JPH05279321A - ペンタエリスリチオールの製造法 - Google Patents
ペンタエリスリチオールの製造法Info
- Publication number
- JPH05279321A JPH05279321A JP8021292A JP8021292A JPH05279321A JP H05279321 A JPH05279321 A JP H05279321A JP 8021292 A JP8021292 A JP 8021292A JP 8021292 A JP8021292 A JP 8021292A JP H05279321 A JPH05279321 A JP H05279321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- pentaerythritol
- pentaerythrithiol
- polar solvent
- aprotic polar
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 ペンタエリスリチオールの高収率で、かつ、
工業的に有利な製造法を提供する。 【構成】 式（１）のペンタエリスリトールテトラハラ
イドと四硫化二ナトリウムを、非プロトン性極性溶媒中
で加熱反応させ、これをそのまま、あるいは部分脱硫し
た後に、金属粉を用いて還元する。 （式中、Ｘは塩素または臭素を表わす） 【効果】 ペンタエリスリチオールは、高屈折率プラス
チックレンズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分
子量調節剤などに利用できる。
工業的に有利な製造法を提供する。 【構成】 式（１）のペンタエリスリトールテトラハラ
イドと四硫化二ナトリウムを、非プロトン性極性溶媒中
で加熱反応させ、これをそのまま、あるいは部分脱硫し
た後に、金属粉を用いて還元する。 （式中、Ｘは塩素または臭素を表わす） 【効果】 ペンタエリスリチオールは、高屈折率プラス
チックレンズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分
子量調節剤などに利用できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高屈折率プラスチック
レンズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分子量調
節剤として有用なペンタエリスリチオールの製造法に関
する。本発明により得られるペンタエリスリチオール
は、例えば、架橋剤、エポキシ樹脂硬化剤、加硫剤、重
合調整剤、合成樹脂原料、酸化防止剤、金属錯体生成、
生化学的薬物、潤滑油添加剤等として広範囲な用途を有
する化合物である。
レンズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分子量調
節剤として有用なペンタエリスリチオールの製造法に関
する。本発明により得られるペンタエリスリチオール
は、例えば、架橋剤、エポキシ樹脂硬化剤、加硫剤、重
合調整剤、合成樹脂原料、酸化防止剤、金属錯体生成、
生化学的薬物、潤滑油添加剤等として広範囲な用途を有
する化合物である。
【０００２】
【従来の技術】従来、ペンタエリスリチオールの製造法
としては、ペンタエリスリトールテトラブロマイドを、
アルコール中で四硫化二ナトリウムと反応させ、つい
で、金属硫化物触媒で高温高圧水添して得る方法（ＵＳ
Ｐ 2,402,614号）、あるいは、ペンタエリスリトールテ
トラブロマイドを、アルコール中で四硫化二ナトリウム
と反応させ、さらに部分脱硫して2,3,7,8-テトラチア−
5-スピロノナンを得、これを液体アンモニア中で金属ナ
トリウムを作用させて得る方法（ Birch還元）〔レキュ
イル・デス・トラバウクス・チミキュース・デス・パイ
ス−バス（Recueildes Travaux Chimiques des Pays-Ba
s）56, 174-80、681-90 (1937) 〕等が知られている。
としては、ペンタエリスリトールテトラブロマイドを、
アルコール中で四硫化二ナトリウムと反応させ、つい
で、金属硫化物触媒で高温高圧水添して得る方法（ＵＳ
Ｐ 2,402,614号）、あるいは、ペンタエリスリトールテ
トラブロマイドを、アルコール中で四硫化二ナトリウム
と反応させ、さらに部分脱硫して2,3,7,8-テトラチア−
5-スピロノナンを得、これを液体アンモニア中で金属ナ
トリウムを作用させて得る方法（ Birch還元）〔レキュ
イル・デス・トラバウクス・チミキュース・デス・パイ
ス−バス（Recueildes Travaux Chimiques des Pays-Ba
s）56, 174-80、681-90 (1937) 〕等が知られている。
【０００３】しかしながら、これらの製造法では、原料
物質及び中間体のアルコールへの溶解度が低く、デカン
テーションなどの操作が必要となり、工業的に有利な方
法とはいえない。また、この方法で得られる中間体は収
率が低く、５４％であり、さらに脱硫を行なうと、収率
は４０％以下とさらに低くなってしまう。また、この中
間体からペンタエリスリチオールを得るには、オートク
レーブ中で、2500lbs./sq.in．、150 ℃の高温高圧下で
５時間の水素化反応をおこなうか、あるいは、液体アン
モニア中で金属ナトリウムを作用させなければならず、
どちらも工業的に有利な方法とはいえない。さらに、こ
れらの方法では、原料物質として、かなり高価なペンタ
エリスリトールテトラブロマイドを使用しており、本発
明者らの検討では、より安価なペンタエリスリトールテ
トラクロライドでは反応が十分に進行しなかった。
物質及び中間体のアルコールへの溶解度が低く、デカン
テーションなどの操作が必要となり、工業的に有利な方
法とはいえない。また、この方法で得られる中間体は収
率が低く、５４％であり、さらに脱硫を行なうと、収率
は４０％以下とさらに低くなってしまう。また、この中
間体からペンタエリスリチオールを得るには、オートク
レーブ中で、2500lbs./sq.in．、150 ℃の高温高圧下で
５時間の水素化反応をおこなうか、あるいは、液体アン
モニア中で金属ナトリウムを作用させなければならず、
どちらも工業的に有利な方法とはいえない。さらに、こ
れらの方法では、原料物質として、かなり高価なペンタ
エリスリトールテトラブロマイドを使用しており、本発
明者らの検討では、より安価なペンタエリスリトールテ
トラクロライドでは反応が十分に進行しなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ペン
タエリスリチオールの高収率で、安価な製造法を提供す
ることである。
タエリスリチオールの高収率で、安価な製造法を提供す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な状況に鑑み、鋭意検討を行なった結果、原料物質とし
てペンタエリスリトールテトラブロマイド、またはペン
タエリスリトールテトラクロライドのいずれを用いた場
合にも、高収率でペンタエリスリチオールの合成が可能
な製造法を見出し本発明に到った。すなわち、本発明
は、一般式（１）（化５）で示されるペンタエリスリト
ールテトラハライドを、非プロトン性極性溶媒中で、四
硫化二ナトリウムと反応させ、次いで、金属粉を用いて
還元するペンタエリスリチオールの製造法に関するもの
である。
な状況に鑑み、鋭意検討を行なった結果、原料物質とし
てペンタエリスリトールテトラブロマイド、またはペン
タエリスリトールテトラクロライドのいずれを用いた場
合にも、高収率でペンタエリスリチオールの合成が可能
な製造法を見出し本発明に到った。すなわち、本発明
は、一般式（１）（化５）で示されるペンタエリスリト
ールテトラハライドを、非プロトン性極性溶媒中で、四
硫化二ナトリウムと反応させ、次いで、金属粉を用いて
還元するペンタエリスリチオールの製造法に関するもの
である。
【０００６】
【化５】 （式中、Ｘは塩素または臭素を表わす） また、ペンタエリスリトールテトラハライドを、非プロ
トン性極性溶媒中で、四硫化二ナトリウムと反応させた
後、部分脱硫して式（２）（化６）で表される2,3,7,8-
テトラチア−5-スピロノナンを得、これを金属粉を用い
て還元するペンタエリスリチオールの製造法に関するも
のである。
トン性極性溶媒中で、四硫化二ナトリウムと反応させた
後、部分脱硫して式（２）（化６）で表される2,3,7,8-
テトラチア−5-スピロノナンを得、これを金属粉を用い
て還元するペンタエリスリチオールの製造法に関するも
のである。
【０００７】
【化６】 さらにまた、ペンタエリスリトールテトラハライドを、
非プロトン性極性溶媒中で、四硫化二ナトリウムと加熱
させる一般式（３）（化７）で表されるペンタエリスリ
トール誘導体の製造法、および非プロトン性極性溶媒と
して、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いるペンタエ
リスリチオールおよびペンタエリスリトール誘導体の製
造法に関するものである。
非プロトン性極性溶媒中で、四硫化二ナトリウムと加熱
させる一般式（３）（化７）で表されるペンタエリスリ
トール誘導体の製造法、および非プロトン性極性溶媒と
して、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを用いるペンタエ
リスリチオールおよびペンタエリスリトール誘導体の製
造法に関するものである。
【０００８】
【化７】 （式中、ｍ、ｎはそれぞれ２〜４の整数を表す） 本発明により、高屈折率プラスチックレンズ用のモノマ
ーやオレフィン類の重合時の分子量調節剤として有用な
ペンタエリスリチオールを容易に、かつ、高収率で製造
することが可能となった。
ーやオレフィン類の重合時の分子量調節剤として有用な
ペンタエリスリチオールを容易に、かつ、高収率で製造
することが可能となった。
【０００９】本発明で用いる一般式（１）で表されるペ
ンタエリスリトールテトラハライドは、クロル体、ブロ
ム体のいづれも市販されており、容易に入手できる。本
発明で用いる四硫化二ナトリウムは、硫化ナトリウムに
硫黄を反応させるか、あるいは水硫化ナトリウムに硫黄
を反応させて容易に得ることができる。この時の反応溶
媒としては、アルコールを用いることが公知であるが、
本発明においては、次の反応に用いる非プロトン性極性
溶媒を用いることが好ましい。本発明において用いられ
る非プロトン性極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）、ヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰ
Ａ）、ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）などが挙げ
られるが、取扱易さや経済性の面からＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドが好ましく用いられる。
ンタエリスリトールテトラハライドは、クロル体、ブロ
ム体のいづれも市販されており、容易に入手できる。本
発明で用いる四硫化二ナトリウムは、硫化ナトリウムに
硫黄を反応させるか、あるいは水硫化ナトリウムに硫黄
を反応させて容易に得ることができる。この時の反応溶
媒としては、アルコールを用いることが公知であるが、
本発明においては、次の反応に用いる非プロトン性極性
溶媒を用いることが好ましい。本発明において用いられ
る非プロトン性極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）、ヘキサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰ
Ａ）、ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）などが挙げ
られるが、取扱易さや経済性の面からＮ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミドが好ましく用いられる。
【００１０】本発明のペンタエリスリトール誘導体を製
造する反応は、非プロトン性極性溶媒中で、ペンタエリ
スリトールテトラハライド１モルに対して、四硫化二ナ
トリウム２モル以上、好ましくは２〜３モルを、温度６
０〜１５０℃、好ましくは、８０〜１００℃で１〜１０
時間加熱することにより行われる。この反応によって得
られるペンタエリスリチオールの中間体は、一般式
（３）で表わされるペンタエリスリトール誘導体であ
り、分子内にジスルフィド基、トリスルフィド基、テト
ラスルフィド基のいずれかを持っている。このペンタエ
リスリトール誘導体は、トルエン、クロロホルム等の有
機溶媒による抽出後、必要に応じて、酸洗浄、水洗等の
一般的手法を施した後、有機溶媒を留去して取り出すこ
とができる。
造する反応は、非プロトン性極性溶媒中で、ペンタエリ
スリトールテトラハライド１モルに対して、四硫化二ナ
トリウム２モル以上、好ましくは２〜３モルを、温度６
０〜１５０℃、好ましくは、８０〜１００℃で１〜１０
時間加熱することにより行われる。この反応によって得
られるペンタエリスリチオールの中間体は、一般式
（３）で表わされるペンタエリスリトール誘導体であ
り、分子内にジスルフィド基、トリスルフィド基、テト
ラスルフィド基のいずれかを持っている。このペンタエ
リスリトール誘導体は、トルエン、クロロホルム等の有
機溶媒による抽出後、必要に応じて、酸洗浄、水洗等の
一般的手法を施した後、有機溶媒を留去して取り出すこ
とができる。
【００１１】本発明のペンタエリスリチオールを得るに
は、式（３）で表されるペンタエリスリトール誘導体を
このまま還元してもよく、さらに部分脱硫して式（２）
で表される2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナンのよう
に分子内にジスルフィド基を二つ持つ形にした後に還元
してもよい。ペンタエリスリトール誘導体を部分脱硫す
る方法としては、トルエンなどの有機溶媒中で金属ナト
リウムと共に加熱する、アルコール中で硫化カリウムと
共に加熱する、あるいは、トルエンなどの有機溶媒中で
銅粉や鉄粉などの金属粉と共に加熱する等の方法があ
る。2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナンを容易に、か
つ、収率よく得るには、トルエンなどの有機溶媒中で銅
粉などの金属粉と共に加熱して、部分脱硫する方法が好
ましい。使用する金属粉は、ペンタエリスリトール誘導
体に対して大過剰に用いる。部分脱硫した中間体、即
ち、2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナンを取り出すに
は、金属硫化物および過剰の金属粉を濾別した後、有機
溶媒を減圧留去する。
は、式（３）で表されるペンタエリスリトール誘導体を
このまま還元してもよく、さらに部分脱硫して式（２）
で表される2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナンのよう
に分子内にジスルフィド基を二つ持つ形にした後に還元
してもよい。ペンタエリスリトール誘導体を部分脱硫す
る方法としては、トルエンなどの有機溶媒中で金属ナト
リウムと共に加熱する、アルコール中で硫化カリウムと
共に加熱する、あるいは、トルエンなどの有機溶媒中で
銅粉や鉄粉などの金属粉と共に加熱する等の方法があ
る。2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナンを容易に、か
つ、収率よく得るには、トルエンなどの有機溶媒中で銅
粉などの金属粉と共に加熱して、部分脱硫する方法が好
ましい。使用する金属粉は、ペンタエリスリトール誘導
体に対して大過剰に用いる。部分脱硫した中間体、即
ち、2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナンを取り出すに
は、金属硫化物および過剰の金属粉を濾別した後、有機
溶媒を減圧留去する。
【００１２】本発明により一般式（３）、または式
（２）で表わされる中間体を還元してペンタエリスリチ
オールを得るには、金属粉を用いた接触還元や、金属粉
と鉱酸を用いた還元法を用いる。接触還元では、金属粉
として遷移金属（白金、パラジウム、ニッケル、スズ、
亜鉛、鉄など）の中から選ばれたものを用いるが、鉱酸
を用いる還元法ではスズ、亜鉛、鉄などが好ましい。こ
の時の反応溶媒は式（３）、または式（２）で表わされ
る中間体の溶解性を考慮して、反応系を均一にするた
め、必要ならば、トルエンなどの有機溶媒にアルコール
を加えてもよい。
（２）で表わされる中間体を還元してペンタエリスリチ
オールを得るには、金属粉を用いた接触還元や、金属粉
と鉱酸を用いた還元法を用いる。接触還元では、金属粉
として遷移金属（白金、パラジウム、ニッケル、スズ、
亜鉛、鉄など）の中から選ばれたものを用いるが、鉱酸
を用いる還元法ではスズ、亜鉛、鉄などが好ましい。こ
の時の反応溶媒は式（３）、または式（２）で表わされ
る中間体の溶解性を考慮して、反応系を均一にするた
め、必要ならば、トルエンなどの有機溶媒にアルコール
を加えてもよい。
【００１３】本発明のペンタエリスリチオールは、一般
式（３）の中間体、あるいは、2,3,7,8-テトラチア−5-
スピロノナン１モルを、アルコール中、またはアルコー
ルとトルエン、クロロホルムなどの有機溶媒との混合溶
媒に溶解させ、金属粉２モル以上を加え、鉱酸を金属粉
１モルに対して、２モル以上、好ましくは２〜３モル用
い、反応温度１０〜５０℃、好ましくは２０〜４０℃で
還元することによって得られる。こうして生成するペン
タエリスリチオールは、必要により、再結晶、蒸留など
によって精製も可能である。
式（３）の中間体、あるいは、2,3,7,8-テトラチア−5-
スピロノナン１モルを、アルコール中、またはアルコー
ルとトルエン、クロロホルムなどの有機溶媒との混合溶
媒に溶解させ、金属粉２モル以上を加え、鉱酸を金属粉
１モルに対して、２モル以上、好ましくは２〜３モル用
い、反応温度１０〜５０℃、好ましくは２０〜４０℃で
還元することによって得られる。こうして生成するペン
タエリスリチオールは、必要により、再結晶、蒸留など
によって精製も可能である。
【００１４】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこの実施例によって何等限定される
物ではない。尚、実施例中に示す部は重量部を示す。 実施例１ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０部に、水硫化ナトリ
ウム２０部（０．２５モル）を加温溶解し、これに硫黄
粉１２．２部（０．３８モル）を加え、８０℃で４０分
間加熱した。これを４０℃以下になるまで冷却した後に
ペンタエリスリトールテトラブロマイド１９．４部
（０．０５モル）を徐々に加え、８０℃で１時間加熱し
た。室温まで冷却した後、クロロホルム２００部、水３
００部を加えて抽出し、クロロホルム層を分取した。こ
れを水３００部で３回洗浄した後クロロホルムを減圧留
去し、一般式（３）の中間体１５．３部を得た。これを
トルエン１００部に加熱溶解し、銅粉２５部を加え還流
下で１時間脱硫を行なった。室温まで冷却した後に過剰
の銅および沈澱を吸引濾過して、トルエンを減圧留去
し、2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナン７．８部
（０．０３９モル、収率７９モル％）を得た。
明するが、本発明はこの実施例によって何等限定される
物ではない。尚、実施例中に示す部は重量部を示す。 実施例１ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０部に、水硫化ナトリ
ウム２０部（０．２５モル）を加温溶解し、これに硫黄
粉１２．２部（０．３８モル）を加え、８０℃で４０分
間加熱した。これを４０℃以下になるまで冷却した後に
ペンタエリスリトールテトラブロマイド１９．４部
（０．０５モル）を徐々に加え、８０℃で１時間加熱し
た。室温まで冷却した後、クロロホルム２００部、水３
００部を加えて抽出し、クロロホルム層を分取した。こ
れを水３００部で３回洗浄した後クロロホルムを減圧留
去し、一般式（３）の中間体１５．３部を得た。これを
トルエン１００部に加熱溶解し、銅粉２５部を加え還流
下で１時間脱硫を行なった。室温まで冷却した後に過剰
の銅および沈澱を吸引濾過して、トルエンを減圧留去
し、2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナン７．８部
（０．０３９モル、収率７９モル％）を得た。
【００１５】実施例２ 2,3,7,8-テトラチア−5-スピロノナン１４．６部（０．
７４モル）をトルエン１００部、エタノール１５０部に
溶解し、亜鉛粉１１．７部を加えた。温度をおよそ３０
℃に保ち撹拌を続けながら３６％塩酸４０部を滴下し
た。水１５０部を加えてトルエン層に抽出した後、水１
００部で３回洗浄を行ないトルエンを減圧留去して白色
のペンタエリスリチオール１４．０部（０．７０モル、
収率９４モル％）を得た。融点７２．５〜７３．０℃で
あった。
７４モル）をトルエン１００部、エタノール１５０部に
溶解し、亜鉛粉１１．７部を加えた。温度をおよそ３０
℃に保ち撹拌を続けながら３６％塩酸４０部を滴下し
た。水１５０部を加えてトルエン層に抽出した後、水１
００部で３回洗浄を行ないトルエンを減圧留去して白色
のペンタエリスリチオール１４．０部（０．７０モル、
収率９４モル％）を得た。融点７２．５〜７３．０℃で
あった。
【００１６】実施例３ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０部に水硫化ナトリウ
ム１２部（０．１５モル）を加温溶解し、これに硫黄粉
７、４部（０．２３モル）を加え８０℃で４０分間加熱
した。これを４０℃以下になるまで冷却した後にペンタ
エリスリトールテトラクロライド６．５部（０．０３モ
ル）を徐々に加え、１００℃で４時間加熱した。室温ま
で冷却した後、ベンゼン２００部、水２００部を加えて
抽出し、さらにこれを水２００部で３回洗浄した後ベン
ゼンを途中まで減圧留去した。これにエタノール７０部
を加え、さらに亜鉛粉４．９部を加えた。温度をおよそ
３０℃に保ち撹拌を続けながら３６％塩酸１５．２部を
滴下した。水１００部を加えてベンゼン層に抽出した
後、水５０部で３回洗浄を行ないベンゼンを減圧留去し
てペンタエリスリチオール５．１部（０．０２５モル、
収率８２モル％）を得た。
ム１２部（０．１５モル）を加温溶解し、これに硫黄粉
７、４部（０．２３モル）を加え８０℃で４０分間加熱
した。これを４０℃以下になるまで冷却した後にペンタ
エリスリトールテトラクロライド６．５部（０．０３モ
ル）を徐々に加え、１００℃で４時間加熱した。室温ま
で冷却した後、ベンゼン２００部、水２００部を加えて
抽出し、さらにこれを水２００部で３回洗浄した後ベン
ゼンを途中まで減圧留去した。これにエタノール７０部
を加え、さらに亜鉛粉４．９部を加えた。温度をおよそ
３０℃に保ち撹拌を続けながら３６％塩酸１５．２部を
滴下した。水１００部を加えてベンゼン層に抽出した
後、水５０部で３回洗浄を行ないベンゼンを減圧留去し
てペンタエリスリチオール５．１部（０．０２５モル、
収率８２モル％）を得た。
【００１７】比較例１ エタノール１００部に水硫化ナトリウム２０部（０．５
モル）を加温溶解し、これに硫黄粉１２．２部（０．３
８モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０
℃以下になるまで冷却した後にペンタエリスリトールテ
トラブロマイド１９．４部（０．０５モル）を徐々に加
え、還流下で１時間加熱した。室温まで冷却した後、ク
ロロホルム２００部、水３００部を加えて抽出し、クロ
ロホルム層を分取した。これを水３００部で３回洗浄し
た後クロロホルムを減圧留去し、ペンタエリスリチオー
ルの合成中間体５．４部を得た。これをトルエン５０部
に加熱溶解し、銅粉６．０部を加え還流下で１時間脱硫
を行なった。室温まで冷却した後に過剰の銅および沈澱
を吸引濾過して、トルエンを減圧留去し、2,3,7,8-テト
ラチア−5-スピロノナン３．６部（０．０１８モル、収
率３７モル％）を得た。
モル）を加温溶解し、これに硫黄粉１２．２部（０．３
８モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０
℃以下になるまで冷却した後にペンタエリスリトールテ
トラブロマイド１９．４部（０．０５モル）を徐々に加
え、還流下で１時間加熱した。室温まで冷却した後、ク
ロロホルム２００部、水３００部を加えて抽出し、クロ
ロホルム層を分取した。これを水３００部で３回洗浄し
た後クロロホルムを減圧留去し、ペンタエリスリチオー
ルの合成中間体５．４部を得た。これをトルエン５０部
に加熱溶解し、銅粉６．０部を加え還流下で１時間脱硫
を行なった。室温まで冷却した後に過剰の銅および沈澱
を吸引濾過して、トルエンを減圧留去し、2,3,7,8-テト
ラチア−5-スピロノナン３．６部（０．０１８モル、収
率３７モル％）を得た。
【００１８】比較例２ エタノール８０部に水硫化ナトリウム１２部（０．１５
モル）を加温溶解し、これに硫黄粉７、４部（０．２３
モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０℃
以下になるまで冷却した後に、ペンタエリスリトールテ
トラクロライド６．５部（０．０３モル）を徐々に加
え、還流下で４時間加熱した。室温まで冷却した後、ク
ロロホルム２００部、水２００部を加えて抽出し、クロ
ロホルム層を分取した。これを水１００部で３回洗浄し
た後クロロホルムを減圧留去した。得られた生成物に
は、原料であるペンタエリスリトールテトラクロライド
がかなり残っていた。
モル）を加温溶解し、これに硫黄粉７、４部（０．２３
モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０℃
以下になるまで冷却した後に、ペンタエリスリトールテ
トラクロライド６．５部（０．０３モル）を徐々に加
え、還流下で４時間加熱した。室温まで冷却した後、ク
ロロホルム２００部、水２００部を加えて抽出し、クロ
ロホルム層を分取した。これを水１００部で３回洗浄し
た後クロロホルムを減圧留去した。得られた生成物に
は、原料であるペンタエリスリトールテトラクロライド
がかなり残っていた。
【００１９】
【発明の効果】本発明により、高屈折率プラスチックレ
ンズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分子量調節
剤などに利用できるペンタエリスリチオールを、高収率
で、かつ、工業的に有利に製造することが可能になっ
た。
ンズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分子量調節
剤などに利用できるペンタエリスリチオールを、高収率
で、かつ、工業的に有利に製造することが可能になっ
た。
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（１）（化１）で表されるペンタ
エリスリトールテトラハライド 【化１】 （式中、Ｘは塩素または臭素を表わす）を、非プロトン
性極性溶媒中で、四硫化二ナトリウムと反応させ、次い
で、金属粉を用いて還元することを特徴とするペンタエ
リスリチオールの製造法。 - 【請求項２】 ペンタエリスリトールテトラハライド
を、非プロトン性極性溶媒中で、四硫化二ナトリウムと
反応させた後、部分脱硫して式（２）（化２）で表され
る化合物を得、 【化２】 これを金属粉を用いて還元することを特徴とする請求項
１記載のペンタエリスリチオールの製造法。 - 【請求項３】 非プロトン性極性溶媒が、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミドである請求項１または２記載のペンタ
エリスリチオールの製造法。 - 【請求項４】 一般式（１）（化３）で表されるペンタ
エリスリトールテトラハライド 【化３】 （式中、Ｘは塩素または臭素を表わす）を、非プロトン
性極性溶媒中で、四硫化二ナトリウムと加熱させること
を特徴とする一般式（３）（化４）で表されるペンタエ
リスリトール誘導体の製造法。 【化４】 （式中、ｍ、ｎはそれぞれ２〜４の整数を表す） - 【請求項５】 非プロトン性極性溶媒が、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミドである請求項４記載のペンタエリスリ
トール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021292A JPH05279321A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ペンタエリスリチオールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021292A JPH05279321A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ペンタエリスリチオールの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05279321A true JPH05279321A (ja) | 1993-10-26 |
Family
ID=13712082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8021292A Pending JPH05279321A (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ペンタエリスリチオールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05279321A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006511569A (ja) * | 2002-12-20 | 2006-04-06 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | スピロテトラチオカルバミン酸塩およびスピロオキソチオカルバミン酸塩 |
| WO2020050013A1 (ja) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
-
1992
- 1992-04-02 JP JP8021292A patent/JPH05279321A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006511569A (ja) * | 2002-12-20 | 2006-04-06 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | スピロテトラチオカルバミン酸塩およびスピロオキソチオカルバミン酸塩 |
| WO2020050013A1 (ja) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用組成物及び光学材料 |
| CN112639538A (zh) * | 2018-09-07 | 2021-04-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学材料用组合物和光学材料 |
| EP3848733A4 (en) * | 2018-09-07 | 2021-12-29 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Composition for optical material and optical material |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7027509B2 (ja) | ジアリールスルホンを製造するための改良された方法 | |
| US10618868B2 (en) | Method for preparing 2-aryl malonamide and applications thereof | |
| DE4030399A1 (de) | Makromolekuele des propylens mit einem funktionellen kettenende | |
| WO2014002876A1 (ja) | ビス（β－エポキシプロピル）スルフィドおよびビス（β－エポキシプロピル）ポリスルフィドの製造方法 | |
| JPH05279321A (ja) | ペンタエリスリチオールの製造法 | |
| JPS6147831B2 (ja) | ||
| JP3222940B2 (ja) | ペンタエリスリチオールの製造法 | |
| JPH07116129B2 (ja) | ポリチオール | |
| JPH0625223A (ja) | ２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアンの製造法 | |
| EP0195744B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Trifluordichlorethyl substituierten Säuren und Zinkverbindungen | |
| US5475065A (en) | Process for producing azide-substituted aromatic polymers and the products thereof | |
| EP0181743B1 (en) | Polymerization initiator | |
| JPH10330329A (ja) | ビス（アミノメチル）シクロヘキサンの異性化方法 | |
| JP2011207793A (ja) | 新規ジチオジアリールスルホキシド化合物、その製造方法、およびジメルカプトジアリールスルフィドの製造方法 | |
| JP5308412B2 (ja) | 含硫黄化合物及びその製造方法 | |
| JPH02172969A (ja) | ジチオールジ（メタ）アクリレートの製造法 | |
| JP2002255961A (ja) | 環状フェノール硫化物の製造方法 | |
| JP2002121182A (ja) | スルフィド誘導体の製造方法 | |
| EP3256456B1 (en) | Process of production of cyclo-dehydrolinalool (ii) | |
| DE2652922A1 (de) | Diothiophosphonsaeureesterhalogenide, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als zwischenprodukte | |
| DD262231A1 (de) | Verfahren zur herstellung von schwefelhaltigen organo - organooxysilanen | |
| JPH0318617B2 (ja) | ||
| JPH07215979A (ja) | スピログリコールの製造方法 | |
| DE1468782C (de) | Verfahren zur Herstellung von monome ren oder polymeren Sulfiden | |
| DE1176129B (de) | Verfahren zur Herstellung von arylsubstituierten Halogenalkylsulfonen |