伸浴(硼酸水溶液)中摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制已吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。碘化物之具體例如上述。碘化物之濃度相對於水100重量份宜為0.05重量份~15重量份，更宜為0.5重量份~8重量份。
延伸溫度(延伸浴之液溫)宜為40℃~85℃，較宜為60℃~75℃。只要為所述溫度，便可抑制PVA系樹脂層溶解，同時又可高倍率地延伸。具體而言如上所述，若考量由與形成PVA系樹脂層之關係，熱塑性樹脂基材之玻璃轉移溫度(Tg)以60℃以上為宜。此時，延伸溫度若低於40℃，則即使考慮以水將熱塑性樹脂基材塑化，也恐無法良好地延伸。另一方面，延伸浴之溫度愈高溫，PVA系樹脂層之溶解性就愈高，而恐無法獲得優異的光學特性。積層體浸漬於延伸浴之浸漬時間宜為15秒~5分鐘。
水中延伸所行之延伸倍率宜為1.5倍以上，較佳為3.0倍以上。積層體之總延伸倍率相對於積層體的原長宜為5.0倍以上，更宜為5.5倍以上。藉由達成所述高延伸倍率，可製造出光學特性極優異的偏光件。所述高延伸倍率可藉由採用水中延伸方式(硼酸水中延伸)來達成。
G-5.乾燥收縮處理 上述乾燥收縮處理可透過將區域整體加熱所進行之區域加熱來進行，亦可透過將輸送輥加熱(所謂使用加熱輥)來進行(加熱輥乾燥方式)。較佳為使用這兩者。藉由使用加熱輥使其乾燥，可有效率地抑制積層體之加熱捲曲，而製造出外觀優異的偏光件。具體而言，藉由在使積層體沿著加熱輥之狀態下進行乾燥，可有效率地促進上述熱塑性樹脂基材之結晶化而增加結晶化度，即使是在相對較低的乾燥溫度下，仍能良好增加熱塑性樹脂基材之結晶化度。結果熱塑性樹脂基材之剛性增加而成為得以承受PVA系樹脂層因乾燥而收縮的狀態，從而捲曲受到抑制。又，藉由使用加熱輥，可在將積層體維持平坦狀態的同時進行乾燥，因此不僅可抑制捲曲的產生，還可抑制起皺的產生。此時，積層體可透過乾燥收縮處理使其於寬度方向收縮，來提升光學特性。其係因可有效提升PVA及PVA/碘錯合物之定向性之故。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率宜為1%~10%，更宜為2%~8%，尤宜為4%~6%。藉由使用加熱輥，可在輸送積層體的同時使其連續於寬度方向收縮，而可實現高生產率。
圖2係顯示乾燥收縮處理之一例的概略圖。在乾燥收縮處理中，係利用已加熱至預定溫度的輸送輥R1~R6與導輥G1~G4來一邊輸送積層體200一邊使其乾燥。在圖式例中，係將輸送輥R1~R6配置成可交替連續加熱PVA樹脂層之面與熱塑性樹脂基材之面，但例如亦可將輸送輥R1~R6配置成僅連續加熱積層體200的其中一面(例如熱塑性樹脂基材面)。
藉由調整輸送輥之加熱溫度(加熱輥之溫度)、加熱輥之數量及與加熱輥的接觸時間等，可控制乾燥條件。加熱輥之溫度宜為60℃~120℃，更宜為65℃~100℃，尤宜為70℃~80℃。可在可良好地增加熱塑性樹脂之結晶化度而良好地抑制捲曲的同時，製造出耐久性極優異的光學積層體。另，加熱輥之溫度可以接觸式溫度計來測定。在圖式例中設置有6個輸送輥，惟輸送輥只要為多數個即無特別限制。輸送輥通常為2個~40個，較佳為設置4個~30個。積層體與加熱輥之接觸時間(總接觸時間)以1秒~300秒為宜，以1~20秒為佳，以1~10秒更佳。
加熱輥可設置於加熱爐(例如烘箱)內，亦可設置於一般的製造產線(室溫環境下)。宜設置於具備送風機構的加熱爐內。藉由併用以加熱輥進行之乾燥與熱風乾燥，可抑制在加熱輥間急遽的溫度變化，而可易控制寬度方向之收縮。熱風乾燥之溫度宜為30℃~100℃。且，熱風乾燥時間宜為1秒~300秒。熱風之風速宜為10m/s~30m/s左右。另，該風速係在加熱爐內之風速，可以迷你扇葉型數位風速計來測定。
G-6.其他處理 宜在水中延伸處理之後且在乾燥收縮處理之前，施行洗淨處理。上述洗淨處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。
H.影像顯示裝置 上述A項至G項所記載之偏光板可應用於影像顯示裝置。因此，本發明包含使用了所述偏光板之影像顯示裝置。影像顯示裝置的代表例可舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。本發明實施形態之影像顯示裝置於其視辨側具備上述A項至G項所記載之偏光板。偏光板係以使光學機能層成為影像顯示單元(例如液晶單元、有機EL單元、無機EL單元)側之方式(使偏光件成為視辨側)積層。在一實施形態中，影像顯示裝置具有彎曲的形狀(實質上為彎曲的顯示畫面)，及/或可彎折或可折疊。在所述影像顯示裝置中，本發明偏光板的效果很顯著。 實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。各特性之測定方法如以下所述。此外，只要無特別註記，實施例及比較例中之「份」及「%」即為重量基準。 (1)厚度 在實施例及比較例所用偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體的狀態下，使用干涉膜厚計(大塚電子公司製，製品名「MCPD-3000」)進行測定。厚度計算所用之計算波長範圍係在400nm~500nm下，且折射率為1.53。惟，比較例3及4係使用數位量規(PEACOCK尾崎製作所公司製，製品名「DG205」)來測定偏光件單體。 (2)單體透射率及偏光度 從實施例及比較例所用偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離偏光件，針對該偏光件使用紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製V-7100)進行測定，並將測得之單體透射率Ts、平行透射率Tp、正交透射率Tc分別作為偏光件之Ts、Tp及Tc。該等Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行光視效能校正所得之Y值。 從所得Tp及Tc利用下述式求得偏光度P。 偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2 ×100 (3)硼酸含量 從實施例及比較例所用偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離偏光件並採取預定量後，在120℃下使其乾燥2小時使水分蒸發，測定重量。接著，用適量的熱水使偏光件溶解後，利用中和法定量偏光件中之硼酸重量。從所得硼酸重量與熱水溶解前之偏光件重量之比率算出硼酸含量(重量%)。 (4)穿刺強度 從實施例及比較例所用偏光件/熱塑性樹脂基材之積層體剝離偏光件，並載置於裝設有針之壓縮試驗機(KATO TECH CO., LTD.製，製品名「NDG5」，針貫通力測定規格)，在室溫(23℃±3℃)環境下，以穿刺速度0.33cm/秒穿刺，並將偏光件破裂時之強度作為穿刺強度。評估值係測定10個試料片之穿刺強度並使用其平均值。此外，針係使用前端徑1mmφ、0.5R者。針對要測定之偏光件，將具有直徑11mm之圓形開口部的夾具從偏光件兩面固定後，對開口部之中央部進行穿刺試驗。 (5)彎折試驗 將實施例及比較例中所得之附相位差層之偏光板裁切成120mm(與偏光件之吸收軸方向正交之方向)×30mm(吸收軸方向)之尺寸，做成測定試料。對該測定試料使用無負荷U字伸縮模式之連續彎折試驗裝置(YUASA SYSTEM Co., Ltd.製，製品名「DLDMLH-FS」)進行連續彎折試驗。彎折速度為60rpm，彎折之振幅為20mm，彎折之曲率半徑為0.5mm，彎折次數為50000次。而彎折係藉由在固持住測定試料之長邊方向端部的狀態下使該固持部移動，並使測定試料之相位差層成為內側後來進行。按以下基準進行評估。 ○：50000次彎折後未發生破裂 ×：在少於50000次之彎折下構成要素之其中一者發生破裂 此外，測定試料發生破裂時，該破裂係沿吸收軸方向(測定試料之寬度方向)發生者。
[實施例1] 1.製作偏光件 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100μm)。並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。 在以9：1混合聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中，添加碘化鉀13重量份，而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體一邊以溫度調整成140℃之拉幅延伸機控制橫向之收縮，一邊沿縱方向(長邊方向)延伸(實質之雙軸延伸)2.4倍(空中輔助延伸處理)。空中延伸處理之寬度殘存率為75.0%，寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差(寬度殘存率-自由收縮寬度殘存率)為10.5%。 接著，使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。 接著，一邊將液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份，以1：7之重量比摻混碘與碘化鉀而獲得之碘水溶液)之濃度調整成以使最後所得之偏光件的單體透射率(Ts)成為預定值一邊浸漬於其中60秒(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混5重量份的硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。 之後，使積層體一邊浸漬於液溫70℃之浴(相對於水100重量份摻混有碘化鉀5重量份且硼酸濃度經調整成可使偏光件之硼酸含量成為預定值之硼酸水溶液)中，一邊於周速相異之輥件間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸(2.3倍)以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份，摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在保持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度保持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率為5.2%。 依上述進行而於樹脂基材上形成厚度5µm之偏光件。偏光件之穿刺強度為26.4gf/μm。且，偏光件的單體透射率為42.0%，偏光度為99.996%。
2.製作偏光板 於上述獲得之偏光件表面(與樹脂基材相反之側的面)透過紫外線硬化型接著劑貼合丙烯酸系薄膜(表面折射率1.50，40μm)作為保護層。具體而言，是塗敷成硬化型接著劑之總厚度為1.0μm，並使用輥軋機進行貼合。其後，從保護層側照射UV光線使接著劑硬化。接著，將兩端部切開後，將樹脂基材剝離，而獲得具有保護層/偏光件之構成的長條狀偏光板。
3.製作構成相位差層之液晶化合物的定向固化層(液晶定向固化層) 將顯示向列型液晶相的聚合性液晶(BASF公司製：商品名「Paliocolor LC242」，以下述式表示)10g與對該聚合性液晶化合物的光聚合引發劑(BASF公司製：商品名「IRGACURE 907」)3g溶解至甲苯40g中，而調製出液晶組成物(塗敷液)。 [化學式1]
Figure 02_image003
使用擦拭布擦拭聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(厚度38μm)表面，施行定向處理。定向處理之方向係設為貼合至偏光板時由視辨側觀看時相對於偏光件之吸收軸方向呈45°方向。利用棒塗機將上述液晶塗敷液塗敷至該定向處理表面，並於90℃下進行2分鐘加熱乾燥，藉此使液晶化合物定向。使用金屬鹵素燈以100mJ/cm2 的光照射依上述方式形成的液晶層，使該液晶層硬化，藉此於PET薄膜上形成液晶定向固化層A。液晶定向固化層A的厚度為1.0μm，面內相位差Re(550)為140nm。並且，液晶定向固化層A具有nx＞ny＝nz之折射率分布。
4.製作附相位差層之偏光板 於上述2.所得偏光板的偏光件表面轉印上述3.所得液晶定向固化層A。轉印(貼合)係透過上述2.所用之紫外線硬化型接著劑(厚度1.0μm)來進行。依上述方式，獲得具有保護層/接著層/偏光件/接著層/相位差層(液晶定向固化層)之構成的附相位差層之偏光板。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48μm。將所得附相位差層之偏光板供於上述(4)的評估。將結果列於表1。
[實施例2] 除了將相位差層製成液晶定向固化層之2層結構外，依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。具體上如下。變更塗敷厚度，並將定向處理方向設為由視辨側觀看時相對於偏光件之吸收軸方向呈15°方向，除此之外依與實施例1相同方式於PET薄膜上形成液晶定向固化層B1。液晶定向固化層B1的厚度為2.0μm，面內相位差Re(550)為270nm。並將定向處理方向設為由視辨側觀看時相對於偏光件之吸收軸方向呈75°方向，除此之外依與實施例1相同方式於PET薄膜上形成液晶定向固化層B2。液晶定向固化層B2的厚度為1.0μm，面內相位差Re(550)為140nm。然後於與實施例1相同之偏光件表面依序轉印上述所得液晶定向固化層B1及B2。各自之轉印(貼合)係透過實施例1所用之紫外線硬化型接著劑(厚度1.0μm)來進行。依上述方式，獲得具有保護層/接著層/偏光件/接著層/相位差層(第1液晶定向固化層/接著層/第2液晶定向固化層)之構成的附相位差層之偏光板。所得附相位差層之偏光板的總厚度為51μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例3] 作為光學機能層係使用環烯烴系樹脂(COP)薄膜(厚度13μm)作為另一保護層來取代相位差層，除此之外依與實施例1相同方式而製作出偏光板。偏光板之總厚度為60μm。將所得偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例4] 使用厚度20μm之丙烯酸系薄膜作為保護層，除此之外依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。所得附相位差層之偏光板的總厚度為28μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例5] 除了將保護層從丙烯酸系薄膜變更成COP薄膜(厚度13μm)外，依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。所得附相位差層之偏光板的總厚度為21μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例6] 除了變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為43.0%外，依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之偏光度為99.990%，穿刺強度為28.7gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例7] 將PVA系樹脂層之厚度設為20μm(結果而言為設偏光件之厚度為8μm)、及變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為43.1%，除此之外依與實施例6相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之偏光度為99.991%，穿刺強度為26.6gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為51μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例8] 除了變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為44.5%外，依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之偏光度為99.750%，穿刺強度為27.6gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例9] 變更延伸條件使空中輔助延伸之寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差成為3.1%、及變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為41.9%，除此之外依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之厚度為5.5μm，偏光度為99.997%，穿刺強度為13.6gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48.5μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例10] 變更延伸條件使空中輔助延伸之寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差成為3.1%、及變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為41.2%，除此之外依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之厚度為5.5μm，偏光度為99.997%，穿刺強度為11.6gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48.5μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例11] 變更延伸條件使空中輔助延伸之寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差成為3.5%、及變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為43.0%，除此之外依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之厚度為5.5μm，偏光度為99.994%，穿刺強度為20.5gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48.5μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[實施例12] 將空中輔助延伸之延伸倍率設為3.0倍及將水中延伸之倍率設為1.8倍、變更延伸條件使空中輔助延伸之寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差成為10.3%、及變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為43.0%，除此之外依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之偏光度為99.990%，穿刺強度為28.3gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例1] 不使用乙醯乙醯基改質PVA便形成PVA系樹脂層、變更延伸條件使空中輔助延伸之寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率之差成為0.5%、及變更染色處理之條件使偏光件之單體透射率成為41.9%，除此之外依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。偏光件之偏光度為99.997%，穿刺強度為8.4gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例2] 依以下方式做出偏光件。 熱塑性樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度：100μm)。並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。 在聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)100重量份中添加碘化鉀13重量份，而調製出PVA水溶液(塗佈液)。 於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥，藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層，而製作出積層體。 將所得積層體於150℃下藉由輥件間延伸進行了5.0倍延伸(空中延伸處理)。空中延伸處理之寬度殘存率為43.9%，寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差(寬度殘存率-自由收縮寬度殘存率)為-0.8%。 接著，一邊使積層體浸漬於液溫30℃之染色浴(經在碘與碘化鉀為1：7之重量比的水溶液中，調整水量使偏光件之單體透射率(Ts)可成為預定值而調整濃度之液)中60秒鐘(染色處理)。 接著，使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混5重量份的硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒(第1交聯處理)。 然後，使積層體浸漬於液溫60℃之交聯浴(相對於水100重量份摻混有碘化鉀5重量份且硼酸濃度經調整成偏光件之硼酸含量可成為預定值之硼酸水溶液)中。未進行如實施例1之水中延伸。(第2交聯處理)。 之後，使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份，摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。 之後，一邊在保持於90℃之烘箱中乾燥，一邊使其接觸表面溫度保持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率為4.0%。 依上述方式進行而於樹脂基材上形成厚度5µm之偏光件。偏光件的單體透射率為42.0%，偏光度為99.920%，穿刺強度為6.5gf/μm。
除了使用上述偏光件外，依與實施例1相同方式而製出附相位差層之偏光板。所得附相位差層之偏光板的總厚度為48μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例3] 1.製作偏光件 一邊在周速比相異之輥件間將平均聚合度為2,400、皂化度為99.9莫耳%、厚度為60μm之聚乙烯醇系樹脂薄膜(Kuraray公司製，PE6000)浸漬於20℃之膨潤浴(水浴)中30秒鐘使其膨潤，一邊沿輸送方向延伸2.4倍(膨潤步驟)，接著一邊在30℃之染色浴(碘濃度為0.03重量%且碘化鉀濃度為0.3重量%之水溶液)中，以最終延伸後之單體透射率成為所期望之值之方式浸漬並染色，一邊以原本的聚乙烯醇薄膜(完全未沿輸送方向延伸的聚乙烯醇薄膜)為基準沿輸送方向延伸3.7倍(染色步驟)。此時的浸漬時間約60秒。接著，一邊將已染色之聚乙烯醇薄膜在40℃之交聯浴(硼酸濃度為3.0重量%且碘化鉀濃度為3.0重量%之水溶液)中浸漬，一邊以原本的聚乙烯醇薄膜為基準沿輸送方向延伸至4.2倍為止(交聯步驟)。再將所得聚乙烯醇薄膜於64℃之延伸浴(相對於水100重量份摻混有碘化鉀5重量份且硼酸濃度經調整成偏光件之硼酸含量可成為預定值之硼酸水溶液)中浸漬50秒，並以原本的聚乙烯醇薄膜為基準沿輸送方向延伸至6.0倍為止(延伸步驟)後，在20℃之洗淨浴(碘化鉀濃度為3.0重量%之水溶液)中浸漬5秒(洗淨步驟)。將洗淨後之聚乙烯醇薄膜在30℃下乾燥2分鐘而製出偏光件(厚度25μm)。偏光件之硼酸含量、穿刺強度係測定在此狀態下者。
2.製作偏光板 接著劑係使用以下水溶液：以重量比3:1含有含乙醯乙醯基之聚乙烯醇樹脂(平均聚合度1,200，皂化度98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度5莫耳%)與羥甲基三聚氰胺者。用該接著劑將與實施例1相同之丙烯酸系薄膜(厚度40μm)用輥貼合機貼合至上述所得偏光件之一面後，於烘箱內使其加熱乾燥(溫度為60℃，時間為5分鐘)後，而製出具有保護層(厚度40μm)/接著層/偏光件之構成的偏光板。
3.製作附相位差層之偏光板 於上述2.所得偏光板的偏光件表面依與實施例1相同方式轉印液晶定向固化層A，而製作出具有保護層/接著層/偏光件/接著層/相位差層(液晶定向固化層)之構成的附相位差層之偏光板。偏光件的單體透射率為42.4%，偏光度為99.997%，穿刺強度為6.7gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為68μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[比較例4] 除了作為聚乙烯醇系樹脂薄膜使用PE3000(Kuraray公司製，平均聚合度2,400，皂化度99.9莫耳%，厚度30μm)取代PE6000外，依與比較例3相同方式而製出具有保護層/接著層/偏光件/接著層/相位差層(液晶定向固化層)之構成的附相位差層之偏光板。偏光件之厚度為12μm，單體透射率為42.5%，偏光度為99.997%，穿刺強度為6.9gf/μm。所得附相位差層之偏光板的總厚度為55μm。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image005
[評估] 比較實施例與比較例後明顯可知，根據本發明之實施例可獲得具有優異撓曲性之偏光板(附相位差層之偏光板)。並且，在實施例中還確認了撓曲所造成之光學特性的變化為實際使用上可容許之範圍內。
產業上之可利用性 本發明之偏光板可適宜使用在液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及無機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
10:偏光件 20:相位差層(光學機能層) 30:保護層 100:偏光板 200:積層體 G1~G4:導輥 R1~R6:輸送輥
圖1係本發明一實施形態之偏光板的概略截面圖。 圖2係顯示本發明偏光板所用偏光件之製造方法中，利用加熱輥之乾燥收縮處理之一例的概略圖。
10:偏光件
20:相位差層(光學機能層)
30:保護層
100:偏光板

Claims (19)

  1. 一種偏光板，包含偏光件、配置於該偏光件之一側的保護層及配置於該偏光件之另一側的光學機能層，且 該偏光件之穿刺強度為10gf/μm以上。
  2. 如請求項1之偏光板，其中前述光學機能層之厚度為20μm以下。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中前述光學機能層作為前述保護層之外的另一保護層發揮功能。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光板，其中前述光學機能層為具有圓偏光機能或楕圓偏光機能之相位差層。
  5. 如請求項4之之偏光板，其中前述相位差層為液晶化合物之定向固化層的單一層， 該相位差層的Re(550)為100nm~190nm，且 該相位差層之慢軸與前述偏光件之吸收軸形成之角度為40°~50°。
  6. 如請求項4之偏光板，其中前述相位差層具有第1液晶化合物之定向固化層與第2液晶化合物之定向固化層的積層結構； 該第1液晶化合物之定向固化層的Re(550)為200nm~300nm，且其慢軸與前述偏光件之吸收軸形成之角度為10°~20°； 該第2液晶化合物之定向固化層的Re(550)為100nm~190nm，且其慢軸與該偏光件之吸收軸形成之角度為70°~80°。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光板，其中前述偏光件之厚度為10μm以下。
  8. 如請求項1至7中任一項之偏光板，其中前述保護層之厚度為50μm以下。
  9. 如請求項1至8中任一項之偏光板，其總厚度為60μm以下。
  10. 如請求項1至9中任一項之偏光板，其中前述偏光件係以含碘之聚乙烯醇系樹脂薄膜所構成。
  11. 如請求項10之偏光板，其中前述偏光件包含經乙醯乙醯基改質之聚乙烯醇系樹脂。
  12. 如請求項1至11中任一項之偏光板之製造方法，其包含以下步驟： 於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成聚乙烯醇系樹脂層而製成積層體；及 將該積層體延伸及染色，以將該聚乙烯醇系樹脂層製成偏光件； 並且，該偏光件之穿刺強度為10gf/μm以上。
  13. 如請求項12之製造方法，其中於前述熱塑性樹脂基材之單側形成包含碘化物或氯化鈉與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。
  14. 如請求項13之製造方法，其包含下述步驟：對前述積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係一邊將前述積層體沿長邊方向輸送一邊加熱，藉此使其於寬度方向收縮2%以上。
  15. 如請求項14之製造方法，其中前述空中輔助延伸之寬度殘存率與自由收縮寬度殘存率的差為2%以上。
  16. 如請求項14或15之製造方法，其中前述空中輔助延伸的延伸倍率為2.3倍以上。
  17. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1至11中任一項之偏光板。
  18. 如請求項17之影像顯示裝置，其係有機電致發光顯示裝置或無機電致發光顯示裝置。
  19. 如請求項17或18之影像顯示裝置，其可彎折或可折疊。
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