JPWO2020136764A1 - 電子部品パッケージの製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 32
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 19
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 18
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 9
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUMBMVFBXHLACL-UHFFFAOYSA-N Melanin Chemical group O=C1C(=O)C(C2=CNC3=C(C(C(=O)C4=C32)=O)C)=C2C4=CNC2=C1C XUMBMVFBXHLACL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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Abstract
Description
[1] エキスパンドテープと、当該エキスパンドテープ上に固定された複数のチップと、を準備する第1工程と、
エキスパンドテープを延伸することにより、エキスパンドテープ上に固定された複数のチップの間隔を広げる第2工程と、
延伸されたエキスパンドテープのテンションを保持する第3工程と、
キャリア又は基板上に複数の開口部を有するマスクを設け、当該マスクの開口部を通して、複数のチップをキャリア又は基板に転写する第4工程と、
複数のチップからエキスパンドテープを剥離するとともに、キャリア又は基板からマスクを外す第5工程を備える、電子部品パッケージの製造方法であって、
マスクは、第4工程においてキャリア又は基板上に設けられる第1面と、その反対側の第2面とを有し、複数の開口部は第2面から第1面に向かって先細りとなるようなテーパー形状を有する、電子部品パッケージの製造方法。
[2] 第2工程において、エキスパンドテープが25℃以上の温度で延伸される、[1]に記載の電子部品パッケージの製造方法。
[3] マスクの開口部におけるテーパー比が0.9〜2である、[1]又は[2]に記載の電子部品パッケージの製造方法。
[4] マスクの開口部を形成する側面における傾斜角が54.7°である、[1]〜[3]のいずれかに記載の電子部品パッケージの製造方法。
[5] マスクがシリコンから形成される、[1]〜[4]のいずれかに記載の電子部品パッケージの製造方法。
第2工程では、エキスパンドテープ1を延伸することにより、エキスパンドテープ1上に固定された、複数のチップ2の間隔を広げる(図1(b))。
第3工程では、延伸されたエキスパンドテープ1を、固定用ジグ4を用いて固定することにより、エキスパンドテープ1のテンションを保持する(図1(c))。
第4工程では、キャリア5上に、複数の開口部を有するマスク6を設け、当該マスク6の開口部6cを通して(図2(a))、複数のチップ2を前記キャリア5に転写する(図2(b))。
第5工程では、複数のチップ2から、エキスパンドテープ1を剥離するとともに、キャリア5からマスク6を外す(図2(c))。なお、第4工程及び第5工程において、キャリア5は基板であってもよい。
以下、各工程について詳細に説明する。
エキスパンドテープと、エキスパンドテープ上に固定された複数のチップと、を準備する方法に特に制限はない。例えば、ダイシングテープ等にウエハをラミネート後、ブレード又はレーザーでダイシングして複数の個片化されたチップを得た後、これらをエキスパンドテープに転写することにより作製することができる。
ダイシングは、レーザーで脆弱層を形成してエキスパンドすることによって行ってもよい。また、上述の転写を省略して生産性を向上させる観点から、エキスパンドテープに半導体ウエハを直接ラミネートして、上述の方法で半導体ウエハをダイシングして作製してもよい。
エキスパンドテープを延伸することにより、複数のチップの間隔を広げる。
温度もエキスパンドテープ特性に応じて適宜設定すればよいが、例えば10℃〜200℃であってもよく、10℃〜150℃、20℃〜100℃であってもよい。温度が10℃以上であるとエキスパンドテープが延伸しやすくなり、温度が200℃以下であるとエキスパンドテープの熱膨張及び低弾性化による歪み又はたるみによるチップの位置ずれ(エキスパンドテープからのチップの剥離)、チップの飛散等が起こりづらくなる。
突き上げ速度もエキスパンドテープ特性に応じて適宜設定すればよいが、例えば0.1mm/秒〜500mm/秒であってもよく、0.1mm/秒〜300mm/秒、0.1mm/秒〜200mm/秒であってもよい。0.1mm/秒以上であると生産性が向上する。500mm/秒以下であると、チップとエキスパンドテープ間での剥離が生じづらくなる。
延伸されたエキスパンドテープが元の状態に戻ることを防ぐために、エキスパンドテープのテンションを保持する。
キャリア又は基板上に複数の開口部を有するマスクを設け、当該マスクの開口部を通して,複数のチップをキャリア又は基板に転写(ラミネート)する。マスクは、キャリア又は基板上に設けられる第1面とその反対側の第2面とを有し、複数の開口部は第2面から第1面に向かって先細りとなるようなテーパー形状を有する。
複数のチップからエキスパンドテープを剥離(除去)するとともに、キャリア又は基板からマスクを外す。
エキスパンドテープは、当該エキスパンドテープ上に固定された複数のチップの間隔を広げることができる延伸性を有していれば特に制限はない。第2工程後(チップの間隔を広げた後)のMDとTDのチップ間隔が均一であることが好ましい。
基材層を複数の基材フィルムから構成する場合、基材層全体の厚さが上記範囲内となるように調整することが好ましい。基材フィルムは、粘着層との密着性を向上させるために、必要に応じて、化学的又は物理的に表面処理を施したものであってもよい。上記表面処理としては、例えば、コロナ処理、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等が挙げられる。
粘着剤成分の糊残りを減少させる観点から、上記ベース樹脂は、他の添加剤と反応し得る官能基(水酸基、カルボキシル基等)を有することが好ましい。粘着剤成分として、紫外線、放射線等の高エネルギー線、又は熱によって硬化する樹脂を使用してもよい。このような硬化性樹脂を使用した場合、樹脂を硬化させることによって粘着力を低下させることができる。また、粘着力を調整するため、上記粘着剤成分は、上記ベース樹脂の官能基と架橋反応できる架橋剤を含んでもよい。架橋剤は、エポキシ基、イソシアネート基、アジリジン基、及びメラニン基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を有することが好ましい。これらの架橋剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、反応速度が遅い場合は、必要に応じて、アミン又はスズ等の触媒を使用してもよい。その他、粘着特性を調整するために、上記粘着剤成分は、ロジン系又はテルペン樹脂等のタッキファイヤー、及び各種界面活性剤等の任意成分を適宜含有してもよい。
エキスパンドテープは、当技術分野で周知の技術に沿って製造することができる。例えば、以下の方法に従って製造することができる。保護フィルムの上に、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カーテンコート法等によって塗工し、溶媒を除去することによって粘着層を形成する。具体的には、50〜200℃、0.1〜90分間の加熱を行うことが好ましい。各工程でのボイド発生及び粘度調整に影響がなければ、有機溶媒が1.5%以下となるまで揮発する条件とすることが好ましい。
作製した粘着層付保護フィルムと、基材フィルムを、常温〜60℃の温度条件下で、粘着層と基材フィルムが対向するように積層する。
保護フィルムの厚さは、作業性を損なわない範囲で適宜選択され、通常は、経済的観点から100μm以下であることが好ましい。上記保護フィルムの厚さは、10〜75μmが好ましく、25〜50μmがより好ましい。上記保護フィルムの厚さが10μm以上であれば、エキスパンドテープの作製時にフィルムが破れる等の不具合が起こり難い。また、上記保護フィルムの厚さが75μm以下であれば、エキスパンドテープの使用時に保護フィルムを容易に剥離することができる。
キャリアは、転写時の温度及び圧力に耐性があれば(チップが破損しないこと、チップ間隔が変わらないこと)、特に制限はない。例えば、キャリアの熱膨張率は、チップの位置ずれ等の不具合を防止するため、100ppm/℃以下が好ましく、50ppm/℃以下がより好ましく、20ppm/℃以下が更に好ましい。また、キャリアの熱膨張率は、チップよりも熱膨張率が小さいと歪み及び反りが生じるため、3ppm/℃以上が好ましい。
Claims (5)
- エキスパンドテープと、当該エキスパンドテープ上に固定された複数のチップと、を準備する第1工程と、
前記エキスパンドテープを延伸することにより、前記エキスパンドテープ上に固定された複数の前記チップの間隔を広げる第2工程と、
延伸された前記エキスパンドテープのテンションを保持する第3工程と、
キャリア又は基板上に複数の開口部を有するマスクを設け、当該マスクの開口部を通して、前記複数のチップを前記キャリア又は基板に転写する第4工程と、
複数の前記チップから前記エキスパンドテープを剥離するとともに、前記キャリア又は基板から前記マスクを外す第5工程を備える、電子部品パッケージの製造方法であって、
前記マスクは、前記第4工程において前記キャリア又は基板上に設けられる第1面と、その反対側の第2面とを有し、前記複数の開口部は第2面から第1面に向かって先細りとなるようなテーパー形状を有する、電子部品パッケージの製造方法。 - 前記第2工程において、前記エキスパンドテープが25℃以上の温度で延伸される、請求項1に記載の電子部品パッケージの製造方法。
- 前記マスクの開口部におけるテーパー比が0.9〜2である、請求項1又は2に記載の電子部品パッケージの製造方法。
- 前記マスクの開口部を形成する側面における傾斜角が54.7°である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の電子部品パッケージの製造方法。
- 前記マスクがシリコンから形成される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の電子部品パッケージの製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/047917 WO2020136764A1 (ja) | 2018-12-26 | 2018-12-26 | 電子部品パッケージの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6888746B2 JP6888746B2 (ja) | 2021-06-16 |
JPWO2020136764A1 true JPWO2020136764A1 (ja) | 2021-09-09 |
Family
ID=71128550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020562022A Active JP6888746B2 (ja) | 2018-12-26 | 2018-12-26 | 電子部品パッケージの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6888746B2 (ja) |
TW (1) | TWI819172B (ja) |
WO (1) | WO2020136764A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210138263A (ko) * | 2020-05-12 | 2021-11-19 | 삼성전자주식회사 | 반도체 칩 실장용 테이프 및 상기 테이프를 이용한 반도체 패키지 제조 방법 |
CN112289908B (zh) * | 2020-09-11 | 2022-08-02 | 罗化芯显示科技开发(江苏)有限公司 | 一种mini-LED芯片巨量转移的方法 |
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- 2018-12-26 WO PCT/JP2018/047917 patent/WO2020136764A1/ja active Application Filing
- 2018-12-26 JP JP2020562022A patent/JP6888746B2/ja active Active
-
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- 2019-12-19 TW TW108146724A patent/TWI819172B/zh active
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2020136764A1 (ja) | 2020-07-02 |
TW202029309A (zh) | 2020-08-01 |
TWI819172B (zh) | 2023-10-21 |
JP6888746B2 (ja) | 2021-06-16 |
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