JP3222940B2 - ペンタエリスリチオールの製造法 - Google Patents
ペンタエリスリチオールの製造法Info
- Publication number
- JP3222940B2 JP3222940B2 JP22696092A JP22696092A JP3222940B2 JP 3222940 B2 JP3222940 B2 JP 3222940B2 JP 22696092 A JP22696092 A JP 22696092A JP 22696092 A JP22696092 A JP 22696092A JP 3222940 B2 JP3222940 B2 JP 3222940B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- mol
- pentaerythrithiol
- added
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高屈折率プラスチック
レンズ用のモノマーや、オレフィン類の重合時の分子量
調節剤として有用なペンタエリスリチオールの製造法に
関する。本発明により得られるペンタエリスリチオール
は、例えば、架橋剤、エポキシ樹脂硬化剤、加硫剤、重
合調整剤、合成樹脂原料、酸化防止剤、金属錯体生成、
生化学的薬物、潤滑油添加剤等として、広範囲な用途を
有する化合物である。
レンズ用のモノマーや、オレフィン類の重合時の分子量
調節剤として有用なペンタエリスリチオールの製造法に
関する。本発明により得られるペンタエリスリチオール
は、例えば、架橋剤、エポキシ樹脂硬化剤、加硫剤、重
合調整剤、合成樹脂原料、酸化防止剤、金属錯体生成、
生化学的薬物、潤滑油添加剤等として、広範囲な用途を
有する化合物である。
【０００２】
【従来の技術】従来、ペンタエリスリチオールの製造法
としては、ペンタエリスリトールテトラブロマイドをア
ルコール中で四硫化二ナトリウムと反応させ、ついで金
属硫化物触媒で高温高圧水添して得る方法（U.S.P. 2,4
02,614号）、あるいはペンタエリスリトールテトラブロ
マイドをアルコール中で四硫化二ナトリウムと反応さ
せ、さらに部分脱硫して2,3,7,8-テトラチア−5-スピロ
ノナンを得、これを液体アンモニア中で金属ナトリウム
を作用させて得る方法（ Birch還元）〔レキュイル・デ
ス・トラバウクス・チミキュース・デス・パイス−バス
（Recueil des Tra-vaux Chimiques des Pays-Bas ）5
6, 174-80、681-90 (1937)〕等が知られている。しかし
ながら、これらの製造法では、原料物質及び中間体のア
ルコールへの溶解度が低く、デカンテーションなどの操
作が必要となり、工業的に有利な方法とはいえない。
としては、ペンタエリスリトールテトラブロマイドをア
ルコール中で四硫化二ナトリウムと反応させ、ついで金
属硫化物触媒で高温高圧水添して得る方法（U.S.P. 2,4
02,614号）、あるいはペンタエリスリトールテトラブロ
マイドをアルコール中で四硫化二ナトリウムと反応さ
せ、さらに部分脱硫して2,3,7,8-テトラチア−5-スピロ
ノナンを得、これを液体アンモニア中で金属ナトリウム
を作用させて得る方法（ Birch還元）〔レキュイル・デ
ス・トラバウクス・チミキュース・デス・パイス−バス
（Recueil des Tra-vaux Chimiques des Pays-Bas ）5
6, 174-80、681-90 (1937)〕等が知られている。しかし
ながら、これらの製造法では、原料物質及び中間体のア
ルコールへの溶解度が低く、デカンテーションなどの操
作が必要となり、工業的に有利な方法とはいえない。
【０００３】またこの方法では、中間体の収率が低く、
５４％であり、さらに脱硫を行なうと、収率は４０％以
下とさらに低くなってしまう。また、この中間体からペ
ンタエリスリチオールを得るには、オートクレーブ中で
2500lbs./sq.in、１５０℃の高温高圧下で、５時間の水
素化反応をおこなうか、あるいは液体アンモニア中で金
属ナトリウムを作用させなければならず、どちらも工業
的に有利な方法であるとはいえない。さらに、本発明者
らの検討によれば、これらの方法では、より安価なペン
タエリスリトールテトラクロライドでは反応が十分に進
行せず、原料物質として、高価なペンタエリスリトール
テトラブロマイドを使用する必要があり、高価にならざ
るを得なかった。
５４％であり、さらに脱硫を行なうと、収率は４０％以
下とさらに低くなってしまう。また、この中間体からペ
ンタエリスリチオールを得るには、オートクレーブ中で
2500lbs./sq.in、１５０℃の高温高圧下で、５時間の水
素化反応をおこなうか、あるいは液体アンモニア中で金
属ナトリウムを作用させなければならず、どちらも工業
的に有利な方法であるとはいえない。さらに、本発明者
らの検討によれば、これらの方法では、より安価なペン
タエリスリトールテトラクロライドでは反応が十分に進
行せず、原料物質として、高価なペンタエリスリトール
テトラブロマイドを使用する必要があり、高価にならざ
るを得なかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高収
率で、安価なペンタエリスリチオールの製造法を提供す
ることである。
率で、安価なペンタエリスリチオールの製造法を提供す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、目的を達
成すべく、鋭意研究を行なった結果、ペンタエリスリト
ールテトラブロマイドまたはペンタエリスリトールテト
ラクロライドのいずれを原料物質として用いた場合に
も、高収率でペンタエリスリチオールの合成が可能な製
造法を見いだし、本発明を完成するに到った。すなわ
ち、本発明は、一般式（１）で示されるペンタエリスリ
トールテトラハライドに、極性溶媒中で、トリチオ炭酸
塩を反応させ、式（２）（化３）で表される化合物を
得、ついで、酸により加水分解するペンタエリスリチオ
ールの製造法に関するものである。
成すべく、鋭意研究を行なった結果、ペンタエリスリト
ールテトラブロマイドまたはペンタエリスリトールテト
ラクロライドのいずれを原料物質として用いた場合に
も、高収率でペンタエリスリチオールの合成が可能な製
造法を見いだし、本発明を完成するに到った。すなわ
ち、本発明は、一般式（１）で示されるペンタエリスリ
トールテトラハライドに、極性溶媒中で、トリチオ炭酸
塩を反応させ、式（２）（化３）で表される化合物を
得、ついで、酸により加水分解するペンタエリスリチオ
ールの製造法に関するものである。
【０００６】
【化３】
【０００７】本発明により、高屈折率プラスチックレン
ズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分子量調節剤
として有用なペンタエリスリチオールを容易に高収率で
製造することが可能となった。本発明で用いる一般式
（１）で表わされるペンタエリスリトールテトラハライ
ドは、クロル体、ブロム体のいづれも市販されており、
容易に入手できる。
ズ用のモノマーやオレフィン類の重合時の分子量調節剤
として有用なペンタエリスリチオールを容易に高収率で
製造することが可能となった。本発明で用いる一般式
（１）で表わされるペンタエリスリトールテトラハライ
ドは、クロル体、ブロム体のいづれも市販されており、
容易に入手できる。
【０００８】本発明で用いるトリチオ炭酸塩は、トリチ
オ炭酸のアルカリ金属塩で、例えば、トリチオ炭酸ナト
リウム、トリチオ炭酸カリウムである。例えば、トリチ
オ炭酸ナトリウムは、水硫化ナトリウムと苛性ソーダか
ら硫化ナトリウムとした後、二硫化炭素と反応させる
か、直接硫化ナトリウムに二硫化炭素を反応させて容易
に得ることができる。この反応は、窒素雰囲気下で行な
うことが好ましい。この際、反応溶媒として、一般に水
を用いるが、本発明においては、次の反応に用いる極性
溶媒、特に非プロトン性極性溶媒を用いることもでき
る。
オ炭酸のアルカリ金属塩で、例えば、トリチオ炭酸ナト
リウム、トリチオ炭酸カリウムである。例えば、トリチ
オ炭酸ナトリウムは、水硫化ナトリウムと苛性ソーダか
ら硫化ナトリウムとした後、二硫化炭素と反応させる
か、直接硫化ナトリウムに二硫化炭素を反応させて容易
に得ることができる。この反応は、窒素雰囲気下で行な
うことが好ましい。この際、反応溶媒として、一般に水
を用いるが、本発明においては、次の反応に用いる極性
溶媒、特に非プロトン性極性溶媒を用いることもでき
る。
【０００９】本発明で用いられる極性溶媒としては、非
プロトン性極性溶媒であるＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰＡ）、ジメ
チルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）や、水と前記の非プロ
トン性極性溶媒の混合溶媒、またはアルコールなどが挙
げられる。原料物質の溶解性、反応の進み易さ、あるい
は溶媒の取扱易さや経済性の面からＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、あるいは、水とＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドの混合溶媒が好ましく用いられる。本発明の第１段
目の反応は、極性溶媒中で、ペンタエリスリトールテト
ラハライド１モルに対して、トリチオ炭酸塩を４モル以
上、好ましくは４〜１０モルを、反応温度４０〜１５０
℃、好ましくは８０〜１２０℃で１〜１０時間加熱する
ことにより行なわれる。
プロトン性極性溶媒であるＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド（ＨＭＰＡ）、ジメ
チルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）や、水と前記の非プロ
トン性極性溶媒の混合溶媒、またはアルコールなどが挙
げられる。原料物質の溶解性、反応の進み易さ、あるい
は溶媒の取扱易さや経済性の面からＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、あるいは、水とＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドの混合溶媒が好ましく用いられる。本発明の第１段
目の反応は、極性溶媒中で、ペンタエリスリトールテト
ラハライド１モルに対して、トリチオ炭酸塩を４モル以
上、好ましくは４〜１０モルを、反応温度４０〜１５０
℃、好ましくは８０〜１２０℃で１〜１０時間加熱する
ことにより行なわれる。
【００１０】本発明のペンタエリスリチオールを得るに
は、第１段目の反応で得られた式（２）で表される化合
物１モルに対して、酸を４モル以上用い、反応温度５〜
６０℃、好ましくは２０〜４０℃で加水分解した後、４
０℃以上、好ましくは４０〜６０℃で生じる二硫化炭素
を留去する。その後、トルエン、クロロホルムなどの有
機溶媒による抽出後、必要に応じて、アルカリ洗浄、水
洗等の一般的手法を施した後、有機溶媒を留去して取り
出すことができる。こうして生成するペンタエリスリチ
オールは、不純物質として、ペンタエリスリチオール
が、ジスルフィドあるいはポリスルフィド化したものな
どを含んでいることがあるため、必要に応じて、還元反
応を行なってもよい。還元反応は、一般の還元方法を用
いても良いが、本願では、金属粉を用いた接触還元や、
金属粉と鉱酸を用いた還元法を用いる。接触還元では、
金属粉として遷移金属（白金、パラジウム、ニッケル、
スズ、亜鉛、鉄等）の中から選ばれたものを用いるが、
鉱酸を用いる還元法では、スズ、亜鉛、鉄等が好まし
い。この時の反応溶媒は、溶解性を考慮して、反応系を
均一にするため、必要ならば、トルエンなどの有機溶媒
にアルコールを加えたものを反応溶媒として用いればよ
い。得られたペンタエリスリチオールは必要により再結
晶、蒸留などによって精製することも可能である。
は、第１段目の反応で得られた式（２）で表される化合
物１モルに対して、酸を４モル以上用い、反応温度５〜
６０℃、好ましくは２０〜４０℃で加水分解した後、４
０℃以上、好ましくは４０〜６０℃で生じる二硫化炭素
を留去する。その後、トルエン、クロロホルムなどの有
機溶媒による抽出後、必要に応じて、アルカリ洗浄、水
洗等の一般的手法を施した後、有機溶媒を留去して取り
出すことができる。こうして生成するペンタエリスリチ
オールは、不純物質として、ペンタエリスリチオール
が、ジスルフィドあるいはポリスルフィド化したものな
どを含んでいることがあるため、必要に応じて、還元反
応を行なってもよい。還元反応は、一般の還元方法を用
いても良いが、本願では、金属粉を用いた接触還元や、
金属粉と鉱酸を用いた還元法を用いる。接触還元では、
金属粉として遷移金属（白金、パラジウム、ニッケル、
スズ、亜鉛、鉄等）の中から選ばれたものを用いるが、
鉱酸を用いる還元法では、スズ、亜鉛、鉄等が好まし
い。この時の反応溶媒は、溶解性を考慮して、反応系を
均一にするため、必要ならば、トルエンなどの有機溶媒
にアルコールを加えたものを反応溶媒として用いればよ
い。得られたペンタエリスリチオールは必要により再結
晶、蒸留などによって精製することも可能である。
【００１１】
【実施例】以下、実施例により、本発明を更に具体的に
説明するが、本発明は、これにより何等制限されるもの
ではない。尚、実施例中に示す部は重量部を示す。 実施例１ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５０部に、水硫化ナト
リウム３８．４部（０．４８モル）を加温溶解し、これ
に５０％苛性ソーダ水溶液３８．４部（０．４８モル）
を徐々に加えた。これを３０℃以下になるまで撹拌しな
がら冷却した後に、二硫化炭素３８．４部（０．５０モ
ル）を徐々に滴下した。滴下終了後、４０℃に加温し、
２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド７０部にペンタエリスリトールテトラブロマイド１
２．６部（０．０６モル）を溶解したものを徐々に加
え、１００℃で２時間加熱した。室温まで冷却した後、
３６％塩酸１６０部を加えて、３０℃で１時間加水分解
した後、５５℃に加熱して二硫化炭素を回収した。さら
に３０℃まで冷却した後、クロロホルム３００部、水５
００部を加えて抽出し、クロロホルム層を分取した。こ
れを１％アンモニア水で中和し、さらに水３００部で３
回洗浄した後、クロロホルムを減圧留去した。これをト
ルエン１００部、エタノール５００部に溶解し、亜鉛粉
３．０部を加えた。温度をおよそ３０℃に保ち、撹拌を
続けながら、３６％塩酸３０部を滴下した。水１５０部
を加えて、トルエン層に抽出した後、水１００部で３回
洗浄を行ない、トルエンを減圧留去して、白色のペンタ
エリスリチオール１０．８部（０．０５４モル、収率９
０．４モル％）を得た。融点は７２．５〜７３．０℃で
あった。
説明するが、本発明は、これにより何等制限されるもの
ではない。尚、実施例中に示す部は重量部を示す。 実施例１ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５０部に、水硫化ナト
リウム３８．４部（０．４８モル）を加温溶解し、これ
に５０％苛性ソーダ水溶液３８．４部（０．４８モル）
を徐々に加えた。これを３０℃以下になるまで撹拌しな
がら冷却した後に、二硫化炭素３８．４部（０．５０モ
ル）を徐々に滴下した。滴下終了後、４０℃に加温し、
２時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド７０部にペンタエリスリトールテトラブロマイド１
２．６部（０．０６モル）を溶解したものを徐々に加
え、１００℃で２時間加熱した。室温まで冷却した後、
３６％塩酸１６０部を加えて、３０℃で１時間加水分解
した後、５５℃に加熱して二硫化炭素を回収した。さら
に３０℃まで冷却した後、クロロホルム３００部、水５
００部を加えて抽出し、クロロホルム層を分取した。こ
れを１％アンモニア水で中和し、さらに水３００部で３
回洗浄した後、クロロホルムを減圧留去した。これをト
ルエン１００部、エタノール５００部に溶解し、亜鉛粉
３．０部を加えた。温度をおよそ３０℃に保ち、撹拌を
続けながら、３６％塩酸３０部を滴下した。水１５０部
を加えて、トルエン層に抽出した後、水１００部で３回
洗浄を行ない、トルエンを減圧留去して、白色のペンタ
エリスリチオール１０．８部（０．０５４モル、収率９
０．４モル％）を得た。融点は７２．５〜７３．０℃で
あった。
【００１２】実施例２ 純水１００部に、水硫化ナトリウム３８．４部（０．４
８モル）を溶解し、これに５０％苛性ソーダ水溶液３
８．４部（０．４８モル）を徐々に加えた。これを３０
℃以下に保ちながら、二硫化炭素３８．４部（０．５０
モル）を徐々に滴下した。滴下終了後、４０℃に加温し
２時間反応させた。反応系が均一になった後、この水溶
液を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４００部にペンタ
エリスリトールテトラブロマイド１２．６部（０．０６
モル）を溶解したものに徐々に加え、１００℃で４時間
加熱した。室温まで冷却した後、３６％塩酸１６０部を
加えて３０℃で１時間加水分解した後、５５℃に加熱し
て二硫化炭素を回収した。さらに３０℃まで冷却した
後、クロロホルム３００部、水５００部を加えて抽出
し、クロロホルム層を分取した。これを１％アンモニア
水で中和し、さらに水３００部で３回洗浄した後、クロ
ロホルムを減圧留去して、ペンタエリスリチオール１
０．９部（０．５４モル、収率９０．６モル％）を得
た。
８モル）を溶解し、これに５０％苛性ソーダ水溶液３
８．４部（０．４８モル）を徐々に加えた。これを３０
℃以下に保ちながら、二硫化炭素３８．４部（０．５０
モル）を徐々に滴下した。滴下終了後、４０℃に加温し
２時間反応させた。反応系が均一になった後、この水溶
液を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４００部にペンタ
エリスリトールテトラブロマイド１２．６部（０．０６
モル）を溶解したものに徐々に加え、１００℃で４時間
加熱した。室温まで冷却した後、３６％塩酸１６０部を
加えて３０℃で１時間加水分解した後、５５℃に加熱し
て二硫化炭素を回収した。さらに３０℃まで冷却した
後、クロロホルム３００部、水５００部を加えて抽出
し、クロロホルム層を分取した。これを１％アンモニア
水で中和し、さらに水３００部で３回洗浄した後、クロ
ロホルムを減圧留去して、ペンタエリスリチオール１
０．９部（０．５４モル、収率９０．６モル％）を得
た。
【００１３】比較例１ エタノール１００部に、水硫化ナトリウム２０部（０．
２５モル）を加温溶解し、これに硫黄粉１２部（０．３
８モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０
℃以下になるまで冷却した後に、ペンタエリスリトール
テトラブロマイド１９．４部（０．０５モル）を徐々に
加え、還流下で１時間加熱した。室温まで冷却した後、
クロロホルム２００部、水３００部を加えて抽出し、ク
ロロホルム層を分取した。これを水３００部で３回洗浄
した後、クロロホルムを減圧留去し、ペンタエリスリチ
オールの合成中間体５．４部を得た。これをトルエン５
０部に加熱溶解し、銅粉６．０部を加え、還流下で１時
間脱硫を行なった。室温まで冷却した後に、過剰の銅お
よび沈澱を吸引濾過して、トルエンを減圧留去し、2,3,
7,8-テトラチア−5-スピロノナン３．６部（０．０１８
モル、収率３７モル％）を得た。これを還元して、ペン
タエリスリチオール３．４部（０．０１７モル、収率３
３モル％）を得たが、得られたペンタエリスリチオール
は黄色く着色していた。
２５モル）を加温溶解し、これに硫黄粉１２部（０．３
８モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０
℃以下になるまで冷却した後に、ペンタエリスリトール
テトラブロマイド１９．４部（０．０５モル）を徐々に
加え、還流下で１時間加熱した。室温まで冷却した後、
クロロホルム２００部、水３００部を加えて抽出し、ク
ロロホルム層を分取した。これを水３００部で３回洗浄
した後、クロロホルムを減圧留去し、ペンタエリスリチ
オールの合成中間体５．４部を得た。これをトルエン５
０部に加熱溶解し、銅粉６．０部を加え、還流下で１時
間脱硫を行なった。室温まで冷却した後に、過剰の銅お
よび沈澱を吸引濾過して、トルエンを減圧留去し、2,3,
7,8-テトラチア−5-スピロノナン３．６部（０．０１８
モル、収率３７モル％）を得た。これを還元して、ペン
タエリスリチオール３．４部（０．０１７モル、収率３
３モル％）を得たが、得られたペンタエリスリチオール
は黄色く着色していた。
【００１４】比較例２ エタノール８０部に、水硫化ナトリウム１２部（０．１
５モル）を加温溶解し、これに硫黄粉７．４部（０．２
３モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０
℃以下になるまで冷却した後に、ペンタエリスリトール
テトラクロライド６．５部（０．０３モル）を徐々に加
え、還流下で４時間加熱した。室温まで冷却した後、ク
ロロホルム２００部、水２００部を加えて抽出し、クロ
ロホルム層を分取した。これを水１００部で３回洗浄し
た後、クロロホルムを減圧留去した。得られた生成物に
は原料であるペンタエリスリトールテトラクロライドが
かなり残っていた。
５モル）を加温溶解し、これに硫黄粉７．４部（０．２
３モル）を加え還流下で４０分間加熱した。これを４０
℃以下になるまで冷却した後に、ペンタエリスリトール
テトラクロライド６．５部（０．０３モル）を徐々に加
え、還流下で４時間加熱した。室温まで冷却した後、ク
ロロホルム２００部、水２００部を加えて抽出し、クロ
ロホルム層を分取した。これを水１００部で３回洗浄し
た後、クロロホルムを減圧留去した。得られた生成物に
は原料であるペンタエリスリトールテトラクロライドが
かなり残っていた。
【００１５】
【発明の効果】本発明のペンタエリスリチオールの製造
法により、高屈折率プラスチックレンズ用のモノマーや
オレフィン類の重合時の分子量調節剤などに利用できる
ペンタエリスリチオールを、工業的に容易に、かつ、高
収率で製造できる。
法により、高屈折率プラスチックレンズ用のモノマーや
オレフィン類の重合時の分子量調節剤などに利用できる
ペンタエリスリチオールを、工業的に容易に、かつ、高
収率で製造できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−279321（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−55453（ＪＰ，Ａ) 特公 昭38−17663（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭38−5267（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 321/04 C07C 319/02
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（１）（化１）で表されるペンタ
エリスリトールテトラハライドに、 【化１】 （式中、Ｘは塩素または臭素を表す）極性溶媒中、トリ
チオ炭酸塩を反応させ、式（２）（化２）で表される化
合物 【化２】 （式中、Ｍはアルカリ金属を表す）を得、ついで、酸に
より加水分解することを特徴とするペンタエリスリチオ
ールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22696092A JP3222940B2 (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | ペンタエリスリチオールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22696092A JP3222940B2 (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | ペンタエリスリチオールの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0672989A JPH0672989A (ja) | 1994-03-15 |
| JP3222940B2 true JP3222940B2 (ja) | 2001-10-29 |
Family
ID=16853323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22696092A Expired - Lifetime JP3222940B2 (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | ペンタエリスリチオールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3222940B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020003999A1 (ja) | 2018-06-29 | 2020-01-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多官能含硫エポキシ化合物の製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100746067B1 (ko) | 2002-11-13 | 2007-08-03 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 금속-산소 결합을 갖는 분산질, 금속산화물막 및 단분자막 |
| CN113045885B (zh) | 2013-09-30 | 2023-03-21 | 豪雅镜片泰国有限公司 | 透明塑料基材及塑料透镜 |
-
1992
- 1992-08-26 JP JP22696092A patent/JP3222940B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020003999A1 (ja) | 2018-06-29 | 2020-01-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多官能含硫エポキシ化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0672989A (ja) | 1994-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3222940B2 (ja) | ペンタエリスリチオールの製造法 | |
| JPH0739586B2 (ja) | 過塩基性硫化アルカリ土類金属フェネート型清浄剤の製法 | |
| JPS6147831B2 (ja) | ||
| JP3223586B2 (ja) | ２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアンの製造法 | |
| JPH05279321A (ja) | ペンタエリスリチオールの製造法 | |
| EP0745594B1 (en) | Process for producing 6-substituted 2(1h)-quinoxalinone | |
| EP0195744B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Trifluordichlorethyl substituierten Säuren und Zinkverbindungen | |
| JP3455994B2 (ja) | 粉末状ポリビニルアミンの製造方法 | |
| CA2053093A1 (en) | Process for the preparation of acylaminomethanephosphonic acids | |
| EP1223158A1 (de) | Verfahren zur Herstellung trifluormethyl-substituierter Biphenylcarbonsäuren und neue trichlormethyl- und trifluormethyl-substituierte Biphenylcarbonitrile | |
| JP2895987B2 (ja) | チウロニウム塩及びそれを用いた２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアンの製造方法 | |
| JP3172878B2 (ja) | 新規なジスルフィド化合物 | |
| US5698723A (en) | Process for the preparation of bistriphenylsilyl chromate | |
| EP0847381B1 (de) | Verfahren zur herstellung von n-carboxymethylen-4-chlor-anthranilsäure, sowie deren dialkylestern | |
| JPH01149762A (ja) | ４−（アルキルスルホニル）−２−アミノフェノールの製造方法 | |
| EP0096234B1 (de) | Polymerisate und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| EP0008097A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Indoleninen | |
| JPH03178947A (ja) | フェノール化合物の製造法 | |
| KR100351743B1 (ko) | Ｎ,ｎ-디싸이클로헥실-2-벤조티아졸 설펜아미드의 제조방법 | |
| JPH0825991B2 (ja) | ジチオールジ（メタ）アクリレートの製造法 | |
| JP2905900B2 (ja) | ２―メルカプト―６―ハロゲノ安息香酸の製造方法 | |
| JP3564179B2 (ja) | １，２−インダンジオールの製造方法 | |
| JPH0920751A (ja) | ジスルフィド類の製造方法 | |
| JPH06345723A (ja) | メルカプトベンズアミドの製造法 | |
| JPH06336474A (ja) | フルオロアルキル基含有マレイミド誘導体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080817 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090817 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100817 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110817 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120817 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130817 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130817 Year of fee payment: 12 |