JPWO2020013122A1 - レーザ加工装置、レーザ加工方法及び成膜マスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、ラインビームLbを生成するレーザ光学系1と、前記レーザ光学系1の光進行方向下流側に配置され、マスク用部材9にレーザ加工される複数の開口パターンに対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスク2と、前記シャドーマスク2の像を前記マスク用部材9上に投影する投影レンズ3と、前記シャドーマスク2上に照射される前記ラインビームLbを前記シャドーマスク2及び前記投影レンズ3に対して相対的に、前記ラインビームLbの長軸と交差する方向に移動させる移動機構4と、前記マスク用部材9を載置して保持するステージ5と、を備えたものである。
Description
本発明は、レーザ加工装置に関し、特にレーザ加工工程のタクトタイムを短縮しようとするレーザ加工装置、レーザ加工方法及び成膜マスクの製造方法に係るものである。
従来のレーザ加工装置は、被加工物にレーザ加工される複数の加工痕に対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスクにレーザ光を照射し、開口窓を通過したレーザビームにより被加工物に上記加工痕をレーザ加工するものとなっていた(例えば、特許文献1参照)。
しかし、このような従来のレーザ加工装置においては、シャドーマスクに複数ショットのレーザ光を照射しながら被加工物の所定領域に加工痕をレーザ加工し、それが終了すると被加工物を載置するステージを所定距離だけ移動して、被加工物の別の領域に上記と同様にして加工痕をレーザ加工するという動作を繰り返し行う、いわゆるステップアンドリピート方式のものであるため、上記ステージの移動精度を確保しながらステージを加速減速制御して移動するのに要する時間がレーザ加工時間よりも遥かに長くなり、レーザ加工工程のタクトタイムを短縮することが困難であった。そのため、加工製品の製造コストが高くなるという問題があった。
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、レーザ加工工程のタクトタイムを短縮しようとするレーザ加工装置、レーザ加工方法及び成膜マスクの製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明によるレーザ加工装置は、ラインビームを生成するレーザ光学系と、前記レーザ光学系の光進行方向下流側に配置され、被加工物にレーザ加工される複数の加工痕に対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスクと、前記シャドーマスクの像を前記被加工物上に投影する投影レンズと、前記シャドーマスク上に照射される前記ラインビームを前記シャドーマスク及び前記投影レンズに対して相対的に、前記ラインビームの長軸と交差する方向に移動させる移動機構と、前記被加工物を載置して保持するステージと、を備えたものである。
また、本発明によるレーザ加工方法は、被加工物にレーザ加工される複数の加工痕に対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスク上にラインビームを照射し、前記開口窓を通過したレーザビームにより前記被加工物に前記加工痕をレーザ加工するレーザ加工方法であって、前記シャドーマスク上に照射される前記ラインビームを、レーザ加工中に前記シャドーマスク、及び該シャドーマスクの像を前記被加工物上に投影する投影レンズに対して相対的に、前記ラインビームの長軸に交差する方向に移動するものである。
さらに、本発明による成膜マスクの製造方法は、樹脂フィルムと複数の貫通孔を設けた磁性金属材料から成るメタルシートとを積層したマスク用部材にレーザ加工される複数の開口パターンに対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスク上にラインビームを照射し、前記開口窓を通過したレーザビームにより前記マスク用部材に前記開口パターンをレーザ加工する成膜マスクの製造方法であって、前記シャドーマスク上に照射される前記ラインビームを、レーザ加工中に前記シャドーマスク、及び該シャドーマスクの像を前記マスク用部材上に投影する投影レンズに対して相対的に、前記ラインビームの長軸に交差する方向に移動するものである。
本発明によれば、所定領域のレーザ加工処理時間は、ステージのステップ移動時間に依存する従来技術と違って、ラインビームの移動速度により決まり、ラインビームの移動速度は、略レーザの発振周波数により決まるので、レーザの発振周波数を十分に生かしたレーザ加工を行うことができる。したがって、レーザ加工工程のタクトタイムを短縮することができ、加工製品のコストを低減することができる。また、被加工物がラインビームを移動しながらレーザ加工されるため、ラインビームの移動方向の強度分布が平均化されて均一になり、過不足のない均一な加工痕を形成することができる。
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明によるレーザ加工装置の一実施形態の概略構成を示す正面図である。このレーザ加工装置は、シャドーマスクを介して被加工物にレーザビームを照射し加工痕を形成しようとするもので、レーザ光学系1と、シャドーマスク2と、投影レンズ3と、移動機構4と、ステージ5と、制御装置6と、を備えて構成されている。
ここでは、被加工物が、図2(a)に示すように、例えばポリイミド又はポリエチレンテレフタラート(PET)等の樹脂フィルム7と複数の貫通孔10を設けた磁性金属材料から成るメタルシート8とを積層したマスク用部材9であり、上記加工痕が、図2(b)に示すように上記貫通孔10内に位置する樹脂フィルム7の部分に形成された開口パターン11である場合について説明する。なお、図2(a)において、符号12は、マスク用部材9を支持するフレームである。
樹脂フィルム7に替えて厚みが該樹脂フィルム7と略同等(約3μm〜約10μm)のメタル箔シートを使用してもよい。この場合、メタル箔シートに開口パターン11を形成するためには、後述の紫外線と違って、赤外線のレーザ光が使用される。
上記レーザ光学系1は、ラインビームLbのレーザ光Lを生成するものであり、光進行方向上流側からレーザ光源13と、前段光学系14と、後段光学系15とを備えて構成されている。
上記レーザ光源13は、上記樹脂フィルム7をアブレート可能な紫外領域の波長を有するレーザ光Lを放射するものであり、例えばエキシマレーザやYAGレーザ等である。なお、使用するレーザ及びレーザ光Lの波長は、被加工物の材料に応じて適宜選択される。また、上記前段光学系14は、レーザ光源13から放射されたレーザ光Lの径を拡大するビームエキスパンダや、拡大されたレーザ光Lを平行光にするコリメータレンズや、レーザ強度を調整するアッテネータや、レーザ光Lの光路を開閉するシャッタ等を備えて構成され、ビームプロファイルチェック、パワーモニター、ビーム位置補正等の機能を有するようにされている。さらに、上記後段光学系15は、レーザ光Lの横断面内の強度分布を均一化するホモジナイザーや、径が拡大されたレーザ光LをラインビームLbに変換する、例えばシリンドリカルレンズ等を備えて構成されている。なお、図1において符号16は、平面反射ミラーである。
上記レーザ光学系1の光進行方向下流側には、シャドーマスク2が配置して設けられている。このシャドーマスク2は、図3に示すように、マスク用部材9にレーザ加工される複数の開口パターン11に対応して複数の開口窓17を設け、ラインビームLbを複数のレーザビームBに分岐してマスク用部材9に照射するものであり、例えば透明ガラスの表面に被着されたクロム等の不透明膜に複数の開口窓17をエッチング等により形成したものである。又は、メタルシートに貫通する複数の開口窓17を設けたものであってもよい。詳細には、本発明のシャドーマスク2は、従来のシャドーマスクがカバーするマスク用部材9上の加工領域よりも広い領域をカバーするように、従来のシャドーマスクよりも大型のものである。
上記シャドーマスク2の光進行方向下流側には、投影レンズ3が設けられている。この投影レンズ3は、シャドーマスク2の像をマスク用部材9上に投影するものであり、本実施形態においては、シャドーマスク2の開口窓17の像をメタルシート8の貫通孔10内の樹脂フィルム7上に1/5に縮小して投影するようになっている。
図1に示すように、上記シャドーマスク2上に照射されるラインビームLbを、該ラインビームLbの長軸(X軸)と交差する方向(Y軸方向)に移動可能に移動機構4が設けられている。この移動機構4は、レーザ加工中のラインビームLbの移動を等速(一定速度)で行わせるものであり、レーザ光学系1の後段光学系15を移動させる例えばエアスライダーや、リニアガイドや、ボールねじ等で構成されている。なお、ラインビームLbに対してシャドーマスク2を含む後述の投影レンズ3を移動させてもよいが、ここでは、ラインビームLbを移動させる場合について説明する。
図4は上記移動機構4の一構成例を示す説明図である。この移動機構4は、後段光学系15の出力側の光路に挿入されたミラー構成のものであり、互いに90°の角度で交差する二つの外側反射面18を有する固定型反射ミラー19と、互いに90°の角度で交差する二つの内側反射面20を有し、該二つの内側反射面20が上記固定型反射ミラー19の二つの外側反射面18に対して平行状態を維持して、上記外側及び内側反射面18,20の各交点を結ぶ方向に離隔及び接近する可動型反射ミラー21と、上記固定型反射ミラー19で反射された出力光の光路を例えば90°折り曲げる可動型平面反射ミラー22と、を備えて構成されている。
そして、上記可動型平面反射ミラー22を入射光の光軸に沿って移動させることにより、ラインビームLbがシャドーマスク2上を移動するようにしている。この場合、可動型平面反射ミラー22の移動に同期して可動型反射ミラー21を移動させることにより、後段光学系15の光路長を維持できるようにしている。具体的には、図4において可動型平面反射ミラー22を左から右へ距離Dだけ移動させる場合、可動型反射ミラー21と固定型反射ミラー19との間隔をD/2だけ広げるように可動型反射ミラー21を移動させるとよい。
また、上記移動機構4は、ガルバノミラー又はポリゴンミラーとfθレンズとを組み合わせたものであってもよい。これにより、ラインビームLbをガルバノミラー又はポリゴンミラーで左右に振ると共に、fθレンズでシャドーマスク2上を移動するラインビームLbの速度を等速にすることができる。
上記投影レンズ3に対向してステージ5が設けられている。このステージ5は、マスク用部材9を載置して保持するものであり、投影レンズ3の光軸に直交する二次元平面内を移動可能に構成されている。
上記レーザ光源13、前段光学系14、移動機構4及びステージ5に電気的に接続して制御装置6が設けられている。この制御装置6は、各構成要素が適切に駆動するように制御するものであり、図5に示すように、レーザ光源コントローラ23と、前段光学系コントローラ24と、移動機構コントローラ25と、ステージコントローラ26と、メモリ27と、演算部28と、中央制御部29と、を備えている。
ここで、上記レーザ光源コントローラ23は、レーザ光源13の点灯及び消灯、発振周波数等を制御するものである。また、前段光学系コントローラ24は、前段光学系14のアッテネータを制御してレーザ光Lの強度を調整可能とすると共に、シャッタの開閉を制御するものである。さらに、移動機構コントローラ25は、移動機構4を制御してシャドーマスク2上のラインビームLbの移動速度を制御するものである。また、ステージコントローラ26は、ステージ5の載置面の中心における法線を軸とするステージ5の回動角度、ステージ5の移動方向、移動速度及び移動量を制御するものである。さらに、メモリ27は、レーザ光源13の発振周波数及びレーザ加工のショット数、ラインビームLbの移動速度、ステージ5の移動速度及び移動量等を記憶するものである。さらにまた、演算部28は、メモリ27から読み出したラインビームLbの移動速度と実際のラインビームLbの移動速度とを比較して移動機構4が適切に駆動するように移動機構コントローラ25を制御すると共に、メモリ27からステージ5の移動速度及び移動量を読み出し、実際のステージ5の移動速度及び移動量と比較してステージ5が適切に駆動するようにステージコントローラ26を制御するようになっている。そして、中央制御部29は、各構成要素を統合して制御するものである。
次に、このように構成されたレーザ加工装置を使用したレーザ加工方法について説明する。特に、ここでは、図6に示す同一の加工条件の下で行う成膜マスクの製造方法について、従来方式と比較して説明する。
先ず、図1及び図2(a)に示すように、マスク用部材9の樹脂フィルム7を平坦なガラス基板30に密着させた状態でステージ5上に載置する。
先ず、図1及び図2(a)に示すように、マスク用部材9の樹脂フィルム7を平坦なガラス基板30に密着させた状態でステージ5上に載置する。
次いで、マスク用部材9のY軸方向の中心線に対して左右に設けられたアライメントマークを図示省略の撮像カメラにより撮影し、その撮影画像に基づいてマスク用部材9の上記中心線がステージ5の移動方向(Y軸方向)に合致するように、ステージコントローラ26によりステージ5の回動角度を調整する。
続いて、ステージ5をX軸及びY軸方向に移動してレーザビームBの照射位置をマスク用部材9のレーザ加工開始位置に合せる。併せて、図示省略のオートフォーカス手段により、レーザビームBが樹脂フィルム7上に集光するように投影レンズ3を含む光学系をZ軸方向に移動して自動調整する。これにより、レーザ加工の準備が終了する。
次に、制御装置6のレーザ光源コントローラ23を通してレーザ光源13が点灯されると共に、前段光学系コントローラ24を通して前段光学系14のシャッタが開かれてレーザ加工が開始される。この場合、レーザ光源13からは、例えば300Hzで発振する波長が308nmのレーザ光Lが放射される。レーザ光源13から放射されたレーザ光Lは、前段光学系14によりビーム径が拡大され、平行光にされて後段光学系15に入射する。なお、事前に、レーザ光Lのエネルギー密度が例えば400mJ/cm2となるように、前段光学系コントローラ24を通してアッテネータが調整されている。
後段光学系15に入射したレーザ光Lは、該後段光学系15を構成するホモジナイザーによりレーザ強度が均一化された後、例えばシリンドリカルレンズにより1本のラインビームLbに変換されて後段のシャドーマスク2に照射する。
同時に、制御装置6の移動機構コントローラ25により制御されて移動機構4が駆動し、上記後段光学系15をY軸方向に一定速度で移動する。これにより、ラインビームLbがシャドーマスク2上をY軸方向に等速で移動することになる。
この場合、シャドーマスク2を通過し、マスク用部材9に照射する複数のレーザビームBの移動速度は、マスク用部材9の所定領域、例えばレーザビームBのY軸方向の幅に等しい3mm幅の領域が60ショット(300Hz)のレーザ照射により加工されるように決められている。したがって、本発明の実施例においては、レーザビームBの移動速度はマスク用部材9上で15mm/secとなる。本発明の実施例においては、投影レンズ3の倍率が1/5であるから、シャドーマスク2上のラインビームLbの移動速度は、75mm/secとなる。
シャドーマスク2を通過した複数のレーザビームBは、投影レンズ3により1/5に縮小されてマスク用部材9の3mm幅の領域に照射する。これにより、マスク用部材9のメタルシート8の貫通孔10内に位置する樹脂フィルム7が上記複数のレーザビームBによりアブレートされ、複数の開口パターン11が形成される。
このとき、ラインビームLbが上記75mm/secの速度でシャドーマスク2上を距離160mm移動しながらマスク用部材9がレーザ加工されるから、マスク用部材9には、1ステップの加工処理でY軸方向の領域幅29mmがレーザ加工され、複数の開口パターン11が形成される。
上記のようにしてラインビームLbを移動しながら、マスク用部材9の所定領域がレーザ加工されると、前段光学系コントローラ24により駆動されてシャッタが閉じられ、ステージコントローラ26によりステージ5が所定方向に所定距離だけステップ移動される。そして、マスク用部材9の新たな領域が上記と同様にしてレーザ加工され、次の複数の開口パターン11が形成される。この場合、ラインビームLbは、一旦移動開始位置まで高速で戻ってから上記と同様に移動させてもよく、移動終了位置から移動開始位置に向けて反対方向に75mm/secの速度で移動させてもよい。
このように、本発明によれば、ラインビームLbを例えば75mm/secの速度で距離160mmを移動しながらマスク用部材9をレーザ加工するものであるので、1ステップのレーザ加工処理に要するラインビームLbの移動時間は、2.13secとなる。また、図6に示すように、ラインビームLbの移動開始及び停止時の加減速時間(トータル)を1.0secとし、制御装置6とレーザ光源13との間の通信時間を0.5secとすると、1ステップのレーザ加工の処理時間は3.63secとなる。
一方、従来方式によれば、レーザ加工は、ラインビームLb及びステージ5を停止した状態で行われるため、1ステップのレーザ加工は、Y軸方向の幅3mmの領域が300Hzのレーザ光Lにより60ショットで行われる。したがって、3mm幅の加工領域のレーザ加工時間は、0.2secとなる。また、本発明と同様に制御装置6とレーザ光源13との間の通信時間を0.5secとすると、1ステップのレーザ加工の処理時間は0.7secとなる。
従来方式においては、3mm幅の加工領域のレーザ加工が終了する毎にステージ5をステップ移動して次の3mm幅の加工領域がレーザ加工されるから、本発明と同様にY軸方向の幅29mmの領域をレーザ加工するには、10回の処理ステップと、ステージ5の9回のステップ移動により実施されることになる。ステージ5のステップ移動時間は、1.70secであるから、従来方式により本発明と同じ29mm(Y)幅の領域をレーザ加工するのに要する処理時間は、トータルで22.3secとなり、本発明の処理時間3.63secに比べて遥かに長くなる。
したがって、同じ面積を有するマスク用部材9をレーザ加工する処理時間は、従来方式に比べて本発明の方が遥かに短くなり、本発明は、成膜マスクを製造するためのタクトタイムを短縮することができる。
特に、本発明においては、シャドーマスク2のサイズが大きくなり、1回の処理面積が大きくなるほど処理時間をより短縮することができ、タクトタイムをより短縮することができる。
なお、以上の説明においては、成膜マスクの製造装置及び成膜マスクの製造方法について説明したが、本発明はこれに限られず、半導体基板のアモルファスシリコンをレーザアニールする装置や、露光装置、又はプリント基板にビアを形成する装置等の他のレーザ加工装置及びレーザ加工方法にも適用することができる。被加工物としてのプリント基板には、フレキシブルプリント基板及びリジッド基板等が含まれ、加工痕としてのビアには、スルーホールビア、ブラインドビア、ベリードビア及びマイクロビア等が含まれる。
1…レーザ光学系
2…シャドーマスク
3…投影レンズ
4…移動機構
5…ステージ
7…樹脂フィルム
8…メタルシート
9…マスク用部材(被加工物)
10…貫通孔
11…開口パターン(加工痕)
17…開口窓
Lb…ラインビーム
B…レーザビーム
2…シャドーマスク
3…投影レンズ
4…移動機構
5…ステージ
7…樹脂フィルム
8…メタルシート
9…マスク用部材(被加工物)
10…貫通孔
11…開口パターン(加工痕)
17…開口窓
Lb…ラインビーム
B…レーザビーム
Claims (17)
- ラインビームを生成するレーザ光学系と、
前記レーザ光学系の光進行方向下流側に配置され、被加工物にレーザ加工される複数の加工痕に対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスクと、
前記シャドーマスクの像を前記被加工物上に投影する投影レンズと、
前記シャドーマスク上に照射される前記ラインビームを前記シャドーマスク及び前記投影レンズに対して相対的に、前記ラインビームの長軸と交差する方向に移動させる移動機構と、
前記被加工物を載置して保持するステージと、
を備えたことを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記ラインビームの相対的な移動速度は、一定であることを特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
- 前記ステージは、前記投影レンズの光軸に直交する二次元平面内を移動可能に構成されたことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ加工装置。
- 前記被加工物は、樹脂フィルムと複数の貫通孔を設けたメタルシートとを積層したマスク用部材であり、
前記加工痕は、前記貫通孔内に位置する前記樹脂フィルムの部分に形成される開口パターンである、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。 - 前記被加工物は、樹脂フィルムと複数の貫通孔を設けたメタルシートとを積層したマスク用部材であり、
前記加工痕は、前記貫通孔内に位置する前記樹脂フィルムの部分に形成される開口パターンである、
ことを特徴とする請求項3記載のレーザ加工装置。 - 前記被加工物は、プリント基板であり、
前記加工痕は、前記プリント基板に形成されるビアである、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。 - 前記被加工物は、プリント基板であり、
前記加工痕は、前記プリント基板に形成されるビアである、
ことを特徴とする請求項3記載のレーザ加工装置。 - 被加工物にレーザ加工される複数の加工痕に対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスク上にラインビームを照射し、前記開口窓を通過したレーザビームにより前記被加工物に前記加工痕をレーザ加工するレーザ加工方法であって、
前記シャドーマスク上に照射される前記ラインビームを、レーザ加工中に前記シャドーマスク、及び該シャドーマスクの像を前記被加工物上に投影する投影レンズに対して相対的に、前記ラインビームの長軸に交差する方向に移動することを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記ラインビームの相対的な移動速度は、一定であることを特徴とする請求項8記載のレーザ加工方法。
- 前記シャドーマスク上の前記ラインビームの移動を終えると、前記被加工物を移動して該被加工物上の別の領域に、前記ラインビームを前記シャドーマスク及び前記投影レンズに対して相対移動しながら前記加工痕をレーザ加工することを特徴とする請求項8又は9記載のレーザ加工方法。
- 前記被加工物は、樹脂フィルムと複数の貫通孔を設けたメタルシートとを積層したマスク用部材であり、
前記加工痕は、前記貫通孔内に位置する前記樹脂フィルムの部分に形成される開口パターンである、
ことを特徴とする請求項8又は9に記載のレーザ加工方法。 - 前記被加工物は、樹脂フィルムと複数の貫通孔を設けたメタルシートとを積層したマスク用部材であり、
前記加工痕は、前記貫通孔内に位置する前記樹脂フィルムの部分に形成される開口パターンである、
ことを特徴とする請求項10記載のレーザ加工方法。 - 前記被加工物は、プリント基板であり、
前記加工痕は、前記プリント基板に形成されるビアである、
ことを特徴とする請求項8又は9に記載のレーザ加工方法。 - 前記被加工物は、プリント基板であり、
前記加工痕は、前記プリント基板に形成されるビアである、
ことを特徴とする請求項10記載のレーザ加工方法。 - 樹脂フィルムと複数の貫通孔を設けた磁性金属材料から成るメタルシートとを積層したマスク用部材にレーザ加工される複数の開口パターンに対応して複数の開口窓を設けたシャドーマスク上にラインビームを照射し、前記開口窓を通過したレーザビームにより前記マスク用部材に前記開口パターンをレーザ加工する成膜マスクの製造方法であって、
前記シャドーマスク上に照射される前記ラインビームを、レーザ加工中に前記シャドーマスク、及び該シャドーマスクの像を前記マスク用部材上に投影する投影レンズに対して相対的に、前記ラインビームの長軸に交差する方向に移動することを特徴とする成膜マスクの製造方法。 - 前記ラインビームの相対的な移動速度は、一定であることを特徴とする請求項15記載の成膜マスクの製造方法。
- 前記シャドーマスク上の前記ラインビームの移動を終えると、前記マスク用部材を移動して該マスク用部材上の別の領域に、前記ラインビームを前記シャドーマスク及び前記投影レンズに対して相対移動しながら前記開口パターンをレーザ加工することを特徴とする請求項15又は16記載の成膜マスクの製造方法。
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