JP5717324B2 - 偽造防止構造体及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、パターン反射層で構成される第一領域と、光学効果を有するパターン光学層の一部で構成される第二領域とを位置精度良く設けることが可能であり、意匠性が高く、第二領域における種々の変化を視認性良好な状態で確認することができるようにした偽造防止構造体、及びその製造方法に関する。

偽造防止構造体は、有価証券やブランド品、証明書、個人認証媒体等の偽造を防止するために使用され、真性品であることを証明する機能を有している。

近年は、特殊な光学効果が一瞥で判別可能であることから、回折格子、ホログラム等の光学素子を利用した偽造防止構造体が様々な物品に対して使用されている。

しかしながら、回折格子やホログラムは包装材料や有価証券等に盛んに利用されるようになっており、誰でも入手し易くなっていることから、より偽造し難い偽造防止構造体が必要となっている。

このような状況に対応して、特許文献１、及びそれらの参考文献では、カラーシフト材料とホログラムとを組み合わせた偽造防止に関する技術が提案されている。具体的には、ディメタライズホログラム（パターン反射層を有するホログラム）の下部全面を干渉パールインキの薄膜によって覆うことにより、両方の光学効果を奏するようにした偽造防止に関する技術である。

しかしながら、これらの文献に記載の方法では、カラーシフト領域とホログラム領域（パターン反射層領域）とがネガポジの関係でしか配置できない為、デザインの自由度が低かった。

また、カラーシフト領域とホログラム領域（ディメタライズホログラム形成領域）を特定の位置関係で設ける場合には、どちらか一方の領域を設ける際に、他方の領域に対する位置合わせを精度よく行わなければならないが、例えば、パターン反射層に対して干渉パールインキでカラーシフト領域をグラビア印刷法にて設ける場合の位置合わせでは、５００μｍ以上もの位置ズレを生じさせてしまうことがある。

特開２００７−３０４６０１号公報

本発明の課題は、以上のような従来技術における欠点を解消すべくなされたものであって、パターン反射層で構成される第一領域と、光学効果を有するパターン光学層の一部で構成される第二領域とを位置精度良く設けることが可能であり、意匠性が高く、第二領域における種々の変化を視認性良好な状態で確認することができるようにした偽造防止構造体、及びその製造方法を提供することである。

以上のような状況の下になされた本発明は、透明性を有する支持基材上には微細凹凸パターンが設けられている微細凹凸形成層が積層されていて、微細凹凸形成層の微細凹凸パターンの上には、所定形状の金属材料や金属材料の化合物を構成材料とするパターン反射層と、このパターン反射層と相似の形状であって、パターン寸法が前記パターン反射層より大きい干渉パール顔料を主体としてなるパターン光学層形成用インキ用いグラビア印刷法により設けられたパターン光学層とがこの順で少なくとも積層されていると共に、前記パターン反射層は前記パターン光学層で全体が覆われていて、前記パターン反射層で構成される第一領域の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される５μｍ〜３０００μｍの幅の第二領域がパターン反射層の無い透明領域で囲われており、前記第二領域のみが、支持基材側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なった状態で観察されるようになっていることを特徴とする偽造防止構造体である。

さらにまた、請求項２記載の発明は、透明性を有する支持基材上に反射層を形成し、さらにその反射層上に電磁波の照射により他の領域と異なるように観察されるようになっているパターン光学層を所定形状で積層した後、まずエッチングによりパターン光学層によって覆われていない反射層の部分を除去し、しかる後にサイドエッチングを施して反射層の周縁をサイドエッチすることによりパターン反射層を形成することを特徴とする請求項１記載の偽造防止構造体の製造方法。

本発明によれば、パターン反射層で構成される第一領域と、光学効果を有するパターン光学層の一部で構成される第二領域とを位置精度良く設けることが可能であり、意匠性が高く、第二領域における種々の変化を視認性良好な状態で確認することができるようにした偽造防止構造体、及びその製造方法を提供することができる。

本発明の一例に係る偽造防止構造体の平面状態を示す説明図である。 図１に示す偽造防止構造体の（Ａ）−（Ｂ）線における概略の断面状態を示す説明図である。 本発明の他の例に係る偽造防止構造体の平面状態を示す説明図である。 図３に示す偽造防止構造体の（Ｃ）−（Ｄ）線における概略の断面状態を示す説明図である。 本発明の偽造防止構造体の製造方法の各工程を示す説明図である。

以下、本発明の偽造防止構造体、及びその製造方法について、図面を参照にして詳細に説明する。
図１は、本発明の偽造防止構造体の平面状態を、図２は図１に示す偽造防止媒体の（Ａ）−（Ｂ）線における概略の断面構成を示している。

図示の偽造防止構造体（１１）は、透明性を有する支持基材（１２）の上に、所定形状のパターン反射層（１３）と、このパターン反射層（１３）と相似の形状を有し、パターン寸法がパターン反射層（１３）より大きいパターン光学層（１４）とがこの順序で少なくとも積層されていると共に、パターン反射層（１３）はパターン光学層（１４）で全体が覆われていて、パターン反射層（１３）で構成される第一領域（１５）の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域（１６）のみが、支持基材（１２）側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なった状態で観察されるようになっている。図中、（１７）は、反射層のない透明領域を示している。

このような構成になる偽造防止構造体（１１）を支持基材（１２）側から観察した場合には、パターン反射層で構成される第一領域（１５）の周縁部を囲う様に位置する第二領域（１６）が反射層の無い透明領域（１７）で囲われた状態で確認できる。

一方、図３には、本発明の他の例に係る偽造防止構造体の平面状態が示してある。そして、図４には、図３に示す偽造防止媒体の（Ｃ）−（Ｄ）線での概略の断面構成が示してある。

この偽造防止構造体（２１）は、透明性を有する支持基材（２２）には微細凹凸パターンが設けられている微細凹凸形成層（２９）が積層されていて、微細凹凸形成層（２９）の微細凹凸パターンの上には所定形状のパターン反射層（２３）が設けられ、さらにこのパターン反射層（２３）と相似の形状を有し、パターン寸法がパターン反射層（２３）より大きいパターン光学層（２４）とがこの順序で少なくとも積層されていると共に、パターン反射層（２３）はパターン光学層（２４）で全体が覆われていて、パターン反射層（２３）で構成される第一領域（２５）の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域（２６）のみが、支持基材（２２）側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なった状態で観察されるようになっている。また、第二領域（２６）は、反射層の無い透明領域（２７）で囲われているのでその状態が極めて明瞭に観察されるようになっている。

上記した第一領域（１５）、（２５）は、パターン反射層（１３）、（２３）で構成される層であって、任意の反射性を示す構成材料からなる表面が平滑な反射層を代表例として挙げられるが、表面が微細な凹凸形状を有する反射層であってもよい。例えば、回折格子、ホログラム、サブ波長格子、レンズアレイ、回折レンズのほか、光散乱構造である周期性マクロ構造や非周期性マクロ構造、マット構造に追従した表面構造を有する反射層であってもよい。

一方、第二領域（１６）、（２６）は、第一領域（１５）、（２５）の周縁部に位置す
るパターン光学層の周縁部分で構成される領域であって、その幅は５μｍ〜３０００μｍ程度のものである。３０μｍ〜１０００μｍ程度であればより好ましい。幅が５μｍ未満であると、第二領域の面積が小さくなり過ぎ、視認が難しくなってしまう。また、幅が３０００μｍを超えるとサイドエッチングに時間を要し生産性が悪くなってしまう。

このような構成になる偽造防止構造体は以下のようにして製造する。
すなわち、図５（ａ）に示すように、まず透明性を有する支持基材（５２）の上に反射層（５０）を形成する。次に、図５（ｂ）に示すように、反射層（５０）の上に、電磁波の照射により他の領域と異なって観察されるようになっているパターン光学層（５４）を所定の形状で積層する。
このようにして透明性を有する支持基材（５２）の上に反射層（５０）とパターン光学層（５４）を順次積層したら、今度はエッチング処理によりパターン光学層（５４）によって覆われていない反射層（５０）の部分のみを支持基材（５２）の上から除去し（図５（ｃ）参照）、しかる後にサイドエッチングを施して反射層の周縁をサイドエッチすることにより（図５（ｄ）参照）、パターン反射層（５３）を形成し、透明性を有する支持基材上に、所定形状のパターン反射層と、このパターン反射層と相似の形状であって、パターン寸法がパターン反射層より大きいパターン光学層とがこの順で少なくとも積層されていると共に、パターン反射層はパターン光学層で全体が覆われていて、パターン反射層で構成される第一領域の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域のみが、支持基材側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なって観察されるようになっている、偽造防止構造体を得ることができる。

図５（ｅ）は、このようにして得られた偽造防止構造体を支持基材（５２）側から観察した時の状態を示している。図面からも分かるように、パターン反射層で構成される第一領域（５５）の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域（５６）のみが、支持基材側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なって観察される。

このような構成の偽造防止構造体において、支持基材（１２）、（２２）としては、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン）等のプラスチックからなるフィルム基材を用いることができるが、図４に示すような微細凹凸パターンを形成すること等を考慮し、微細凹凸パターンの成形時にかかる熱や圧、さらには電磁波による変形や変質の少ない材料からなるものを用いることが望ましい。なお、上記したフィルム基材の他に、紙や合成紙、プラスチック複層紙や樹脂含浸紙等を用いてもよい。

一方、パターン反射層（１３）、（２３）、は、第一領域（１５）、（２５）を構成しており、電磁波を反射させるようになっているが、支持基材（１２）、（２２）、及び微細凹凸形成層（２９）を透過した光を反射させるものとする場合は、支持基材（１２）、（２２）、または微細凹凸形成層（２９）の屈折率よりも高い高屈折率材料を使用して設けるようにすればよい。この場合、各層との屈折率の差は、０．２以上であることが好ましい。屈折率の差を０．２以上にすることによって、例えば、微細凹凸形成層（２９）とパターン反射層（２３）との界面で屈折および反射が起こるようになる。なお、光学素子である微細凹凸に覆われたパターン反射層（２３）は、その構造により光学効果を強調できるようになる。

このようなパターン反射層（１３）、（２３）の構成材料としては、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ等の金属材料や、これらの化合物を挙げることができる。

パターン反射層の透過率が高い場合には、第一領域における光学効果と第二領域におけ
る光学効果に差があれば、パターン反射層越しに後述するパターン光学層による光学効果を確認することも可能となる。

したがって、パターン反射層を構成する材料としては以下のようなものも挙げることができる。すなわち、Ｓｂ₂Ｏ₃（３．０）、Ｆｅ₂Ｏ₃（２．７）、ＴｉＯ₂（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ₂（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ₂（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ₂Ｏ₃（５）、ＷＯ₃（５）、ＳｉＯ（５）、Ｓｉ₂Ｏ₃（２．５）、Ｉｎ₂Ｏ₃（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ₂Ｏ₃（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ₂（５）、ＭｇＯ（１）、ＳｉＯ₂（１．４５）、Ｓｉ₂Ｏ₂（１０）、ＭｇＦ₂（４）、ＣｅＦ₃（１）、ＣａＦ₂（１．３〜１．４）、ＡｌＦ₃（１）、Ａｌ₂Ｏ₃（１）、ＧａＯ（２）等のセラミックス系材料や、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等の有機ポリマー等を挙げることができる。なお、上に示す化学式または化合物名の後に続くカッコ内の数値は屈折率ｎを示している。

このような構成材料からなるパターン反射層は、溶解、腐食、または変質により反射率、または透明性に変化を生じさせるようにしてもよい。溶解により反射率、または透過率に変化を生じさせる方法としては、金属や金属酸化物等をウェットエッチング処理する一般的な方法が挙げられる。エッチングに使用する処理剤は、公知の酸やアルカリ、有機溶剤や酸化剤、還元剤等であればよい。また、反射層の構成素材によっては、ドライエッチング法を利用してもよい。
変質により反射率、又は透過率に変化を生じさせる方法としては、銅を酸化剤により酸化させて酸化第一銅に変化させる方法や、アルミニウムを酸化剤によって酸化させてベーマイトに変化させる方法を挙げることができるが、必ずしもこの限りではない。

なお、図４に示すようなパターン反射層を設けるために形成する反射層（図５（ａ）参照）は、微細凹凸形成層の面に対して均一な表面密度で反射性の薄膜形成する必要が有ることから、ドライコーティング法により形成することが好ましい。具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の公知の方法により形成すればよい。

そして、このようなパターン反射層（１３）、（２３）と相似の形状であって、パターン寸法がパターン反射層（１３）、（２３）より大きく、パターン反射層（１３）、（２３）を覆うように設けられているパターン光学層（１４）、（２４）は、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、グラビア印刷法、インクジェット印刷法、スクリーン印刷法、セキュリティー凹版印刷法、フォトリソグラフィー法等の公知の印刷法によって形成すればよい。また、ネガパターンの穴あきマスクをパターン反射層側に設置し、その上からパターン反射層の構成材料を蒸着することによって設けるようにしてもよい。

このパターン光学層（１４）、（２４）は、上記したように、エッチングとサイドエッチングによりパターン反射層（１３）、（２３）をパターン形成する際に表面保護膜の役割を果たす必要がある為、パターン反射層（１３）、（２３）を溶解させるためのエッチング処理液に対して溶解しないか、溶解速度が極めて遅い構成部材で形成する必要がある。

また、このパターン光学層（１４）、（２４）は、パターン反射層（１３）、（２３）で構成される第一領域（１５）、（２５）の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域（１６）、（２６）が、支持基材（１２）、（２２）側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域とは異なった状態で観察されるようになっている。

具体的には、このようなパターン光学層としては、「観察角度及び光源角度の組み合わ
せによって観察される電磁波の波長が変化する光学層」や、「特定波長領域を選択的に反射、または吸収する光学層」や、「特定の偏光を選択的に反射、透過、または吸収する光学層」、さらには「外部刺激によって特定波長領域の電磁波を発光する光学層」等であればよい。

「観察角度及び光源角度の組み合わせによって観察される電磁波の波長が変化する光学層」としては、「コアシェル型の多層干渉膜顔料」や「鱗片状多層膜フレーク」等を印刷用樹脂バインダー中に分散させたインキを用いて公知の印刷法で設けてなる薄膜層を具体的な例として挙げることができる。

また、「特定波長領域を選択的に反射、または吸収する光学層」としては、着色顔料、着色染料等の他、紫外線吸収材料や赤外線吸収材料、赤外線反射材料を印刷用樹脂バインダー中に分散させたインキを用いて公知の印刷法で設けてなる薄膜層を具体的な例として挙げることができる。

さらにまた、「特定の偏光を選択的に反射、透過、または吸収する光学層」としては、コレステリック液晶顔料を印刷用樹脂バインダー中に分散させたインキを用いて公知の印刷法で設けてなる薄膜層を具体例として挙げることができる。

そして、「外部刺激によって特定波長領域の電磁波を発光することを特徴とする光学層」としては、蛍光、燐光、蓄光の特性を有する染料や顔料を印刷用樹脂バインダー中に分散させたインキを用いて公知の印刷法で設けてなる薄膜層を具体的な例として挙げることができる。また、パターン光学層は、上記した種々のインキを混合して設けるようにしてもよい。

なお、パターン光学層の厚さは安定したパターン形成が可能な範囲であり、且つパターン反射層のパターン形成時におけるエッチング処理に対する表面保護膜の役目を担うようにする必要があるため、０．５μｍ〜５００μｍ程度、より好ましくは１〜５０μｍ程度であればよい。厚さが０．５μｍ未満であるとパターン反射層のパターン形成時における表面保護の効果が低下し、パターン反射層が均一な厚みで残らなくなる場合がある。一方、５００μｍを超えるとパターン光学層を微細なパターンで形成することが難しくなり、また塗布量も多くなることから経済性が悪くなる。

一方、図４に示すような構成になる偽造防止構造体の微細凹凸形成層（２９）は、例えば、樹脂層の一部に微細凹凸パターンを、従来公知のプレス法やキャスティング法やフォトポリマー法等によって賦型させてなる層である。

中でも「フォトポリマー法」（２Ｐ法、感光性樹脂法）は、放射線硬化性樹脂をレリーフ型（微細凹凸パターンの復製用型）と平担な基材（プラスチックフィルム等）との間に流し込み、放射線で硬化させた後、硬化した膜を基板ごとレリーフ型から剥離する方法により得ることが出来る。また、この様な方法によって得られた光学素子は、熱可塑樹脂を使用する「プレス法」や「キャスト法」に比べ微細凹凸パターンの成形精度が良く、耐熱性や耐薬品性にも優れるので好ましい。

これ以外の方法としては、常温で固体状若しくは高粘度状の光硬化性樹脂を使用する方法もある。

微細凹凸形成層（２９）の構成材料としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウ
レタン樹脂や、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂を挙げることができる。

また、微細凹凸パターンをフォトポリマー法によって設ける場合の微細凹凸形成層用の構成材料としては、エチレン性不飽和結合、またはエチレン性不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用することができる。より具体的には、モノマーとしては、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることができる。また、オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等を挙げることができる。さらにポリマーとしては、ウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂等を挙げることができる。

また、光カチオン重合を利用するものとして、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を挙げることができる。また、上記の電離放射線硬化性樹脂には、紫外線等の光によって硬化させる場合には、光重合開始剤を添加することができる。また、樹脂の種類に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型（ハイブリッド型）を添加するようにしてもよい。

さらには、エチレン性不飽和結合、またはエチレン性不飽和基をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を混合したものや、これらに予め反応基を設けておき、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋剤、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で互いに架橋するようにしたもの、さらにはこれらに予め反応基を設けておき、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋剤、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で、その他の樹脂骨格と架橋するようにしたものも使用可能である。このような材料は、エチレン性不飽和結合、またはエチレン性不飽和基をもつポリマーであって、常温では固形で存在し、タックが少ないものであるため、微細凹凸パターンが成形性がよく形成でき、しかも成形用の原版を汚すことが少ない。

また、上記した光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を挙げることができる。

さらにまた、光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を挙げることができる。光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型の構成材料の場合は、上記したそれぞれの重合開始剤を混合して使用することができる。また、一種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用してもよい。

放射線硬化樹脂と光重合開始剤の配合は、一般的には光重合開始剤の配合を０．１〜１５質量％程度とすればよい。樹脂組成物には、さらに、光重合開始剤と組み合わせて増感色素を配合してもよい。また、必要に応じて、染料、顔料、各種添加剤（重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物等）
、架橋剤（例えば、エポキシ樹脂等）、等を含ませるようにしてよく、また、成形性向上のために非反応性の樹脂（前述の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を含む）を添加するようにしてもよい。

微細凹凸形成層を支持基材上に積層するに当たっては、まず、支持基材上に微細凹凸形成層形成用の構成材料からなる薄膜をコーティングにより設ければよい。特にウエットコーティングであれば低コストで塗工できる。塗工膜厚を調整するためには溶媒で適宜希釈して薄膜をコーティングし、乾燥すればよい。

そして、このような微細凹凸形成層を設ける支持基材は、フィルム基材が好ましい。例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＰ（ポリプロピレン）等からなるプラスチックフィルムであるが、微細凹凸パターンの成形時にかかる熱や圧、さらには電磁波によって変形、変質することが少ない材料からなるものを用いることが望ましい。なお、紙や合成紙、プラスチック複層紙や樹脂含浸紙等を支持基材として用いてもよい。

微細凹凸形成層の構成材料からなる薄膜の厚さは、形成しようとする微細凹凸パターンの微細凹凸の深さの１〜１０倍程度、より好ましくは３〜５倍程度とすればよく、具体的には、０．１〜１０μｍ程度の範囲とすればよい。層厚が厚すぎる場合には微細凹凸パターン加工時の加圧による樹脂のはみ出しや、シワが発生し易くなり、厚さが極端に薄い場合には流動性が乏しくなり、十分な成型ができ難くなる。

このようにして形成された微細凹凸形成層の形成用材料からなる薄膜には、所望の光学素子のレリーフ形状が形成されているレリーフ原版と接触させた後、必要であれば熱、圧、電磁波を利用して、レリーフ原版の形状を形状転写させ、微細凹凸形成層を形成することができる。なお、微細凹凸パターンは微細凹凸形成層の表裏に形成するようにしてもよい。

また、レリーフ原版の作成方法については公知の方法を利用すればよいが、ロール状の原版を用いるようにすれば連続成型が可能となる。

以上、本発明の偽造防止構造体を構成する各層について詳細に説明してきたが、傷つき防止の為に最表面に保護膜をさらに設けたり、光学特性を向上させるために最表面に反射膜をさらに設けるようにしてもよい。なお、保護膜や反射膜は、公知のコーティング方法により設ければよい。
また、層間の密着を向上させるために、コロナ処理、フレーム処理、プラズマ処理を施したり、光学特性を向上させるために最表層に反射防止処理を付与するようにしてもよい。
更には、意匠性を向上させるべく、層を着色したり、反射層を多層構成とすることで、多層干渉膜となるようにしてもよい。この場合は、厳密にパターンニングされた多層干渉膜を構成するようにしてもよい。

また、偽造防止構造体は、接着剤を設けた偽造防止シールの形態であってもよい。また、支持基材から転写する機能を有する偽造防止転写箔の形態であってもよい。更には、偽造防止構造体を紙に漉き込んだセキュリティー用紙の形態であってもよい。

そして、このような構成になる偽造防止構造体は、以下のような製造方法によって得ることができる。
図５（ａ）に示すように、まず、透明性を有する支持基材（５２）の上に反射層（５０）を設け（図５（ａ）参照）、さらにその反射層（５０）の上に電磁波の照射により他の
領域と異なるように観察されるようになっているパターン光学層（５４）を所定形状で積層する（図５（ｂ）参照）。
そして次に、エッチングによりパターン光学層（５４）によって覆われていない反射層（５０）の部分を除去し（図５（ｃ）参照）、しかる後に支持基材（５２）上にまだ残っている反射層の周縁をサイドエッチすることによりパターン反射層（５３）を形成する（図５（ｄ）参照）。

このような製造方法によれば、透明性を有する支持基材（５２）の上に、所定形状のパターン反射層（５３）と、このパターン反射層（５３）と相似の形状であって、パターン寸法がパターン反射層（５３）より大きいパターン光学層（５４）とがこの順で少なくとも積層されていると共に、パターン反射層（５３）はパターン光学層（５４）で全体が覆われていて、パターン反射層（５３）で構成される第一領域（５５）の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される第二領域（５６）のみが、支持基材（５２）側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なって観察されるようになっている偽造防止構造体が、第一領域（５５）と第二領域（５６）とが位置精度良好に、しかも第二領域における種々の変化を視認性良好な状態で確認することができるように製造することができる。

まず、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（固形分３５％）１００重量部と、干渉パール顔料（ＭＥＲＣＫ社製のＩｒｉｏｄｉｎ（Ｒ）２０１ Ｒｕｔｉｌｅ Ｆｉｎｅ Ｇｏｌｄ）２０重量部を主体としてなるパターン光学層形成用インキを調製した。
次に、ＰＥＴフィルムからなる支持基材の上にアルミニウムの薄膜（厚み８００Å）を蒸着により設けた後、その上に上記したパターン光学層形成用インキを用い、グラビア印刷法により、所定の形状でパターン光学層を設けた。
続いて、アルカリエッチングによりパターン光学層の設けられていない部分のアルミニウム薄膜を除去した後、更にサイドエッチングによってアルミニウム薄膜の周縁部部分をさらに１００μｍのサイドエッチングを施し、本発明の実施例１に係る偽造防止構造を得た。

得られた偽造防止構造体は、アルミニウムの蒸着薄膜からパターン（第一領域）を囲う様に、キラキラとしたパール顔料を含む幅が１００μｍの第二領域が設置されていると共に、この第二領域を囲うように透明領域が存在するため、綺麗で視認性が良かった。

塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（固形分３５％）１００重量部と、紫外励起可視蛍光顔料２０重量部を主体としてなるパターン光学層形成用インキを使用した以外は実施例１と同様の方法によって、実施例２に係る偽造防止構造体を得た。

得られた偽造防止構造体は、アルミニウムの薄膜からなるパターン（第一領域）を囲う様に、蛍光顔料を含む幅が１００μｍの第二領域が設置されていると共に、第二領域を囲うように透明領域が存在していた。そしてブラックライトを照射してその偽造防止構造体を支持基材側から観察すると第二領域のみが発光し、綺麗で視認性が良かった。

まず、ウレタン樹脂（固形分２０％）１００重量部を主体としてなる微細凹凸形成層形成用インキ組成物と、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（固形分３５％）１００重量部と、干渉パール顔料（ＭＥＲＣＫ社製のＩｒｉｏｄｉｎ（Ｒ）２０１ Ｒｕｔｉｌｅ Ｆｉｎｅ Ｇｏｌｄ）２０重量部を主体としてなるパターン光学層形成用インキ組成物を調製した。

次に、支持基材であるＰＥＴフィルム上に、上記した微細凹凸形成層形成用インキ組成物を用い、グラビア印刷法により１μｍの厚さの薄膜を塗工した後、塗工面に対して回折格子パターンを有する金属金型（ピッチ１．２μｍ）を１５０℃で押し当てて、回折格子のレリーフ形状を転写した。
そして、回折格子のレリーフの部分に、アルミニウムの蒸着薄膜を膜厚８００Åで設けた後、上記したパターン光学層形成用インキ組成物を用い、グラビア印刷法にて３μｍ厚さでパターン光学層を設けた後、アルカリエッチングにてパターン光学層の印刷されていない部分のアルミニウムの蒸着薄膜を除去した。
その後、更にエッチングを施すことによってアルミニウムの蒸着薄膜の周縁を１００μｍの幅でサイドエッチングさせ、本発明の実施例３に係る偽造防止構造を得た。

得られた偽造防止構造体は、回折格子が賦型されているパターン反射層（第一領域）を囲う様に、キラキラとしたパール顔料を含む幅が１００μｍの第二領域が縁取りされていて、綺麗で視認性の良いものであった。

［比較例１］
実施例３に係る偽造防止構造体との比較を行う為に、以下のようにして比較例１に係る構造体を製造した。

まず、ウレタン樹脂（固形分２０％）を主体としてなる微細凹凸形成層形成用インキ組成物と、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（固形分３５％）を主体としてなるエッチングマスク層形成用インキ組成物と、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体（固形分３５％）１００重量部と干渉パール顔料（ＭＥＲＣＫ社製のＩｒｉｏｄｉｎ（Ｒ）２０１ Ｒｕｔｉｌｅ Ｆｉｎｅ Ｇｏｌｄ）２０重量部を主体としてなるパターン光学層形成用インキ組成物を調製した。

そして、支持基材であるＰＥＴフィルム上に、上記した微細凹凸形成層形成用インキ組成物を用い、グラビア印刷法により１μｍの厚さの薄膜を塗工した後、塗工面に対して回折格子パターンを有する金属金型（ピッチ１．２μｍ）を１５０℃で押し当てて、回折格子のレリーフ形状を転写した。
その後、回折格子パターンの上に、アルミニウムの薄膜（膜厚８００Å）で蒸着により設け、さらにその上に上記したエッチングマスク層形成用インキ組成物を用いてグラビア印刷法により３μｍの厚さのパターン印刷層を印刷し、しかる後に、アルカリエッチングにてパターン光学層の印刷されていない部分のアルミニウムの薄膜を除去した。
その後、パターン印刷層を覆うように、パターン印刷層と相似の形状を有し、パターン寸法が大きいパターン光学層をグラビア印刷法により位置あわせをしながら、上記したパターン光学層形成用インキ組成物を用いて設けた。

なお、パターン光学層の印刷パターンは、エッチングマスク層のパターンに対し、１００μｍの縁取りが出来るパターンとした。パターン反射層に対するパターン光学層の位置ズレは、最大で２０００μｍとなり、位置精度が悪く、所望するデザインが得られなかった。

本発明は、意匠性が高く視認性の良い偽造防止構造体、及びその製造方法であることから、有価証券やブランド品、証明書等の偽造を防止するために使用されるラベルや、転写箔、偽造防止用紙などに利用することが可能である。

１１…偽造防止構造体
１２…支持基材
１３…パターン反射層
１４…パターン光学層
１５…第一領域
１６…第二領域
１７…透明領域
２１…偽造防止構造体
２２…支持基材
２３…パターン反射層
２４…パターン光学層
２５…第一領域
２６…第二領域
２７…透明領域
２９…微細凹凸形成層
５０…反射層
５２…支持基材
５３…パターン反射層
５４…パターン光学層
５５…第一領域
５６…第二領域

Claims (2)

1. 透明性を有する支持基材上には微細凹凸パターンが設けられている微細凹凸形成層が積層されていて、微細凹凸形成層の微細凹凸パターンの上には、所定形状の金属材料や金属材料の化合物を構成材料とするパターン反射層と、このパターン反射層と相似の形状であって、パターン寸法が前記パターン反射層より大きい干渉パール顔料を主体としてなるパターン光学層形成用インキを用いグラビア印刷法により設けられたパターン光学層とがこの順で少なくとも積層されていると共に、前記パターン反射層は前記パターン光学層で全体が覆われていて、前記パターン反射層で構成される第一領域の周縁部に位置するパターン光学層の部分で構成される５μｍ〜３０００μｍの幅の第二領域がパターン反射層の無い透明領域で囲われており、前記第二領域のみが、支持基材側から観察した場合に電磁波の照射により他の領域と異なった状態で観察されるようになっていることを特徴とする偽造防止構造体。
2. 透明性を有する支持基材上に反射層を形成し、さらにその反射層上に電磁波の照射により他の領域と異なるように観察されるようになっているパターン光学層を所定形状で積層した後、まずエッチングによりパターン光学層によって覆われていない反射層の部分を除去し、しかる後にサイドエッチングを施して反射層の周縁をサイドエッチすることによりパターン反射層を形成することを特徴とする請求項１記載の偽造防止構造体の製造方法。
   

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