JPWO2020009222A1 - 光学構造体 - Google Patents

Abstract

エンボス面が平坦面と凹凸面とを含むエンボス層と、エンボス面を覆い、かつ、エンボス面に追従する光学相互作用層とを備える。光学相互作用層は、エンボス面の光学的な機能を発現させる。凹凸面は、第１領域、第２領域、および、第１領域と第２領域との間に位置する境界領域を含む。各領域は、平坦面から窪む凹面を含む。第１領域での凹面は平坦面から第１窪み量だけ窪んでおり、第２領域での凹面は平坦面から第２窪み量だけ窪んでおり、第１窪み量は第２窪み量よりも大きい。境界領域での凹面は平坦面から第３窪み量だけ窪んでおり、第３窪み量は第１窪み量および第２窪み量よりも大きい。第２領域は、エンボス面において規則的に配置された複数の線状の領域を含む。

Description

本実施形態の記載は、光学構造体に関する。なお、本開示は、記載された本実施形態に限定されない。

有価証券、カード、および、証明書類などの物品には、物品の偽造を困難にする目的で、偽造が困難な光学構造体が貼り付けられている。光学構造体は、顔料や染料を含むインキによって形成された印刷物とは異なる視覚効果を有している。光学構造体が有する視覚効果は、光学構造体が備える微細な構造によって実現されている。微細な構造を備える光学構造体は、ロールツーロール法を用いて製造される。ロールツーロール法を用いて形成される微細な構造は、例えば、プリズム（例えば、特許文献１を参照）、および、各種のレンズ（例えば、特許文献２を参照）などである。

特開平１１−３００７６８号公報 特開２００１−６２８５３号公報

ところで、ロールツーロール法を用いて微細な構造を有する光学構造体を製造するときには、光学構造体の前駆体に微細な構造を転写するためのエンボスシリンダーが用いられる。エンボスシリンダーは、光学構造体における微細な構造に応じた外表面を有している。前駆体に微細な構造が転写されるときには、前駆体にエンボスシリンダーの外表面が押し付けられる。このとき、エンボスシリンダーに対する前駆体の滑りに起因して前駆体に皺が生じることがある。そのため、前駆体、ひいては光学構造体における皺を抑えることが求められている。

本開示によれば、エンボスシリンダーを用いて製造される光学構造体の製造過程において、エンボスシリンダーから光学構造体への形状の転写時に皺の発生を抑えることを可能とした光学構造体を提供することができる。

本発明の実施形態は、背景からの独自の単一の発明を元とする一群の実施形態である。また、本開示の各側面は、単一の発明を元とした一群の実施形態の側面である。本開示の各構成は、本開示の各側面を有しうる。本発明の解決手段として、本発明の実施形態は、下記の側面を有する。各側面は、組合せることができ、組合せはシナジーを実現できる。また、各側面は、実施形態のフィーチャとも組合せることができ、組合せはシナジーを実現できる。また、実施形態の各フィーチャは組合せることができ、組合せはシナジーを実現できる。

上記課題を解決するための光学構造体は、エンボスシリンダーによってエンボスされたエンボス面を備えるエンボス層であって、前記エンボス面が平坦面と凹凸面とを含む前記エンボス層と、前記エンボス面を覆い、かつ、前記エンボス面に追従する光学相互作用層であって、前記エンボス面の光学的な機能を発現させる前記光学相互作用層と、を備える。前記凹凸面は、第１領域、第２領域、および、前記第１領域と前記第２領域との間に位置する境界領域を含み、各領域は、前記平坦面から窪む凹面を含む。前記第１領域での前記凹面は前記平坦面から第１窪み量だけ窪んでおり、前記第２領域での前記凹面は前記平坦面から第２窪み量だけ窪んでおり、前記第１窪み量は前記第２窪み量よりも大きく、かつ、前記境界領域での前記凹面は前記平坦面から第３窪み量だけ窪んでおり、前記第３窪み量は前記第１窪み量および前記第２窪み量よりも大きい。前記第２領域は、前記エンボス面において規則的に配置された複数の線状の領域を含む。前記光学相互作用層は、前記エンボス層の厚さ方向から見て、前記第２領域の少なくとも一部と重なる波動光学領域を含む。前記第１領域は、光を反射することによって第１画像を表示方向に表示し、前記波動光学領域は、前記波動光学領域に照射された光に対して回折、干渉、散乱、吸収、および、共鳴のうちの少なくとも１つの光学的な機能を生じ、これによって、色および輝度の少なくとも一方が前記第１画像とは異なる第２画像を前記表示方向に表示する。

上記構成によれば、エンボスシリンダーを用いてエンボス層が形成される場合に、エンボス面を形成するためのエンボスシリンダーにおいて、エンボス面の第２領域を形成するための凸面によって、エンボス層の前駆層が捉えられる。しかも、第２領域を形成するための凸面は線状の領域に沿って位置するため、凸面がエンボス層の前駆層を捉える効果が及ぶ範囲が、前駆層のなかで拡張されやすい。さらに、エンボスシリンダーにおいて境界領域を形成するための凸面は、エンボスシリンダーにおける他の部分よりも前駆層に対して深く押し込まれる。そのため、エンボスシリンダーが前駆層を捉える効果がより高くなる。これにより、前駆層がエンボスシリンダーに対して滑ることが抑えられる。結果として、エンボスシリンダーから光学構造体に対して形状が転写されるときに、皺が発生することが抑えられる。

上記光学構造体において、前記第１領域は、複数の反射面を含み、各反射面は、前記表示方向に光を反射し、かつ、第１方向に沿って延びる形状を有し、前記複数の反射面は、前記第１方向と直交する第２方向に沿って等しいピッチで並んでもよい。

上記構成によれば、エンボス層の厚さ方向から見て、第１領域が、等しいピッチで並ぶ反射面を有する。そのため、第１領域が不規則なピッチで並ぶ反射面を有する場合と比べて、エンボス層の形成が容易である。

上記光学構造体において、前記第１領域は、複数の反射面を含み、各反射面は、前記表示方向に光を反射し、かつ、第１方向に沿って延びており、前記複数の反射面は、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並び、前記第２方向における前記反射面のピッチには、複数の値が含まれてもよい。この構成によれば、反射面のピッチが一定である場合と比べて、反射領域が形成する第１画像がより複雑な画像になる。

上記光学構造体において、前記第１領域は、前記エンボス面と対向する平面視において規則的に配置された複数の第１線状領域を含み、前記波動光学領域は、前記エンボス面と対向する平面視において規則的に配置された複数の第２線状領域を含み、前記エンボス面と対向する平面視において、前記第１線状領域と前記第２線状領域とが交互に並んでもよい。この構成によれば、光学構造体は、第１領域が形成する第１画像と、波動光学領域が形成する第２画像との協働によって形成される画像を表示することができる。

上記光学構造体において、前記複数の線状の領域は、直線状の領域と曲線状の領域との少なくとも一方を含んでもよい。

本発明の実施形態によれば、エンボスシリンダーを用いて製造される光学構造体の製造過程において、エンボスシリンダーから光学構造体への形状の転写時に皺の発生を抑えることができる。

一実施形態における光学構造体の構造を説明する断面図。 図１の光学構造体の構造を説明する平面図。 図１の光学構造体の製造に用いられるエンボス装置を模式的に説明するブロック図。 図３のエンボス装置が備えるエンボスシリンダーの構造を説明する断面図。 図３のエンボスシリンダーが備える外表面の一部を説明する平面図。 第１変形例における光学構造体の構造を説明する平面図。 第２変形例における光学構造体の構造を説明する平面図。 第３変形例における光学構造体の構造を説明する平面図。 第４変形例における光学構造体の構造を説明する平面図。 第５変形例における光学構造体の構造を説明する平面図。

図１から図５を参照して、光学構造体の一実施形態を説明する。以下では、光学構造体の記述、光学構造体の製造に用いられるエンボス装置、光学構造体の作用、機能、有益、および、光学構造体の変形例を順に説明する。

［光学構造体の記述］
図１および図２を参照して光学構造体を記述する。
図１は、光学構造体の表面と直交する平面に沿う光学構造体の断面構造を示している。

図１の説明のように、光学構造体１０は、エンボス層１１と、光学相互作用層１２とを備えている。エンボス層１１は、エンボスされた層であり、かつ、平坦面１１Ａと凹凸面１１Ｂとを含むエンボス面１１Ｒを備えている。図１の説明の例では、エンボス層１１において対向する２つの面の一方のみがエンボス面１１Ｒであるが、対向する２つの面の両方がエンボス面１１Ｒでもよい。光学相互作用層１２は、エンボス面１１Ｒを覆い、かつ、エンボス面１１Ｒに追従する。光学相互作用層１２は、以下に記載するエンボス面１１Ｒが備える第２領域１１Ｂ２の光学的な機能を発現させる。凹凸面１１Ｂは、第１領域１１Ｂ１、第２領域１１Ｂ２、および、第１領域１１Ｂ１と第２領域１１Ｂ２との間に位置する境界領域１１ＢＢを含んでいる。凹凸面１１Ｂの各領域は、平坦面１１Ａから窪む凹面によって構成されている。なお、凹凸面１１Ｂの各領域は、平坦面１１Ａから突出する凸面を含んでもよい。

第１領域１１Ｂ１での第１窪み量が、第２領域１１Ｂ２での第２窪み量よりも大きい。境界領域１１ＢＢでの窪み量が、第１窪み量および第２窪み量よりも大きい。第２領域１１Ｂ２は、エンボス面１１Ｒにおいて規則的に配置された複数の線状の領域によって形成される。第１窪み量は、第１領域１１Ｂ１の凹面における平坦面１１Ａからの深さである。第２窪み量は、第２領域１１Ｂ２の凹面における平坦面１１Ａからの深さである。境界領域１１ＢＢでの窪み量、すなわち第３窪み量は、境界領域１１ＢＢの凹面における平坦面１１Ａからの深さである。言い換えれば、第１窪み量は、平坦面１１Ａと第１領域１１Ｂ１の凹面における底部との間の距離である。第２窪み量は、平坦面１１Ａと第２領域１１Ｂ２の凹面における底部との間の距離である。境界領域１１ＢＢでの窪み量は、平坦面１１Ａと境界領域１１ＢＢの凹面における底部との間の距離である。

第３窪み量は、第１窪み量よりも深い。第１窪み量は、第２窪み量よりも深い。境界領域１１ＢＢの窪み量は、後述する傾斜ミラー構造の高さの２倍以下とできる。さらに、境界領域１１ＢＢの窪み量は、エンボス層１１の厚さよりも小さい。また、境界領域１１ＢＢの窪み量は、エンボス層１１の厚さの１／２倍以上としてもよい。

エンボス層１１の厚さは、境界領域１１ＢＢの窪み量よりも厚い。エンボス層１１の厚さは、境界領域１１ＢＢの溝の深さの１倍以上であり、３倍未満とできる。エンボス層１１の厚さは、１μｍ以上２０μｍ以下の範囲とできる。さらには、エンボス層１１の厚さは、２μｍ以上１０μｍ以下の範囲としてもよい。

境界領域１１ＢＢの窪み量は、６０μｍ以下とできる。境界領域１１ＢＢの窪み量が６０μｍを超えないようにすることで、ロール状の成形物を形成した際に後加工において不良を誘発するホネ状欠陥の発生を抑制できる。ホネ状欠陥は、ロールに、骨のでっぱりが皮膚に浮き出すように、スジ状のでっぱりが発生する欠陥である。

さらに、境界領域１１ＢＢの溝の幅は、境界領域１１ＢＢの溝の深さと同一以上５００μｍ未満とすることができる。境界領域１１ＢＢの幅は深さと同一以上であれば、成型時のエンボス面１１Ｒの剥離を抑制しやすい。境界領域１１ＢＢの溝の幅を窪み量と同一以上とすることで、加工時において、加工速度を上げた場合であっても良好な形状を確保することが可能となる。

境界領域１１ＢＢの溝の断面形状は、境界領域１１ＢＢの側面が後述する基材１３の表面の法線方向に対して、傾斜を有するような形状とできる。この側面が基材１３の表面の法線方向に対して傾斜を有するような形状は、台形形状、紡錘形状とできる。台形形状の場合、その角の１つまたは複数を曲面形状としてもよい。曲面形状とした場合、モールドやエンボスシリンダーに設けた境界領域１１ＢＢの溝の形状を再現しやすい。

また、このような境界領域１１ＢＢの溝の形状は折れ線状、曲線状、あるいはこれらを組み合せた形状とできる。折れ線状であれば、ビビットな外観とできる。曲線状であれば、成形材料が流動しやすい。また、曲線状であれば、美観に優れる。

境界領域１１ＢＢの幅は、全て一定か、一部一定とできる。また、境界領域１１ＢＢの幅は、全てまたは一部が連続的に変化してもよい。境界領域１１ＢＢの幅が５００μｍ未満であれば、肉眼で境界領域１１ＢＢが視認されにくく、美観を高められる。境界領域１１ＢＢのいずれかの角部が、曲線形状を有してもよい。

光学相互作用層１２は、エンボス層１１の厚さ方向から見て、第１領域１１Ｂ１と重なる反射領域１２Ａと、第２領域１１Ｂ２と重なる波動光学領域１２Ｂとを含んでいる。第１領域１１Ｂ１は、凹凸のパターンが記録された第１のレリーフモチーフであってよい。反射領域１２Ａは、光を反射することによって第１画像を表示方向に表示する。波動光学領域１２Ｂは、波動光学領域１２Ｂに照射された光に対して回折、干渉、散乱、吸収、および、共鳴のうちの少なくとも１つの光学的な相互作用をする。第２領域１１Ｂ２は、凹凸のパターンが記録された第２のレリーフモチーフであってよい。これによって、波動光学領域１２Ｂは、色および輝度の少なくとも一方が第１画像とは異なる第２画像を表示方向に表示することが可能である。第１のレリーフモチーフと第２のレリーフモチーフとは、それぞれが繋ぎ合わされたコラージュとすることができる。繋ぎ合わされたコラージュは、第１画像と第２画像とが組み合わされた画像を表示できる。

このように、光学相互作用層１２は、反射領域１２Ａと波動光学領域１２Ｂとの両方を含んでもよい。なお、光学相互作用層１２は、波動光学領域１２Ｂを含む一方で、反射領域１２Ａを含まなくてもよい。光学相互作用層１２が波動光学領域１２Ｂを含む一方で反射領域１２Ａを含まない場合には、光学構造体１０は、第２画像を表示する一方で、第１画像を表示しないか、あるいは、第１画像は反射領域１２Ａを備える場合よりも暗くなる。波動光学領域１２Ｂは、第２領域１１Ｂ２の全体を覆ってもよいし、第２領域１１Ｂ２の一部のみを覆ってもよい。また、光学相互作用層１２は、エンボス層１１の平坦面１１Ａ上に位置してもよいし、平坦面１１Ａ上に位置しなくてもよい。

光学構造体１０の厚さ方向と平行な方向がＺ方向である。Ｚ方向に対して直交する１つの方向がＸ方向である。Ｚ方向に対して直交し、かつ、Ｘ方向に対して直交する方向がＹ方向である。本実施形態において、光学構造体１０はＸＹ平面に沿って広がっている。また、本実施形態において、第２領域１１Ｂ２を形成する複数の線状の領域は、Ｘ方向に沿って並び、かつ、各線状の領域は、Ｙ方向に沿って延びている。

エンボス層１１の成形材料は、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂であってよい。エンボス層１１の成形材料は、透光性であってよい。エンボス層１１の成形材料は、可視領域の光を透過する透過性、または、半透過性を有することができる。エンボス層１１の成形材料として、上述した各種の樹脂を用い、かつ、エンボスシリンダーが備える微細な構造を転写することによって、第１領域１１Ｂ１、第２領域１１Ｂ２、および、境界領域１１ＢＢを備えるエンボス層１１を転写によって成形することができる。

エンボス層１１において、第１領域１１Ｂ１は、傾斜ミラー構造から構成されている。第１領域１１Ｂ１は、平坦面に対して所定の角度で傾く傾斜面である反射面を含んでいる。反射面は、反射面に入射した入射光を鏡面反射させる。すなわち、入射光は、反射面が鏡面反射する形状および大きさで反射される。なお、上述したように、エンボス層１１は、樹脂層であってよい。エンボス層１１が樹脂層である場合には、第１領域１１Ｂ１の反射面に、光学相互作用層１２を備えることができる。光学相互作用層１２の大きさは、第１領域１１Ｂ１および第２領域１１Ｂ２の大きさと同一であってよい。

エンボス層１１において、第２領域１１Ｂ２は、微細凹凸構造から構成されている。微細凹凸構造は、サブ波長構造、波長オーダー構造、またはこれらの並列配置、もしくは、これらの重畳配置であってよい。微細凹凸構造は、光学相互作用層１２が備える波動光学領域１２Ｂが、波動光学領域１２Ｂに入射した光に対して回折、干渉、散乱、吸収、および、共鳴のうちの少なくとも１つの光学的な相互作用をすることが可能な形状を有している。波動光学領域１２Ｂが、波動光学領域１２Ｂに入射した入射光を回折させる、または、干渉させるためには、第２領域１１Ｂ２は、例えば、等間隔で並ぶ複数の反射面を含む。複数の反射面は、可視領域に含まれる光の波長の範囲に含まれるピッチで並んでいる。すなわち、第２領域１１Ｂ２は、例えば回折格子を含んでいる。

波動光学領域１２Ｂが入射光を散乱させるためには、第２領域１１Ｂ２は、例えば、エンボス面１１Ｒにおいて、不規則に並ぶ複数の反射面を含む。これにより、波動光学領域１２Ｂは、波動光学領域１２Ｂに入射した光を等方的に反射する。また、第２領域１１Ｂ２は、例えば、エンボス面１１Ｒにおいて、１つの方向に沿って延びる複数の反射面であって、かつ、１つの方向と交差する方向に沿って不規則に並ぶ複数の反射面を含んでもよい。これにより、波動光学領域１２Ｂは、波動光学領域１２Ｂに入射した光を異方的に反射する。

波動光学領域１２Ｂが入射光を吸収するためには、第２領域１１Ｂ２は、例えば、エンボス面１１Ｒにおいて規則的に並ぶ複数の反射面であって、かつ、反射面の並ぶピッチが、可視光の最短波長未満である複数の反射面を含む。波動光学領域１２Ｂが入射光を共鳴させる場合には、波動光学領域１２Ｂは、例えば表面プラズモン共鳴が生じる形状を有している。

第１領域１１Ｂ１における窪み量、すなわち深さ、および、第２領域１１Ｂ２における窪み量、すなわち深さは、エンボス面１１Ｒが含む平坦面１１Ａを基準に設定される。上述したように、第１領域１１Ｂ１における凹面の深さは、第２領域１１Ｂ２における凹面の深さよりも深い。第１領域１１Ｂ１における凹面の深さは、０．５μｍ以上３０μｍ未満の範囲とできる。波動光学領域１２Ｂが光を吸収、回折、干渉、散乱、および、共鳴のうちの少なくとも１つの光学的な機能を有する場合には、第２領域１１Ｂ２における凹面の深さは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の範囲とできる。本実施形態において、第１領域１１Ｂ１に含まれる凹面の深さは一定であり、かつ、第２領域１１Ｂ２に含まれる凹面の深さは一定である。なお、第１領域１１Ｂ１には、互いに異なる深さを有した凹面が含まれてもよい。また、第２領域１１Ｂ２には、互いに異なる深さを有した凹面が含まれてもよい。

光学相互作用層１２は、エンボス層１１の第１領域１１Ｂ１が有する光学的な機能を発現させ、かつ、第２領域１１Ｂ２が有する光学的な機能を発現させる。光学相互作用層１２は、エンボス面１１Ｒに追従する形状を有するのに充分な程度の薄さを有している。光学相互作用層１２の屈折率は、エンボス層１１の屈折率よりも大きい。これにより、光学相互作用層１２は、エンボス層１１の機能を発現させることができる。光学相互作用層１２において、エンボス層１１に接する面とは反対側の面が光学構造体１０の表面１０Ｓである。光学構造体１０の観察者は、光学構造体１０の表面１０Ｓと対向し、かつ、光学相互作用層１２に対してエンボス層１１とは反対側から光学構造体１０を観察する。なお、光学構造体１０の観察者は、後述する基材１３と対向し、かつ、光学相互作用層１２に対してエンボス層１１側から光学構造体１０を観察してもよい。

光学相互作用層１２は、堆積層であってよい。堆積層は、金属、金属化合物、酸化ケイ素の堆積によって形成できる。堆積層する金属の実例は、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銅、スズ、または、亜鉛である。また、堆積層は、これら金属の合金の堆積によって形成されてもよい。堆積する金属化合物は、金属酸化物、金属硫化物、金属窒化物、金属フッ化物とできる。金属酸化物の実例は、酸化チタンである。金属硫化物の実例は、硫化亜鉛である。金属窒化物の実例は、窒化カルシウムである。金属フッ化物の実例は、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウムである。なお、光学相互作用層１２は、金属光沢を有した層でもよいし、可視領域の光に対する透過性を有した層であってもよい。蒸着、スパッタ、ＣＶＤによって堆積層を形成することができる。光学相互作用層１２は、第２領域１１Ｂ２の一部または全面に形成される。また、光学相互作用層１２は、第１領域１１Ｂ１に形成されてもよい。また、光学相互作用層１２は、エンボス面１１Ｒの全面を覆っていてもよい。さらに、堆積層は、第１領域１１Ｂ１と第２領域１１Ｂ２以外の領域において除去されてもよい。堆積層は、エッチングにより除去できる。エッチングは、堆積層のうちで除去しない領域を樹脂によってマスクし、酸、アルカリ溶液で堆積層のうちで樹脂によってマスクされていない領域を溶解するものとできる。

反射領域１２Ａは、複数の反射面を含んでいる。各反射面は、表示方向に光を反射し、かつ、図１が説明する例では、Ｙ方向に沿って延びている。Ｙ方向は、第１方向の一例である。複数の反射面は、Ｙ方向と直交するＸ方向に沿って等しいピッチで並んでいる。Ｘ方向は、第２方向の一例である。各反射面は、１つの凹面に属している。反射面のピッチは、反射面の延びる方向と直交する方向において互いに隣り合う２つの凹面における底部間の距離とできる。

波動光学領域１２Ｂは、上述した第２領域１１Ｂ２と同様、複数の線状の領域から形成されている。光学相互作用層１２は、エンボス層１１の厚さ方向から見て、エンボス面１１Ｒの境界領域１１ＢＢと重なる境界領域１２ＢＢを含んでいる。

光学構造体１０は、さらに基材１３を備えてもよい。基材１３はフィルムまたはシートであってよい。また、フィルムは、プラスチックフィルムであってよく、シートは、プラスチックシートであってよい。フィルムまたはシートの母材は、熱可塑性ポリマーまたは硬化ポリマーであってよい。フィルムは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）フィルム、または、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムであってよい。また、シートは、ＰＥＴシート、ＰＥシート、ＰＰシート、または、ＰＣシートであってよい。基材１３において、対向する一対の面の一方に、エンボス層１１が位置している。光学構造体１０は、可視領域に含まれる光を透過する透過性を有してもよいし、透過性を有しなくてもよい。なお、光学構造体１０の観察者が、基材１３と対向し、かつ、光学相互作用層１２に対してエンボス層１１側から光学構造体１０を観察した場合に、光学相互作用層１２による光学的な作用を観察可能とするためには、基材１３とエンボス層１１とが光透過性を有する。

このような光学構造体１０に用いられる基材１３の厚さは、１０μｍ以上２００μｍ以下の範囲とすることができる。基材１３は、プラスチックフィルムとできる。基材１３は、キャリアとして用いることができる。

基材１３が１０μｍよりも薄い場合には、成形時や運搬時に基材１３に皺が入り易く、加工の難易度が高くなりやすい。また、基材１３が２００μｍよりも厚いと、加工前や加工後のロール体を運搬する際に、作業性や作業時の安全性が悪くなりやすい。

なお、光学構造体１０は、エンボス層１１、光学相互作用層１２、および、基材１３以外の層を備えてもよい。光学構造体１０は、光学構造体１０を物品に貼り付けるための粘着層や、光学構造体１０の表面１０Ｓを保護するための保護層を備えてもよい。

図２は、光学構造体１０の表面１０Ｓと対向する平面視における光学構造体１０の平面構造を示している。上述したように、光学相互作用層１２はエンボス層１１の一部または全体を覆い、かつ、光学相互作用層１２はエンボス層１１のエンボス面１１Ｒに追従している。そのため、表面１０Ｓと対向する平面視において、光学相互作用層１２における反射領域１２Ａの形状は、エンボス面１１Ｒにおける第１領域１１Ｂ１の形状に沿っている。また、光学相互作用層１２における波動光学領域１２Ｂの形状と、エンボス面１１Ｒにおける第２領域１１Ｂ２の形状とが共通している。なお、図１における光学構造体１０の構造は、図２におけるＩ‐Ｉ線に沿う光学構造体１０の断面構造である。

図２の説明のように、光学構造体１０の表面１０Ｓと対向する平面視において、光学相互作用層１２の波動光学領域１２Ｂは、線状を有した線状領域１２ＢＬを複数備えている。線状領域１２ＢＬは、線状の領域の一例である。各線状領域１２ＢＬはＹ方向に沿って延びる直線状を有し、複数の線状領域１２ＢＬは、Ｘ方向に沿って等間隔で並んでいる。すなわち、エンボス面１１Ｒにおいて、第２領域１１Ｂ２を構成する各線状の領域もＹ方向に沿って延びる直線状を有し、かつ、複数の線状の領域もＸ方向に沿って等間隔で並んでいる。

本実施形態において、複数の線状領域１２ＢＬは、直線状の領域のみを含む。なお、複数の線状領域１２ＢＬは、直線状の領域と曲線状の領域との少なくとも一方を含んでいればよい。すなわち、複数の線状領域１２ＢＬは、複数の曲線状の領域のみから構成されてもよいし、直線状の領域と曲線上の領域との両方から構成されてもよい。なお、線状領域１２ＢＬは、破線状の領域、すなわち、線状の領域を構成する複数の部分が、線状の領域が延びる方向に沿って間隔を空けて連なる領域でもよい。

複数の線状領域１２ＢＬは、細線ＢＬ１と太線ＢＬ２とを備えた線状領域１２ＢＬを含んでいる。太線ＢＬ２は、線状領域１２ＢＬのなかで、Ｘ方向に沿う幅が細線ＢＬ１よりも太い部分である。表面１０Ｓと対向する平面視において、複数の太線ＢＬ２によって形成される外形は、所定の形状である。本実施形態において、複数の太線ＢＬ２によって形成される外形は、星状である。光学構造体１０の観察者は、表面１０Ｓと対向する平面視において、波動光学領域１２Ｂが形成する星状を認識することができる。言い換えれば、波動光学領域１２Ｂが形成する第２画像ＰＩＣ２には、複数の太線ＢＬ２によって形成される外形によって表現される星が含まれる。

表面１０Ｓと対向する平面視において、反射領域１２Ａは、所定の外形を有する。本実施形態において、反射領域１２Ａは、月（三日月）状である。表面１０Ｓと対向する平面視において、複数の太線ＢＬ２が形成する星状に対して、反射領域１２Ａである月状の部分が重なっている。反射領域１２Ａは、反射領域１２Ａが含む反射面によって、表示方向に月状の第１画像ＰＩＣ１を表示する。

なお、表面１０Ｓと対向する平面視において、複数の太線ＢＬ２によって形成される外形の形状、および、反射領域１２Ａの形状は、上述した形状に限らない。複数の太線ＢＬ２によって形成される外形、および、反射領域１２Ａの形状は、例えば、テキスト、文字、または、数字であってもよい。

表面１０Ｓと対向する平面視において、境界領域１２ＢＢは、反射領域１２Ａの外形に沿う形状を有している。言い換えれば、境界領域１２ＢＢは、反射領域１２Ａの外形における全周にわたって反射領域１２Ａを囲んでいる。なお、境界領域１２ＢＢは、表面１０Ｓと対向する平面視において、少なくとも反射領域１２Ａと波動光学領域１２Ｂとの境界に位置していればよい。

［エンボス装置］
図３から図５を参照して、エンボス装置を記述する。
図３は、エンボス装置を模式的に示している。以下に説明するエンボス装置は、光学構造体１０を製造することのできる製造装置である。

図３の説明のように、エンボス装置２０は、エンボスシリンダー２１、押圧ロール２２、および、搬送ロール２３を有する。さらに、エンボス装置２０は、インジェクター２４、ヒーター２５、および、ランプ２６を備えてもよい。光学構造体１０の前駆体１０Ａを搬送する方向が搬送方向である。搬送方向における巻出側から巻取側に向かう方向において、インジェクター２４、ヒーター２５、および、ランプ２６が順に並んでいる。エンボス層１１の成形材料が紫外線硬化性樹脂である場合には、ランプ２６として紫外線ランプを用いることができる。なお、前駆体１０Ａの成形材料は、未硬化の硬化性樹脂、熱可塑樹脂、または、熱可塑硬化性樹脂であってよい。

インジェクター２４は、前駆体１０Ａを構成する基材１３上に未硬化の硬化性樹脂を供給する。インジェクター２４から供給された未硬化の硬化性樹脂が、基材１３上にエンボス層１１の前駆層１１Ｐを形成する。ヒーター２５は、インジェクター２４が基材１３に供給した硬化性樹脂を加熱し、硬化性樹脂を軟化させる、軟化させかつ硬化を促進させる、または、軟化させかつ硬化させることができる。ヒーター２５の加熱は、エンボス層１１の成形性を向上させることができる。

エンボスシリンダー２１および押圧ロール２２は、基材１３を横断する横断方向に沿って延びる円柱状を有している。横断方向は、上述した搬送方向に直交する方向である。エンボスシリンダー２１と押圧ロール２２とは、エンボスシリンダー２１と押圧ロール２２との間の隙間において、前駆体１０Ａを搬送する。押圧ロール２２は、エンボスシリンダー２１と押圧ロール２２との間の隙間において前駆体１０Ａを搬送するときに、基材１３に接し、かつ、基材１３上の前駆層１１Ｐをエンボスシリンダー２１の外表面に押圧する。

エンボスシリンダー２１は、シリンダー２１ａとモールド２１ｂとを備えている。シリンダー２１ａは、基材１３の横断方向に沿って延びる円柱状である。モールド２１ｂは、シリンダー２１ａの外周を覆う円筒状を有している。モールド２１ｂの表面には、前駆層１１Ｐに転写される凹凸が形成されている。押圧ロール２２が前駆層１１Ｐをモールド２１ｂに対して押圧することによって、前駆層１１Ｐにモールド２１ｂが有する凹凸が転写される。

ランプ２６によって前駆層１１Ｐに光を照射し、前駆層１１Ｐを硬化することができる。前駆層１１Ｐを硬化することによって、エンボス層１１を形成することができる。ランプ２６には、放電ランプ、ＬＥＤライト、または、その双方を用いることができる。放電ランプは、無電極ランプ、水銀ランプ、または、メタルハライドランプとできる。水銀ランプは、高圧水銀ランプであってよい。ＬＥＤライトには、ワイドバンドギャップ半導体を適用することができる。ワイドバンドギャップ半導体において、短波長の光における発光効率がより高い。ワイドバンドギャップ半導体は、紫外線ＬＥＤライトに適している。紫外線ＬＥＤライトは、紫外線を発することができる。なお、ランプ２６には、インジェクター２４が供給する硬化性樹脂の硬化特性に応じたランプを選択することができる。

搬送ロール２３は、押圧ロール２２およびエンボスシリンダー２１と同様、基材１３の横断方向に沿って延びる円柱状を有している。エンボスシリンダー２１と搬送ロール２３とは、エンボスシリンダー２１と搬送ロール２３との間で、前駆体１０Ａを搬送する。搬送ロール２３は紫外線が照射された後の前駆体１０Ａを搬送するため、搬送ロール２３に接する前駆体１０Ａは、エンボス層１１を有している。搬送ロール２３は前駆体１０Ａが備える基材１３に接し、かつ、エンボスシリンダー２１と搬送ロール２３との間で前駆体１０Ａを搬送することによって、前駆体１０Ａのエンボス層１１をエンボスシリンダー２１から剥離する。

こうして得られた前駆体１０Ａのエンボス層１１に光学相互作用層１２が形成されることによって、上述した光学構造体１０を得ることができる。
なお、エンボス層１１を形成するための樹脂が電子線硬化性樹脂である場合には、エンボス装置２０は、紫外線を照射するランプ２６に代えて、電子線を照射するランプを備えればよい。すなわち、エンボス層１１を形成するための樹脂が紫外線以外の光によって硬化する樹脂である場合には、エンボス装置２０は、ランプ２６に代えて、エンボス層１１を硬化させるための光を照射するランプを備えればよい。

エンボス層１１を形成するための樹脂が熱硬化性樹脂である場合には、エンボス装置２０は、ヒーター２５およびランプ２６に代えて、モールド２１ｂに接している前駆層１１Ｐ、または、モールド２１ｂに接した後の前駆層１１Ｐを加熱するヒーターを備えればよい。また、エンボス層１１を形成するための樹脂が熱可塑性樹脂である場合には、エンボス装置２０においてランプ２６を省略し、かつ、ヒーター２５が、モールド２１ｂが有する凹凸を前駆層１１Ｐに転写することが可能な程度に前駆層１１Ｐを加熱すればよい。

図４および図５を参照して、エンボスシリンダー２１が備えるモールド２１ｂの構成をより詳しく説明する。図５は、シリンダー２１ａに巻き付けられる前のモールド２１ｂ、言い換えれば平板状を有したモールド２１ｂの表面と対向する平面視におけるモールド２１ｂの平面構造を示している。図４は、モールド２１ｂにおける一部断面構造を示している。なお、図４は、図５のＩＶ‐ＩＶ線に沿う断面構造を示している。

図４の説明のように、モールド２１ｂは表面２１ｂＳを有している。表面２１ｂＳは、光学構造体１０を製造するときに、前駆層１１Ｐに接する面である。表面２１ｂＳが有する凹凸状が前駆層１１Ｐに転写される。表面２１ｂＳは、平坦面ｂＳＡと凹凸面ｂＳＢとから構成されている。凹凸面ｂＳＢは、複数の凸面から構成され、各凸面は、平坦面ｂＳＡから突出している。

凹凸面ｂＳＢは、第１領域ｂＳＢ１、第２領域ｂＳＢ２、および、境界領域ｂＳＢＢを含んでいる。凹凸面ｂＳＢの第１領域ｂＳＢ１は、エンボス面１１Ｒの第１領域１１Ｂ１を形成するための領域である。凹凸面ｂＳＢの第２領域ｂＳＢ２は、エンボス面１１Ｒの第２領域１１Ｂ２を形成するための領域である。凹凸面ｂＳＢの境界領域ｂＳＢＢは、エンボス面１１Ｒの境界領域１１ＢＢを形成するための領域である。そのため、凹凸面ｂＳＢが含む各領域は、その領域によって形成されるエンボス面１１Ｒの領域に対応した凹凸を有している。

各領域が含む凸面の高さは、平坦面ｂＳＡを基準に設定される。言い換えれば、平坦面ｂＳＡと凸面の頂部との間の距離が、凸面の高さである。凹凸面ｂＳＢにおいて、第１領域ｂＳＢ１における凸面の高さは、第２領域ｂＳＢ２における凸面の高さよりも高く、かつ、境界領域ｂＳＢＢにおける凸面の高さは、第１領域ｂＳＢ１における凸面の高さ、および、第２領域ｂＳＢ２における凸面の高さの両方よりも高い。

第２領域ｂＳＢ２は、Ｙ方向に沿って延びる複数の線状領域ｂＳＢＬから構成される。線状領域ｂＳＢＬは、Ｙ方向に沿って延び、かつ、Ｘ方向において等間隔で並んでいる。複数の線状領域ｂＳＢＬには、Ｙ方向に沿って延びる直線状を有した領域と、Ｙ方向に沿って間欠的に延びる線状を有した領域とが含まれる。エンボス装置２０にエンボスシリンダー２１が設置された場合、線状領域ｂＳＢＬが延びる方向は、基材１３が搬送される方向である。

図５の説明のように、表面２１ｂＳは、複数のサブ領域ｂＳＵを備えている。各サブ領域ｂＳＵは、表面２１ｂＳのなかで、１つの光学構造体１０が含むエンボス層１１を形成するための部分である。サブ領域ｂＳＵは、第１領域ｂＳＢ１、第２領域ｂＳＢ２、および、境界領域ｂＳＢＢを含んでいる。光学構造体１０において、エンボス層１１のエンボス面１１Ｒは、モールド２１ｂのなかで、１つのサブ領域ｂＳＵに含まれる部分を反転した凹凸を有する。

モールド２１ｂの成形材料は、金属、エラストマー、および、ガラスであってよい。モールド２１ｂは、５０μｍ以上１ｍｍ以下の範囲の厚さを有してよい。金属製のモールドは、電鋳によって形成されることができる。電鋳に用いられる金属の実例は、ニッケル、銅である。また、モールド２１ｂは、モールド本体と、モールド本体の表面を覆うめっき層とから構成されてもよい。電鋳によってモールド本体を形成することができる。モールド本体の表面を覆うめっき層は、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲の厚さを有してよい。モールド本体の表面を覆うめっき層の金属の実例は、クロムである。

このように、モールド２１ｂの成形方法には、電鋳を用いることが可能である。電鋳は、母型を用いた電鋳、すなわち母型に対するめっきであってよい。母型は、複数のパターン記録体が面付けされたものであってよい。面付けされたパターン記録体は、パターン記録体をタイル状に繋ぎ合わせることによって形成される。また、パターン記録体は、レリーフモチーフを繋ぎ合わせて形成されるコラージュであってよい。レリーフモチーフは、リソグラフィ、エングレービング、または、腐食によって形成できる。

なお、モールド２１ｂを形成するための材料が樹脂である場合には、原版の表面が樹脂膜に転写されることによって、表面２１ｂＳを有したモールド２１ｂが製造される。この際に、原版に供給された樹脂は、原版が境界領域ｂＳＢＢを形成するための凹面に向けて流れる。これにより、原版において、第１領域ｂＳＢ１を形成するための凹面、および、第２領域ｂＳＢ２を形成するための凹面にも樹脂が流入しやすくなる。

なお、エンボスシリンダー２１は円柱状の部材のみから構成されてもよい。この場合には、円柱状の部材における外表面がエンボスシリンダー２１の表面であり、かつ、エンボスシリンダー２１の表面が、光学構造体１０のエンボス面１１Ｒに対応する凹凸面を備えている。

［光学構造体の作用、機能、有益性］
以下、光学構造体１０の作用、機能、および、有益性を説明する。
［光学構造体の第１の作用、機能、有益性］
エンボス装置２０において、エンボスシリンダー２１は、光学構造体１０が備えるエンボス面１１Ｒを形成するための版として機能するだけでなく、エンボスシリンダー２１に接する前駆体１０Ａを搬送方向に沿って搬送する搬送ロールとしても機能する。

上述したように、モールド２１ｂの表面２１ｂＳには、搬送方向に沿って延びる線状を有した複数の線状領域ｂＳＢＬが形成されている。しかも、各線状領域ｂＳＢＬは、複数の凸面から構成されている。そのため、前駆体１０Ａが搬送方向に沿って搬送されるときには、前駆層１１Ｐが各線状領域ｂＳＢＬに捉えられた状態で、言い換えれば、前駆層１１Ｐがモールド２１ｂの表面２１ｂＳに対する滑りが抑えられた状態で、前駆体１０Ａが搬送方向に沿って搬送される。これにより、前駆層１１Ｐに皺が生じることが抑えられる。

また、モールド２１ｂの表面２１ｂＳには、第１領域ｂＳＢ１と第２領域ｂＳＢ２との間に、境界領域ｂＳＢＢが位置している。境界領域ｂＳＢＢの高さは、第１領域ｂＳＢ１の高さおよび第２領域ｂＳＢ２の高さよりも高い。そのため、境界領域ｂＳＢＢは、これらの領域よりも前駆層１１Ｐに対して深く押し込まれる。これにより、モールド２１ｂの表面２１ｂＳに対する滑りがより抑えられる。

また、境界領域ｂＳＢＢの転写によって形成されたエンボス層１１の境界領域１１ＢＢにおける厚さは、エンボス層１１における他の部分よりも薄くなる。そのため、エンボス層１１において、境界領域１１ＢＢは、境界領域１１ＢＢを挟んで位置する第１領域１１Ｂ１および第２領域１１Ｂ２よりも柔らかい。エンボス層１１がモールド２１ｂから剥がれるとき、モールド２１ｂの凸面が押し込まれた部分である第１領域１１Ｂ１および第２領域１１Ｂ２には、エンボス層１１から凸面を取り外すことに起因した力が作用する。こうした力は、相対的に柔らかい、言い換えれば相対的に変形しやすい境界領域１１ＢＢによって緩和される。そのため、エンボス層１１がモールド２１ｂから剥がれるときに、エンボス層１１が変形しにくくなる。

なお、前駆層１１Ｐの皺は、前駆体１０Ａの搬送速度が高いほど生じやすい。そのため、本実施形態の光学構造体１０によれば、前駆体１０Ａの搬送速度を高めても前駆層１１Ｐに皺が生じにくい。結果として、光学構造体１０を生産する効率を高めることができる。

また、モールド２１ｂは、厚さのばらつき、および、ゆがみを有することがある。そのため、シリンダー２１ａの外表面に対する位置ずれなどが全く生じない状態で、シリンダー２１ａにモールド２１ｂを巻き付けることは難しい。これにより、エンボスシリンダー２１が、シリンダー２１ａとモールド２１ｂとから構成される場合には、エンボスシリンダーを構成する部材の外表面が凹凸面である場合と比べて、エンボスシリンダー２１によって前駆体１０Ａを搬送するときに、表面２１ｂＳに対する前駆層１１Ｐのずれが生じやすい。この点で、本実施形態によれば、エンボスシリンダー２１がシリンダー２１ａとモールド２１ｂとから構成される場合に、前駆層１１Ｐに皺が生じることを抑える効果がより顕著に得られる。

しかも、エンボス面１１Ｒが備える第２領域１１Ｂ２は、上述したように、光学相互作用層１２の波動光学領域１２Ｂによって発現される光学的な効果によって、表示方向に第２画像ＰＩＣ２を表示する。そのため、光学構造体１０の製造時にモールド２１ｂの表面２１ｂＳに対する前駆層１１Ｐの滑りを抑えるために形成された第２領域１１Ｂ２によって、光学構造体１０の意匠性も高められる。なお、第２領域１１Ｂ２は、反射領域１２Ａが発現させる光学的な効果とは異なる光学的な効果によって第２画像ＰＩＣ２を表示するため、反射領域１２Ａによって形成される第１画像ＰＩＣ１の意匠性が損なわれることもない。

［光学構造体の第２の作用、機能、有益］
前駆体１０Ａの搬送速度を高めるほど、前駆層１１Ｐとエンボスシリンダー２１の表面２１ｂＳとの間に空気が巻き込まれやすくなる。こうした空気は、前駆層１１Ｐとモールド２１ｂの表面２１ｂＳとの間に位置する気泡を生じる。気泡は、エンボス層１１のエンボス面１１Ｒに欠陥を生じさせる。搬送速度を高めることに起因するエンボス面１１Ｒの欠陥は、基材１３に供給する樹脂の量、すなわち基材１３とエンボスシリンダー２１との間に供給される樹脂の量を増やすことによって改善することが可能ではある。

ここで、モールド２１ｂの表面２１ｂＳが有する第２領域ｂＳＢ２は、平坦な面と比べて、線状領域ｂＳＢＬに供給された樹脂を線状領域ｂＳＢＬの外側に流動させやすい。これにより、モールド２１ｂの表面２１ｂＳに接した樹脂が、基材１３と表面２１ｂＳとの間における全体に行き渡りやすい。例えば、基材１３と第１領域ｂＳＢ１との間にも、樹脂が行き渡りやすくなる。そのため、前駆層１１Ｐとモールド２１ｂの表面２１ｂＳとの間に気泡が形成されにくくなる。それゆえに、搬送速度を高めた場合に、搬送速度がより低い場合に比べて基材１３に供給する樹脂の量を増やさずとも、エンボス面１１Ｒに欠陥が生じることが抑えられる。

結果として、エンボス層１１を形成するための樹脂の量を減らすことができ、エンボス層１１の厚さを薄くすることが可能である。これにより、転写箔などのように、エンボス層１１の厚さを所定の範囲内に収めることが求められる物品を製造することが可能である。

以上説明したように、光学構造体の一実施形態によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）エンボスシリンダー２１を用いてエンボス層１１が形成される場合に、エンボス面１１Ｒを形成するためのエンボスシリンダー２１において、エンボス面１１Ｒの第２領域１１Ｂ２を形成するための凸面によって、前駆層１１Ｐが捉えられる。しかも、第２領域１１Ｂ２を形成するための凸面は線状の領域に沿って位置するため、凸面が前駆層１１Ｐを捉える効果が及ぶ範囲が、前駆層１１Ｐのなかで拡張されやすい。さらに、エンボスシリンダー２１において境界領域１１ＢＢを形成するための凸面は、エンボスシリンダー２１における他の部分よりも前駆層１１Ｐに対して深く押し込まれる。これにより、エンボスシリンダー２１が前駆層１１Ｐを捉える効果がより高くなる。それゆえに、前駆層１１Ｐがエンボスシリンダーに対して滑ることが抑えられる。結果として、エンボスシリンダー２１から光学構造体１０に対して凹凸が転写されるときに、皺が発生することが抑えられる。

（２）複数の反射面が等しいピッチで並ぶため、エンボス層１１の厚さ方向から見て、反射領域１２Ａに重なる第１領域１１Ｂ１が、等しいピッチで並ぶ面を有する。そのため、第１領域１１Ｂ１が不規則なピッチで並ぶ面を有する場合と比べて、エンボス層１１の形成が容易である。

なお、上述した実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
［変形例］
図６から図１０を参照して、光学構造体１０における５つの変形例を説明する。なお、図６から図１０はそれぞれ、各変形例における光学構造体の表面と対向する方向から見た光学構造体の平面構造を示している。

［第１変形例］
エンボス面１１Ｒの第２領域１１Ｂ２、言い換えれば、光学相互作用層１２の波動光学領域１２Ｂは、波動光学領域１２Ｂを構成する凹面の密度が互いに異なる２つ以上の領域を含んでもよい。

図６の説明のように、光学構造体３０において、複数の線状領域１２ＢＬは、高密度領域３１と低密度領域３２とから構成される線状領域１２ＢＬを含む。高密度領域３１における凹面の密度は、低密度領域３２における凹面の密度よりも高い。複数の線状領域１２ＢＬは、低密度領域３２のみから構成される線状領域１２ＢＬを含む。

低密度領域３２における光学的な効果と、高密度領域３１における光学的な効果とは互いに異なる。例えば、高密度領域３１および低密度領域３２がそれぞれ回折格子を含み、かつ、回折格子が可視領域に含まれる回折光を表示方向に射出する。この場合には、回折格子におけるピッチを変えることによって、高密度領域３１における凹面の密度と、低密度領域３２における凹面の密度とを異ならせることができる。これにより、高密度領域３１が表示方向に射出する光の色と、低密度領域３２が表示方向に射出する光の色とを互いに異ならせることができる。高密度領域３１は、低密度領域３２とは異なる色の光を射出することによって、言い換えれば、高密度領域３１と低密度領域３２とのコントラストによって、星状の画像を形成することができる。

［第２変形例］
エンボス面１１Ｒの第２領域、言い換えれば、光学相互作用層１２の波動光学領域は、Ｙ方向と交差する方向に沿って延びてもよい。

図７の説明のように、光学構造体４０の波動光学領域４１は、複数の線状領域４１ａから形成されてもよい。各線状領域４１ａは、Ｙ方向と交差する方向に沿って延びる直線状を有している。複数の線状領域４１ａは、細線４１ａ１と太線４１ａ２とから形成される線状領域４１ａを含む。複数の線状領域４１ａは、細線４１ａ１のみから構成される線状領域４１ａを含む。複数の太線４１ａ２によって形成される外形は、上述した光学構造体１０が備える複数の太線ＢＬ２によって形成される外形と同様、星状である。

［第３変形例］
エンボス面１１Ｒの第２領域、言い換えれば、光学相互作用層１２の波動光学領域には、第１方向に沿って延びる波動光学領域と、第１方向とは異なる第２方向に沿って延びる波動光学領域とが含まれてよい。

図８の説明のように、光学構造体５０の波動光学領域５１は、第１方向Ｄ１に沿って延びる複数の第１線状領域５１ａと、第２方向Ｄ２に沿って延びる複数の第２線状領域５１ｂとから構成されてもよい。第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２は、Ｙ方向に対して交差する方向であり、かつ、第１方向Ｄ１および第２方向Ｄ２は、Ｙ方向に対して４５°だけ傾いた方向であり、かつ、互いに異なる方向である。

複数の第１線状領域５１ａは、第１方向Ｄ１と直交する第２方向Ｄ２において等間隔で並んでいる。複数の第２線状領域５１ｂは、第２方向Ｄ２と直交する第１方向Ｄ１において等間隔で並んでいる。１つの第１線状領域５１ａは、複数の第２線状領域５１ｂに直交する。１つの第２線状領域５１ｂは、複数の第１線状領域５１ａに直交する。そのため、光学構造体５０が広がる平面と対向する平面視において、波動光学領域５１の一部は、正方格子状を有する。

複数の第１線状領域５１ａは、細線５１ａ１と太線５１ａ２とから構成される第１線状領域５１ａを含んでいる。複数の第１線状領域５１ａは、細線５１ａ１のみから構成される第１線状領域５１ａを含んでいる。複数の第２線状領域５１ｂは、細線５１ｂ１と太線５１ｂ２とから形成される第２線状領域５１ｂを含んでいる。複数の第２線状領域５１ｂは、細線５１ｂ１のみから形成される第２線状領域５１ｂを含んでいる。第１線状領域５１ａの細線５１ａ１における幅と、第２線状領域５１ｂの細線５１ｂ１における幅とが等しく、かつ、第１線状領域５１ａの太線５１ａ２における幅と、第２線状領域５１ｂの太線５１ｂ２における幅とが等しい。複数の太線５１ａ２，５１ｂ２によって形成される外形は、星状である。

なお、第１線状領域５１ａの細線５１ａ１における幅と、第２線状領域５１ｂの細線５１ｂ１における幅とは異なってもよい。第１線状領域５１ａの太線５１ａ２における幅と、第２線状領域５１ｂの太線５１ｂ２における幅とは異なってもよい。また、線状領域が延びる方向には、３つ以上の方向が含まれてもよい。また、互いに異なる方向に沿って延びる２つの線状領域は、直角以外の角度で交差してもよい。

［第４変形例］
反射領域は、エンボス面と対向する平面視において規則的に配置された複数の第１線状領域から構成され、波動光学領域は、エンボス面と対向するにおいて規則的に配置された複数の第２線状領域から構成されてもよい。この場合に、エンボス面と対向する平面視において、第１線状領域と第２線状領域とが交互に並んでもよい。

図９の説明のように、光学構造体６０において、反射領域６１は、複数の線状領域６１ａから形成されてもよい。線状領域６１ａは、第１線状領域の一例である。図９において、各線状領域６１ａは、Ｙ方向に沿って延びている。複数の線状領域６１ａは、Ｘ方向において等間隔で並んでいる。波動光学領域６２は、複数の線状領域６２ａから形成されている。線状領域６２ａは、第２線状領域の一例である。各線状領域６２ａは、Ｙ方向に沿って延びている。図９において、複数の線状領域６２ａは、Ｘ方向において等間隔で並んでいる。

複数の線状領域６２ａは、細線６２ａ１と太線６２ａ２とをから構成される線状領域６２ａを含む。複数の線状領域６２ａは、細線６２ａ１のみから構成される線状領域６２ａを含む。反射領域６１を構成する線状領域６１ａは、Ｘ方向において、２つの太線６２ａ２の間に位置している。

光学構造体６０が広がる平面と対向する平面視において、反射領域６１と複数の太線６２ａ２とは、１つの星状を形成している。なお、反射領域６１の外形が星状であり、かつ、複数の太線６２ａ２が形成する外形が星状である。なお、反射領域６１は、波動光学領域６２が含む太線６２ａ２ではなく、細線６２ａ１とともに１つの形状を形成してもよい。

なお、第４変形例では、反射領域６１を構成する線状領域６１ａと、波動光学領域６２を構成する線状領域６２ａとの間に境界領域が位置している。
こうした構成によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
（３）光学構造体６０は、反射領域６１が形成する第１画像と、波動光学領域６２が形成する第２画像との協働によって形成される画像を表示することができる。

なお、光学相互作用層が線状領域６１ａを含まない場合には、エンボス層が備える線状領域が、光学相互作用層が備える線状領域６２ａと交互に並ぶ。この場合には、エンボス層が備える線状領域が、第１線状領域の一例である。

［第５変形例］
エンボス層１１の第２領域を形成する線状領域は、線状領域が延びる方向において、第１領域および境界領域が位置しない部分の一部にのみ延びる形状を有してもよい。言い換えれば、光学相互作用層１２の波動光学領域を形成する線状領域は、線状領域が延びる方向において、反射領域および境界領域が位置しない部分の一部にのみ延びる形状を有してもよい。

図１０の説明のように、光学構造体７０の波動光学領域７１は複数の線状領域７１ａから形成されてもよい。各線状領域７１ａは、Ｙ方向に沿って延びている。各線状領域７１ａは、線状領域７１ａが延びる方向において、反射領域１２Ａおよび境界領域１２ＢＢが位置しない部分の一部にのみ延びる形状を有している。複数の線状領域７１ａは、Ｘ方向において等間隔で並んでいる。

なお、第５変形例は、上述した第２変形例の構成、第３変形例の構成、および、第４変形例の構成と組み合わせることも可能である。より詳しくは、第５変形例を第２変形例の構成と組み合わせた場合には、例えば、細線４１ａ１と太線４１ａ２とから構成される線状領域４１ａが太線４１ａ２のみから構成され、かつ、細線４１ａ１のみから構成される線状領域４１ａが省略されればよい。

また、第５変形例を第３変形例の構成と組み合わせた場合には、例えば、細線５１ａ１と太線５１ａ２とから構成される第１線状領域５１ａが、太線５１ａ２のみから構成され、かつ、細線５１ａ１のみから構成される第１線状領域５１ａが省略されればよい。あるいは、細線５１ｂ１と太線５１ｂ２とから構成される第２線状領域５１ｂが、太線５１ｂ２のみから構成され、かつ、細線５１ｂ１のみから構成される第２線状領域５１ｂが省略されればよい。あるいは、第１線状領域５１ａおよび第２線状領域５１ｂの両方において、太線を含む線状領域において細線が省略され、かつ、細線のみから構成される線状領域が省略されてもよい。

また、第５変形例を第４変形例の構成と組み合わせた場合には、例えば、細線６２ａ１と太線６２ａ２とから構成される線状領域６２ａが、太線のみから構成され、かつ、細線６２ａ１のみから構成される線状領域６２ａが省略されればよい。

［反射領域］
・反射領域１２Ａにおいて、Ｘ方向における反射面のピッチには、複数の値が含まれてもよい。こうした構成によれば、以下に記載の効果を得ることができる。

（４）反射面のピッチが一定である場合と比べて、反射領域１２Ａが形成する第１画像ＰＩＣ１がより複雑な画像になる。

［境界領域］
・エンボス層１１の境界領域１１ＢＢ、言い換えれば光学相互作用層１２の境界領域１２ＢＢは、複数の凹面から構成されてもよい。すなわち、境界領域１２ＢＢでは、Ｘ方向に沿って複数の凹面が並んでいてもよい。

なお、上述したいずれの実施形態も本発明の実施形態であり、組み合せることができる。各実施形態を組合せることにより、相乗的な作用、機能、有益性を得ることができる。

以上、本発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は本実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計、本発明が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含むことができる。更に、本開示の範囲は、請求項により画される発明の特徴（ｆｅａｔｕｒｅ）に限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴（ｆｅａｔｕｒｅ）、その特徴（ｆｅａｔｕｒｅ）のあらゆる組み合わせも含む。

本開示で用いられる「部分」、「要素」、「領域」、「セグメント」、「単位」「印刷体」、「物品」という用語は、物理的存在である。物理的存在は、物質的形態または、物質に囲まれた空間的形態を指すことができる。物理的存在は、構造体とできる。構造体は、特定の機能を有するものとできる。特定の機能を有した構造体の組合せは、各構造体の各機能の組合せにより相乗的効果を発現できる。

本開示および特に添付の特許請求の範囲内で使用される用語（例えば、添付の請求の範囲の本文）は、一般的に、「オープンな」用語として意図される（例えば、「有する」という用語は、「少なくとも有する」と解釈すべきであり、「含む」という用語は「含むがそれに限定されない」などと解釈されるべきである）。

また、用語、構成、特徴(ｆｅａｔｕｒｅ)、側面、実施形態を解釈する場合、必要に応じて図面を参照すべきである。図面により、直接的かつ一義的に導き出せる事項は、テキストと同等に、補正の根拠となるべきである。

さらに、特定の数の導入された請求項の記載が意図される場合、そのような意図は、請求項に明示的に記載され、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しない。例えば、理解を助けるために、以下の添付の請求の範囲は、「少なくとも１つ」および「１つまたは複数」の導入句の使用を含み、請求の列挙を導入することができる。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」によるクレーム記載の導入が、そのようなクレームを含む特定のクレームを、そのような記載を１つだけ含む実施形態に限定することを意味すると解釈されるべきではない。「１つ以上」または「少なくとも１つ」の冒頭の語句および「ａ」または「ａｎ」などの不定冠詞（例えば、「ａ」および／または「ａｎ」）は、少なくとも「少なくとも」を意味すると解釈されるべきである（「１つ」または「１つ以上」）。請求項の記述を導くために使用される明確な事項（Ａｒｔｉｃｌｅ）の使用についても同様である。

１０，３０，４０，５０，６０，７０…光学構造体、１０Ａ…前駆体、１０Ｓ，２１ｂＳ…表面、１１…エンボス層、１１Ａ，ｂＳＡ…平坦面、１１Ｂ，ｂＳＢ…凹凸面、１１Ｂ１，ｂＳＢ１…第１領域、１１Ｂ２，ｂＳＢ２…第２領域、１１ＢＢ，１２ＢＢ，ｂＳＢＢ…境界領域、１１Ｐ…前駆層、１１Ｒ…エンボス面、１２…光学相互作用層、１２Ａ，６１…反射領域、１２Ｂ，４１，５１，６２，７１…波動光学領域、１２ＢＬ，４１ａ，６１ａ，６２ａ，７１ａ，ｂＳＢＬ…線状領域、１３…基材、２０…エンボス装置、２１…エンボスシリンダー、２１ａ…シリンダー、２１ｂ…モールド、２２…押圧ロール、２３…搬送ロール、２４…インジェクター、２５…ヒーター、２６…ランプ、３１…高密度領域、３２…低密度領域、４１ａ１，５１ａ１，５１ｂ１，６２ａ１，ＢＬ１…細線、４１ａ２，５１ａ２，５１ｂ２，６２ａ２，ＢＬ２…太線、５１ａ…第１線状領域、５１ｂ…第２線状領域、ｂＳＵ…サブ領域、ＰＩＣ１…第１画像、ＰＩＣ２…第２画像。

Claims (5)

1. エンボスシリンダーによってエンボスされたエンボス面を備えるエンボス層であって、前記エンボス面が平坦面と凹凸面とを含む前記エンボス層と、
   前記エンボス面を覆い、かつ、前記エンボス面に追従する光学相互作用層であって、前記エンボス面の光学的な機能を発現させる前記光学相互作用層と、を備え、
   前記凹凸面は、第１領域、第２領域、および、前記第１領域と前記第２領域との間に位置する境界領域を含み、各領域は、前記平坦面から窪む凹面を含み、
   前記第１領域での前記凹面は前記平坦面から第１窪み量だけ窪んでおり、前記第２領域での前記凹面は前記平坦面から第２窪み量だけ窪んでおり、前記第１窪み量は前記第２窪み量よりも大きく、
   前記境界領域での前記凹面は前記平坦面から第３窪み量だけ窪んでおり、前記第３窪み量は前記第１窪み量および前記第２窪み量よりも大きく、
   前記第２領域は、前記エンボス面において規則的に配置された複数の線状の領域を含み、
   前記光学相互作用層は、前記エンボス層の厚さ方向から見て、前記第２領域の少なくとも一部と重なる波動光学領域を含み、
   前記第１領域は、光を反射することによって第１画像を表示方向に表示し、
   前記波動光学領域は、前記波動光学領域に照射された光に対して回折、干渉、散乱、吸収、および、共鳴のうちの少なくとも１つの光学的な機能を生じ、これによって、色および輝度の少なくとも一方が前記第１画像とは異なる第２画像を前記表示方向に表示する
   光学構造体。
2. 前記第１領域は、複数の反射面を含み、
   各反射面は、前記表示方向に光を反射し、かつ、第１方向に沿って延びており、
   前記複数の反射面は、前記第１方向と直交する第２方向に沿って等しいピッチで並んでいる
   請求項１に記載の光学構造体。
3. 前記第１領域は、複数の反射面を含み、
   各反射面は、前記表示方向に光を反射し、かつ、第１方向に沿って延びており、
   前記複数の反射面は、前記第１方向と直交する第２方向に沿って並び、前記第２方向における前記反射面のピッチには、複数の値が含まれる
   請求項１に記載の光学構造体。
4. 前記第１領域は、前記エンボス面と対向する平面視において規則的に配置された複数の第１線状領域を含み、
   前記波動光学領域は、前記エンボス面と対向する平面視において規則的に配置された複数の第２線状領域を含み、
   前記エンボス面と対向する平面視において、前記第１線状領域と前記第２線状領域とが交互に並んでいる
   請求項１に記載の光学構造体。
5. 前記複数の線状の領域は、直線状の領域と曲線状の領域との少なくとも一方を含む
   請求項１に記載の光学構造体。

Images