JP2008166604A - 加熱装置及び塗布、現像装置並びに加熱方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加熱室4の一端側の開口部41に向けてガス吐出部23からガスを吐出し、加熱室4の他端側に着脱自在に設けられた排気ユニット6を介して加熱室4内の雰囲気を排気することにより、加熱室4内に前記一端側から他端側に一方向に、前記ウエハWの幅をカバーできる幅にて流れる気流を形成する。排気ユニット6は前記ウエハWの幅をカバーできる幅の帯状の通気路を備え、この通気路における前記加熱室4の近傍には前記昇華物が付着しない程度に加熱された気流抵抗部71が設けられ、さらに前記通気路における前記気流抵抗部71の下流側には前記昇華物を捕集するための捕集部が設けられる。
【選択図】図3
Description
前記加熱部の一端側に設けられ、この加熱部内に載置された基板と天板との間にガスを吐出して前記基板の幅をカバーできる幅の気流を形成するためのガス吐出部と、
前記加熱部内に載置された基板を挟んで前記ガス吐出部と対向する側に、基板の幅をカバーできる幅に形成された吸引排気口と、
前記吸引排気口に着脱自在に設けられ、この吸引排気口を介して前記加熱部内の雰囲気を吸引排気するための排気ユニットと、
前記排気ユニットに着脱自在に設けられた排気路を介して接続される吸引排気手段と、を備え、
前記排気ユニットは、前記吸引排気口に接続され、基板の幅をカバーできる幅の帯状の通気路と、
前記通気路における前記加熱室の近傍に設けられ、前記塗布膜の昇華物が付着しない程度の温度に、加熱部からの熱により加熱される気流抵抗部と、
前記通気路における前記気流抵抗部の下流側に設けられ、前記加熱部内の雰囲気に含まれる昇華物を捕集するための捕集部と、を備えることを特徴とする。
前記加熱部内に塗布膜が塗布された基板を載置する工程と、
次いで前記加熱部の一端側から基板と天板との間にガスを吐出して前記基板の幅をカバーできる幅の気流を形成すると共に、前記加熱部の他端側に基板の幅をカバーできる幅に形成された吸引排気口に着脱自在に設けられた排気ユニットにより前記加熱部内の雰囲気を吸引排気しながら、前記基板に対して加熱処理を行う工程と、を含み、
前記排気ユニットでは、前記加熱部の雰囲気は、基板の幅をカバーできる幅のの帯状の通気路を下流側に流れ、前記塗布膜の昇華物が付着しない程度の温度に、前記加熱部により加熱された前記通気路における気流抵抗部を通過し、前記通気路における気流抵抗部の下流側に設けられた捕集部により、前記昇華物が捕集されることを特徴とする。
2 加熱装置
3 冷却プレート
31 溝部
4 加熱室
41 開口部
44,45 熱板
46 吸引排気口
5 搬送手段
51 ワイヤ
6 排気ユニット
60 蓋体
61 筐体
62 突出部
63 スリット
64 通気路
71 通気抵抗部
72 捕集部
73 凹部
74 冷却部
Claims (9)
- 基板を少なくとも下方側から熱するための熱板と、前記基板と対向する天板とを備えた加熱部の内部にて、塗布膜が塗布された基板を加熱処理する加熱装置において、
前記加熱部の一端側に設けられ、この加熱部内に載置された基板と天板との間にガスを吐出して前記基板の幅をカバーできる幅の気流を形成するためのガス吐出部と、
前記加熱部内に載置された基板を挟んで前記ガス吐出部と対向する側に、基板の幅をカバーできる幅に形成された吸引排気口と、
前記吸引排気口に着脱自在に設けられ、この吸引排気口を介して前記加熱部内の雰囲気を吸引排気するための排気ユニットと、
前記排気ユニットに着脱自在に設けられた排気路を介して接続される吸引排気手段と、を備え、
前記排気ユニットは、前記吸引排気口に接続され、基板の幅をカバーできる幅の帯状の通気路と、
前記通気路における前記加熱室の近傍に設けられ、前記塗布膜の昇華物が付着しない程度の温度に、加熱部からの熱により加熱される気流抵抗部と、
前記通気路における前記気流抵抗部の下流側に設けられ、前記加熱部内の雰囲気に含まれる前記昇華物を捕集するための捕集部と、を備えることを特徴とする加熱装置。 - 前記加熱部の一端側には基板を搬入出するための開口部が形成されると共に、前記加熱部の他端側には前記排気ユニットが接続され、
前記加熱部では前記一端側から他端側に向けて流れる気流が形成されることを特徴とする請求項1記載の加熱装置。 - 前記加熱部は、基板を加熱処理するための、一方側が基板を搬入出するために開口する扁平な加熱室と、
前記基板を少なくとも下方側から加熱するように、前記加熱室に設けられた熱板と、を備えることを特徴とする請求項1又は2記載の加熱装置。 - 前記気流抵抗部は、前記通気路を屈曲して形成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一に記載の加熱装置。
- 前記捕集部は、上面が開口する凹部と、この凹部の開口部を開閉するための蓋体と、を備えることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一に記載の加熱装置。
- 前記排気ユニットは、前記加熱部の吸引排気口に接続される水平な通気路と、この通気路を屈曲して形成され下から上にガスが通気する気流抵抗部と、この気流抵抗部の下流側において前記通気路をさらに屈曲して形成される水平に伸びる通気路と、この通気路に上面が接続される前記捕集部の扁平な凹部と、を備えることを特徴とする請求項5記載の加熱装置。
- 前記凹部の下部側には放熱フィンが設けられていることを特徴とする請求項5又は6記載の加熱装置。
- 基板を収納し、キャリアが搬入出されるキャリアブロックと、
前記キャリアから取り出された基板の表面にレジストを塗布する塗布部と、レジストが塗布された基板を加熱する加熱装置と、加熱された基板を冷却する冷却部と、露光後の基板を現像する現像処理部と、を含む処理ブロックと、
この処理ブロックと露光装置との間で基板の受け渡しを行なうインターフェース部と、を備えた塗布、現像装置において、
前記加熱装置として、請求項1ないし7のいずれか一に記載の加熱装置を用いることを特徴とする塗布、現像装置。 - 基板を少なくとも下方側から熱するための熱板と、前記基板と対向する天板とを備えた加熱部の内部にて、塗布膜が塗布された基板を加熱処理する加熱方法において、
前記加熱部内に塗布膜が塗布された基板を載置する工程と、
次いで前記加熱部の一端側から基板と天板との間にガスを吐出して前記基板の幅をカバーできる幅の気流を形成すると共に、前記加熱部の他端側に基板の幅をカバーできる幅に形成された吸引排気口に着脱自在に設けられた排気ユニットにより前記加熱部内の雰囲気を吸引排気しながら、前記基板に対して加熱処理を行う工程と、を含み、
前記排気ユニットでは、前記加熱部の雰囲気は、基板の幅をカバーできる幅のの帯状の通気路を下流側に流れ、前記塗布膜の昇華物が付着しない程度の温度に、前記加熱部により加熱された前記通気路における気流抵抗部を通過し、前記通気路における気流抵抗部の下流側に設けられた捕集部により、前記昇華物が捕集されることを特徴とする加熱方法。
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