JPWO2020054424A1 - 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 - Google Patents
塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020054424A1 JPWO2020054424A1 JP2020546839A JP2020546839A JPWO2020054424A1 JP WO2020054424 A1 JPWO2020054424 A1 JP WO2020054424A1 JP 2020546839 A JP2020546839 A JP 2020546839A JP 2020546839 A JP2020546839 A JP 2020546839A JP WO2020054424 A1 JPWO2020054424 A1 JP WO2020054424A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- wafer
- coating
- coating film
- rotation speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/023—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
- B05D1/005—Spin coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/40—Distributing applied liquids or other fluent materials by members moving relatively to surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
- B05D3/0406—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases the gas being air
- B05D3/042—Directing or stopping the fluid to be coated with air
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
Description
前記基板の周囲を排気して当該基板の表面に気流を形成する工程と、
塗布膜を形成するための塗布液を前記基板の表面に供給する塗布液供給工程と、
前記基板を被覆するための被覆部材を第1の位置から第2の位置へ前記塗布液が供給された基板に対して相対的に移動させ、当該第2の位置における被覆部材と前記基板の表面との間に形成される隙間に、前記第1の位置に被覆部材が位置するとしたときよりも流速が大きくなるように前記気流を形成する気流制御工程と、
続いて、前記基板の周縁部の塗布液を振り切って前記塗布膜の膜厚分布を調整するために、前記基板を前記気流制御工程における基板の回転数である前記第1の回転数よりも高い第2の回転数で回転させる膜厚分布調整工程と、
を備える。
以下、本開示に関連して行われた評価試験について説明する。
評価試験1
評価試験1(1−1〜1−4)として、上記のレジスト膜形成装置1を用いて複数のウエハWにレジストを塗布した後、互いに異なる態様でレジストを乾燥させた。そしてウエハWの直径上の各位置におけるレジスト膜の膜厚を測定した。評価試験1−1として、既述の実施形態と同様にレジストをウエハWの周縁部に行き渡らせた後、ウエハWの回転数を1000rpmとし、且つリングプレートを上昇位置に位置させてレジストを乾燥させた。評価試験1−2として、評価試験1−1と同じくウエハWの回転数を1000rpmとしたが、リングプレート41を下降位置に位置させて上記の隙間Gを形成してレジストの乾燥を行った。評価試験1−3として、ウエハWの回転数を100rpmとしたことを除いて、評価試験1−1と同様に試験を行った。評価試験1−4として、ウエハWの回転数を100rpmとしたことを除いて、評価試験1−2と同様に試験を行った。なお、この評価試験1を含む各評価試験で用いたリングプレートは、既述したリングプレート41と異なり、ウエハWの周縁部についても被覆するように構成されている。
評価試験2−1として、ウエハWの表面に液体である乳酸エチルを塗布し、レジスト膜形成装置1を用いて100rpmで回転させて揮発させた。この回転時においてはリングプレートにより隙間Gを形成した。そして、ウエハWの径方向の各部における乳酸エチルの揮発速度を測定した。評価試験2−2として評価試験2−1と略同様に試験を行ったが、この評価試験2−2はリングプレートが設けられないレジスト塗布装置により行った。従って、この評価試験2−2では既述の比較的小さい隙間Gの形成を行っていない。
以下、評価試験3について説明する。評価試験3−1として、レジスト膜形成装置1によりレジストを塗布し、100rpmで所定の時間回転させて乾燥させた。そして、ウエハWの径方向における膜厚分布を測定した。この評価試験3−1ではレジストを乾燥させる際にリングプレートにより、既述の隙間Gを形成している。また、評価試験3−2として評価試験3−1と略同様の試験を行った。この評価試験3−2では、リングプレートについて評価試験3−1で用いたものと形状が異なるものを用いた。
1 レジスト膜形成装置
10 制御部
11 スピンチャック
12 回転機構
14 カップ
21 レジスト供給ノズル
41 リングプレート
Claims (10)
- 基板を基板保持部により保持する工程と、
前記基板の周囲を排気して当該基板の表面に気流を形成する工程と、
塗布膜を形成するための塗布液を前記基板の表面に供給する塗布液供給工程と、
前記基板を被覆するための被覆部材を第1の位置から第2の位置へ前記塗布液が供給された基板に対して相対的に移動させ、当該第2の位置における被覆部材と第1の回転数で回転する前記基板の表面との間に形成される隙間に、前記第1の位置に被覆部材が位置するとしたときよりも流速が大きくなるように前記気流を形成する気流制御工程と、
続いて、前記基板の周縁部の塗布液を振り切って前記塗布膜の膜厚分布を調整するために、前記基板を前記第1の回転数よりも高い第2の回転数で回転させる膜厚分布調整工程と、
を備える塗布膜形成方法。 - 前記気流制御工程は、前記基板の周縁部における前記塗布膜の乾燥が、当該周縁部よりも基板の中心部寄りにおける塗布膜の乾燥に比べて遅くなるように前記気流を形成する工程を含む請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記被覆部材は、前記基板の周に沿って形成された環状部材である請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記塗布液供給工程は、前記基板の中心部に供給された前記塗布液を当該基板の周縁部に行き渡らすために、前記第1の回転数よりも大きい第3の回転数で基板を回転させる工程を含む請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記膜厚分布調整工程は、前記気流制御工程における前記隙間の大きさよりも前記基板の表面と前記被覆部材との間に形成される隙間が大きいか、前記基板上から前記被覆部材を退避させた状態で行われる請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記第1の回転数は10rpm〜500rpmである請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記第2の回転数は1000rpm以上である請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記塗布液が供給される基板は、表面に凹凸パターンが形成されたものである請求項1記載の塗布膜形成方法。
- 前記被覆部材は基板の周に沿って形成された環状部材であり、
前記環状部材は、その周端が前記基板の周端よりも当該基板の中心寄りに位置するか、あるいは前記基板の周縁部に対向する環状の第1の部位と、前記基板の周縁部よりも内側の領域に対向する環状の第2の部位と、を備え、前記基板から第1の部位までの高さは基板から第2の部位までの高さよりも大きく構成される請求項1記載の塗布膜形成方法。 - 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された前記基板を回転させる回転機構と、
前記載置部に載置された基板を囲み、内部が排気されることで前記基板の表面に気流を形成するカップと、
前記基板の表面の中心部に塗布膜を形成するための塗布液を供給するノズルと、
第1の位置から第2の位置へ前記載置部に載置された基板に対して相対的に移動し、少なくとも前記第2の位置においては前記基板の表面との間に隙間が形成されるように当該基板の表面を覆う被覆部材と、
前記基板を回転させて前記基板に供給された塗布液を周縁部へ広げるステップと、次いで前記被覆部材を第1の位置から第2の位置へ前記基板に対して相対的に移動させ、第1の回転数で回転する前記基板により形成される前記隙間に、前記第1の位置に被覆部材が位置するとしたときよりも流速が大きくなるように前記気流を形成するステップと、続いて前記基板の周縁部の塗布液を振り切って前記塗布膜の膜厚分布を調整するために、前記基板を前記第1の回転数よりも高い第2の回転数で回転させるステップと、を実施するように制御信号を出力する制御部と、
を備える塗布膜形成装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018168965 | 2018-09-10 | ||
JP2018168965 | 2018-09-10 | ||
PCT/JP2019/033719 WO2020054424A1 (ja) | 2018-09-10 | 2019-08-28 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020054424A1 true JPWO2020054424A1 (ja) | 2021-09-16 |
JP7056746B2 JP7056746B2 (ja) | 2022-04-19 |
Family
ID=69777533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020546839A Active JP7056746B2 (ja) | 2018-09-10 | 2019-08-28 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220055063A1 (ja) |
JP (1) | JP7056746B2 (ja) |
KR (1) | KR20210052532A (ja) |
CN (1) | CN112655074A (ja) |
TW (1) | TW202018762A (ja) |
WO (1) | WO2020054424A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9201703B2 (en) | 2006-06-07 | 2015-12-01 | International Business Machines Corporation | Sharing kernel services among kernels |
TWI770727B (zh) * | 2020-12-18 | 2022-07-11 | 南亞科技股份有限公司 | 晶圓清洗裝置及清洗晶圓的方法 |
TWI770753B (zh) * | 2021-01-04 | 2022-07-11 | 南亞科技股份有限公司 | 清洗裝置及清洗方法 |
CN116984194A (zh) * | 2023-09-27 | 2023-11-03 | 宁波润华全芯微电子设备有限公司 | 一种晶圆涂胶单元风道结构 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015109306A (ja) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 |
JP2015216168A (ja) * | 2014-05-08 | 2015-12-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 |
JP2017107919A (ja) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0666255B2 (ja) * | 1989-05-02 | 1994-08-24 | 三菱電機株式会社 | スピン塗布装置及び方法 |
JP3248232B2 (ja) * | 1992-02-04 | 2002-01-21 | ソニー株式会社 | レジスト塗布装置及びレジストの回転塗布方法 |
KR100524204B1 (ko) * | 1998-01-07 | 2006-01-27 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 가스 처리장치 |
JP3225221B2 (ja) * | 1998-01-07 | 2001-11-05 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス処理装置 |
US5962193A (en) * | 1998-01-13 | 1999-10-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. | Method and apparatus for controlling air flow in a liquid coater |
KR100739214B1 (ko) * | 1999-09-24 | 2007-07-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 도포막 형성방법 및 도포처리장치 |
JP2003013235A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-15 | Horiba Ltd | 化学気相成長法による薄膜堆積装置 |
JP4043444B2 (ja) * | 2004-02-18 | 2008-02-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理装置及び塗布処理方法 |
JP4179276B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2008-11-12 | セイコーエプソン株式会社 | 溶媒除去装置および溶媒除去方法 |
JP5789546B2 (ja) * | 2011-04-26 | 2015-10-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理装置、塗布現像処理システム、並びに塗布処理方法及びその塗布処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
JP5954266B2 (ja) * | 2013-06-27 | 2016-07-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置 |
JP6465000B2 (ja) | 2015-11-16 | 2019-02-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 |
-
2019
- 2019-08-28 JP JP2020546839A patent/JP7056746B2/ja active Active
- 2019-08-28 US US17/274,560 patent/US20220055063A1/en active Pending
- 2019-08-28 WO PCT/JP2019/033719 patent/WO2020054424A1/ja active Application Filing
- 2019-08-28 KR KR1020217009908A patent/KR20210052532A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-08-28 CN CN201980057624.8A patent/CN112655074A/zh active Pending
- 2019-09-03 TW TW108131653A patent/TW202018762A/zh unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015109306A (ja) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 |
JP2015216168A (ja) * | 2014-05-08 | 2015-12-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 |
JP2017107919A (ja) * | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112655074A (zh) | 2021-04-13 |
JP7056746B2 (ja) | 2022-04-19 |
WO2020054424A1 (ja) | 2020-03-19 |
TW202018762A (zh) | 2020-05-16 |
US20220055063A1 (en) | 2022-02-24 |
KR20210052532A (ko) | 2021-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7056746B2 (ja) | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 | |
TWI607805B (zh) | 塗佈膜形成裝置、塗佈膜形成方法、記憶媒體 | |
CN105826219B (zh) | 基板处理方法、基板处理装置和流体喷嘴 | |
TWI666684B (zh) | 塗佈膜形成方法、塗佈膜形成裝置及記憶媒體 | |
US9865483B2 (en) | Substrate liquid processing method, substrate liquid processing apparatus, and recording medium | |
TW201506993A (zh) | 液體處理裝置 | |
JP4043444B2 (ja) | 塗布処理装置及び塗布処理方法 | |
KR102006059B1 (ko) | 스핀 코팅 프로세스에서 결함 제어를 위한 덮개 플레이트 | |
JP6336365B2 (ja) | 基板液処理装置 | |
JP6465000B2 (ja) | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 | |
TW201919776A (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及記憶媒體 | |
JP2011167603A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
US10262880B2 (en) | Cover plate for wind mark control in spin coating process | |
JP6111282B2 (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
KR20120084683A (ko) | 도포 처리 장치, 도포 처리 방법 및 기억 매체 | |
JP7001400B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6481598B2 (ja) | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 | |
JP6387329B2 (ja) | 基板処理装置およびノズル洗浄方法 | |
JP2013243413A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP7202901B2 (ja) | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 | |
JP2017103500A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP7336276B2 (ja) | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 | |
JP2017103499A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
TWI595532B (zh) | 旋轉塗佈設備及用於製造半導體元件的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220308 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220321 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7056746 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |