JPWO2020050013A1 - 光学材料用組成物及び光学材料 - Google Patents
光学材料用組成物及び光学材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020050013A1 JPWO2020050013A1 JP2020541118A JP2020541118A JPWO2020050013A1 JP WO2020050013 A1 JPWO2020050013 A1 JP WO2020050013A1 JP 2020541118 A JP2020541118 A JP 2020541118A JP 2020541118 A JP2020541118 A JP 2020541118A JP WO2020050013 A1 JPWO2020050013 A1 JP WO2020050013A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- mass
- optical material
- composition
- bis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 62
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 87
- -1 Episulfide compound Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 19
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- DZKOKXZNCDGVRY-UHFFFAOYSA-N lenthionine Chemical compound C1SSCSSS1 DZKOKXZNCDGVRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCCS KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 2-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)thiirane Chemical compound C1SC1CSCC1CS1 MLGITEWCALEOOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- JRKRMWWBDZSDMT-UHFFFAOYSA-N 2-[(thiiran-2-ylmethyldisulfanyl)methyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSSCC1CS1 JRKRMWWBDZSDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQTMWMRJFVGAOW-UHFFFAOYSA-N 3-[2,3-bis(sulfanyl)propylsulfanyl]propane-1,2-dithiol Chemical compound SCC(S)CSCC(S)CS SQTMWMRJFVGAOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CUPIYIFRVMIMLH-UHFFFAOYSA-N SCC1(CS)CSSC1 Chemical compound SCC1(CS)CSSC1 CUPIYIFRVMIMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSNABGZJVWSNOB-UHFFFAOYSA-N [3-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=CC(CS)=C1 JSNABGZJVWSNOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N methanedithiol Chemical compound SCS INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- RHMKQRWOFRAOHS-UHFFFAOYSA-N (sulfanylmethyldisulfanyl)methanethiol Chemical compound SCSSCS RHMKQRWOFRAOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-tris(sulfanylmethylsulfanyl)propylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)CC(SCS)SCS FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 1-dodecylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(2-sulfanylethylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCSCC(CS)SCCS CEUQYYYUSUCFKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YABKMAUHCMZQFO-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-butoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 YABKMAUHCMZQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBIGQANAFDQTNA-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-ethoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 YBIGQANAFDQTNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZTYZWICLYUPSX-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-methoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 HZTYZWICLYUPSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRAVHQNVZHTMFN-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-octylphenol Chemical compound OC1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 XRAVHQNVZHTMFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLQDZZGEPQYECP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(thiiran-2-ylmethylsulfanyl)ethylsulfanylmethyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSCCSCC1CS1 SLQDZZGEPQYECP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQKFQBSUWRZIAR-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(thiiran-2-ylmethylsulfanylmethyl)cyclohexyl]methylsulfanylmethyl]thiirane Chemical compound C1SC1CSCC(CC1)CCC1CSCC1CS1 WQKFQBSUWRZIAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMEDSSFYIKNTNG-UHFFFAOYSA-N 3,6-dimethyloctane-3,6-diol Chemical compound CCC(C)(O)CCC(C)(O)CC WMEDSSFYIKNTNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCGYTRZLSMAPQC-UHFFFAOYSA-N 3-(2-sulfanylethylsulfanyl)-2-[1-sulfanyl-3-(2-sulfanylethylsulfanyl)propan-2-yl]sulfanylpropane-1-thiol Chemical compound SCCSCC(CS)SC(CS)CSCCS OCGYTRZLSMAPQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSQCPZJFYJBZDV-UHFFFAOYSA-N 3-(2-sulfanylethylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCCSCCS RSQCPZJFYJBZDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEHBBAKSNALQTQ-UHFFFAOYSA-N C(CC)SC1(CS1)SC1(CS1)SCCC Chemical compound C(CC)SC1(CS1)SC1(CS1)SCCC KEHBBAKSNALQTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVTXIVOKPCTKKQ-UHFFFAOYSA-N CC(C)(CC(CSC1)SC1C(C)(C)CC(C)(C)SCC1SC1)CC(C)(C)SCC1SC1 Chemical compound CC(C)(CC(CSC1)SC1C(C)(C)CC(C)(C)SCC1SC1)CC(C)(C)SCC1SC1 UVTXIVOKPCTKKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMJCUAOOTWKTEP-UHFFFAOYSA-N CC1(CS1)SC1(C)CS1 Chemical class CC1(CS1)SC1(C)CS1 LMJCUAOOTWKTEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- 244000292604 Salvia columbariae Species 0.000 description 1
- 235000012377 Salvia columbariae var. columbariae Nutrition 0.000 description 1
- 235000001498 Salvia hispanica Nutrition 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N [4-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=C(CS)C=C1 IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- XCEUHXVTRJQJSR-UHFFFAOYSA-N bromo(phenyl)phosphane Chemical compound BrPC1=CC=CC=C1 XCEUHXVTRJQJSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- BDMFYHHLDXQFQD-UHFFFAOYSA-N butyl(trichloro)germane Chemical compound CCCC[Ge](Cl)(Cl)Cl BDMFYHHLDXQFQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K butyltin trichloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M cetalkonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 SXPWTBGAZSPLHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000228 cetalkonium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 235000014167 chia Nutrition 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000010779 crude oil Substances 0.000 description 1
- 125000006841 cyclic skeleton Chemical group 0.000 description 1
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFPTYRFVUHDUIN-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)germane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Ge](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 PFPTYRFVUHDUIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBOSGIJGEHWBKV-UHFFFAOYSA-L dioctyltin(2+);dichloride Chemical compound CCCCCCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCCCCCC SBOSGIJGEHWBKV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical group I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229940052367 sulfur,colloidal Drugs 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVHLOUDPCBXUES-UHFFFAOYSA-N thiiran-2-ylmethanethiol Chemical compound SCC1CS1 CVHLOUDPCBXUES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- INTLMJZQCBRQAT-UHFFFAOYSA-K trichloro(octyl)stannane Chemical compound CCCCCCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl INTLMJZQCBRQAT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CIWQSBMDFPABPQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)germane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 CIWQSBMDFPABPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/02—Polythioethers
- C08G75/06—Polythioethers from cyclic thioethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/02—Polythioethers
- C08G75/06—Polythioethers from cyclic thioethers
- C08G75/08—Polythioethers from cyclic thioethers from thiiranes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/041—Lenses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
Description
近年、高屈折率と高アッベ数を目的として、硫黄原子を有する有機化合物が数多く報告されている。中でも硫黄原子を有するポリエピスルフィド化合物は屈折率とアッベ数のバランスが良いことが知られている(特許文献1)。これらの発明のポリエピスルフィド化合物から得られる光学材料により、屈折率が1.7以上の高屈折率は達成されたが、さらに高屈折率を有する材料が求められ、硫黄、セレン又はテルル原子を含む環状骨格の有機化合物を含有する光学材料用組成物を用いた光学材料が提案され、屈折率1.73以上を達している(特許文献2)。
しかしながら、これら高屈折率を有する光学材料用組成物を用いた光学材料は、モノマーが合成しにくくコスト高であること、硬化後に離型性が不十分であり脱型時にレンズが破損しやすいこと、硬化したレンズの耐熱性になお改善の余地があることが課題となっていた。
(10)式の化合物の具体例としては、R1、R2がともに水素原子である化合物、ともにメチル基である化合物等を挙げることができる。
(11)式の化合物の具体例としては、上記(11)でp=0、q=0、上記(11)式でp=1、q=1等を挙げることができる。
中でも好ましい化合物は、鎖状脂肪族骨格を有する上記(3)式で表される化合物および分岐状脂肪族骨格を有する上記(4)〜(6)式で表される化合物であり、特に好ましい化合物は、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド(上記(3)式でn=0)、ビス(β−エピチオプロピル)ジスルフィド(上記(3)式でm=0、n=1)、(4)式で表される化合物であり、さらに好ましい化合物は、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド(上記(3)式でn=0)及び(4)式で表される化合物であり、最も好ましい化合物は(4)式で表される化合物である。
本発明において使用されるポリチオールは特に限定されないが、色調改善効果が高いことから、好ましい具体例として、1,2,6,7−テトラメルカプト−4−チアへプタン、メタンジチオール、(スルファニルメチルジスルファニル)メタンチオール、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)−3−メルカプトプロパン、4,8−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、4,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、5,7−ジメルカプトメチル−1,11−ジメルカプト−3,6,9−トリチアウンデカン、1,1,3,3−テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、テトラメルカプトペンタエリスリトール、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、及びチイランメタンチオールが挙げられ、特にビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、1,2,6,7−テトラメルカプト−4−チアへプタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)−3−メルカプトプロパン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼンが好ましく、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、1,2,6,7−テトラメルカプト−4−チアへプタンが最も好ましい。これらは市販品や公知の方法により合成した物が使用可能であり、また2種以上を併用することができる。
本発明で用いる硫黄の形状はいかなる形状でもかまわない。具体的には、硫黄としては、微粉硫黄、コロイド硫黄、沈降硫黄、結晶硫黄、昇華硫黄等が挙げられ、溶解速度の観点から好ましくは、粒子の細かい微粉硫黄である。
本発明に用いる硫黄の粒径(直径)は10メッシュより小さいことが好ましい。硫黄の粒径が10メッシュより大きい場合、硫黄が完全に溶解しにくい。硫黄の粒径は、30メッシュより小さいことがより好ましく、60メッシュより小さいことが最も好ましい。
本発明に用いる硫黄の純度は、好ましくは98%以上であり、より好ましくは99.0%以上であり、さらに好ましくは99.5%以上であり、最も好ましくは99.9%以上である。硫黄の純度が98%以上であると、98%未満である場合に比べて、得られる光学材料の色調がより改善する。
上記条件を満たす硫黄は、市販品を容易に入手可能であり、好適に用いることができる。
1,2,3,5,6−ペンタチエパンの入手方法は特に制限されない。市販品を用いてもよく、原油や動植物等の天然物から採取抽出しても、また公知の方法で合成してもかまわない。
合成法の一例としては、N. Takeda等,Bull.Chem.Soc.Jpn.,68,2757(1995)、F.Feherら,Angew.Chem.Int.Ed.,7,301(1968)、G.W.Kutneyら,Can.J.Chem,58,1233(1980)等に記載の方法が挙げられる
重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比および重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、通常は光学材料用組成物の合計100質量部に対して、0.0001〜10質量部、好ましくは0.001〜5質量部、より好ましくは0.01〜1質量部、最も好ましくは0.01〜0.5質量部である。重合触媒の添加量が10質量部より多いと急速に重合する場合がある。また、重合触媒の添加量が0.0001質量部より少ないと光学材料用組成物が十分に硬化せず耐熱性が不良となる場合がある。
紫外線吸収剤の好ましい例としてはベンゾトリアゾール系化合物であり、特に好ましい化合物は、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−クロロ−2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールである。
これら紫外線吸収剤の添加量は、通常、光学材料用組成物の合計100質量部に対して0.01〜5質量部である。
重合調整剤の添加量は、光学材料用組成物の総計100質量部に対して、0.0001〜5.0質量部であり、好ましくは0.0005〜3.0質量部であり、より好ましくは0.001〜2.0質量部である。重合調整剤の添加量が0.0001質量部よりも少ない場合、得られる光学材料において充分なポットライフが確保できず、重合調整剤の添加量が5.0質量部よりも多い場合は、光学材料用組成物が充分に硬化せず、得られる光学材料の耐熱性が低下する場合がある。
本発明の光学材料用組成物の注型に際し、0.1〜5μm程度の孔径のフィルター等で不純物を濾過し除去することは、本発明の光学材料の品質を高める上からも好ましい。
本発明の光学材料用組成物の重合は通常、以下のようにして行われる。即ち、硬化時間は通常1〜100時間であり、硬化温度は通常−10℃〜140℃である。重合は所定の重合温度で所定時間保持する工程、0.1℃〜100℃/hの昇温を行う工程、0.1℃〜100℃/hの降温を行う工程によって、又はこれらの工程を組み合わせて行う。
また、硬化終了後、得られた光学材料を50〜150℃の温度で10分〜5時間程度アニール処理を行うことは、本発明の光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに得られた光学材料に対して、必要に応じて染色、ハードコート、耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等の表面処理を行ってもよい。
本発明の光学材料は光学レンズとして好適に用いることができる。
[離型性]
直径70mm、中心厚1.0mmの−4Dレンズを10枚作製し、離型性を評価した。10枚とも離型出来たものをA、9枚離型出来たものをB、8枚離型出来たものをC、7枚以下をDとした。B以上が合格レベルである。
[光学材料の耐熱性(Tg)測定]
サンプルを厚さ3mmに切り出し、0.5mmφのピンに10gの加重を与え、30℃から10℃/分で昇温してTMA測定(セイコーインスツルメンツ製、TMA/SS6100)を行い、軟化点を測定した。70℃以上をA、50℃以上70℃未満をB、50℃未満をCとした。B以上が合格レベルである。
特開平5−279321号公報記載の手法により、(a)化合物を得た。ついで(a)化合物15gをトルエン100ml、メタノール150mlの混合溶媒に溶解した。次いで、5℃で攪拌しながら水素化ホウ素ナトリウム2.8gを添加した。1時間攪拌した後、水150mlを加えトルエン層を抽出した。その後水洗し、トルエンを留去した後、シリカゲルカラムで精製し(b)化合物を4.5g得た。
(c)化合物としてテトラキス(β−エピチオプロピルチオメチル)メタン((4)式で表される化合物)99.999質量部に、合成例1で合成した(a)化合物0.001質量部、重合触媒としてテトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド0.05質量部を添加後、よく混合し均一とした。ついで1.3kPaの真空度で脱気を行い、モールドへ注入し、30℃で10時間加熱し、100℃まで10時間かけて一定速度で昇温させ、最後に100℃で1時間加熱し、重合硬化させた。放冷後、モールドから離型し、120℃で30分アニール処理して成型板を得た。離型性、耐熱性の評価結果を表1に示す。
(c)化合物としてビス(β−エピチオプロピル)スルフィド((3)式で表される化合物でn=0)99.999質量部に、合成例1で合成した(a)化合物0.001質量部、重合触媒としてテトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド0.05質量部を添加後、よく混合し均一とした。ついで1.3kPaの真空度で脱気を行い、モールドへ注入し、30℃で10時間加熱し、100℃まで10時間かけて一定速度で昇温させ、最後に100℃で1時間加熱し、重合硬化させた。放冷後、モールドから離型し、120℃で30分アニール処理して成型板を得た。離型性、耐熱性の評価結果を表2に示す。
Claims (5)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018168144 | 2018-09-07 | ||
JP2018168144 | 2018-09-07 | ||
PCT/JP2019/032529 WO2020050013A1 (ja) | 2018-09-07 | 2019-08-21 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020050013A1 true JPWO2020050013A1 (ja) | 2021-08-26 |
JP7367683B2 JP7367683B2 (ja) | 2023-10-24 |
Family
ID=69722545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020541118A Active JP7367683B2 (ja) | 2018-09-07 | 2019-08-21 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11999824B2 (ja) |
EP (1) | EP3848733B1 (ja) |
JP (1) | JP7367683B2 (ja) |
KR (1) | KR102683975B1 (ja) |
CN (1) | CN112639538B (ja) |
WO (1) | WO2020050013A1 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05279321A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-26 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ペンタエリスリチオールの製造法 |
JP2003233036A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Hoya Corp | 環状ジスルフィド化合物を用いてなる光学製品 |
JP2004175726A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 環状ポリチオール化合物 |
JP2013018741A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Asahi Kagaku Kogyo Kk | 有機ジスルフィド化合物の製造方法 |
WO2017098798A1 (ja) * | 2015-12-10 | 2017-06-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光硬化性組成物及び光学材料 |
JP2017114972A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
WO2018150950A1 (ja) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3491660B2 (ja) | 1995-08-16 | 2004-01-26 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 新規な直鎖アルキルスルフィド型エピスルフィド化合物 |
JP2005232464A (ja) * | 1999-02-24 | 2005-09-02 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物およびそれを用いた高屈折率樹脂の製造方法。 |
JP2000309584A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-11-07 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物およびそれを用いた高屈折率樹脂の製造方法。 |
JP4573148B2 (ja) | 2000-07-21 | 2010-11-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
JP4692696B2 (ja) * | 2000-09-08 | 2011-06-01 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用樹脂組成物 |
JP4076760B2 (ja) * | 2001-11-28 | 2008-04-16 | Hoya株式会社 | エピスルフィド化合物およびその製造方法 |
CN100528882C (zh) * | 2002-12-20 | 2009-08-19 | 埃西勒国际通用光学公司 | 螺环四硫代氨基甲酸酯和螺环氧代硫代氨基甲酸酯 |
JP4550446B2 (ja) * | 2004-02-24 | 2010-09-22 | 三井化学株式会社 | 高屈折率エピスルフィド化合物の製造方法 |
JP4250116B2 (ja) * | 2004-05-17 | 2009-04-08 | 三井化学株式会社 | 高屈折率エピスルフィド化合物 |
JP5279321B2 (ja) | 2008-04-04 | 2013-09-04 | 日東工業株式会社 | 電気電子機器収納箱の扉鎖錠装置 |
WO2010131631A1 (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 高屈折率高強度光学材料用組成物 |
CN104725593B (zh) * | 2011-02-15 | 2017-10-20 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用组合物及使用其的光学材料 |
-
2019
- 2019-08-21 EP EP19857539.1A patent/EP3848733B1/en active Active
- 2019-08-21 CN CN201980057674.6A patent/CN112639538B/zh active Active
- 2019-08-21 US US17/271,106 patent/US11999824B2/en active Active
- 2019-08-21 KR KR1020217005685A patent/KR102683975B1/ko active IP Right Grant
- 2019-08-21 JP JP2020541118A patent/JP7367683B2/ja active Active
- 2019-08-21 WO PCT/JP2019/032529 patent/WO2020050013A1/ja unknown
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05279321A (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-26 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ペンタエリスリチオールの製造法 |
JP2003233036A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Hoya Corp | 環状ジスルフィド化合物を用いてなる光学製品 |
JP2004175726A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 環状ポリチオール化合物 |
JP2013018741A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Asahi Kagaku Kogyo Kk | 有機ジスルフィド化合物の製造方法 |
WO2017098798A1 (ja) * | 2015-12-10 | 2017-06-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光硬化性組成物及び光学材料 |
JP2017114972A (ja) * | 2015-12-22 | 2017-06-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
WO2018150950A1 (ja) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20210055041A (ko) | 2021-05-14 |
JP7367683B2 (ja) | 2023-10-24 |
US11999824B2 (en) | 2024-06-04 |
CN112639538B (zh) | 2024-06-28 |
EP3848733B1 (en) | 2022-11-30 |
CN112639538A (zh) | 2021-04-09 |
EP3848733A1 (en) | 2021-07-14 |
KR102683975B1 (ko) | 2024-07-12 |
EP3848733A4 (en) | 2021-12-29 |
WO2020050013A1 (ja) | 2020-03-12 |
US20210253798A1 (en) | 2021-08-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI761449B (zh) | 光學材料用組成物 | |
EP2161296B1 (en) | Polymerisable compound und use thereof | |
TWI718157B (zh) | 光學材料用組成物及使用該組成物之光學材料 | |
TWI644906B (zh) | Novel cyclic compound and composition for optical material containing the same | |
WO2016158157A1 (ja) | 新規なエピスルフィド化合物およびそれを含む光学材料用組成物 | |
TWI309603B (en) | Process for producing plastic lens and plastic lens | |
JP6048013B2 (ja) | 光学材料用重合性組成物の製造方法 | |
TWI811417B (zh) | 新穎烯丙基化合物及光學材料組成物 | |
JP7367683B2 (ja) | 光学材料用組成物及び光学材料 | |
WO2022137715A1 (ja) | 組成物並びにこれを用いた光学材料およびレンズ | |
JP6089747B2 (ja) | 光学材料用重合性組成物 | |
WO2020021953A1 (ja) | エピスルフィド化合物および光学材料用組成物 | |
JP2011073165A (ja) | 光学レンズおよびその製造方法 | |
JP2011231185A (ja) | 光学レンズ成形用プレポリマーの製造方法及び光学レンズの製造方法 | |
US20230100848A1 (en) | Composition for optical material | |
JP2012063507A (ja) | 光学レンズの製造方法 | |
JP2012061665A (ja) | 光学レンズの製造方法 | |
JP2011152759A (ja) | 光学レンズおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220623 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230711 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230912 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230925 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7367683 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |