JPWO2020162396A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2020162396A5
JPWO2020162396A5 JP2020571184A JP2020571184A JPWO2020162396A5 JP WO2020162396 A5 JPWO2020162396 A5 JP WO2020162396A5 JP 2020571184 A JP2020571184 A JP 2020571184A JP 2020571184 A JP2020571184 A JP 2020571184A JP WO2020162396 A5 JPWO2020162396 A5 JP WO2020162396A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
adapter
information
attached
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020571184A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7517155B2 (ja
JPWO2020162396A1 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2020/003936 external-priority patent/WO2020162396A1/ja
Publication of JPWO2020162396A1 publication Critical patent/JPWO2020162396A1/ja
Publication of JPWO2020162396A5 publication Critical patent/JPWO2020162396A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7517155B2 publication Critical patent/JP7517155B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020571184A 2019-02-06 2020-02-03 マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法 Active JP7517155B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019020167 2019-02-06
JP2019020167 2019-02-06
PCT/JP2020/003936 WO2020162396A1 (ja) 2019-02-06 2020-02-03 マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2020162396A1 JPWO2020162396A1 (ja) 2021-12-02
JPWO2020162396A5 true JPWO2020162396A5 (enExample) 2023-01-19
JP7517155B2 JP7517155B2 (ja) 2024-07-17

Family

ID=71947346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020571184A Active JP7517155B2 (ja) 2019-02-06 2020-02-03 マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7517155B2 (enExample)
KR (1) KR20210122240A (enExample)
CN (2) CN118068658A (enExample)
TW (1) TWI833889B (enExample)
WO (1) WO2020162396A1 (enExample)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230109818A (ko) * 2022-01-13 2023-07-21 삼성디스플레이 주식회사 마스크, 이를 포함하는 마스크 조립체, 및 기판 이송 설비
TWI868646B (zh) * 2023-03-30 2025-01-01 家碩科技股份有限公司 降低粉塵汙染的光罩內盒承載裝置及光罩內盒的光學檢查設備
JP2025164347A (ja) 2024-04-19 2025-10-30 キヤノン株式会社 露光装置、露光方法、及び物品の製造方法
TWI894069B (zh) * 2024-12-10 2025-08-11 華洋精機股份有限公司 光罩圖樣面朝下之光罩移載裝置
CN120044767A (zh) * 2025-04-23 2025-05-27 新毅东(北京)科技有限公司 掩模板预对准装置及晶圆曝光设备

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0722112B2 (ja) * 1987-07-30 1995-03-08 キヤノン株式会社 マスクホルダ並びにそれを用いたマスクの搬送方法
JPH0248196A (ja) * 1988-06-15 1990-02-16 Canon Inc 搬送装置
JPH06325996A (ja) * 1993-05-12 1994-11-25 Hitachi Ltd レティクルフレーム
JP3412193B2 (ja) * 1993-06-29 2003-06-03 株式会社ニコン 露光装置
JP3912884B2 (ja) * 1998-02-03 2007-05-09 ローム株式会社 投影露光装置における露光マスクサイズ変換用治具の構造
JP4048593B2 (ja) 1998-04-03 2008-02-20 ソニー株式会社 露光装置
US6753830B2 (en) 1998-09-11 2004-06-22 Visible Tech-Knowledgy, Inc. Smart electronic label employing electronic ink
JP2001033943A (ja) 1999-07-23 2001-02-09 Mitsubishi Electric Corp マスク装置
DE10153851B4 (de) 2001-11-02 2006-11-16 Suss Microtec Lithography Gmbh Vorrichtung zum Ausrichten von Masken in der Fotolithographie
JP2004165249A (ja) * 2002-11-11 2004-06-10 Sony Corp 露光装置及び露光方法
US7236233B2 (en) 2003-10-27 2007-06-26 Asml Netherlands B.V. Assembly of a reticle holder and a reticle
JP4723398B2 (ja) * 2006-02-22 2011-07-13 Hoya株式会社 スピン洗浄装置
US20100085554A1 (en) 2008-10-02 2010-04-08 Fan Chih-Shen Adaptor of an aligner system
JP5334675B2 (ja) 2009-05-13 2013-11-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスクの位置ずれ防止方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2020162396A5 (enExample)
TWI624001B (zh) Substrate support device
TWI707211B (zh) 圖案曝光裝置
JP2008171960A5 (enExample)
JP7517155B2 (ja) マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法
TWI391985B (zh) A support mechanism and a mask stage using the support mechanism
TW201723675A (zh) 曝光裝置、曝光方法、平面顯示器之製造方法、及元件製造方法
CN101101452A (zh) 曝光装置
CN113433802B (zh) 移动体装置、移动方法、曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法、以及元件制造方法
KR20140041819A (ko) 밀착 노광 장치 및 밀착 노광 방법
KR102400527B1 (ko) 회절-제한 광학 시스템을 위한 렌즈 수차의 실증적 검출
TW202044465A (zh) 移動體裝置、曝光裝置、平面顯示器之製造方法、元件製造方法、及測量方法
TW201823881A (zh) 移動體裝置、移動方法、曝光裝置、曝光方法、平板顯示器之製造方法、以及元件製造方法
TWI713576B (zh) 光罩保持裝置、曝光裝置、平板顯示器之製造方法、元件製造方法、光罩保持方法、及曝光方法
JP4693581B2 (ja) 基板検査装置及び基板検査方法
JP2006019549A5 (enExample)
JP2009174957A (ja) 異物検出方法および装置
JP4384425B2 (ja) 欠陥検査装置
JP5304017B2 (ja) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
JPH11121330A (ja) 露光装置
US7538853B2 (en) Exposure process and apparatus using glass photomasks
JP3413947B2 (ja) 周辺露光装置
JP2001092110A (ja) 露光用マスク基板及びそれを用いる露光装置
JP2005129786A (ja) 露光装置
KR101185115B1 (ko) 주변노광용 블라인드 마스크 장치를 구비한 노광헤드 및 그 제어방법