JPWO2020022069A1 - 基板加熱装置及び基板加熱方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記加熱板の全周に亘って当該加熱板との間に隙間が形成されるように、当該加熱板の側方を囲む環状部と、
前記隙間が連通すると共に前記基板を加熱処理するための処理空間が当該加熱板及び環状部との間に形成されるように、前記加熱板及び環状部に対向して設けられる処理空間形成部と、
前記基板を加熱するときに前記処理空間を低酸素雰囲気とするための低酸素雰囲気形成ガスを前記処理空間の一端部から他端部へ向けて供給し、前記基板の幅をカバーすると共に当該基板の一端部から他端部へ向かう気流を形成するためのガス供給部と、
前記処理空間における前記低酸素雰囲気ガスを吸引排気して前記気流を形成するために、当該処理空間の他端部に設けられた排気口と、
前記気流の形成前に前記隙間に溜まるガスを、前記基板を加熱するまでに前記低酸素形成雰囲気形成ガスに置換するための置換部と、
を備える。
本開示に関連して実施された評価試験について説明する。評価試験1として、図1で説明した基板加熱装置1を用いて、筐体10内が大気雰囲気とされた状態から既述したように、ガス供給部7によるN2ガスの供給、排気ブロック74による排気、隙間48の排気を各々行った。そして、このガス供給及び排気を行う間、酸素濃度検出部19により検出値をモニターし、ガス供給及び排気を開始してから、酸素濃度が目標濃度であるAppm以下になるまでの時間を測定した(Aは実数である)。4つの排気口54からの排気量は、各々0.5L/分となるように隙間48の排気を行った。また、比較試験1として隙間48の排気を行わないことを除き、評価試験1と同様の試験を行った。
1 基板加熱装置
40 加熱板
47 環状部
48 隙間
61 天板
63 処理空間
7 ガス供給部
75 排気口
Claims (9)
- 基板を載置して加熱する加熱板と、
前記加熱板の全周に亘って当該加熱板との間に隙間が形成されるように、当該加熱板の側方を囲む環状部と、
前記隙間が連通すると共に前記基板を加熱処理するための処理空間が当該加熱板及び環状部との間に形成されるように、前記加熱板及び環状部に対向して設けられる処理空間形成部と、
前記基板を加熱するときに前記処理空間を低酸素雰囲気とするための低酸素雰囲気形成ガスを前記処理空間の一端部から他端部へ向けて供給し、前記基板の幅をカバーすると共に当該基板の一端部から他端部へ向かう気流を形成するためのガス供給部と、
前記ガス供給部から前記低酸素雰囲気形成ガスが供給されるときに前記処理空間における前記低酸素雰囲気ガスを吸引排気して前記気流を形成するために、当該処理空間の他端部に設けられた排気口と、
前記気流の形成前に前記隙間に溜まるガスを、前記基板を加熱するまでに前記低酸素形成雰囲気形成ガスに置換するための置換部と、
を備える基板加熱装置。 - 前記置換部は、前記環状部により囲まれる領域の外側に位置すると共に前記処理空間とは別個に設けられる空間へと排出するための隙間用の排気口を備える請求項1記載の基板加熱装置。
- 前記隙間用の排気口は当該隙間の気体を吸引排気する排気部に接続され、
前記処理空間とは別個に設けられる空間は、当該隙間用の排気口と前記排気部とを接続するガス流路である請求項2記載の基板加熱装置。 - 前記処理空間から前記隙間に向かう低酸素雰囲気ガスに圧力損失を生じさせるように、当該隙間の上方を覆う隙間被覆部が設けられる請求項2記載の基板加熱装置。
- 前記置換部は、前記隙間に前記低酸素雰囲気形成ガスを供給し、前記気流の形成前に前記隙間に溜まるガスを前記処理空間へパージするガス供給口を備える請求項1記載の基板加熱装置。
- 前記気流が流れる方向を前後方向とすると、前記処理空間をこの前後方向に見て、前記ガス供給部に比べて前記排気口に近い位置に当該処理空間の酸素濃度を検出するための酸素濃度検出部が設けられた請求項1記載の基板加熱装置。
- 前記加熱板は、前記基板を450℃以上の温度に加熱する請求項1記載の基板加熱装置。
- 前記環状部に対して横方向に離れて設けられ、前記加熱板による加熱処理後の基板が載置されて冷却される冷却部と、
前記加熱板の下方側から前記冷却部の下方側へ亘って設けられた遮熱板と、
前記遮熱板を冷却するための冷却機構と、
前記基板を保持する基板保持部を備え、前記冷却部と前記加熱板との間で前記基板を搬送する基板搬送機構と、
前記基板搬送機構を構成し、前記基板保持部を横方向に移動させるために前記遮熱板よりも下方側に設けられた移動機構と、
を備える請求項1記載の基板加熱装置。 - 環状部によってその側方が囲まれ、当該環状部との間に全周に亘って隙間が形成される加熱板に基板を載置して加熱する工程と、
前記加熱板及び環状部に対向して設けられる処理空間形成部により当該加熱板及び環状部との間に前記隙間が連通するように形成された、前記基板を加熱処理するための処理空間において、前記基板を加熱するときに低酸素雰囲気を形成する工程と、
前記低酸素雰囲気を形成するための低酸素雰囲気形成ガスによって前記基板の幅をカバーすると共に当該基板の一端部から他端部へ向かう気流を形成するために、ガス供給部により前記処理空間の一端部から他端部へ向けて当該低酸素雰囲気形成ガスを供給する工程と、
前記ガス供給部から前記低酸素雰囲気形成ガスが供給されるときに、前記処理空間の他端部に設けられた排気口から当該処理空間における低酸素雰囲気ガスを吸引排気して、前記気流を形成する工程と、
置換部により前記気流の形成前に前記隙間に溜まるガスを、前記基板を加熱するまでに前記低酸素形成雰囲気形成ガスに置換する工程と、
を備える基板加熱方法。
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