JP5028727B2

JP5028727B2 - 反射体およびこの反射体を用いた媒体

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Publication number: JP5028727B2
Application number: JP2001259326A
Authority: JP
Inventors: 章久保
Original assignee: Toppan Inc
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2001-08-29
Filing date: 2001-08-29
Publication date: 2012-09-19
Anticipated expiration: 2021-08-29
Also published as: JP2003066210A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射層を有する反射体、およびこの反射体を用いた転写箔、ステッカー、漉き込み安全線などの部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、転写箔、ステッカー、漉き込み安全線などは、真空蒸着法により、全面もしくはパターン状に形成した反射層を有するものが一般的であった。
【０００３】
一方、パターン状反射層の形成方法としては、水洗シーライト加工、エッチング加工、レーザ加工などにより、パターン化し、実現される。
水洗シーライト加工とは、水洗インキを基材上にネガパターンで印刷しておき、その上から蒸着やスパッタを用いて全面に金属薄膜を形成し、水洗インキを水で洗い流すと同時に金属薄膜を取り除くことによりパターンを形成する加工方法である。
エッチング加工とは、金属薄膜上にポジパターンでマスキング剤を印刷し、金属腐食剤でマスキングされていない部分を腐食させることによりパターンを形成する加工方法である。
レーザ加工とは、金属薄膜の除去したい部分に強いレーザを当てて金属をとばすことによりパターンを形成する加工方法である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
これら、反射層を形成する物質は、主に金属もしくはセラミックスであり、全面に形成された場合はもちろんのこと、パターン状に設けられた場合であってもミクロ的には連続につながった構造を持つ。
このようにミクロ的に連続している構造では、反射層を腐食する物質がエッジもしくは上下層の傷やクラックなどから侵入した場合、全体が侵食されるため、反射層の耐性の面で問題がある。
【０００５】
そこで、ミクロ的に不連続な微細海島構造にて反射層を形成し、エッジもしくは上下層の傷やクラックなどから浸入した腐食物質の影響を最小限に食い止め、耐性を向上させることを課題とする。
【０００６】
本発明の課題を解決するための請求項１では、１６μｍのＰＥＴ原反に、アクリル系樹脂の剥離保護層を２μｍで塗工し、さらにウレタン系樹脂のホログラム形成層を０．５μｍの膜厚で塗工し、ホログラムを形成した基材の少なくとも一部に、島部分に反射層形成物質が存在している微細海島構造を有する反射層を設けた反射基材の、前記反射基材の反射層を設けた側に封止層を設け、かつ前記島部分の面積率が７０％であることを特徴とする反射体である。
【０００７】
また、請求項２では、反射層をパターン状に形成したことを特徴とする請求項１記載の反射体である。
【０００８】
また、請求項３では、基材に回折構造を設けたことを特徴とする請求項１、または２記載の反射体である。
【０００９】
また、請求項４では、反射層が、真空蒸着法により作製したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかからなる記載の反射体である。
【００１０】
また、請求項５では、請求項１ないし４記載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特徴とする転写箔である。
【００１１】
また、請求項６では、請求項１ないし４記載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特徴とするステッカーである。
【００１２】
また、請求項７では、請求項１ないし４記載のいずれかからなる反射体を用いて形成したことを特徴とする漉き込み安全線である。
【００１３】
また、請求項８では、請求項５ないし７記載の転写箔、ステッカー、漉き込み安全線のいずれかを基体に設けたことを特徴とする媒体である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
本発明で微細海島構造で形成した反射層を基材に設けるには、Ｖｏｌｍｅｒ−Ｗｅｂｅｒの成長様式にモデル化された条件で蒸着することにより得ることができる。
この成長様式では、初期段階で図１、図２に示すような、３次元的な蒸着物質（１２）による島が基材（１１）上に形成される。
次に、蒸着時間が進むにつれて図３、図４のように蒸着物質（２２）の島同士が接触し融合しながら拡大し、さらに、蒸着時間が進むと図５、図６のように、全面を覆う蒸着物質（５１）の膜となる。
本発明に用いる反射基材は、図３、図４のように不連続な微細な島が存在している状態で蒸着を止めることにより微細海島構造を形成する。
【００１５】
そして、図７に示すように、反射基材の微細海島構造で設けた反射層（７２）の表面にコーティングもしくはラミネートなどによって封止層（７３）を設けることにより、腐食性物質の浸入を防ぐ構造を形成することができる。
ここで、入射光（７４）は、一部が透過光（７６）として透過するものの、反射光（７５）として反射し、反射体としての効果を示す。
【００１６】
一般の反射体は、図８に示すように反射層が連続的に形成されたものであり、エッジ部分からの腐食、基材（８１）もしくは封止層（８３）の傷やクラックを通して浸入する腐食物質により連続的に腐食されてしまうおそれがある。
【００１７】
しかし、本発明の反射体は図９に示すように反射層が不連続に形成されているため、エッジ部分からの腐食、基材（９１）もしくは封止層（９３）の傷やクラックを通して腐食物質が浸入した場合でも、腐食が全体に進むことがないため耐性が向上する。
【００１８】
ここで、パターン状に反射層を設ける方法としては、水洗シーライト加工、エッチング加工、レーザ加工などを用いて行うことができる。
例えば、図１０に示すように微細海島構造による反射層形成部分（１０１）と反射層不形成部分（１０２）により、パターンを設けることができる。このパターンは、文字以外にも反射物質のあるなしによるモノトーン表現ができる画像であれば特に限定されるものではない。
【００１９】
水洗シーライト加工は、基材上に水洗インキをあらかじめネガパターンで印刷しておき、微細海島構造で全面に反射層を設けた後、水洗インキを水で洗い流すと同時に反射層を部分的に取り除くことによりパターン状の反射層を形成する方法である。
【００２０】
また、エッチング加工は、基材上に蒸着により反射層を形成し、マスキング剤をポジパターンで印刷し、マスキングされていない部分を腐食液により腐食することによりパターン状の反射層を形成する方法である。
【００２１】
また、レーザ加工は、基材上に蒸着により金属薄膜を形成し、強いレーザ光を当てることにより、加熱蒸発することによりパターン状の金属薄膜を形成する方法である。
【００２２】
これら反射体は、回折構造形成体としても形成することができる。
【００２３】
回折構造形成体は、一般にホログラムと回折格子に分けられる。
ホログラムは、光学的な撮影方法により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製し、次に、このマスター版から電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル製のプレス版を作製する。
そして、このプレス版をホログラムを形成する層に加熱押圧する方法により大量複製が行われている。
このタイプのホログラムはレリーフ型ホログラムと称されている。
【００２４】
また、回折格子を用いたものは、このような実際のものを撮影するホログラムとは異なり、微少なエリアに複数種類の単純な回折格子を配置して画素とし、これらの画素を用いて画像を表現するものである。
このような回折格子を用いた画像は、レリーフ型ホログラムと同様な方法で大量複製が行われている。
【００２５】
これら回折構造を形成した基材に、微細海島構造により形成した反射層を設けることにより、回折構造を有する反射体を作製することができる。また、加工の順番として反射層を形成した後に回折構造を形成することもできる。
【００２６】
これら反射体は、転写箔、ステッカー、紙への漉込安全線として加工することができる。
【００２７】
転写箔は、図１１に示すように、基材（１１１）に剥離保護層（１１２）を塗工し、上記の反射層（１１３）を形成し、封止層（１１４）および接着層（１１５）を塗工する。ここで、回折構造を形成する場合には、剥離保護層の上に熱成形性を考慮した回折構造形成層を設けることができる。また、性能を満たす場合には、封止層と接着層を１層で設けることもできる。
また、各層に着色もしくは蛍光材料を入れることができる。
これらの転写箔を媒体に転写するには、ホットスタンプなどの転写機を用いて媒体基材に貼付する。
【００２８】
ステッカーは、図１３に示すように、基材に上記の反射層（１３２）を形成し、封止層（１３３）および粘着層（１３４）を塗工する。回折構造を形成する場合には、基材に熱成形性を考慮した回折構造形成層を設けることができる。性能を満たす場合には、封止層と粘着層を兼ね、１層で設けることができる。
また、各層に着色もしくは蛍光材料を入れることができる。
これらステッカーは、媒体に貼付して使用する。
【００２９】
漉き込み安全線は、図１４に示すように、基材（１４１）に上記の反射層（１３２）を形成し、封止層（１４３）を塗工した後、両面に接着層（１４４）を塗工する。回折構造を形成する場合には、基材に熱成形性を考慮した回折構造形成層を設けることができる。性能を満たす場合には、封止層と接着層を兼ね、１層で設けることができる。
また、各層に着色もしくは蛍光材料を入れることができる。
この漉き込み安全線を、例えば１から５ｍｍ程度の幅にスリットし、紙を漉く際に漉き込む。漉き込む方法としては、完全に紙の中に漉き込む方法と少なくとも片面の少なくとも一部に窓を開け、直接見えるように漉き込む方法のどちらでもかまわない。これら漉き込み安全線を漉き込んだ紙を媒体の基材として用いることができる。
【００３０】
図１５はこれら反射体を用いた媒体（１５１）の例である。基体の片面の一部漉き込み安全線を漉き込んだ用紙にホログラム転写箔もしくはステッカー（１５３）を貼付したものである。これら反射体は紙幣、商品券、株券、パスポート、免許証、カードなどの有価証券、認証媒体もしくはこれらに準ずる媒体に用いることができる。
【００３１】
【実施例】
本発明の具体的実施例を示すが、特にこれに限定されるものではない。
以下に示す漉き込み安全線入りの用紙により得られた用紙に、印刷により画像や文字等の情報を設け、さらに、以下のホログラム転写箔により得られた転写箔を転写し、商品券に用いる媒体を得た。
【００３２】
［漉き込み安全線入り用紙］
１６μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）原反に、ウレタン系樹脂の剥離保護層をグラビアコーティング法により、０．５μｍの膜厚で塗工した。
この原反に、ニッケル製のホログラム版を取り付けたエンボス機を用いてホログラム画像を形成した。このホログラム画像を形成した面に、水洗インキによりネガパターンで印刷した後、島部分の面積率が７０％となる条件でＳｎ蒸着により微細海島構造を形成した。
そして、水洗インキを水洗し、パターン状の反射層を形成した。
得られたホログラムにポリエステル樹脂系の接着層をグラビアコーティング法により両面に２μｍの膜厚で塗工し、２ｍｍの幅にスリットし、片面の一部が表面に現れるように紙に漉き込んだ。
【００３３】
［ホログラム転写箔］
１６μｍのＰＥＴ原反に、アクリル系樹脂の剥離保護層をグラビアコーティング法により２μｍの膜厚で塗工し、次に、ウレタン系樹脂のホログラム形成層をグラビアコーティング法を用いて、０．５μｍの膜厚で塗工した。
この原反に、ニッケル製のホログラム版を取り付けたエンボス機を用いてホログラム画像を形成した。このホログラム画像を形成した面に、水洗インキによりネガパターンで印刷した後、島部分の面積率が７０％となる条件でＳｎ蒸着により微細海島構造を形成した。
そして、水洗インキを水洗し、パターン状の反射層を形成した。得られたホログラムにアクリル系樹脂の接着層をグラビアコーティング法により２μｍの膜厚で塗工した。
【００３４】
【発明の効果】
反射層が、微細海島構造で不連続となったため、腐食物質によりエッジ部分から連続的に浸されることがなくなり、耐性の高い反射体を有する媒体とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】微細海島構造による反射層の平面図。
【図２】図１のＸ−Ｘにおける断面図。
【図３】微細海島構造による反射層の平面図。
【図４】図３のＹ−Ｙにおける断面図。
【図５】全面反射層の平面図。
【図６】図５のＺ−Ｚにおける断面図。
【図７】微細海島構造による反射層による反射状態を示す説明図。
【図８】全面反射層の腐食状態を示す説明図。
【図９】微細海島構造による反射層の腐食状態を示す説明図。
【図１０】パターン状に設けた微細海島構造による反射層の一例を示す説明図。
【図１１】転写前の転写箔を示す断面図。
【図１２】転写後の転写箔を示す断面図。
【図１３】ステッカーの一例を示す断面図。
【図１４】漉き込み安全線の一例を示す断面図。
【図１５】媒体の一例を示す説明図。
【符号の説明】
１１、２１、３１、４１、６１、７１、８１、９１、１１１、１３１、１４１…基材
１２、２２、３２、４２、５１、６２…蒸着物質
７２、８２、９２、１１３、１２２、１３２、１４２…反射層
７３、８３、９３、１１４、１２３、１３３、１４３…封止層
７４…入射光
７５…反射光
７６…透過光
８４、９４…傷もしくはクラック
８５、９５…浸食部分
１０１…反射層形成部分
１０２…反射層非形成部分
１１２、１２１…剥離保護層
１１５、１２４、１４４…接着層
１２５、１３５、１５１…媒体基材
１３４…粘着層
１５２…漉き込み安全線
１５３…転写箔もしくはステッカー

Claims

１６μｍのＰＥＴ原反に、アクリル系樹脂の剥離保護層を２μｍで塗工し、さらにウレタン系樹脂のホログラム形成層を０．５μｍの膜厚で塗工し、ホログラムを形成した基材の少なくとも一部に、島部分に反射層形成物質が存在している微細海島構造を有する反射層を設けた反射基材の、前記反射基材の反射層を設けた側に封止層を設け、かつ前記島部分の面積率が７０％であることを特徴とする反射体。
前記反射層が、パターン状であることを特徴とする請求項１記載の反射体。
前記基材が、回折構造を有することを特徴とする請求項１または２記載の反射体。
前記反射層が、真空蒸着法により作製されたことを特徴とする請求項１ないし３記載のいずれかからなる反射体。
請求項１ないし４のいずれかからなる反射体を用いたことを特徴とする転写箔。
請求項１ないし４のいずれかからなる反射体を用いたことを特徴とするステッカー。
請求項１ないし４のいずれかからなる反射体を用いたことを特徴とする漉き込み安全線。
請求項５ないし７のいずれかからなる転写箔、ステッカー、漉き込み安全線のいずれかを基体に設けたことを特徴とする媒体。