JPWO2020145265A1 - 表示体、および、ラベル付き印刷物 - Google Patents

Abstract

エンボス層は、幾何光学構造領域、波動光学構造領域、および、第３構造領域を備える。第３構造領域は、幾何光学構造領域と波動光学構造領域との間に位置する。エンボス層は、幾何光学構造領に第１凹凸構造を備え、当該第１凹凸構造の高さは、０．５μｍ以上３０μｍ未満である。エンボス層は、波動光学構造領域に第２凹凸構造を備え、当該第２凹凸構造の高さは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満である。エンボス層は、第３構造領域に第３凹凸構造を備え、当該第３凹凸構造の高さは、エンボス層の厚さの１／２倍以上、かつ、第１凹凸構造の高さに対する２倍以下である。第３構造の高さは、第１凹凸構造の高さよりも高い。

Description

本発明は、表示体、表示体付印刷物、ラベル付き製品、および、ラベル付きパッケージに関する。

有価証券、カード、証明書類、タグなどの印刷物には、物品の偽造を困難にする目的で、偽造が困難な光学構造体を含むラベルが貼着される場合がある。なお、本願においては、シール、ステッカー、転写箔などの各種形態を総称して、以降においてラベルと称する。ラベルは、製品やパッケージに貼着することができる。有価証券は、紙幣、ギフト券、チケットであってよい。カードは、ＩＤカード、クレジットカード、ゲームカードであってよい。ＩＤカードの実例は、免許証、国民ＩＤカード、外国人在留カードである。免許証の実例は、運転免許証、船舶免許証である。

光学構造体の外観は、顔料や染料を含むインキによって形成された印刷物のそれとは異なる。代表的な光学構造体として、ホログラム、回折格子、多層干渉膜、微小突起配列などの光学素子がある。これらの光学素子は、微細な凹凸構造を有するか、または、複雑な層構成を有する。そのため、これらの光学素子を解析および模造することは困難であり、これによって、それらの不正な複製を防ぐことが可能であるとされてきた（特許文献１、２参照）。

上記の光学構造体とは別方式の表示素子として、レンチキュラー、プリズムなどのマイクロレンズアレイを用いた表示素子が存在する（特許文献３、４参照）。この表示素子は、マイクロレンズアレイと観察者との相対的な視覚角度、すなわち、マイクロレンズアレイを観察者が観察する角度の変化に応じた表示画像を観察者に視認させることが可能であり、表示画像は、立体的もしくは動的な表示画像、変化する表示画像、または色変化を伴う表示画像を含む。

前者の光学構造体は主に回折、干渉、散乱を利用した表示技術であり、後者のマイクロレンズアレイを用いた表示素子は屈折、反射、分光を利用した表示技術である。以降において、それぞれを構成する凹凸構造について、前者を波動光学構造、後者を幾何光学構造と称する。それら凹凸構造における凹凸のサイズは、一般に、前者においてサブミクロンであり、すなわち１μｍ未満であり、後者において１μｍ以上である。

ラベルに形成する表示画像を一層複雑にして、外観を多様化し、偽造防止効果を向上する上で、上記の光学構造体による画像と上記の表示素子による画像とを、同一の画面内における分割された領域に配置するラベルのデザインが考えられている。

米国特許第５０５８９９２号明細書 特許第５２６６７７０号公報 特開２０１６−１１４９１７号公報 国際公開第２０１６／０７５９２８号

光学的な原理および凹凸構造のサイズが異なる双方の画像を近接した箇所に配置すると、観察時にそれらの画像からの照明光の反射が互いに交錯し、視覚される表示画像が互いに混合することによって、それぞれの画像が明確に分離して認識できないことがある。

また、波動光学構造および幾何光学構造を同一の平面上における分割された領域に配置し、全体としてのモチーフ、すなわちデザイン画像を形成する場合には、それぞれ別工程で作製される凹凸構造形成用の型を、高い精度で位置合わせすることによって、波動光学構造と幾何光学構造とを形成することが必要である。そのため、双方の構造を組み合わせた際の配置によっては、互いの凹凸構造の変形あるいは破壊を回避することが非常に困難である場合がある。

本発明は、同一の画面内に配置された波動光学構造領域と幾何光学構造領域とによって、デザイン画像を表示する表示体、および、ラベル付き印刷物において、デザイン画像における視認性の低下を抑えることを可能とした表示体を提案できる。

上記課題を解決するための表示体は、エンボス層を有する。前記エンボス層は、幾何光学構造領域、波動光学構造領域、および、第３構造領域を備える。前記第３構造領域は、前記幾何光学構造領域と前記波動光学構造領域との間に位置する。前記エンボス層は、前記幾何光学構造領域に第１凹凸構造を備え、当該第１凹凸構造の高さは、０．５μｍ以上３０μｍ未満である。前記エンボス層は、前記波動光学構造領域に第２凹凸構造を備え、当該第２凹凸構造の高さは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満である。前記エンボス層は、前記第３構造領域に第３凹凸構造を備え、当該第３凹凸構造の高さは、エンボス層の厚さの１／２倍以上、かつ、前記第１凹凸構造の高さに対する２倍以下である。前記第３凹凸構造の高さは、前記第１凹凸構造の高さよりも高い。

上記表示体において、前記第３構造領域が前記幾何光学構造領域、および、前記波動光学構造領域に接してもよい。

上記表示体において、前記第３構造領域は、前記幾何光学構造領域、および、前記波動光学構造領域のいずれか一方と接してもよい。

上記表示体において、前記第３構造領域の幅は、前記第３凹凸構造の高さ以上、かつ、５００μｍ以下であり、前記第３構造領域の前記幅は、前記幾何光学構造領域と前記波動光学構造領域とが対向する方向における前記第３構造領域のふち間の距離であってもよい。

上記表示体において、前記エンボス層が広がる平面と直交する断面において、前記第３凹凸構造の外形を形成する頂面と側面とが交差する部分が、前記第３凹凸構造の角であり、前記第３凹凸構造の角が丸みを有してもよい。

上記表示体において、前記エンボス層を支持するキャリアをさらに備え、前記第３凹凸構造の前記側面がキャリアに対し傾斜を備えてもよい。

上記表示体において、光反射層をさらに備え、前記光反射層は、前記幾何光学構造領域、前記波動光学構造領域、および、前記第３構造領域を覆ってもよい。

上記表示体において、光反射層をさらに備え、前記光反射層は、前記幾何光学構造領域および前記波動光学構造領域のいずれか一方と、前記第３構造領域を覆ってもよい。

上記表示体において、光反射層をさらに備え、前記光反射層は、前記幾何光学構造領域および前記波動光学構造領域を覆う一方で、前記第３構造領域を覆わなくてもよい。

上記課題を解決するためのラベル付印刷物は、上記表示体と、粘着層とを備えるラベルと、印刷物とを備え、前記ラベルが前記粘着層によって前記印刷物に貼り付けられている。

本発明によれば、デザイン画像における視認性の低下を抑えることができる。

表示体の構造を示す平面図。 表示体の構造における第１例を示す断面図。 表示体の構造における第２例を示す断面図。 表示体の構造における第３例を示す断面図。 表示体の製造に用いられるロールツーロール装置を模式的に示す装置構成図。 版胴が備えるモールドの構造を示す断面図。 表示体の構造における第４例を示す断面図。 表示体の構造における第５例を示す断面図。 表示体における幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の第１配置例を示す平面図。 表示体における幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の第２配置例を示す平面図。 表示体における幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の第３配置例を示す平面図。 表示体における幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の第４配置例を示す平面図。 表示体における幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の第５配置例を示す平面図。 表示体における幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の第６配置例を示す平面図。 表示体における幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の第７配置例を示す平面図。 表示体の一例における構造を示す断面図。 図１１Ａが示す表示体を形成するためのモールドにおける構造を示す断面図。 表示体の構造における第６例を示す断面図。 表示体の構造における第７例を示す断面図。 表示体の構造における第８例を示す断面図。 表示体が付されたラベル付き物品であるラベル付き有価証券の構造を示す平面図。

以下、図面を参照しながら表示体の一実施形態を詳細に説明する。なお、全ての図面を通じて、便宜上の理由がない限り、同様または類似した機能を発揮する要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。

また、図面は説明的なものであり、それらに示される寸法は、例えば、各層の厚さや、その比率など、実際と異なることがあり、図面中の寸法比は、それらに示される比に限定されるものと解釈すべきではない。

表示体の実施形態は、同一の技術的な背景からの独自の単一の発明を元とする一群の実施形態である。また、本開示の各側面は、単一の発明を元とした一群の実施形態の側面である。記載された各構成は、本開示の各側面を有しうる。本開示の各特徴（feature）は組合せ可能であり、したがって、記載されている、各特徴（feature）、各構成、各側面、各実施形態は、組合せることが可能であり、その組合せは相乗的機能を有し、相乗的な効果を発揮しうる。

（表示体の概要）
図１は、表示体の一実施形態における構造を示す平面図である。
図１が示すように、カード１に貼り付けられる表示体２は、幾何光学構造を有する幾何光学構造領域Ａ、波動光学構造を有する波動光学構造領域Ｂ、および、領域Ａと領域Ｂとの間に位置し、第３構造を有する第３構造領域Ｃからなる。表示体２が備える３つの領域の組み合わせによって表示される画像のモチーフ（絵柄）は任意である。モチーフは、図１に例示される「五線星を取り囲む円」の紋章に限らず、肖像、ランドマーク、テキスト、マーク、シンボル、シグナル、幾何学模様、彩文などであってよい。

図２は、図１のａ−ａ線に沿った表示体２の断面図である。表示体２は、キャリア３、エンボス層４、および、光反射層５から構成されている。表示体２はさらに、物品に表示体２を貼付するための粘着層、および、表示体２の表面を保護するための保護層などの各種の機能層を備えることができる。

キャリア３は、エンボス層４を支持するキャリアである。エンボス層４の剛性が十分であり、これによって、エンボス層４をフィルムまたはシートとして取り扱う上で問題がない場合には、キャリア３を省略可能である。また、キャリア３の表面に、幾何光学構造領域Ａ、波動光学構造領域Ｂ、第３構造領域Ｃを構成するそれぞれの凹凸構造を形成することが可能であれば、キャリア３がエンボス層４を兼ねてもよい。キャリア３は、プラスチックフィルムであってよい。プラスチックフィルムの母材には、熱可塑性ポリマーが好適である。プラスチックフィルムの実例は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）フィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムである。

キャリア３の厚さは、３０μｍ以上３００μｍ未満であってよい。さらには、キャリア３の厚さは、７０μｍ以上２００μｍ未満としてもよい。キャリア３は、紫外線、可視光、または、その双方に対して透光性であってもよい。特に、キャリア３は、紫外線のうちＵＶ−Ａ（400nm〜315nm）の波長に対して透光性を有するものであってよい。

エンボス層４の母材は、透光性ポリマーであってよい。エンボス層４の母材は、熱硬化ポリマー、熱可塑性ポリマー、または、光硬化ポリマーであってよい。これらの母材を使用して、幾何光学構造６、波動光学構造７、および、第３構造８それぞれの凹凸構造が設けられた型から、これらの構造を母材に転写することができる。エンボス層４は、キャリア３上に前駆体を塗布することによって形成される。

前駆体は、熱硬化性前駆体、光硬化性前駆体、または、その混合であってよい。前駆体は、モノマー、オリゴマー、ポリマーの組成物であってよい。熱硬化性前駆体は、熱硬化性ポリマーや熱硬化性組成物であってよい。光硬化性前駆体は、光硬化性ポリマーや光硬化性組成物であってよい。光硬化性前駆体は、紫外線によって硬化する紫外線硬化性前駆体であってよい。紫外線硬化性前駆体は、紫外線硬化性ポリマーや紫外線硬化性組成物であってよい。このような組成物は、組成物が有する硬度や硬化収縮性を調整することが容易である。また、前駆体は、電子線硬化性ポリマーや電子線硬化性組成物であってもよい。

前駆体を塗布する際には、揮発性溶剤を用いることができる。揮発性溶剤は、ケトン、酢酸エステル、アルコール、トルエン、または、これら溶媒における同種あるいは異種の混合であってよい。ケトンの実例は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンである。酢酸エステルの実例は、酢酸エチル、酢酸ブチルである。アルコールの実例は、イソプロピルアルコールである。

この塗布された層に微細構造が形成された原版を押し当てた後に前駆体を硬化させることによって、塗布層の表面に各種の凹凸構造が形成される。また、熱可塑性ポリマーの層に微細構造が形成された原版を押し当てた後に熱可塑性ポリマーの層を軟化させることによって、熱可塑性ポリマーの層の表面に各種の凹凸構造が形成される。エンボス層４の厚さは、幾何光学構造６が有する高さおよび第３構造８が有する高さに応じて設定される。これにより、各種の凹凸構造を生産性の良好な加工速度で成形でき、また、凹凸構造の成形性を確保することができる。

エンボス層４は蛍光体、または、開始材を含有してもよい。または、エンボス層４を形成するための母材が蛍光性を有してもよい。母材は、蛍光性分子構造を有することによって蛍光を有することができる。このようにエンボス層４は、蛍光性を有することができる。開始材は、光重合開始材であってよい。また、エンボス層４は、表面改質剤を含有してもよい。表面改質剤は、反応性、非反応性の表面改質剤であってよい。表面改質剤は、塗布の際に揮発性溶剤が揮発する際に、塗布された層の表面付近に偏在するものであってよい。表面改質剤は、表面張力を低下させる性質を有するものや、反射層との密着性を向上させる性質を有するものであってよい。

エンボス層４の平均の膜厚は、０．５μｍ以上２５μｍ未満であってよい。この平均の膜厚がエンボス層４の厚さであってよい。なお、後に参照する図３Ａが示すように、表示体２が、波動光学構造７を有する波動光学構造領域Ｂに接し、３つの領域Ａ，Ｂ，Ｃには属しない領域であって、かつ、凹凸構造を有しない領域、言い換えれば平坦な面を有する平坦領域を備える場合には、当該平坦領域におけるエンボス層４とキャリア３との界面と、エンボス層４の当該界面とは反対の面との間の距離が、エンボス層４の厚さである。図３Ａにおいて、波動光学構造領域Ｂと第３構造領域Ｃとの間の領域が、平坦領域である。

一方で、図２、および、後に参照する図３Ｂが示すように、表示体２が上述した平坦領域を有しない場合には、波動光学構造領域Ｂにおける波動光学構造７が有する凹凸面を平面によって近似した近似面と、エンボス層４とキャリア３との界面との間の距離が、エンボス層４の厚さである。

（幾何光学構造）
幾何光学構造６として採用される構造について説明する。幾何光学構造６は、第１凹凸構造の一例である。エンボス層４は、幾何光学構造領域Ａに、幾何光学構造６を備える。幾何光学構造６において、幾何光学構造６の視覚効果を実現するための高さＡＨの実例は、０．５μｍ以上３０μｍ未満である。幾何光学構造６の周期の実例は、０．５μｍ以上１００μｍ未満である。幾何光学構造６の高さＡＨは、幾何光学構造６の頂点から幾何光学構造６の底部までの距離であってよい。幾何光学構造６の高さＡＨが一定でない場合は、幾何光学構造領域Ａ内の幾何光学構造６の高さの平均が、幾何光学構造６の高さＡＨであってよい。また、幾何光学構造６の周期は、幾何光学構造６が有する１つの頂点と、当該頂点と隣り合う頂点との間の距離である。

エンボス層４の成形速度を高めることに起因してエンボス層４の成形性が低下することを抑えるためには、エンボス層４の厚さは厚い方が有利である。エンボス層４の厚さは、幾何光学構造６の高さＡＨの１倍以上であり、かつ、２倍程度までであってよい。しかし、エンボス層４の成形に用いる材料を減らすことによって表示体のコストを抑えるためには、エンボス層４は薄く、かつ、エンボス層４の加工速度が高い方が望ましい。なお、幾何光学構造６の周期が小さい方が成形に有利であり、幾何光学構造６の周期が大きいほど成形に不利となりやすい。すなわち、幾何光学構造６の周期が小さいほど、幾何光学構造６の成形性が担保されやすく、幾何光学構造６の周期が大きいほど、幾何光学構造６の成形性が担保されにくい。

幾何光学構造６を備える幾何光学構造領域Ａの視覚効果は、幾何光学構造６における光の屈折、光の反射により実現される。例えば、光の屈折を利用した視覚効果を発現する幾何光学構造６は、レンズおよびプリズムである。

ここでは、表示体の幾何光学構造６として採用可能な光屈折構造を説明する。光屈折構造の一例は、マイクロレンズアレイである。マイクロレンズアレイをマイクロ印刷に重ね、マイクロレンズの焦点をマイクロ印刷に合わせることによって、動的な視覚効果を実現することができる。マイクロ印刷は、文字、テキスト、マーク、ロゴ、および、絵柄などであってよい。

幾何光学構造６の表面に光反射構造を採用することも可能である。なお、図２では、幾何光学構造６の表面に光反射構造を採用していない。光反射構造は、反射性の金属薄膜であってよい。反射性の金属薄膜を凹凸構造の表面に成膜することにより、高い輝度を有した反射光を、画像を表示するための表示光として観察者に視認させることが可能である。あるいは、光反射構造は、半透過性薄膜であってもよい。この場合には、半透過性薄膜の屈折率と、エンボス層４の屈折率との差を考慮した材料を用いる必要がある。こうした材料を用いることによって、照明光の角度と凹凸構造の表面とが成す角度に応じて、透過、半透過、および、全反射の少なくとも１つを含む視覚効果を表示体２に発現させることが可能である。

以上のような光学効果を有した幾何光学構造６を用いて、任意の絵柄を表示することが可能な表示体２を形成することが可能である。幾何光学構造６は、表示体２の一部を構成する。

（波動光学構造）
波動光学構造７として採用される構造について説明する。波動光学構造７は、第２凹凸構造の一例である。エンボス層４は、波動光学構造領域Ｂに、波動光学構造７を備える。波動光学構造７は、ホログラム、回折格子、多層干渉膜、微小突起配列などであってよい。波動光学構造７の視覚効果を実現するためには、波動光学構造７の高さＢＨは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満である。波動光学構造領域Ｂは、波動光学構造領域Ｂに照射された光に対して回折、干渉、散乱、吸収、共鳴のうちの少なくとも１つの光学的な相互作用を生じる。

エンボス層４は、透光性ポリマーからなってよい。エンボス層４の表面に形成される波動光学構造７が、レリーフホログラムあるいは回折格子である場合には、波動光学構造７の表面に、反射性金属薄膜、あるいは、半透過性薄膜などの光反射層５を成膜することが汎用的に行なわれる。これにより、波動光学構造７の表面と薄膜の界面における屈折率の差を高くして、充分なホログラム効果、言い換えれば高い回折光強度を発現させることができる。光反射層５は、金属層または酸化膜であってよい。金属層は、アルミニウム、銀、金、および、それらの合金などの金属からなる。酸化膜は、シリカおよびアルミナなどの透明材料からなる。光反射層５は、真空蒸着法およびスパッタリング法などの気相堆積法により形成される。光反射層５は、典型的には１０ｎｍから２００ｎｍの厚さを有する。光反射層５は、均一な厚さを有することができる。または、光反射層５は、厚さが互いに異なる複数の領域を有してもよい。例えば、光反射層５では、波動光学構造領域Ｂおよび幾何光学構造領域Ａに位置する部分の厚さよりも、第３構造領域Ｃに位置する部分の厚さが薄くてもよい。このような構成とすることで、第３構造８によって光を吸収しやすくなり、ノイズ光が減少しやすい。光反射層５の膜厚を薄くすることによって、光反射層５は、光反射性を有しながら、一部の光を透過させる光透過性を備えることも可能である。

（第３構造）
次に、第３構造８として採用される構造について説明する。第３構造８は、第３凹凸構造の一例である。エンボス層４は、第３構造領域Ｃに、第３構造８を備える。第３構造８の高さＣＨは、エンボス層４の厚さの１／２倍以上、幾何光学構造６の高さＡＨの２倍以下であることが好ましい。これにより、第３構造８を成形することができ、かつ、第３構造８の効果を得る上で有利である。なお、第３構造８の高さＣＨは、幾何光学構造６の底部から第３構造の上部までであってよい。

第３構造８は、一方向に延在するリブ形状を有することができる。リブ形状の断面は、台形であってよい。このような形状は成形性に優れる。第３構造８の頂部は、マット状構造であってよい。このような構造とすることで光を散乱し、ノイズを減少しやすい。マット状構造は、マット加工したモールドの形状を転写することで形成することができる。マット加工は、サンドブラスト加工、エッチング加工、ヘアライン加工であってよい。また第３構造８は、５００ｎｍ以下の幅を有した一次元または二次元の格子であってもよい。このような格子は、光を吸収しやすいため、ノイズが減少しやすい。

また、第３構造８の高さＣＨは、幾何光学構造６の高さＡＨよりも高くてもよい。
例えば、幾何光学構造６の高さＡＨが１０μｍである場合、エンボス層４の厚さは、幾何光学構造６の高さＡＨと同じである１０μｍから高さＡＨの２倍である２０μｍの範囲に含まれることが好ましい。これにより、良好な生産性を示す加工速度での加工が可能であり、かつ、第３構造８の成形性を確保することができる。第３構造８の高さＣＨにおける下限値はエンボス層４の厚さの１／２倍であることから、エンボス層４の厚さが１０μｍであるとき、第３構造８の高さＡＨは５μｍ以上である。エンボス層４の厚さが２０μｍであるとき、第３構造８の高さＣＨは１０μｍ以上である。

第３構造８の高さＣＨにおける上限値は幾何光学構造の高さＡＨの２倍であることから、幾何光学構造６の高さＡＨが１０μｍである場合、第３構造８の高さＣＨは２０μｍ以下である。
以上より、幾何光学構造６の高さＡＨが１０μｍである場合、第３構造８の高さＣＨにおいて、下限値が５μｍであり、上限値が２０μｍであってよい。

エンボス層４が硬化樹脂製である場合には、第３構造８での硬化度と他の構造での硬化度が異なってもよい。特に、第３構造８の硬化度が他の構造の硬化度より低くてもよい。さらに、第３構造８において、キャリア３から光反射層５に向かう方向に沿って、第３構造８の硬化度が低下してもよい。このような構造により、第３構造８の弾性を上げることができ、第３構造８が外力によって破壊されることを抑制しやすい。

また、第３構造８の硬化度と他の構造における硬化度との違いによって、第３構造８と光反射層５との間の密着性を、幾何光学構造６と光反射層５との間の密着性、および、波動光学構造７と光反射層５との間の密着性よりも低くすることができる。また、第３構造８とエンボス層４との間の密着性を、幾何光学構造６とエンボス層４との間の密着性、および、波動光学構造７とエンボス層４との間の密着性よりも低くすることができる。これにより、光反射層５のうちで、第３構造８上に位置する部分のみを、リフトオフ、エッチング、サンドブラストにより全部または部分的に除去することができる。

結果として、光反射層５のうちで、第３構造８上に位置する部分は、他の構造上に位置する部分よりも薄く、また、より小さいカバー面積比を有し、または、その双方の状態を有する。また、第３構造８上には光反射層５が位置しなくてもよい。これにより、第３構造８の反射率を他の構造に比べて低くすることができ、ノイズ光が低減されやすい。特に、光反射層５のうちで、第３構造８の頂面に位置する部分が、他の構造上に位置する部分よりも薄く、より小さいカバー面積比を有し、または、その双方の状態を有する。また、第３構造８の頂面には、光反射層５が位置しなくてもよい。同様に、光反射層５のうちで、第３構造８の側面に位置する部分が、他の構造上に位置する部分よりも薄く、より小さいカバー面積比を有し、または、その双方の状態を有する。また、第３構造８の側面には、光反射層５が位置しなくてもよい。

また、エンボス層４が蛍光性を有している場合には、第３構造８の蛍光性が、幾何光学構造６の蛍光性および波動光学構造７の蛍光性よりも高くてもよい。これにより、エンボス層４に対して励起光を照射することによって、第３構造８の発光を幾何光学構造６の発光および波動光学構造７の発光よりも強くすることができる。この場合、第３構造８による潜像を形成することができる。第３構造８は、幾何光学構造６と第３構造８との境界、波動光学構造７と第３構造８との境界、または、その双方を縁取ることができる。これにより、励起光によって発光する境界による縁取りを実現することができる。また、第３構造８は、幾何光学構造６や、波動光学構造７において発光した光が第３構造８に導波した光を散乱し、外部に取り出すこともできる。このため、第３構造８は、幾何光学構造６、および、波動光学構造７よりも高い蛍光強度を有することができる。

このような第３構造８による縁取りは視認されやすく、視覚による表示体２に対する真正の検証を容易とする。また、エンボス層４が蛍光性を有し、第３構造領域Ｃの幅ＣＰは、複数の値を含んでもよい。さらに、第３構造領域Ｃの幅ＣＰは、第３構造領域Ｃの延在方向に沿って連続的に変化してもよい。このような第３構造８の発光による縁取りは、躍動的に見える。

幾何光学構造６を塗布層にエンボス形成する際には、幾何光学構造６によって形成される絵柄の周囲、つまり、幾何光学構造６のふち、および、幾何光学構造６と幾何光学構造６の外部との境界部分（すなわち、幾何光学構造６の外部において幾何光学構造６に接する部分）における急激な構造の変化により、泡かみ不良や充填不足がおきやすい。なお、泡かみ不良とは、塗布層と原版との間に気泡が生じることである。また、充填不足とは、原版が有する凹凸構造に対して塗布層の一部が十分に充填されないことである。そのため、幾何光学構造６のふちにおいて、安定した成形が難しくなる。その場合、幾何光学構造６によって形成される絵柄と、当該絵柄の外部との境界部分において、成形性が低下する。これにより、幾何光学構造６が形成する絵柄の視認性が低下する。また、幾何光学構造６が形成する絵柄がぼけやすい。

また、幾何光学構造領域Ａと、例えば、波動光学構造領域Ｂとが接する場合、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとが接する部分において、波動光学構造７における成形性の低下、および、成形不良が発生する場合がある。そこで、幾何光学構造領域Ａと第３構造領域Ｃとが隣り合うことによって、幾何光学構造６により形成される絵柄の視認性が低下することを抑え、幾何光学構造６としての理想的な視覚効果を実現できる。すなわち、幾何光学構造６が、当該構造に求められる視覚効果を発現することが可能である。第３構造８を備える第３構造領域Ｃは、概ね平坦な領域である。第３構造領域Ｃは、幾何光学構造領域Ａおよび波動光学構造領域Ｂの両方よりも平坦である。そのため、第３構造領域Ｃが有する形状に起因して、第３構造領域Ｃ単体では、特殊な絵柄を表現することはない。一方で、第３構造８の成形性が低下したとしても、成形性の低下に応じて視覚効果が極端に低下することはない。

また、図２において白抜き矢印によって示されるように、幾何光学構造領域Ａから波動光学構造領域Ｂへの光の導波が、第３構造８によって遮断される。第３構造８による遮断のため、波動光学構造領域Ｂに入射した光とは別に、幾何光学構造領域Ａから波動光学構造領域Ｂに光が伝播することが抑制され、したがって、波動光学構造領域Ｂにおける光によるノイズの発生が抑えられる。結果として、波動光学構造領域Ｂが形成する絵柄の視認性が低下することが抑えられる。なお、第３構造８によれば、波動光学構造領域Ｂから幾何光学構造領域Ａへの光の導波も遮断される。そのため、幾何光学構造領域Ａにおいて、波動光学構造領域Ｂから伝播する光に起因したノイズが抑えられる。

また、一方で、第３構造８は、幾何光学構造６が形成する絵柄の周囲を縁取るため、観察者が表示体２を観察する際に、観察者が幾何光学構造６が形成する絵柄のエッジを検出しやすくなる。結果として、幾何光学構造領域Ａが形成する絵柄の視認性が高められる。

さらに、第３構造８を有する第３構造領域Ｃは概ね平坦な領域である。そのため、第３構造８における入射光に対する振る舞いは、幾何光学構造６における入射光に対する振る舞いとは異なる。言い換えれば、第３構造８に対する入射光と、幾何光学構造６に対する入射光とは、互いに異なる状態で各構造から射出される。例えば、幾何光学構造６が反射構造であり、かつ、キャリア３の平坦面に対して４５度の角度で傾斜した傾斜面を反射面として有する場合、幾何光学構造領域Ａと第３構造領域Ｃとに同じ角度で光が入射しても、幾何光学構造領域Ａの反射光とキャリア３の平坦面とが形成する角度は、第３構造領域Ｃの反射光とキャリア３の平坦面とが形成する角度と異なる。そのため、表示体２を傾けて観察した場合、観察者に対する第３構造領域Ｃの見え方における変化と、幾何光学構造領域Ａの見え方における変化とは異なる。

図３Ａおよび図３Ｂが示す断面形状を有する表示体２でも、幾何光学構造６が形成する絵柄における視認性の低下を抑える効果を期待することができる。図３Ａは、幾何光学構造領域Ａと第３構造領域Ｃとが接し、波動光学構造領域Ｂと第３構造領域Ｃとが接しない場合を示している。一方で、図３Ｂは、幾何光学構造領域Ａと第３構造領域Ｃとが接しない一方で、波動光学構造領域Ｂと第３構造領域Ｃとが接する場合を示している。

これら場合でも、幾何光学構造領域Ａからの波動光学構造領域Ｂへの光の導波により、波動光学構造領域Ｂに入射した光とは別に、幾何光学構造領域Ａから波動光学構造領域Ｂに光が伝播することが抑制され、したがって、波動光学構造領域Ｂにおける光によるノイズの発生が第３構造８によって抑えられる。結果として、波動光学構造領域Ｂが形成する絵柄における視認性の低下が抑えられる。また、波動光学構造領域Ｂから伝播する光によって、幾何光学構造領域Ａにおいて発生するノイズが、境界である第３構造８によって抑えられる。結果として、幾何光学構造領域Ａが形成する絵柄における視認性の低下が抑えられる。

このように、表示体２が幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとの境界として第３構造領域Ｃを有することによって、各光学構造領域Ａ，Ｂが形成する絵柄の視認性が高まり、表示体２が精巧な絵柄を形成することができる。さらに、表示体２が波動光学構造領域Ｂと幾何光学構造領域Ａとの対を有することによって、シルクのような精巧な色彩を帯びた絵柄を形成することが可能である。

第３構造領域Ｃの幅ＣＰは、実例として、第３構造８の高さＣＨと同一以上、かつ、５００μｍ未満であってよい。第３構造領域Ｃの幅ＣＰが第３構造８の高さと同一以上であることにより、第３構造８の成形性を確保することができる。また、第３構造領域Ｃの幅ＣＰが５００μｍ未満であることによって、第３構造領域Ｃの視覚効果を実現することが可能である。例えば、先の例のように、第３構造８の高さＣＨが５μｍ以上２０μｍ以下である場合、第３構造領域Ｃの幅ＣＰは、第３構造８の高さＣＨに応じて５μｍから２０μｍの範囲に含まれる値を下限値とし、５００μｍを上限値とすることができる。

なお、第３構造領域Ｃの幅ＣＰとは、エンボス層４が広がる平面と対向する平面視において、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとが対向する方向での第３構造領域Ｃのふち間の距離である。ふち間の距離が複数の値を含む場合には、第３構造領域Ｃの幅ＣＰは、ふち間の距離における下限値である。

（製造方法）
幾何光学構造６、波動光学構造７、第３構造８は、それぞれが有する凹凸構造を形成するための型をエンボス層４を形成するための塗布層の表面に型押しして、すなわちプレス成形して形成される。凹凸構造を形成するための型は、スタンパあるいはモールドである。プレス成形では、平板スタンパによる平プレス、ロールスタンパによるロールプレスなどが選択可能であるが、表示体２を量産する場合には、ロールツーロール方式が効率的である。ロールツーロール方式では、成形前のエンボス層４を有する積層シートであるウェブを連続的に供給して、エンボス層４の成形後にウェブを巻き取る。

図４を参照して、表示体２が備える幾何光学構造６を形成する方法の一例を説明する。図４は、ロールツーロール装置２０が備える構成の一部を模式的に示している。以下に説明するロールツーロール装置２０は、幾何光学構造６を製造するための製造装置の一例である。なお、以下では、ロールツーロール装置２０の構成として、幾何光学構造６のエンボス層４が前駆体から形成される場合の構成が説明されている。

図４が示すように、ロールツーロール装置２０は、版胴２１、押圧ロール２２、搬送ロール２３、供給部２４、ヒーター２５、および、照射部２６を備えている。ウェブの搬送方向における上流から下流に向かう方向において、供給部２４、ヒーター２５、および、照射部２６が記載の順に並んでいる。

供給部２４は、キャリア３上にエンボス層４を形成するための未硬化の前駆体を供給する。供給部２４は、ディスペンサーまたはダイであってよい。これにより、キャリア３上にエンボス層４の前駆層が形成される。供給部２４が供給する前駆体は、上述のような紫外線硬化性組成物または紫外線硬化性ポリマーである。また、紫外線以外の光で硬化する光硬化性組成物または光硬化性ポリマーであってもよい。ヒーター２５は、供給部２４がキャリア３に供給した前駆体を加熱することによって、前駆体を軟化させる。これにより、前駆体の成形性を向上することができ、また、前駆体における反応性を高めることもできる。

版胴２１および押圧ロール２２は、１つの方向である延設方向に沿って延びる円柱状を有している。版胴２１と押圧ロール２２とは、版胴２１と押圧ロール２２との間の隙間において、キャリア３を搬送する。押圧ロール２２は、版胴２１と押圧ロール２２との間の隙間においてキャリア３を搬送するときに、キャリア３に接し、かつ、キャリア３上の前駆層を版胴２１の外表面に押圧する。

版胴２１は、本体部２１ａとモールド２１ｂとを備えている。本体部２１ａは、延設方向に沿って延びる円柱状を有している。本体部２１ａは、ロールコアであってよい。本体部２１ａは、温度コントローラーを備えてもよい。温度コントローラーは、クーラーやヒーターであってよい。モールド２１ｂは、本体部２１ａの外周面を覆う円筒状を有している。モールド２１ｂの表面は、前駆層に転写される幾何光学構造６を形成するための凹凸形状を有している。押圧ロール２２が前駆層をモールド２１ｂに対して押圧することによって、前駆層にモールド２１ｂが有する凹凸形状が転写される。

また、ロールツーロール装置２０は、版胴２１に代えて、バックアップロールを備えることもできる。この場合には、ポリマーフィルム製のモールド２１ｂを用いることができる。ポリマーフィルムは、単層構造または多層構造を有してよい。ポリマーフィルムの厚さは、５０μｍ以上３００μｍ以下であってよい。ポリマーフィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて計測した値であってよい。マイクロメーターが有するヘッドの先端は、平坦であってよい。マイクロメーターが有するヘッドの直径は、２ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってよい。

ポリマーフィルムが多層構造を有する場合には、ポリマーフィルムは、キャリアとモールド層とを備えることができる。ポリマーフィルムの材質は、アクリル、シリコーン、フッ素樹脂などであってよい。キャリアの材質は、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレンなどであってよい。モールド層の材質は、アクリル、シリコーン、エラストマーであってよい。

キャリアの厚さは、５０μｍ以上３００μｍ以下であってよい。モールド層の平均膜厚は、１μｍ以上５０μｍ未満であってよい。モールド層の平均膜厚には、エンボス層４と同じ定義を用いることができる。一般的に、ポリマーフィルムは、エンボス層４との剥離性が高いため、タック性の高い前駆体からエンボス層４を成形した場合でも成形不良が生じにくい。また、ポリマーフィルムは柔軟性が高いため、凹凸構造の欠けなどを抑制することができる。ポリマーフィルム製のモールドによれば、高品位を有した幾何光学構造６、波動光学構造７、第３構造８を形成することができる。

照射部２６は、前駆層に紫外線を照射することができる。照射部２６は、硬化ランプであってよい。また、照射部２６は、前駆層に可視光を照射してもよい。これにより、前駆層が硬化され、エンボス層４が形成される。照射部２６には、例えば水銀ランプ、および、メタルハライドランプなどの放電ランプを用いることができる。また、照射部２６には、紫外領域に含まれる光を発するＬＥＤランプを用いることができる。なお、照射部２６に、供給部２４が供給する紫外線硬化性ポリマーの硬化特性に応じたランプを選択することによって、表示体２の生産性を向上することができる。

搬送ロール２３は、押圧ロール２２および版胴２１と同様、延設方向に沿って延びる円柱状を有している。版胴２１と搬送ロール２３とは、版胴２１と搬送ロール２３との間の隙間において、キャリア３を搬送する。搬送ロール２３は紫外線が照射された後のキャリア３を搬送するため、搬送ロール２３に接するキャリア３は、エンボス層４を有している。搬送ロール２３はキャリア３に接し、かつ、版胴２１と搬送ロール２３との間の隙間においてキャリア３を搬送することによって、キャリア３上のエンボス層４を版胴２１から剥離する。
このように、幾何光学構造６を有したエンボス層４が形成されることによって、表示体２に対して、表示体２が形成可能な表示画像の一部を記録することができる。

なお、エンボス層４を形成するための前駆層が、電子線硬化性ポリマーまたは電子線硬化性組成物によって形成される場合には、ロールツーロール装置２０は、紫外線を照射する照射部２６に代えて、電子線を照射する照射部２６を備えればよい。エンボス層４を形成するための前駆層が紫外線以外の光によって硬化するポリマーによって形成された層である場合には、ロールツーロール装置は、照射部２６に代えて、エンボス層４を硬化させるための光を照射する照射部２６を備えればよい。

エンボス層４を形成するための前駆層が熱硬化性前駆ポリマーによって形成される場合には、ロールツーロール装置２０は、ヒーター２５および照射部２６に代えて、モールド２１ｂに接している前駆層、または、モールドに接した後の前駆層を加熱するヒーターを備えればよい。エンボス層４を形成するための前駆層が熱可塑性ポリマーである場合には、ロールツーロール装置２０において照射部２６を省略し、かつ、ヒーターが、モールドが有する形状を前駆層に転写することが可能な程度に前駆層を加熱すればよい。

図５を参照して、版胴２１が備えるモールド２１ｂの構造をより詳しく説明する。図５は、本体部２１ａに巻き付けられる前のモールド２１ｂ、言い換えれば平板状を有したモールド２１ｂの断面を示している。

図５が示すように、モールド２１ｂは表面を有している。モールド２１ｂの表面は、幾何光学構造６を製造するときに、前駆層に接する面である。表面が有する凹凸形状が前駆層に転写される。表面は、平坦面と凹凸面とから構成されている。凹凸面は、複数の凸面から構成され、各凸面は平坦面から突出している。

モールド２１ｂの表面は、凹凸面である。凹凸面は、幾何光学構造領域ＡＭ、波動光学構造領域ＢＭ、および、第３構造領域ＣＭを含んでいる。凹凸面が有する幾何光学構造領域ＡＭは、エンボス層４が有する幾何光学構造６を形成するための領域である。凹凸面が有する波動光学構造領域ＢＭは、エンボス層４が有する波動光学構造７を形成するための領域である。凹凸面が有する第３構造領域ＣＭは、エンボス層４が有する第３構造８を形成するための領域である。そのため、凹凸面が含む各領域は、各領域によって形成されるエンボス層４の領域に対応した形状を有している。

各領域が含む凸面の高さは、幾何光学構造６、波動光学構造７、および、第３構造８の各々における底部を含む平坦面を基準に設定される。言い換えれば、当該平坦面と凸面の頂部との間の距離が、凸面の高さである。凹凸面において、幾何光学構造領域ＡＭにおける凸面の高さＡＭＨは、波動光学構造領域ＢＭにおける凸面の高さＢＭＨよりも高い。また、第３構造領域ＣＭにおける凸面の高さＣＭＨは、幾何光学構造領域ＡＭにおける凸面の高さＡＭＨ、および、波動光学構造領域ＢＭにおける凸面の高さＢＭＨの両方よりも高い。

上述したように、幾何光学構造６のふちでは、エンボス層４を形成する際の加工速度を上げた場合に、泡かみ不良および充填不良の少なくとも一方が生じる。そのため、幾何光学構造６のふちを安定して成形することが難しい。そこで、上述したように、表示体２が第３構造８を備えることによって、表示体において、安定した絵柄の表示、および、視覚効果の向上が実現される。

また、図６Ａが示すように、第３構造領域Ｃの成形性を確保するために、エンボス層４が広がる平面と直交する断面において、第３構造８が有する矩形状の角は丸みを帯びていてもよい。丸みは、１０．５μｍ以上５μｍ以下の半径を有することができる。第３構造８の角とは、エンボス層４が広がる平面と直交する断面において、第３構造８の外形を形成する側面と頂面とが交差する部分である。第３構造８の角が丸みを帯びていることによって、原版に対してエンボス層４を形成するための材料が充填されやすくなる。

また、図６Ｂが示すように、エンボス層４が広がる平面と直交する断面において、第３構造８の側面は、キャリア３に対して傾斜してもよい。つまり、第３構造８において、エンボス層４が広がる平面と直交する断面が台形状を有してもよい。断面が台形状である場合の傾斜角度は、エンボス層４が広がる平面に対する垂直方向に対して１度から１０度であってよい。つまり、第３構造８の側面とエンボス層４が広がる平面とが形成する角度は、８０度から８９度であってよい。この場合も、第３構造８の側面が傾斜していることによって、原版に対してエンボス層４を形成するための材料が充填されやすくなる。そのため、第３構造８の成形性が確保され、かつ、原版とエンボス層４を形成するための材料との間に存在する酸素に起因して硬化が不十分であるが抑えられ、これによって剥離不良を抑えることができる。結果として、表示体２の一部において硬化が不十分であることに起因した不具合が表示体２において発生することが抑えられる。

なお、第３構造８の側面が傾斜した構造では、側面の一部のみが傾斜してもよいし、または、側面の全部が傾斜してもよい。第３構造８の側面が傾斜していることによって、幾何光学構造領域Ａからの波動光学構造領域Ｂへの光の伝播を抑える機能を有した第３構造８の有効面積が広くなる。そのため、伝播した光に起因するノイズが抑制されやすい。

なお、モールド２１ｂを形成するための材料は、金属、ポリマー、および、ガラスであってよい。このうち、金属は、例えば、鉄、クロム、ニッケル、銅、および、アルミニウムなどであってよく、また、これらの合金であってもよい。なお、モールド２１ｂは、基材と、基材の表面を覆うめっき層とから形成されてもよい。この場合には、めっき層は、１μｍ以上３００μｍ以下の厚さを有することができる。

モールド２１ｂは、電鋳によって形成されることが可能である。つまり、モールド２１ｂは、電鋳のモールドであってよい。電鋳のモールドは、マスターを電鋳めっきによって複製することによって製造可能である。このとき、マスターの表面が有する形状が、電鋳めっきにより電鋳のモールドが有する表面に転写される。マスターの表面を形成するための方法は、電子線加工、レーザー加工、イオンビーム加工、フォトリソグラフィ、切削、腐食、および、彫刻などであってよい。モールド２１ｂの表面を形成するときには、それらの方法のいずれかを用いて、モールド２１ｂを形成するための部材に、モールド２１ｂの表面を形成してもよい。または、それらの方法のいずれかを用いて原版の表面を製造した後に、モールド２１ｂを形成するための部材に当該原版の表面を転写することによって、所望とする表面を備えるモールド２１ｂを製造してもよい。または、マスターを用いた電鋳によって、所望とする表面を有したモールド２１ｂを製造してもよい。

なお、版胴２１は円柱状の部材のみから構成されてもよい。この場合には、円柱状の部材における外表面が版胴２１の表面であり、かつ、版胴２１の表面が、表示体２が備えるエンボス層の表面に対応する凹凸面を備えている。

（幾何光学構造、波動光学構造、および、第３構造の配置）
表示体２は、波動光学構造領域Ｂおよび幾何光学構造領域Ａの少なくとも一方に加え、第３構造領域Ｃが接するレリーフパターンを１つのみ備えてもよいし、複数備えてもよい。

例えば、図７Ａが示すように、幾何光学構造領域Ａと第３構造領域Ｃとが接し、かつ、第３構造領域Ｃが波動光学構造領域Ｂと接していてもよい。図７Ａが示す例では、表示体２が広がる平面と対向する方向から見て、第３構造領域Ｃが、幾何光学構造領域Ａの全体を囲み、かつ、波動光学構造領域Ｂが、第３構造領域Ｃの全体を囲んでいる。この場合には、波動光学構造領域Ｂに入射する光と、幾何光学構造領域Ａに入射する光とが、第３構造領域Ｃによって分けられる。そのため、互いの領域間において迷光が生じることがなく、これによって、表示体２が発現する視覚効果の向上が期待される。

より詳細には、図７Ａが示す例では、表示体２が広がる平面と対向する平面視において、幾何光学構造領域Ａは五線星状を有している。第３構造領域Ｃは、幾何光学構造領域Ａのふちに沿った形状を有し、幾何光学構造領域Ａの全体を囲んでいる。すなわち、第３構造領域Ｃは、中空の五線星状を有している。波動光学構造領域Ｂのふちは、円状を有している。波動光学構造領域Ｂは、当該領域Ｂのふちが区画する円状の領域中に、幾何光学構造領域Ａおよび第３構造領域Ｃの両方を含んでいる。

また、図７Ｂが示すように、波動光学構造領域Ｂと第３構造領域Ｃとが接し、かつ、第３構造領域Ｃが幾何光学構造領域Ａと接する場合もある。図７Ｂが示す例では、第３構造領域Ｃが、波動光学構造領域Ｂの全体を囲み、かつ、幾何光学構造領域Ａが、第３構造領域Ｃの全体を囲んでいる。そのため、図７Ａが示す例と同様、波動光学構造領域Ｂと幾何光学構造領域Ａとが第３構造領域Ｃによって隔たれるため、互いの領域間において生じた迷光に起因するノイズの発生が抑えられる。そのため、表示体２が有する視覚効果の向上が期待される。

より詳細には、図７Ｂが示す例では、表示体２が広がる平面と対向する平面視において、波動光学構造領域Ｂはハート状を有している。第３構造領域Ｃは、波動光学構造領域Ｂのふちに沿った形状を有し、波動光学構造領域Ｂの全体を囲んでいる。すなわち、第３構造領域Ｃは、中空のハート状を有している。幾何光学構造領域Ａのふちは、円状を有している。幾何光学構造領域Ａは、当該領域Ａのふちが区画する円状の領域中に、波動光学構造領域Ｂおよび第３構造領域Ｃの両方を含んでいる。

さらに、図７Ｃが示すように、幾何光学構造領域Ａと第３構造領域Ｃとが接し、かつ、第３構造領域Ｃと波動光学構造領域Ｂとが接する。一方で、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとが、他方の領域によって一方の領域が囲まれる関係を有して無くてもよい。この場合であっても、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとは、第３構造領域Ｃによって隔てられる。この場合も、表示体２において、幾何光学構造領域Ａが第３構造領域Ｃに接する部分、および、波動光学構造領域Ｂが第３構造領域Ｃに接する部分では、表示体２が有する視覚効果の向上が期待できる。

より詳細には、図７Ｃが示す例では、表示体２が広がる平面と対向する平面視において、第３構造領域Ｃが、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとの間に挟まれている。表示体２が広がる平面と対向する平面視において、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとが、第３構造領域Ｃを挟んで互いに対向している。表示体２が広がる平面と対向する平面視において、幾何光学構造領域Ａ、波動光学構造領域Ｂ、および、第３構造領域Ｃは、六線星形を形成している。第３構造領域Ｃは、六線星形を二分するように延びる形状を有している。幾何光学構造領域Ａは、第３構造領域Ｃによって二分された領域の一方に位置し、波動光学構造領域Ｂは、第３構造領域Ｃによって二分された領域の他方に位置している。

なお、表示体２が広がる平面と対向する平面視において、第３構造領域Ｃが、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとに挟まれた構造は、例えば、以下に列記する構造であってもよい。
図８が示すように、表示体２が広がる平面と対向する平面視において、幾何光学構造領域Ａ、波動光学構造領域Ｂ、および、第３構造領域Ｃが、１つの円を形成している。幾何光学構造領域Ａおよび波動光学構造領域Ｂとは、それぞれ略半円状を有している。第３構造領域Ｃは、幾何光学構造領域Ａと波動光学構造領域Ｂとが対向する方向に対して直交する方向に沿って延びる直線状を有している。幾何光学構造領域Ａは、第３構造領域Ｃを対称軸として、波動光学構造領域Ｂに対して線対称である。

図９が示すように、幾何光学構造領域Ａおよび波動光学構造領域Ｂは、図８が示す例と同様、略半円状を有している。図９が示す例では、表示体２が矩形状を有している。第３構造領域Ｃは、表示体２が有する辺に対して傾斜した方向に沿って延びる直線状を有している。幾何光学構造領域Ａおよび波動光学構造領域Ｂは、それぞれ第３構造領域Ｃに接し、かつ、表示体２が有する辺に対して、第３構造領域Ｃと同一の角度で傾斜している。

図１０Ａが示すように、幾何光学構造領域Ａ、波動光学構造領域Ｂ、および、第３構造領域Ｃは、図８が示す例と同様、１つの円を形成している。ただし、図１０Ａが示す例では、表示体２が広がる平面と対向する平面視において、第３構造領域Ｃが、折れ線状を有している。また、幾何光学構造領域Ａのうちで、第３構造領域Ｃに接する部分が、第３構造領域Ｃに沿った折れ線状を有している。波動光学構造領域Ｂのうちで、第３構造領域Ｃに接する部分が、第３構造領域Ｃに沿った折れ線状を有している。

図１０Ｂが示すように、幾何光学構造領域Ａ、波動光学構造領域Ｂ、および、第３構造領域Ｃは、図８が示す例と同様、１つの円を形成している。ただし、図１０Ｂが示す例では、表示体２が広がる平面と対向する平面視において、第３構造領域Ｃが波状を有している。また、幾何光学構造領域Ａのうちで、第３構造領域Ｃに接する部分が、第３構造領域Ｃに沿った波状を有している。波動光学構造領域Ｂのうちで、第３構造領域Ｃに接する部分が、第３構造領域Ｃに沿った波状を有している。

なお、上述した３つの領域の組み合わせによって形成されるモチーフ（絵柄、パターン）をエンボス層４の表面に転写するためには、各領域が有する凹凸構造に対応した凹凸構造が配置された型である上述のモールド２１ｂが用いられる。モールド２１ｂの表面が有する凹凸形状は、上述したように、母型を用いた電鋳によって形成される。母型は、個別に作製された複数のレリーフパターンを繋ぎ合わせ、これによって面付けされることによって形成される。

例えば、図１１Ａに示される断面構造が、製造される表示体２の断面構造である場合には、エンボス層４を形成するためのモールド２１ｂは、図１１Ｂが示す断面構造を有する。すなわち、モールド２１ｂの断面構造は、表示体２の断面構造を反転させた構造である。モールド２１ｂは、原版に基づく複製型の形成、複製型のトリミング、複製型の面付け、複製型の複製による樹脂型の形成、樹脂型のめっきによる複製などを経て形成される。この際に、原版を反転させた形状を有する型と、原版と同様の形状を有する型との形成が交互に繰り返されながら、最終的に所望の形状を有したモールド２１ｂを得ることができる。

（層構造による効果）
次に、表示体２が有する層構造によって生じる効果を説明する。上述したように、表示体２は、キャリア３、エンボス層４、および、光反射層５を備えることができる。表示体２は、上述した３つの領域に応じて、各領域を構成する層構造を変えることによって、表示体２に新たな視覚効果を付与することができる。

例えば、図１２Ａが示すように、光反射層５の一部が第３構造領域Ｃに位置し、かつ、光反射層５の他の一部が波動光学構造領域Ｂに位置する一方で、幾何光学構造領域Ａには光反射層５が位置しなくてもよい。すなわち、幾何光学構造領域Ａは、キャリア３の一部とエンボス層４の一部のみから形成される。この場合には、波動光学構造領域Ｂでは、波動光学構造７による光の屈折、吸収、干渉、および、回折といった現象によって実現される反射を、波動光学構造領域Ｂの視覚効果として得ることができる。また、第３構造領域Ｃでも、第３構造８による反射を第３構造領域Ｃの視覚効果として得ることができる。

一方で、幾何光学構造領域Ａには光反射層５が位置しないことによって、幾何光学構造領域Ａを透過観察した場合に、幾何光学構造領域Ａによる視覚効果を得ることが可能である。例えば、幾何光学構造６が上述したマイクロレンズである場合には、幾何光学構造領域Ａとマイクロ印刷の印刷層９とを重ね、かつ、マイクロレンズの焦点をマイクロ印刷に合わせることによって、幾何光学構造領域Ａを透過観察した場合に、動的な視覚効果を実現することができる。マイクロ印刷の印刷層９は、文字および絵柄などを含んでよい。印刷層９は、エンボス層４に対してキャリア３側に位置してもよいし、光反射層５側に位置してもよい。以上のように、反射観察と、透過観察とにおいて異なる視覚効果を有した表示体２を得ることができる。

また、図１２Ｂが示すように、光反射層５の一部が幾何光学構造領域Ａに位置し、かつ、光反射層５の他の一部が波動光学構造領域Ｂに位置する一方で、第３構造８には光反射層５が位置しなくてもよい。すなわち、第３構造領域Ｃは、キャリア３の一部とエンボス層４の一部のみから形成される。この場合には、表示体２を透過観察した場合に、スリットとして機能する第３構造領域Ｃのみから光が透過され、幾何光学構造６が形成する絵柄の輪郭を、当該光によって観察することができる。図１２Ａが示す先の例と同様、第３構造領域Ｃに対して印刷層９を重ねることによって、第３構造領域Ｃを透過観察したときに、印刷層９を観察することができる。

そのため、例えば、印刷層９の色を変更したり、印刷層９の形状を変更したりすることによって、幾何光学構造６の輪郭を任意の色や形状で囲み、これによる特有の視覚効果を実現することが可能な表示体２を得ることも可能である。なお、印刷層９は、インキのみから形成されるインキ層であってもよい。

（光反射層の部分的な形成方法）
次に、光反射層の部分的な形成方法、すなわち、エンボス層４の一部のみに光反射層５を形成する方法を説明する。

例えば、次のような方法によって、エンボス層４の一部のみに光反射層５を形成することが可能である。まず、キャリア３、および、エンボス層４から形成される表示体に対して、エンボス層４の全面に光反射層５を形成する。その後、例えば、光反射層５のうちで、エンボス層４から除去する部分に対して、強度の高いレーザー光線を位置選択的に照射し、光反射層５のうちで、これによって、レーザー光線が照射された部分を選択的に破壊する。また、例えば、光反射層５のうちで、エンボス層４上に残す部分に対してマスク印刷によってマスクを形成し、次いで、光反射層５のうちでマスクが形成されていない部分を腐食剤によって腐食させることで、光反射層５の一部分に光反射層５を形成することもできる。また、別の方法として、まず、エンボス層４の全面に光反射層５を形成する前に、エンボス層４のうちで、光反射層５を除去する部分に水性インキを印刷する。次いで、光反射層５をエンボス層４の全体に形成した後に、水性インキを水で洗い流すことによって、光反射層５の一部を除去することができる。

また、さらに別の方法として次のような方法を挙げることができる。まず、エンボス層４の全面に、光反射層５を形成する。この際に、真空蒸着法やスパッタリング法を用いることができる。さらに、光反射層５を形成する場合と同様に、真空蒸着法やスパッタリング法によって、光反射層５の上にマスク層を形成する。マスク層を形成する材料は、例えば、フッ化マグネシウムまたはシリカであってよい。ここで、波動光学構造７の表面積は幾何光学構造６の表面積よりも大きく、かつ、幾何光学構造６の表面積は第３構造８の表面積よりも大きい。そのため、光反射層５において、波動光学構造７に位置する部分の膜厚が、幾何光学構造６に位置する部分よりも薄くなり、かつ、幾何光学構造６に位置する部分の膜厚が第３構造８に位置する部分の膜厚よりも薄くなる。その後、表示体２をウェットエッチングすることによって、光反射層５のうちで膜厚が薄い部分、すなわち、波動光学構造７に位置する部分と、幾何光学構造６に位置する部分とを選択的に除去することができる。この際、光反射層５がアルミニウムから形成された層である場合には、エッチング液は、例えば、アルカリ性のＮａＯＨなどであってよい。光反射層５のウェットエッチングを行うことによって、エンボス層４の一部分のみに光反射層５を形成することができる。

表示体２は、粘着層を備えることによってラベルとして機能することができる。表示体２を含むラベルは、印刷物やカード１に貼り付けられることができる。すなわち、ラベルは、表示体２と粘着層とを備えて、粘着層によって各種物品に貼り付けられる。ラベルが貼り付けられた物品が、ラベル付き物品である。

例えば、図１２Ｃが示すように、表示体２において、キャリア３にはＰＥＴを使用し、エンボス層４に紫外線硬化ポリマーを用いることが可能である。さらに、エンボス層４に光反射層５としてアルミニウム層を形成し、かつ、エンボス層４におけるキャリア３に接する面とは反対側の面に粘着層１０を形成することができる。この粘着層１０を用いて、物品に表示体２を支持させることが可能である。表示体２は、それ自体の偽造または模倣が困難であるため、表示体２が含まれるラベルを物品に支持させれば、真正品であるこのラベル付き物品の偽造または模造も困難である。

また、図１３が示すように、表示体２はストライプ状を有することもできる。例えば、図１２Ａから図１２Ｃが示す表示体２のいずれかにおいて、キャリア３とエンボス層４との間に剥離層を形成し、これによって、表示体２を含む転写箔を得ることができる。そして、転写箔が含む表示体２を有価証券１１に転写することによって、ラベル付き印刷物の一例であるラベル付きの有価証券１１を得ることが可能である。ラベル付き印刷物は美観に優れ、ラベル付き印刷物によれば、ラベルによって印刷物の真正を検証することができる。なお、表示体２の形状は、ストライプ形状、パッチ形状であってもよい。表示体２の下面および上面には、印刷を形成することができる。

印刷物の厚さは、０．０５ｍｍ以上４ｍｍ以下の範囲に含まれてよい。印刷物は、表面の全体または一部に印刷されたポリマーフィルム、表面の全体または一部に印刷された紙、印刷可能なポリマーフィルム、または、印刷可能な紙である。印刷されたポリマーフィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルムの表面の全体または一部にコートされたアンカー層を備え、コートされたアンカー層に印刷されたものである。印刷可能なポリマーフィルムは、ベースフィルムと、ベースフィルムに印刷を受容するようにコートされたアンカー層とを備えるポリマーフィルムである。

印刷されたポリマーフィルム、印刷可能なポリマーフィルムのベースフィルムには、ポリマーフィルムを適用することができる。印刷可能な紙は、上質紙、中質紙、コート紙、非コート紙、フィルムをラミネートした紙である。コート紙は、紙と、紙が有する表面の全体または一部にコートされたアンカー層とを備える紙である。

上述したポリマーフィルムは、延伸ポリマーフィルムまたは無延伸ポリマーフィルムであってよい。延伸ポリマーフィルムまたは無延伸ポリマーフィルムは、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムであってよい。ポリエステルフィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートであってよい。ポリマーフィルムは、単層構造、または、多層構造を有してよい。多層構造では、同一材料から形成された層が積層されてもよいし、異種材料から形成された層が交互に積層されてもよい。

印刷は、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷であってよい。印刷は、インキを印刷することによって形成可能である。インキは、可視インキまたは不可視インキであってよい。インキは、顔料インキ、染料インキであってよい。顔料インキは、パールインキ、磁性インキであってよい。不可視インキは、蛍光インキ、赤外線吸収インキであってよい。印刷が有する絵柄は、絵、写真、肖像、ランドマーク、マーク、ロゴ、シンボルであってよい。

印刷可能なポリマーフィルムまたは印刷されたポリマーフィルムに用いるアンカー層は、熱可塑樹脂、熱硬化可能樹脂、または、熱可塑熱硬化可能樹脂であってよい。アンカー層を形成するための樹脂は、重合体、共重合体であってよい。アンカー層を形成するための重合体、共重合体は、ポリエチレン、エチレンメタクリル酸、ポリエチレンイミン、ポリウレタンであってよい。ポリエチレンイミンの正の極性基や負の極性基は、エチレン（メタ）アクリル酸共重合体の正の極性基や負の極性基との結合により、印刷物との高い接着性を発現する。

また、印刷物の表面は、公知の表面改質処理によって改質されてもよい。表面改質処理は、印刷物と表示体２との間において高い接着性を発現させる。表面改質処理は、コロナ放電処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、プラズマ処理、低温プラズマ処理、および、グラフト化処理であってよい。商標を有した製品、または、そのパッケージにラベルを貼付することで、美観に優れた製品またはパッケージを得ることができ、また、ラベルによって製品が真正であることが証明可能である。

以上、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を参照しながら説明したが、本開示の範囲は、図示され記載された実施形態に限定されるものではなく、本発明が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含むことができる。更に、本開示の範囲は、請求項により画される発明の特徴（feature）に限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴（feature）、その特徴（feature）のあらゆる組み合わせも含む。

本開示で用いられる「部分」、「要素」、「画素」、「セル」、「セグメント」「単位」、「表示体」、「物品」という用語は、物理的存在である。物理的存在は、物質的形態または、物質に囲まれた空間的形態を指すことができる。物理的存在は、構造体であってよい。構造体は、特定の機能を有するものであってよい。特定の機能を有した構造体の組合せは、各構造体の各機能の組合せにより相乗的効果を発現することができる。

本開示、特に、添付の請求の範囲内で使用される用語（例えば、添付の請求の範囲の本文）は、一般的に、「オープンな」用語として意図される（例えば、「有する」という用語は、「少なくとも有する」と解釈すべきであり、「含む」という用語は「含むがそれに限定されない」などと解釈されるべきである）。

また、用語、構成、特徴(feature)、側面、実施形態を解釈する場合、必要に応じて図面を参照すべきである。図面により、直接的かつ一義的に導き出せる事項は、テキストと同等に、補正の根拠となるべきである。

さらに、特定の数の導入された請求項の記載が意図される場合、そのような意図は、請求項に明示的に記載され、そのような記載がない場合、そのような意図は存在しない。例えば、理解を助けるために、以下の添付の請求の範囲は、「少なくとも１つ」および「１つまたは複数」の導入句の使用を含み、請求の列挙を導入することができる。しかしながら、そのような語句の使用は、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」によるクレーム記載の導入が、そのようなクレームを含む特定のクレームを、そのような記載を１つだけ含む実施形態に限定することを意味すると解釈されるべきではない。「１つ以上」または「少なくとも１つ」の冒頭の語句および「ａ」または「ａｎ」などの不定冠詞（例えば、「ａ」および／または「ａｎ」）は、少なくとも「少なくとも」を意味すると解釈されるべきである（「１つ」または「１つ以上」）。請求項の記述を導入するために使用される明確な記事の使用についても同様である。

１…カード
２…表示体
３…キャリア
４…エンボス層
５…光反射層
６…幾何光学構造
７…波動光学構造
８…第３構造
９…印刷層
１０…粘着層
１１…有価証券
Ａ，ＡＭ…幾何光学構造領域
Ｂ，ＢＭ…波動光学構造領域
Ｃ，ＣＭ…第３構造領域
２０…ロールツーロール装置
２１…版胴
２２…押圧ロール
２３…搬送ロール
２４…供給部
２５…ヒーター
２６…照射部
２１ａ…本体部
２１ｂ…モールド

Claims (10)

1. エンボス層を有する表示体であって、
   前記エンボス層は、幾何光学構造領域、波動光学構造領域、および、第３構造領域を備え、前記第３構造領域は、前記幾何光学構造領域と前記波動光学構造領域との間に位置しており、
   前記エンボス層は、前記幾何光学構造領域に第１凹凸構造を備え、当該第１凹凸構造の高さは、０．５μｍ以上３０μｍ未満であり、
   前記エンボス層は、前記波動光学構造領域に第２凹凸構造を備え、当該第２凹凸構造の高さは、１００ｎｍ以上５００ｎｍ未満であり、
   前記エンボス層は、前記第３構造領域に第３凹凸構造を備え、当該第３凹凸構造の高さは、前記エンボス層の厚さの１／２倍以上、かつ、前記第１凹凸構造の高さに対する２倍以下であり、前記第３凹凸構造の高さは、前記第１凹凸構造の高さよりも高い
   表示体。
2. 前記第３構造領域が前記幾何光学構造領域、および、前記波動光学構造領域に接する
   請求項１に記載の表示体。
3. 前記第３構造領域は、前記幾何光学構造領域、および、前記波動光学構造領域のいずれか一方と接する
   請求項１に記載の表示体。
4. 前記第３構造領域の幅は、前記第３凹凸構造の高さ以上、かつ、５００μｍ以下であり、前記第３構造領域の前記幅は、前記幾何光学構造領域と前記波動光学構造領域とが対向する方向における前記第３構造領域のふち間の距離である
   請求項１から３のいずれか一項に記載の表示体。
5. 前記エンボス層が広がる平面と直交する断面において、前記第３凹凸構造の外形を形成する頂面と側面とが交差する部分が、前記第３凹凸構造の角であり、
   前記第３凹凸構造の角が丸みを有している
   請求項１から４のいずれか一項に記載の表示体。
6. 前記エンボス層を支持するキャリアをさらに備え、
   前記第３凹凸構造の前記側面がキャリアに対し傾斜を備える
   請求項５に記載の表示体。
7. 光反射層をさらに備え、
   前記光反射層は、前記幾何光学構造領域、前記波動光学構造領域、および、前記第３構造領域を覆う
   請求項１から６のいずれか一項に記載の表示体。
8. 光反射層をさらに備え、
   前記光反射層は、前記幾何光学構造領域および前記波動光学構造領域のいずれか一方と、前記第３構造領域とを覆う
   請求項１から６のいずれか一項に記載の表示体。
9. 光反射層をさらに備え、
   前記光反射層は、前記幾何光学構造領域および前記波動光学構造領域を覆う一方で、前記第３構造領域を覆わない
   請求項１から６のいずれか一項に記載の表示体。
10. 請求項１から９のいずれか一項に記載の表示体と、粘着層と、を備えるラベルと、
    印刷物と、を備え、
    前記ラベルが前記粘着層によって前記印刷物に貼り付けられている
    ラベル付き印刷物。

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