JP2010272765A - 熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理室21の天井の中央部に、基板載置台31と対向するように当該処理室21にパージガスを導入するためのガス供給ノズル51を設けて、処理室21の底部に当該処理室21内を減圧雰囲気とするための排気口64a、64bを設ける。また、処理室21の中央部にウエハWを水平に載置するための基板載置台31を設けると共に、この基板載置台31を加熱するヒータ33を設けて、前記基板載置台31の外縁から外方に突出し、当該基板載置台31の周方向に沿って形成されると共に処理室21の底面との間に空間を形成する整流部34を設ける。
【選択図】図3
Description
塗布膜が形成された基板を気密な処理容器内にて減圧雰囲気下で熱処理することにより当該塗布膜を改質する装置において、
前記処理容器内に基板を水平に載置するために設けられ、基板と同じか基板よりも広い基板載置台と、
この基板載置台を加熱するための加熱手段と、
前記処理容器の天井部の中央部に、前記基板載置台と対向するように設けられ、前記処理容器内にパージガスを導入するためのガス導入部と、
前記処理容器の底部に形成された排気口と、
前記基板載置台の外縁側から外方に突出し、当該基板載置台の周方向に沿って設けられると共に処理容器の底面との間に空間を形成する整流部と、を備えたことを特徴とする。
1. 前記処理容器の底面から上方に伸びるように設けられ、その横断面が前記基板載置台と略同じ大きさである環状体を備え、
前記基板載置台はこの環状体の上面を塞ぐように設けられている構成。
2. 前記整流部の外縁部が下方側に屈曲している構成。
3. 前記整流部と処理容器の天井部との間の空間を、当該整流部の外縁に向かうにつれて狭くした構成。
4. 前記ガス導入部からのガスの導入を補助するために、処理容器の天井部の中央部から外縁側に寄った位置に更にガス導入部を設けた構成。
また、図12に示す例では整流部240の上面を外方へ向かうにつれて、上昇するように傾斜させ、整流部240と処理室21の天井部との間隔を狭くするように構成している。さらにまた、図13に示す例では、傾斜壁230と整流部240の両方を備えている。これらの例においても図11の例と同様の作用、効果を得ることができる。
を介してガス供給源53に接続されている。
2 EBキュアユニット
21 処理室
21a 上側空間
21b 下側空間
31 基板載置台
33 ヒータ
34 整流部
41 EB照射ユニット
42 EB照射チューブ
43 照射制御装置
51 ガス供給ノズル
52 ガス供給源
61 排気リング
64a、64b 排気口
67 吸引排気部
8 制御部
100 絶縁膜形成装置
Claims (5)
- 塗布膜が形成された基板を気密な処理容器内にて減圧雰囲気下で熱処理することにより当該塗布膜を改質する装置において、
前記処理容器内に基板を水平に載置するために設けられ、基板と同じか基板よりも広い基板載置台と、
この基板載置台を加熱するための加熱手段と、
前記処理容器の天井部の中央部に、前記基板載置台と対向するように設けられ、前記処理容器内にパージガスを導入するためのガス導入部と、
前記処理容器の底部に形成された排気口と、
前記基板載置台の外縁側から外方に突出し、当該基板載置台の周方向に沿って設けられると共に処理容器の底面との間に空間を形成する整流部と、を備えたことを特徴とする熱処理装置。 - 前記処理容器の底面から上方に伸びるように設けられ、その横断面が前記基板載置台と略同じ大きさである環状体を備え、
前記基板載置台はこの環状体の上面を塞ぐように設けられていることを特徴とする請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記整流部の外縁部が下方側に屈曲していることを特徴とする請求項1または2に記載の熱処理装置。
- 前記整流部と処理容器の天井部との間の空間は、当該整流部の外縁に向かうにつれて狭くなるように構成されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の熱処理装置。
- 前記ガス導入部からのガスの導入を補助するために、処理容器の天井部の中央部から外縁側に寄った位置に更にガス導入部を設けたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の熱処理装置。
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