JPWO2020065850A1 - 3次元測定装置 - Google Patents
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Abstract
Description
次に、図16を参照して、制御装置50による3次元情報取得処理について説明する。
図17を参照して、制御装置50による図16のステップS5における視野毎高さ情報合成処理(第1例)について説明する。
図18を参照して、制御装置50による図16のステップS5における視野毎高さ情報合成処理(第2例)について説明する。
図19を参照して、制御装置50による画像の統合処理について説明する。この画像の統合処理では、測定した高さ情報(測定値)を各位置においてそれぞれ統合(合成)する処理が行われる。
本実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく請求の範囲によって示され、さらに請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更(変形例)が含まれる。
31 第1撮像部
32 第1投影部
40 第2測定部
41 第2撮像部
42 第2投影部
50 制御装置(制御部)
100 外観検査装置(3次元測定装置)
110 基板(測定対象)
111 電子部品
411 テレセントリック光学系
Claims (12)
- 位相シフト法により3次元情報を測定する第1測定部と、
光切断法により3次元情報を測定する第2測定部と、
前記第1測定部および前記第2測定部の両方の測定結果に基づいて、測定対象の3次元情報を取得する制御部と、を備える、3次元測定装置。 - 前記第1測定部は、第1撮像部と、前記第1撮像部により撮像する第1測定パターンを投影する第1投影部とを含み、前記第1撮像部および前記第1投影部のうち一方は、基準面に対して垂直方向に光軸が配置され、前記第1撮像部および前記第1投影部のうち他方は、一方の光軸方向に対して傾斜した方向に光軸が配置されているとともに複数設けられており、
前記第2測定部は、前記基準面の垂直方向とは傾斜した方向に光軸が配置され、テレセントリック光学系を有する第2撮像部と、前記基準面に対して前記第2撮像部の光軸が正反射した方向の位置に配置され、前記第2撮像部により撮像するライン状の第2測定パターンを投影する第2投影部と、を含む、請求項1に記載の3次元測定装置。 - 前記制御部は、前記第1測定部の測定に基づいて、各位置における高さを示す高さ情報、および、各位置における前記高さ情報の信頼度を示す信頼度情報を取得し、前記第2測定部の測定に基づいて、前記高さ情報および前記信頼度情報を取得するとともに、前記第1測定部の測定による前記高さ情報および前記信頼度情報と、前記第2測定部の測定による前記高さ情報および前記信頼度情報と、に基づいて、1つの前記高さ情報を取得するように構成されている、請求項1または2に記載の3次元測定装置。
- 前記第1測定部は、複数の方向から第1測定パターンを投影して3次元情報を測定するように構成されており、
前記制御部は、前記第1測定部の測定に基づいて、複数の前記高さ情報および前記信頼度情報を取得するとともに、前記第1測定部の測定による複数の前記高さ情報および複数の前記信頼度情報と、前記第2測定部の測定による前記高さ情報および前記信頼度情報と、に基づいて、1つの前記高さ情報を取得するように構成されている、請求項3に記載の3次元測定装置。 - 前記制御部は、前記第2測定部により測定した前記信頼度情報の信頼度が低い前記高さ情報を、前記第1測定部により測定した前記高さ情報により補完するように構成されている、請求項4に記載の3次元測定装置。
- 前記制御部は、前記第1測定部の第1測定パターンを投影する方向が前記測定対象により影となると推定される場合、影となる方向からの測定結果を除外して、前記高さ情報を補完するように構成されている、請求項5に記載の3次元測定装置。
- 前記制御部は、前記第1測定部の複数の測定による輝度差に基づいて、各位置における前記信頼度情報を取得するように構成されている、請求項3〜6のいずれか1項に記載の3次元測定装置。
- 前記制御部は、前記第2測定部の測定による輝度値に基づいて、各位置における前記信頼度情報を取得するように構成されている、請求項3〜7のいずれか1項に記載の3次元測定装置。
- 前記制御部は、前記第1測定部の測定結果による突起形状を、前記第2測定部の測定結果に基づいてノイズであるか構造物であるかを判断するように構成されている、請求項1〜8のいずれか1項に記載の3次元測定装置。
- 前記制御部は、前記第1測定部による測定の前に、前記第2測定部により測定を行い、前記第2測定部の測定結果に基づいて、前記第1測定部の測定高さ位置を調整する制御を行うように構成されている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の3次元測定装置。
- 前記制御部は、前記第1測定部による測定の前に、前記第2測定部により測定を行い、前記第2測定部の測定結果に基づいて、前記測定対象の平面位置情報を取得し、前記第1測定部による測定の平面位置を調整する制御を行うように構成されている、請求項1〜10のいずれか1項に記載の3次元測定装置。
- 前記測定対象は、電子部品が実装された基板である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の3次元測定装置。
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