JP2012189935A - 光学素子 - Google Patents
光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012189935A JP2012189935A JP2011055232A JP2011055232A JP2012189935A JP 2012189935 A JP2012189935 A JP 2012189935A JP 2011055232 A JP2011055232 A JP 2011055232A JP 2011055232 A JP2011055232 A JP 2011055232A JP 2012189935 A JP2012189935 A JP 2012189935A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- reflective layer
- optical element
- hologram
- chemical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Printing Methods (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
Abstract
【解決手段】ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、該ホログラム形成層4が、微小凹凸からなる回折構造を有し、該反射層が、パターン状に形成された第1反射層6と、第2反射層7と、を有し、該第1反射層上には、第1反射層より10〜50μm大きくパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層8を有し、かつ、該第2反射層7が、該第1反射層6及び耐薬品性隠蔽樹脂層8を覆うように形成されてなる光学素子。
【選択図】図1
Description
特許文献1では、ホログラム層の上に文字や絵柄等の印刷層が形成された構成が記載されている。
また、特許文献2では、ホログラム層の下層に印刷層を形成し、反射層を部分的に除去することにより下層の印刷層を視認できるようにする構成が記載されている。
図1は、本発明の光学素子の一具体例として転写箔タイプの光学素子を示した断面図で、支持体1上に剥離層2、ホログラム層3、粘着層9を有するホログラム転写シートである。
ホログラム層3はホログラム形成層4と反射層5を有し、ホログラム形成層4は、微小凹凸からなる回折構造を有する。反射層5は、第1反射層6と、第1反射層6を覆うように第2反射層7を有する。第1反射層6は、着色されたパターン状の耐薬品性隠蔽樹脂層8を用いて開口部をエッチングすることによりパターニングされており、過エッチングを施すことにより、過エッチング部分10を形成する。
この過エッチング部分10を有することで、支持体側から視認した時に、過エッチング部分10は反射層が除去されているため下層の着色された耐薬品性隠蔽樹脂層8が認識され、全体としては図2に示すように第1反射層6及び第2反射層7が形成された部分においてホログラム画像12が認識され、過エッチング部分10に微細な絵柄パターン11が認識できるものとなる。
本発明では過エッチングの制御により微細パターンを形成するため、通常の印刷や反射層のディメタライズ加工ではできなかった微細な文字や絵柄のパターンを形成することができる。
ホログラム層3はホログラム形成層4と反射層5を有し、ホログラム形成層4は、微小凹凸からなる回折構造を有する。反射層5は、着色されたパターン状の耐薬品性隠蔽樹脂層8を用いて開口部をエッチングすることによりパターニングされており、過エッチングを施すことにより、過エッチング部分10を形成する。
この過エッチング部分10を有することで、支持体側から視認した時に、過エッチング部分10は反射層が除去されているため下層の着色された耐薬品性隠蔽樹脂層8が認識され、全体としては図4に示すように反射層5が形成された部分においてホログラム画像12が認識され、過エッチング部分10に微細な絵柄パターン11が認識できるものとなる。
本発明では過エッチングの制御により微細パターンを形成するため、通常の印刷や反射層のディメタライズ加工ではできなかった微細な文字や絵柄のパターンを形成することができる。
また、これら樹脂フィルムに剥離層を設けたり、易接着処理を行ったりして剥離保護層の剥離強度を調整したフィルムを支持体として利用することもできる。また、帯電防止処理、マット加工、エンボス処理等の加工を施したフィルムも使用することができる。
このような凹凸パターンは、例えば、二光束干渉法を使用して感光性樹脂の表面に互いに可干渉の2本の光線を照射してこの感光性樹脂表面に干渉縞を生成させ、この干渉縞を凹凸の形態で感光性樹脂に記録することで形成することができる。尚、この二光束性干渉法によって形成された干渉縞をホログラムと呼び、前記2本の光線の選択によって任意の立体画像を記録することが可能である。また、観察する角度に応じて異なる画像(以下チェンジング画像と言う)を見ることができるように記録することも可能である。
前記レリーフ型回折格子による回折構造形成層に適用される樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等が挙げられる。また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等が使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等が使用できる。
なお、微細な凹凸パターンは全面に設けてもよいし、部分的に設けてもよい。
反射層5の厚みとしては1〜1000nm程度、好ましくは1〜50nm程度に制御できる。
第1反射層6は、第2反射層7は、ともに反射輝度が高い点で金属材料からなる薄膜が好ましく利用できる。金属材料としては、例えば、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、真鍮等が挙げられる。第1反射層6は、特に限定するものではないが例えば真空製膜法により形成することができる。真空製膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用できる。
第1反射層6は、第2反射層7はの厚みとしては1〜1000nm程度、好ましくは1〜50nm程度に制御できる。
この過エッチングされた部分が、支持体、剥離層側から見たときに透けて見え、下層に来る着色された耐薬品性隠蔽樹脂層の色味を認識できるようになるものである。
そして、過エッチング量を制御することにより、従来の印刷や、反射層のディメタライズされた部分の抜けを用いた絵文字形成より、微細な文字や絵柄のパターンを形成できるものとなる。
着色剤としては、オレオゾールブルー(住友化学工業社製:青色)、オレオゾールファーストレッド(住友化学工業社製:赤色)などの染料や黒色カーボンや、各種着色顔料などがあげられる。
これらの樹脂インキをグラビア印刷やオフセット印刷など公知の印刷方法により印刷することで耐薬品性隠蔽樹脂層を形成できる。
また、着色されたフォトレジストを用いてパターニングしたものを用いてもよい。
このようなものとしてはアルカリ系のエッチング液や酸性のエッチング液を用いることができる。
エッチング条件は、所望の量だけ過エッチングできるよう設定できる。具体的には、エッチング液の温度や浸漬時間などを変えることにより制御できる。
基材として厚み25μ、のポリエステルフィルムを用い、このフィルムの片面に下記(1)、(2)、(3)、(4)、(5)の各組成物を用い、剥離保護層(厚さ3μm)、ホログラム形成層(厚さ1.5μm)、反射層(100μm)、接着層(3μm)を順次塗布形成して転写シートを作成した。
なお、反射層としては第1反射層と第2反射層の2層からなるものを用い、以下のように形成した。
まず、ホログラム形成層上に蒸着法により第1反射層を形成した。
次に、(6)に示す青色に着色した耐アルカリ性樹脂インキにより着色された耐薬品性隠蔽樹脂層を、グラビア印刷法により第1反射層上にドーナツ状の開口部を有するように形成し、(7)に示すエッチング液を用いて第1反射層の耐薬品性隠蔽樹脂層が形成されていない開口部をエッチングすることにより第1反射層を部分的に除去してパターニングした。
なお、反射層を耐薬品性隠蔽樹脂層から50μm過エッチングされるように反射層を除去した。
その後第2反射層を形成した。
アクリル樹脂(Tg.105℃)
ポリエチレンパウダー
メチルエチルケトン
トルエン
(2)ホログラム形成層
ウレタン樹脂
メチルエチルケトン
酢酸エチル
(3)第1反射層
アルミニウム(厚み50nm)
(4)第2反射層
Sn(最大厚み60nm)
(5)接着層組成物
塩酸酢酸ビニル共重合体
アクリル樹脂
酢酸エチル
トルエン
(6)着色された耐薬品性隠蔽樹脂層
デメタライジング加工用アクリル系樹脂100質量部
青色染料:オレオゾールブルー(住友化学工業社製)20質量部配合
(7)エッチング液
水酸化アルミニウム水溶液
基材として厚み25μ、のポリエステルフィルムを用い、このフィルムの片面に下記(1)、(2)、(3)、(4)の各組成物を用い、剥離保護層(厚さ3μm)、回折構造形成層(厚さ1.5μm)、反射層(50μm)、印刷層(5μm)、接着層(3μm)を順次塗布形成して転写シートを作成した。
なお、反射層と印刷層は、以下のように形成した。
まず、ホログラム形成層上に蒸着法により反射層を形成した。
次に、(6)に示す着色された耐薬品性隠蔽樹脂層を、反射層上にドーナツ状の開口部を有するように形成し、(7)に示すエッチング液を用いて反射層の耐薬品性隠蔽樹脂層が形成されていない開口部をエッチングすることにより反射層を部分的に除去してパターニングした。
なお、反射層を耐薬品性隠蔽樹脂層から50μm過エッチングされるように反射層を除去した。
次に、その後グラビア印刷法により印刷層を形成した。
アクリル樹脂(Tg.105℃)
ポリエチレンパウダー
メチルエチルケトン
トルエン
(2)ホログラム形成層
ウレタン樹脂
メチルエチルケトン
酢酸エチル
(3)反射層
アルミニウム(厚み50nm)
(4)印刷層
水性グラビアインキ
(5)接着層組成物
塩酸酢酸ビニル共重合体
アクリル樹脂
酢酸エチル
トルエン
(6)着色された耐薬品性隠蔽樹脂層
デメタライジング加工用アクリル系樹脂100質量部
青色染料:オレオゾールブルー(住友化学工業社製)20質量部配合
(7)エッチング液
水酸化アルミニウム水溶液
2・・・・剥離保護層
3・・・・ホログラム層
4・・・・ホログラム形成層
5・・・・反射層
6・・・・第1反射層
7・・・・第2反射層
8・・・・耐薬品性隠蔽樹脂層
9・・・・粘着層
10・・・反射層の過エッチング部分
11・・・微細パターン
12・・・ホログラム画像
13・・・印刷層
14・・・印刷層
15・・・パターン
16・・・印刷層
Claims (4)
- ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、
該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、
該反射層が、パターン状に形成された第1反射層と、第2反射層と、を有し、
該第1反射層上には、第1反射層より10〜50μm大きくパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層を有し、かつ、
該第2反射層が、該第1反射層及び耐薬品性隠蔽樹脂層を覆うように形成されてなる
ことを特徴とする光学素子。 - ホログラム形成層と反射層を有するホログラム層を有する光学素子であって、
該ホログラム形成層が、微小凹凸からなる回折構造を有し、
該反射層が、パターン状に形成されてなり、
該反射層上には、反射層より10〜50μm大きくパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層を有し、
該印刷層が、該反射層及び耐薬品性隠蔽樹脂層を覆うように形成されてなることを特徴とする光学素子。 - 微小凹凸からなる回折構造を有するホログラム形成層を形成する工程、
ホログラム形成層上に第1反射層を形成する工程、
第1反射層上に耐薬品性隠蔽樹脂層をパターン状に形成する工程、
第1反射層を部分的に除去する工程、
部分的に除去された第1反射層上に第2反射層を形成する工程、
を有する光学素子の製造方法であって、
該第1反射層を部分的に除去する工程で、第1反射層をパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層より10〜50μm小さくなるよう過剰に除去することを特徴とする光学素子。 - 微小凹凸からなる回折構造を有するホログラム形成層を形成する工程、
ホログラム形成層上に第1反射層を形成する工程、
第1反射層上に耐薬品性隠蔽樹脂層をパターン状に形成する工程、
第1反射層を部分的に除去する工程、
部分的に除去された第1反射層上に印刷層を形成する工程、
を有する光学素子の製造方法であって、
該第1反射層を部分的に除去する工程で、第1反射層をパターン状に形成された耐薬品性隠蔽樹脂層より10〜50μm小さくなるよう過剰に除去することを特徴とする光学素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011055232A JP2012189935A (ja) | 2011-03-14 | 2011-03-14 | 光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011055232A JP2012189935A (ja) | 2011-03-14 | 2011-03-14 | 光学素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012189935A true JP2012189935A (ja) | 2012-10-04 |
Family
ID=47083126
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011055232A Pending JP2012189935A (ja) | 2011-03-14 | 2011-03-14 | 光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012189935A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017500607A (ja) * | 2013-11-29 | 2017-01-05 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー | 多層体およびその製造方法 |
CN108859461A (zh) * | 2018-06-05 | 2018-11-23 | 广东昂斯新材料技术有限公司 | 一种带有2d防伪图案的tpu光栅复合膜制备方法 |
CN113085406A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-07-09 | 福建骏昇光学科技有限公司 | 一种3d光栅印刷制备工艺 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007304601A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Jds Uniphase Corp | ホログラムおよび色シフト・インクによって形成されるセキュリティ・デバイス |
WO2010147185A1 (ja) * | 2009-06-18 | 2010-12-23 | 凸版印刷株式会社 | 光学素子及びその製造方法 |
JP2011031574A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止構造体及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-03-14 JP JP2011055232A patent/JP2012189935A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007304601A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Jds Uniphase Corp | ホログラムおよび色シフト・インクによって形成されるセキュリティ・デバイス |
WO2010147185A1 (ja) * | 2009-06-18 | 2010-12-23 | 凸版印刷株式会社 | 光学素子及びその製造方法 |
JP2011031574A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止構造体及びその製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017500607A (ja) * | 2013-11-29 | 2017-01-05 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー | 多層体およびその製造方法 |
US10850551B2 (en) | 2013-11-29 | 2020-12-01 | Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg | Multi-layer body and method for the production thereof |
CN108859461A (zh) * | 2018-06-05 | 2018-11-23 | 广东昂斯新材料技术有限公司 | 一种带有2d防伪图案的tpu光栅复合膜制备方法 |
CN113085406A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-07-09 | 福建骏昇光学科技有限公司 | 一种3d光栅印刷制备工艺 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5564777B2 (ja) | セキュリティフィルム、転写箔及び印刷物 | |
JP6269482B2 (ja) | 異方性反射表示体、並びに異方性反射表示体を用いた情報記録体 | |
JP5169083B2 (ja) | 偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シール、偽造防止媒体、およびこれらの製造方法 | |
JP2008015071A (ja) | 偽造防止磁気テープ転写シートおよびカード | |
JP2009134094A (ja) | 回折構造転写箔及びそれを用いた偽造防止媒体 | |
WO2015174089A1 (ja) | 回折構造転写箔とそれを用いた偽造防止媒体 | |
JP2009175579A (ja) | 回折構造転写箔及び回折構造被転写媒体 | |
JP2022163029A (ja) | ホットスタンピング箔および積層光学装飾体付印刷体 | |
JP5169093B2 (ja) | 偽造防止積層体、偽造防止転写箔、偽造防止シール、偽造防止媒体、及びこれらの製造方法 | |
JP2012189935A (ja) | 光学素子 | |
JP5200649B2 (ja) | 熱転写媒体及び回折構造体 | |
JP5256718B2 (ja) | 転写箔及び表示体付き物品 | |
JP2011027832A (ja) | 表示体および転写箔並びに偽造防止媒体 | |
JP4857715B2 (ja) | Icカード | |
JP4862343B2 (ja) | 磁気転写シート及び磁気記録媒体とその製造方法 | |
JP4967566B2 (ja) | 転写シート | |
JP5672628B2 (ja) | 転写箔及びラベル付き物品の製造方法、並びに積層体 | |
JP4765201B2 (ja) | Ovdシールおよびその製造方法 | |
JP2002328213A (ja) | 情報表示媒体とその製造方法、並びにovd転写箔とovdシール | |
JP2002366038A (ja) | Ovdシールとその製造方法およびその貼り付け方法 | |
JP5691381B2 (ja) | 光学素子及びカード | |
JP5464019B2 (ja) | カード及び磁気転写シート並びに磁気転写シートの製造方法 | |
JP5028727B2 (ja) | 反射体およびこの反射体を用いた媒体 | |
JP6939772B2 (ja) | 回折構造形成体、回折構造形成体付き物品、および、回折構造形成体の製造方法 | |
JP5884860B2 (ja) | 光学素子及びカード並びにそれらの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150113 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150316 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150707 |