JP2895987B2 - チウロニウム塩及びそれを用いた2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンの製造方法 - Google Patents
チウロニウム塩及びそれを用いた2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンの製造方法Info
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Description
れを用いた2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4
−ジチアンの製造方法に関する。本発明により得られる
2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン
は、光学材料、接着剤、塗料などの原料として用いら
れ、特にイソ(チオ)シアネートと重付加させた重合体
は、高屈折率、低分散を示し、光学的特性に優れてお
り、レンズ、プリズム、ファイバー、光ディスク用基
板、フィルターなどに好ましく用いられる。
有化合物を合成する方法として、J.Org.Che
m.34 3389(1969)には、ジアリルジスル
フィドに臭素、塩化スルフリルなどのハロゲン化剤を作
用させて、ハロゲン化と同時に環化も行ない、2,5−
ビス(ハロメチル)−1,4−ジチアンを得る方法が開
示されている。さらに、このようにして得られた2,5
−ビス(ハロメチル)−1,4−ジチアンにチオ尿素を
反応さた後、アルカリ加水分解し、次いで酸性化するこ
とにより、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4
−ジチアンを得る方法が日本化学会第59春季年会講演
予稿集I第539頁に記載されている。
ス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンの製造方法
は前記講演予稿集に記載されているが、この2,5−ビ
ス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンを高収率で
安価に製造できる方法は未だ確立されていない。前述の
ように2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジ
チアンは、光学材料、接着剤、塗料などの各種用途に利
用可能なものであるので、これを高収率かつ安価に製造
し得る方法の開発が望まれていた。従って本発明の目的
は、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチ
アンを高収率かつ安価に製造できる方法を提供すること
にある。
ビス(ハロメチル)−1,4−ジチアンにチオ尿素を反
応させて得られる化合物を単離し、その構造を解析した
ところ、この化合物が一般式
る、文献に未記載の新規化合物であることを見い出し
た。そして、この新規化合物であるチウロニウム塩を8
0℃以上の温度でアルカリ加水分解し、次いで反応液を
pH3〜6の酸性にすることにより2,5−ビス(メル
カプトメチル)−1,4−ジチアンから高収率で得られ
ることを見い出した。
れたものであり、一般式
るチウロニウム塩を80℃以上の温度でアルカリで加水
分解し、次いで反応液をpH3〜6の酸性にして2,5
−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンを得る
ことを特徴とする2,5−ビス(メルカプトメチル)−
1,4−ジチアンの製造方法を要旨とするものである。
出発物質として用いられる、上記一般式で示されるチウ
ロニウム塩は、2,5−ビス(ハロメチル)−1,4−
ジチアンにチオ尿素を反応させることにより得られる。
この反応は下式で示される。
−1,4−ジチアンとチオ尿素とをこれらの共通溶媒で
あるアルコール(メタノール、エタノールなど)に溶解
し、反応温度を50℃以上、反応時間を1時間以上にし
て行なうのが好ましい。その理由は、反応温度を50℃
未満にした場合、または反応時間を1時間未満にした場
合、反応収率が著るしく低下するのに対し、反応温度を
50℃以上、反応時間を1時間以上とすると、反応収率
が向上するからである。但し、反応温度は操作の容易さ
から溶媒の沸点以下とするのが好ましい。また反応時間
は50時間以下とするのが好ましい。徐々に析出する沈
殿物はチウロニウム塩の結晶であり、水またはアルコー
ルから再結晶により精製できる。後述の実施例に示すよ
うに精製品について元素分析、赤外線吸収スペクトル、
融点測定を行なった結果、この化合物は、上記一般式で
示される構造を有することが確認され、文献に未記載の
新規化合物であることが明らかとなった。
た出発物質のチウロニウム塩をアルカリ加水分解し、次
いで反応液を酸性化して目的物である2,5−ビス(メ
ルカプトメチル)−1,4−ジチアンを得る。この反応
は下式で示される。
末を水に分散させ、80℃以上の温度で水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリの水溶液を滴
下して行なう。温度を80℃以上とした理由は80℃未
満にした場合、粘稠物が生成し、目的物の収率が低下す
るのに対し、80℃以上の場合、高収率で目的物が得ら
れるからである。操作の容易さから溶媒の沸点以下で反
応を行なうのが好ましい。この加水分解に際して反応系
内に窒素などの不活性ガスをバブリングするなどして不
活性ガス雰囲気にすると、分子内の硫黄の酸化が防止で
きて好都合である。
酸性化は、鉱酸水溶液を用いてpHが3〜6となる時点
まで行なう。pHを3〜6に限定した理由は、pHがこ
の範囲をはずれると、目的物の収率が著るしく低下する
からである。
溶媒を留去すると無色透明の2,5−ビス(メルカプト
メチル)−1,4−ジチアンが高収率で得られる。場合
により、やや着色している場合もあるが、減圧蒸留する
と、比較的高粘度液体である精製2,5−ビス(メルカ
プトメチル)−1,4−ジチアンが得られる。
する。 実施例1 (i )チウロニウム塩の合成 2,5−ビス(ブロモメチル)−1,4−ジチアン4
3.2g(0.141mol )とチオ尿素23.8g
(0.313mol )を100mlのエタノールに加えて溶
解し、温度78〜79℃で1.5時間反応させて沈殿を
生成させた。この沈殿を濾別し、エタノールで数回洗浄
した後、乾燥させて固形物を得た。この固形物が、式
記の分析結果より確認できた。 元素分析 C H N S Br 実測値(%) 21.01 3.90 12.27 27.85 34.97 計算値(%) 20.97 3.93 12.23 27.96 34.91 得られたチウロニウム塩の収量は41.4g(0.12
5mol )であり、収率は89%であった。
−1,4−ジチアンの合成 (i )で得られたチウロニウム塩の全量を73mlの水に
分散させ、窒素ガスをバブリングさせながら温度100
℃で15%水酸化ナトリウム水溶液64.2gを1時間
かけて滴下し、さらに1時間反応させてチウロニウム塩
を加水分解した。その後、常温まで冷却後、反応混合物
を6N塩酸で酸性(pH=4.0)にし、次いでベンゼ
ンで抽出した。抽出物からベンゼンを減圧下に除き、残
渣を2×10-2mmHgで蒸留し、沸点が121.5℃の留
分を得た。この留分の分析結果は以下の通りである。 核磁気共鳴スペクトル 図1に示す通りである。 赤外線吸収スペクトル 図2に示す通りである。 以上の分析結果から、目的物である2,5−ビス(メル
カプトメチル)−1,4−ジチアンが得られることが確
認された。この化合物の屈折率は1.646、アッベ数
は35.2であった。また2,5−ビス(ブロモメチ
ル)−1,4−ジチアンから目的物までの収率は78
%、チウロニウム塩から目的物までの収率は88%であ
り、極めて高収率であった。
た以外は実施例1(i)、(ii)と同様に実施したが、
2,5−ビス(ブロモメチル)−1,4−ジチアンから
目的物までの収率は25%、チウロニウム塩から目的物
までの収率は28%であり、低収率であった。
実施例1と同様に実施したが、2,5−ビス(ブロモメ
チル)−1,4−ジチアンから目的物までの収率は30
%、チウロニウム塩から目的物までの収率は34%であ
り、低収率であった。
4.3g(0.066mol )とチオ尿素11.4g
(0.15mol )を48.5mlのエタノールに溶解し、
温度78〜79℃で1時間反応させた。生成した沈殿を
濾別し、エタノールで数回洗浄した後乾燥させて固形物
を得た。この固形物が、式
記の分析結果より確認できた。 元素分析 C H N S Cl 実測値(%) 25.87 4.81 15.25 35.01 19.06 計算値(%) 26.02 4.88 15.18 34.69 19.24 赤外線吸収スペクトル 図3に示す通りである。 融点 249.4℃ 得られたチウロニウム塩の収量は14.2g(0.05
9mol )であり、収率は90%であった。
−1,4−ジチアンの合成 (i )で得られたチウロニウム塩の全量を61.8mlの
水に分散させ、15%水酸化ナトリウム水溶液30.8
gを85℃で1時間かけて滴下、その後さらに1時間還
流させてチウロニウム塩を加水分解した。冷却後、反応
混合物を6N塩酸で酸性(pH=5.0)にし、ベンゼ
ンで抽出後、蒸留して実施例1と同じ核磁気共鳴スペク
トル、赤外線吸収スペクトルをもつ2,5−ビス(メル
カプトメチル)−1,4−ジチアンを得た。2,5−ビ
ス(クロロメチル)−1,4−ジチアンから目的物まで
の収率は68%、チウロニウム塩から目的物までの収率
は85%と高収率であった。
トメチル)−1,4−ジチアンを収率よく製造する方法
が提供された。この2,5−ビス(メルカプトメチル)
−1,4−ジチアンは、光学材料、接着剤、塗料などの
原料として用いられ、特にイソ(チオ)シアネートと重
付加させて得た重合体は、高屈折率、低分散を示し、光
学的特性に優れるので、レンズ、プリズム、ファイバ
ー、光ディスク用基板、フィルターなどに好ましく用い
られる。
トメチル)−1,4−ジチアンの核磁気共鳴スペクトル
図、
トメチル)−1,4−ジチアンの赤外線吸収スペクトル
図、
ル)−1,4−ジチアンから得られたチウロニウム塩の
赤外線吸収スペクトル図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中Xはハロゲン原子である)で示されるチウロニウ
ム塩を80℃以上の温度でアルカリで加水分解し、次い
で反応液をpH3〜6の酸性にして2,5−ビス(メル
カプトメチル)−1,4−ジチアンを得ることを特徴と
する2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチ
アンの製造方法。 - 【請求項2】 出発物質である一般式で示されるチウロ
ニウム塩が2,5−ビス(ハロメチル)−1,4−ジチ
アンにチオ尿素を反応温度50℃以上、反応時間1時間
以上の条件下に反応させて得られたものである、請求項
1に記載の方法。 - 【請求項3】 一般式 【化2】 (式中Xはハロゲン原子である)で示されるチウロニウ
ム塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3156939A JP2895987B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | チウロニウム塩及びそれを用いた2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3156939A JP2895987B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | チウロニウム塩及びそれを用いた2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH051057A JPH051057A (ja) | 1993-01-08 |
JP2895987B2 true JP2895987B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=15638655
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3156939A Expired - Lifetime JP2895987B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | チウロニウム塩及びそれを用いた2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2895987B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013047786A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 日本化成株式会社 | 重合性無機粒子分散剤、該重合性無機粒子分散剤を含む無機有機複合粒子、および無機有機樹脂複合材 |
WO2014061687A1 (ja) | 2012-10-18 | 2014-04-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 重合性組成物および硬化物 |
WO2022158324A1 (ja) | 2021-01-22 | 2022-07-28 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光硬化性組成物及びその硬化物並びに該硬化物を含む光学材料 |
-
1991
- 1991-06-27 JP JP3156939A patent/JP2895987B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013047786A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 日本化成株式会社 | 重合性無機粒子分散剤、該重合性無機粒子分散剤を含む無機有機複合粒子、および無機有機樹脂複合材 |
WO2014061687A1 (ja) | 2012-10-18 | 2014-04-24 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 重合性組成物および硬化物 |
WO2022158324A1 (ja) | 2021-01-22 | 2022-07-28 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光硬化性組成物及びその硬化物並びに該硬化物を含む光学材料 |
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---|---|
JPH051057A (ja) | 1993-01-08 |
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