JP2009069344A - 偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シール、偽造防止媒体、及びこれらの製造方法並びに偽造防止積層体の製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも、レリーフ構造形成層(イ)と、前記レリーフ構造形成層(イ)の片側に、部分的に設けられたレリーフ構造部(ロ)と、前記レリーフ構造部(ロ)と重ならないように、同一面上に、部分的に設けられた土手部(ハ)と、前記土手部(ハ)に囲われ、レリーフ構造部(ロ)を含むレリーフ構造囲われ部(ニ)と、前記レリーフ構造囲われ部(ニ)のみを覆うように配置された光学薄膜からなり、前記レリーフ構造形成層(イ)を透過した光の少なくとも一部を反射させるレリーフ効果層(ホ)と、を順次積層して具備してなることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
このような、回折光を発生させる領域を部分的に備えるホログラムは、一般的に、レリーフ型の回折構造に対し、パターン状の金属等の反射層を設ける方法で製造される。金属等の反射層のパターン化は、下記の4種の方法が一般的である。(特許文献5参照)
1)水洗インキを基材上にネガパターンで印刷しておき、その上から蒸着やスパッタリングを用いて全面に金属反射層を形成し、印刷されてある水洗インキを水で洗い流すと同時にその上の金属反射層を取り除くことによりパターンを形成する水洗シーライト加工。
際に液だれ、滲みが生じる。
まず、請求項1に係る発明は、少なくとも、レリーフ構造形成層(イ)と、
前記レリーフ構造形成層(イ)の片側に、部分的に設けられたレリーフ構造部(ロ)と、前記レリーフ構造部(ロ)と重ならないように、同一面上に、部分的に設けられた土手部(ハ)と、
前記土手部(ハ)に囲われ、レリーフ構造部(ロ)を含むレリーフ構造囲われ部(ニ)と、
前記レリーフ構造囲われ部(ニ)のみを覆うように配置された光学薄膜からなり、前記レリーフ構造形成層(イ)を透過した光の少なくとも一部を反射させるレリーフ効果層(ホ)と、
を順次積層して具備してなることを特徴とする偽造防止積層体である。
ソシアネートを架橋剤として添加して架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂などの熱硬化樹脂や、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレートなどの紫外線または電子線硬化樹脂などが挙げられる。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。また、これら以外のものであっても、その表面に凹凸面を形成できれば適宜使用することができる。プレス成形の場合、平板状のホットコールドプレス法とロールエンボス法が挙げられる。これらの方法では、レリーフ構造形成層の樹脂を融点以上に加熱溶融した後、成型したいレリーフ形状、及び土手形状のネガパターンを有するレリーフ型を押し当てて形状を転写する。その後、レリーフ構造形成層の樹脂をガラス転移温度以下まで下げて樹脂を固化し、レリーフ型から離型する事で、所望のレリーフ形状、及び土手形状を得ることができる。なお、熱硬化樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を使用する場合、レリーフ形状、及び土手形状を形成し、レリーフ型から離型した後に、熱、紫外線、電子線により樹脂を硬化させることで、耐性の良いレリーフ形状を有する塗膜が得ることもできる。
をブロック状(任意の連続形状や、格子形状)にする事で、土手部の連続面積を増やし、構造的に土手部の強度を上げる手法が挙げられる。なお、土手高さについては、必要なインキの塗工量から算出し適宜決定すれば良い。図3、及び図4は、このような土手部の、液状インキの堰き止め効果、及び成型性を考慮したデザインの例である。
に剥離する部分を設けたり、ステッカーに切れ込みを入れることも可能である。これによると、ステッカーが破壊されるので、ステッカーを別の基材に貼り替えて利用しようとする不正を図られても再利用を阻止することに有効である。また、これによると、ステッカーが破壊されるので、(ステッカーの下方に秘密の情報が設けてある場合に)秘密の情報の盗み読みした後に元の箇所にこの本物のステッカーを貼りつけたり、秘密の情報を改ざんした後に元の箇所にこの本物のステッカーを貼りつけたり、といった不正を阻止することにも有効である。
本発明に係る偽造防止積層体を製造するために、下記に示すように、レリーフ形成層、及びレリーフ効果層に用いるインキ組成物を用意した。
「レリーフ構造形成層インキ組成物」
ウレタン樹脂 15.0重量部
アクリルシリコン樹脂 5.0重量部
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
「レリーフ効果層インキ組成物」
銀粒子分散インキ(50nm銀粒子、水分散体) 100.0重量部
厚み23μmの透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムからなる支持体上に、レリーフ構造形成層インキ組成物を膜厚2μmとなるように塗布し、150℃、10secの条件で焼き付け、乾燥してレリーフ構造形成層を形成した。次いで、ロールエンボス法により、レリーフ構造形成層の表面に回折格子を構成する微小凹凸のレリーフ構造部と、土手部を形成した。次に、液適法(インキジェット法)によって、レリーフ構造囲われ部のみにレリーフ効果層インキ組成物を塗工し、乾燥して所望の偽造防止積層体を得た。
本発明に係る偽造防止積層体を製造するために、下記に示すように、レリーフ形成層、及びエッチングマスク層に用いるインキ組成物を用意した。
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
「エッチングマスク層インキ組成物」
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体 20.0重量部
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
厚み23μmの透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムからなる支持体上に、レリーフ構造形成層インキ組成物を膜厚2μmとなるように塗布し、150℃、10secの条件で焼き付け、乾燥してレリーフ構造形成層を形成した。次いで、ロールエンボス法により、レリーフ構造形成層層の表面に回折格子を構成する微小凹凸のレリーフ構造部と、土手部を形成した。次に、アルミニウムを50nmの膜厚となるように真空蒸着
して、全面にレリーフ効果層を形成した。その後、液適法(インクジェット法)によって、レリーフ構造囲われ部のみにエッチングマスク層組成物を塗布、乾燥させた。次に、50℃に加熱された1.5NのNaOH溶液が入った浴槽に10秒間浸すことにより、上記エッチングマスク層不存在部のレリーフ効果層をエッチングした後、0.1NのHCl溶液にて中和し、その後水洗・乾燥工程を経て、所望の偽造防止積層体を得た。
実施例1と同様にして、厚み23μmの透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムからなる支持体上に、レリーフ構造形成層インキ組成物を膜厚2μmとなるように塗布し、150℃、10secの条件で焼き付け、乾燥してレリーフ構造形成層を形成した。次いで、ロールエンボス法により、レリーフ構造形成層の表面に回折格子を構成する微小凹凸のレリーフ構造部を形成した。次に、アルミニウムを50nmの膜厚となるように真空蒸着して、全面にレリーフ効果層を形成した。その後、レリーフ構造部分と同一のパターンとなるように、液適法(インクジェット法)によって0.5μmの厚みとなるようにエッチングマスク層組成物をパターン印刷し、エッチングマスク層を形成した。次に、50℃に加熱された1.5NのNaOH溶液が入った浴槽に10秒間浸すことにより、上記エッチングマスク層不存在部のレリーフ効果層(アルミ蒸着)をエッチングした後、0.1NのHCl溶液にて中和し、その後水洗・乾燥工程を経て、所望の偽造防止積層体を得た。
実施例1、実施例2、及び比較例1の積層体をそれぞれ20サンプル作成し、設計図柄を基準とし、レリーフ構造部分とレリーフ効果層の位置ズレ幅について測定し、位置ズレのバラツキに関して評価した。
実施例1、実施例2、及び比較例1の積層体をそれぞれ20サンプル作成し、液適法で発生する液ハネ、及び液ダレに起因するレリーフ効果層の面積を測定し、設計面積との比較により、液ハネ液ダレ不良の発生について評価した。なお、面積の測定は、スキャナーにて画像取り込みを実施した後に、測定したい面積部のピクセル数を計数した後、実面積に換算した。
○:設計面積に対し、液ダレ液ハネ不良面積が、0.0〜0.1%
△:設計面積に対し、液ダレ液ハネ不良面積が、0.2〜0.9%
×:設計面積に対し、液ダレ液ハネ不良面積が、1.0%以上
そのレリーフ構造とレリーフ効果層を精度良く配置した、レリーフ構造を含む光学素子からなる、安価で生産性が高く、装飾性にも優れた視覚効果を得られる、高品質の、偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シール、偽造防止媒体、及びこれらの製造方法並びにその製造装置を提供することが出来る。
2:レリーフ構造形成層
3:レリーフ構造部
4:土手部
5:レリーフ構造囲われ部
6:レリーフ効果層
7:第2の偽造防止積層体
8:レリーフ構造形成層
9:レリーフ構造部
10:土手部
11:レリーフ構造囲われ部
12:レリーフ効果層
13:エッチングマスク層
14:第3の偽造防止積層体
15:土手部
16:レリーフ構造囲われブロック部
17:破線
18:レリーフ構造形成層
19:レリーフ構造部
20:土手部
21:レリーフ構造囲われ部
22:レリーフ効果層
23:偽造防止転写箔
24:支持体25:偽造防止積層体
26:接着層
27:転写層
28:偽造防止シール
29:支持体
30:偽造防止積層体
31:接着層
32:偽造防止媒体
33:支持体
34:積層体、又は転写箔、又はシール
Claims (12)
- 少なくとも、レリーフ構造形成層(イ)と、
前記レリーフ構造形成層(イ)の片側に、部分的に設けられたレリーフ構造部(ロ)と、前記レリーフ構造部(ロ)と重ならないように、同一面上に、部分的に設けられた土手部(ハ)と、
前記土手部(ハ)に囲われ、レリーフ構造部(ロ)を含むレリーフ構造囲われ部(ニ)と、
前記レリーフ構造囲われ部(ニ)のみを覆うように配置された光学薄膜からなり、前記レリーフ構造形成層(イ)を透過した光の少なくとも一部を反射させるレリーフ効果層(ホ)と、
を順次積層して具備してなることを特徴とする偽造防止積層体。 - 少なくとも、前記レリーフ構造囲われ部(ニ)上のレリーフ効果層(ホ)を覆うように配置されたエッチングマスク層(ヘ)を具備してなることを特徴とする請求項1に記載の偽造防止積層体。
- 前記レリーフ構造部(ロ)のレリーフ構造が、レリーフ型光学素子、もしくは、前記レリーフ構造部(ロ)のレリーフ構造とレリーフ効果層(ホ)との組み合わせにより光学効果をもたらすレリーフ型光学素子であることを特徴とする請求項1または2に記載の偽造防止積層体。
- 少なくとも、前記レリーフ構造囲われ部(ニ)が、前記土手部(ハ)により1mm2以下の任意のパターンにブロック化されているレリーフ構造囲われブロック部(ト)を具備してなることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の偽造防止積層体。
- シート状支持体上に、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の偽造防止積層体を、転写の際に前記支持体から剥離し被転写体に移行可能とするように積層配置し、該偽造防止積層体を覆うようにして、少なくとも、前記支持体から最も遠い位置に接着層を積層してなることを特徴とする偽造防止転写箔。
- シート状支持体上に、少なくとも、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の偽造防止積層体を配置し、該偽造防止積層体を覆うようにして、少なくとも、前記支持体から最も遠い位置に、熱又は圧力によって接着性を呈する接着層を積層してなることを特徴とする偽造防止シール。
- 請求項1ないし4に記載のいずれか1項に記載の偽造防止積層体それ自体、または、シート状支持体上に、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の、偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シールの少なくとも1つ以上を積層してなることを特徴とする偽造防止媒体。
- 少なくとも、(イ)レリーフ構造形成層の片側に、(ロ)レリーフ構造形成部、(ハ)土手部を成形し、全面にレリーフ効果層を設けた後、前記土手部(ハ)を利用し、該土手部に囲われたレリーフ構造囲われ部(ニ)にのみ、液滴法によりレリーフ効果層(ホ)を設けるか、もしくは、少なくとも、前記土手部に囲われたレリーフ構造囲われ部(ニ)にのみ、液滴法によりエッチングマスク層(へ)を形成した後、エッチング処理により、レリーフ構造囲われ部(ニ)以外の部分上に配置された、レリーフ効果層(ホ)を除去することを特徴とする請求項1に記載の偽造防止積層体の製造方法。
- シート状の支持体上に、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の偽造防止積層体を、
転写の際に前記支持体から剥離し被転写体に移行可能とするように積層配置し、該偽造防止積層体を覆うようにして、少なくとも、前記支持体から最も遠い位置に接着層を積層することを特徴とする偽造防止転写箔の製造方法。 - シート状支持体上に、少なくとも、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の偽造防止積層体を配置し、該偽造防止積層体を覆うようにして、少なくとも、前記支持体から最も遠い位置に、熱又は圧力によって接着性を呈する接着層を積層することを特徴とする偽造防止シールの製造方法。
- シート状支持体上に、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シールの少なくとも1つ以上を積層することを特徴とする偽造防止媒体の製造方法。
- 少なくとも、レリーフ構造囲われ部(ニ)のレリーフ構造のパターン、レリーフ構造の光学特性、およびレリーフ構造の表面形状、さらに、レリーフ構造囲われブロック部(ト)のブロックのパターン、ブロック内のレリーフ構造の光学特性、およびブロック内のレリーフ構造の表面形状の1つ以上を、位置情報と共にデジタルデータとして読み取り、認識した後、土手部(ハ)を利用して、前記レリーフ構造囲われ部(ニ)のみを覆うように、前記レリーフ効果層(ホ)を液適法により形成することを特徴とする偽造防止積層体の製造装置。
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