JPWO2019229894A1 - 半導体モジュールおよび電力変換装置 - Google Patents

半導体モジュールおよび電力変換装置 Download PDF

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Abstract

半導体モジュール(1)は、半導体チップ(7、9、11)を含む上アームモジュール(3)と、半導体チップ(7、9、11)を含む下アームモジュール(13)とを備えている。下アームモジュール(13)では、帯状のリードフレーム(31)の主面と帯状のリードフレーム(32)の主面とが互いに対向するように、リードフレーム(31)とリードフレーム(32)とが配置されている対向配置部(81)と、リードフレーム(31)の主面とリードフレーム(32)の主面とが対向しないように、リードフレーム(31)とリードフレーム(32)とが配置されている非対向配置部(83)とが設けられている。

Description

本発明は、半導体モジュールおよび電力変換装置に関し、特に、ダイレクトリードボンディング構造を有する半導体モジュールと、その半導体モジュールを適用した電力変換装置とに関する。
近年、半導体モジュールの長期的な信頼性と損失低減との観点から、高速駆動の要求も大きくなっている。それらを両立させる解決策の一つに、半導体チップにリードフレームをはんだ等の接合材によって直接接合するDLB(Direct Lead Bonding)構造がある。
DLB構造の場合、一般的にワイヤボンディング構造より、長寿命化が可能であり、高速駆動の妨げとなる寄生インダクタンスも低減しやすいものの、ワイヤボディング構造よりも設計上の制約が多い。たとえば、並列接続された半導体チップでは、半導体チップ毎の電流ループにおいて、寄生のインダクタンスがそれぞれ異なる等の影響によって、並列接続された半導体チップ間の電流に偏りが発生しやすくなるという課題がある。
特許文献1には、このような課題を解決する半導体モジュールが提案されている。特許文献1に提案されている半導体モジュールでは、配線導体を全面的に対向させることにより、寄生インダクタンスを低減するとともに、電気的に並列に接続された半導体チップ間の電流ループにおける寄生インダクタンスを均等化することで、半導体チップ間の電流を均一化させている。
特開2015−018943号公報
従来の手法では、電気的に並列させる半導体チップの数が2つの場合には、半導体チップ間の電流を均一化させる効果を得ることはできる。しかしながら、3つ以上の半導体チップを同じ方向に電気的に並列に接続させる場合には、相互インダクタンスが大きすぎる箇所ができてしまうことがある。また、その反対に、相互インダクタンスが小さすぎる箇所ができてしまうことがある。このため、半導体チップ間の電流を均等化させることが難しく、電気的に並列に接続された半導体チップ間の電流の偏りを解消することができないことがある。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、一つの目的は、半導体チップ間の電流の偏りを解消することができる半導体モジュールを提供することであり、他の目的は、そのような半導体モジュールを適用した電力変換装置を提供することである。
本発明に係る半導体モジュールは、基材と複数の半導体チップと第1配線導体と第2配線導体とを有する。基材は主面を有し、導体および絶縁体の少なくともいずれかを含む。複数の半導体チップは、基材の主面にそれぞれ搭載されている。第1配線導体は、複数の半導体チップを電気的に並列に接続する態様で、複数の半導体チップのそれぞれに電気的に接続されている。第2配線導体は、第1配線導体と電気的に接続されている。第1配線導体および第2配線導体では、第1配線導体と第2配線導体とが互いに対向するように配置されている対向配置部と、第1配線導体と第2配線導体とが互いに対向しないように配置されている非対向配置部とが設けられている。
本発明に係る電力変換装置は、上記半導体モジュールを有し、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、主変換回路を制御する制御信号を主変換回路に出力する制御回路とを備えている。
本発明に係る半導体モジュールによれば、第1配線導体および第2配線導体では、対向配置部と非対向配置部が設けられていることで、複数の半導体チップのそれぞれを流れる電流の均一化を図ることができる。
本発明に係る電力変換装置によれば、上記半導体モジュールを有することで、複数の半導体チップのそれぞれを流れる電流の均一化を図ることができる。
本発明の各実施の形態に係る半導体モジュールの回路図である。 本発明の実施の形態1に係る半導体モジュールの部分上面図である。 同実施の形態において、図2に示す断面線III−IIIにおける部分断面図である。 同実施の形態において、半導体モジュールにおける対向配置部と非対向配置部を示す部分断面図である。 同実施の形態において、半導体モジュールの等価回路の概要を示す図である。 同実施の形態において、封止材によって封止された半導体モジュールを示す部分断面図である。 同実施の形態において、変形例に係る半導体モジュールの部分断面図である。 同実施の形態において、変形例に係る半導体モジュールにおける対向配置部と非対向配置部を示す部分断面図である。 本発明の実施の形態2に係る半導体モジュールの部分断面図である。 同実施の形態において、半導体モジュールにおける対向配置部と非対向配置部を示す部分断面図である。 同実施の形態において、変形例に係る半導体モジュールの部分断面図である。 同実施の形態において、変形例に係る半導体モジュールにおける対向配置部と非対向配置部を示す部分断面図である。 本発明の実施の形態3に係る半導体モジュールの部分上面図である。 同実施の形態において、図13に示す断面線XIV−XIVにおける部分断面図である。 同実施の形態において、半導体モジュールにおける対向配置部と非対向配置部を示す部分平面図である。 同実施の形態において、図15に示す断面線XVI−XVIにおける半導体モジュールの対向配置部と非対向配置部を示す部分断面図である。 本発明の実施の形態4に係る、半導体パワーモジュールを適用した電力変換装置のブロック図である。
はじめに、各実施の形態に係る半導体モジュールの回路図について説明する。図1に、半導体モジュール1の回路図を示す。図1に示すように、半導体モジュール1は3相インバータの1相分に相当する。3つの半導体モジュール1を電気的に並列に接続することで、3相モータ(図示せず)を駆動させる。また、半導体モジュール1は、単相のインバータまたは単相のコンバータとしても使用することが可能である。
半導体モジュール1は、端子P、端子Nおよび外部端子ACを有する。端子Pは、電源の陽極または平滑用コンデンサの陽極に電気的に接続される。端子Nは、電源の陰極または平滑用コンデンサの陰極に電気的に接続される。外部端子ACは、モータ等に電気的に接続される。
端子Pと外部端子ACとの間に電気的に並列に接続される半導体チップ7、9、11は、上アーム素子5と称される。半導体チップ7、9、11により、半導体モジュール1の一部として、上アームモジュール3が構成される。
外部端子ACと端子Nとの間に電気的に並列に接続される半導体チップ17、19、21は、下アーム素子15と称される。半導体チップ17、19、21により、半導体モジュール1の他の一部として、下アームモジュール13が構成される。
半導体モジュール1における上アーム素子5および下アーム素子15のそれぞれでは、3つのMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)が電気的に並列に接続されている。図1に示す半導体モジュール1の回路図では、上アーム素子5および下アーム素子15のそれぞれとして、MOSFETだけが適用されているが、MOSFETと還流用のダイオードとが逆並列に電気的に接続されていてもよい。
また、MOSFETの代わりに、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)と還流用のダイオードとが逆並列に電気的に接続されていてもよい。さらに、上アーム素子5および下アーム素子15のそれぞれでは、3つの半導体チップが電気的に並列に接続されているが、4つ以上の半導体チップが電気的に並列に接続されていてもよい。
図1に示されるように、上アーム素子および下アーム素子のそれぞれのMOSFETは、制御用の電極としてゲート電極Gおよびソース電極Sを有する。MOSFETの制御用の電極としては、ゲート電極Gおよびソース電極S以外に、たとえば、半導体チップの温度を検出するための温度センス用ダイオードに接続された電極を有していてもよい。または、半導体チップに流れる電流を検出するための電流検出用ダイオードに接続された電極を有してもよい。以下、半導体モジュール1の構造について具体的に説明する。なお、各実施の形態では、説明の便宜上、X−Y−Z座標軸を用いて説明する。
実施の形態1.
ここでは、半導体モジュール1の一部である下アームモジュール13の第1例について説明する。
図2および図3に示すように、下アームモジュール13では、半導体チップ17、19、21を備えている。半導体チップ17、19、21は、基材としての基板41に搭載されている。基板41は、たとえば、絶縁体43、導体45および導体47を備えている。導体45は、絶縁体43の一方の表面に接合されている。導体47は、絶縁体43の裏面に接合されている。
半導体チップ17は、導電性の接合材61によって、導体45に電気的に、かつ、熱的に接続されている。半導体チップ19は、導電性の接合材62によって、導体45に電気的に、かつ、熱的に接続されている。半導体チップ21は、導電性の接合材63によって、導体45に電気的に、かつ熱的に接続されている。
導体45および導体47のそれぞれは、たとえば、銅、アルミニウム等の金属から形成されている。絶縁体43は、たとえば、窒化珪素、窒化アルミニウム等のセラミック、または、樹脂等から形成された絶縁シート等が適用される。導体47は、長期信頼性と放熱性との観点から用いることが望ましいが、必ずしも必要ではない。接合材61、62、63として、たとえば、はんだ、銀、銅等の材料が適用される。
導体45には、接合材68によってリードフレーム33が電気的に接続されている。リードフレーム33は、外部端子AC(図1参照)に電気的に接続されている。リードフレーム33は、たとえば、銅等の金属から形成されている。接合材68は、たとえば、はんだ、銀、銅等の材料が適用される。接合材68の代わりに、リードフレーム33を、超音波またはレーザを用いて導体45に直接接合してもよい。また、リードフレーム33の代わりに、金属からなるワイヤまたはリボン等を用いてもよい。
半導体チップ17の上面には、接合材64によってリードフレーム32が電気的に接続されている。半導体チップ19の上面には、接合材65によってリードフレーム32が電気的に接続されている。半導体チップ21の上面には、接合材66によってリードフレーム32が電気的に接続されている。リードフレーム32は、第1配線導体として用いられている。接合材64、65、66は、たとえば、はんだ、銀、銅等の材料が適用される。リードフレーム32は、たとえば、銅等の金属から形成されている。
リードフレーム32には、接合材67によってリードフレーム31が電気的に接続されている。リードフレーム31は、リードフレーム32における、半導体チップ19と半導体チップ21との中間に位置する箇所に接続されている。リードフレーム31は、第2配線導体として用いられている。接合材67は、たとえば、はんだ、銀、銅等の材料が適用される。リードフレーム31は、たとえば、銅等の金属から形成されている。リードフレーム31およびリードフレーム32のそれぞれは、幅を有して帯状に延在している。リードフレーム31およびリードフレーム32の代わりに、金属から形成されたリボン等を用いてもよい。
3つのMOSFET(半導体チップ17、19、21)のそれぞれには、制御用の電極(図示せず)が形成されている。制御用の電極は、アルミニウム、銅または金等の金属製のワイヤによって、制御用の端子に電気的に接続されている。制御用の端子は、外部の制御用基板(図示せず)等と電気的に接続されている。
制御用基板は、半導体チップ17、19、21としてのMOSFETをON−OFFする信号を出力する機能を有する。また、制御用基板は、過電圧またはチップ温度の過上昇を検知する機能を有する。制御用基板は、半導体モジュール1の内部に設けられてもよいし、半導体モジュール1の外部に設けられてもよい。
導体47は、放熱用のヒートシンク73に接続されている。導体47を接続する際に、導体47とヒートシンク73との間に、グリース、絶縁シート、はんだ等の接合用部材(いずれも図示せず)を介在させてもよいし、金属等を介在させてもよい。また、導体47にフィンを直接形成した構造としてもよい。
半導体モジュール1では、絶縁性を確保する等のために、半導体チップ17、19、21等は封止材71によって封止されている(図6参照)。封止材71として、たとえば、ゲル、エポキシ樹脂等が用いられる。また、必要に応じて、封止材71を硬化する際に用いるケース(図示せず)を設けてもよい。
図2に示すように、下アームモジュール13では、半導体チップ17、19、21は、互いに間隔を隔ててX軸に沿って配置されている。帯状のリードフレーム31とリードフレーム32は、半導体チップ17、19、21の配置に応じて、X軸方向に延在するように配置されている。図4に示すように、下アームモジュール13では、帯状のリードフレーム31の主面と帯状のリードフレーム32の主面とが互いに対向するように、リードフレーム31とリードフレーム32とが配置されている対向配置部81が設けられている。
一方、リードフレーム31のうち、リードフレーム31がリードフレーム32に接合されている部分から、リードフレーム32の端部までは、リードフレーム32は、リードフレーム31とは対向していない。この部分は、リードフレーム31の主面とリードフレーム32の主面とが対向していない非対向配置部83になる。対向配置部81において、リードフレーム31の主面とリードフレーム32の主面とが対向している面積は、非対向配置部83において、リードフレーム31の主面とリードフレーム32の主面とが対向していない面積よりも大きい。
対向配置部81では、半導体チップ17、19、21がONする際に、リードフレーム32にはX軸の正方向に電流が流れる。一方、リードフレーム31にはX軸の負方向に電流が流れる。すなわち、対向配置部81では、リードフレーム31に流れる電流の向きと、リードフレーム32に流れる電流の向きとは逆向きになる。
このため、リードフレーム31に流れる電流によって生じる磁界と、リードフレーム32に流れる電流によって生じる磁界とが、互いに打ち消し合うことになる。双方の磁界が互いに打ち消し合うことで、半導体モジュール11が有する寄生インダクタンスを低減することが可能である。
ここで、寄生インダクタンスについて説明する。図5に、図3に示される下アームモジュール13における半導体チップ7、9、11およびリードフレーム31、32等の配置関係に対応した回路図を、主要な寄生インダクタンスを追記した態様で示す。
図3および図5に示すように、リードフレーム32には、半導体チップ17のソース側と半導体チップ19のソース側との間に位置するリードフレーム32の部分(部分A)に起因する自己インダクタンスLが存在する。また、リードフレーム32には、半導体チップ19のソース側と、リードフレーム31が接合材67によって接合されている部分との間に位置するリードフレーム32の部分(部分B)に起因する自己インダクタンスLが存在する。さらに、リードフレーム31が接合材67によって接合されている部分と半導体チップ21のソース側との間に位置するリードフレーム32の部分に起因する自己インダクタンスLが存在する。
また、リードフレーム32にはリードフレーム31に流れる電流によって電圧が誘起される。このとき、リードフレーム32の部分Aと、その部分Aに対応するリードフレーム31の部分とに関連する相互インダクタンスの成分を相互インダクタンスMとする。リードフレーム32の部分Bと、その部分Bに対応するリードフレーム31の部分とに関連する相互インダクタンスの成分を相互インダクタンスMとする。この他に、導体45を流れる電流によって発生する相互インダクタンス等も存在するが、影響が小さいため、ここでは無視する。
半導体チップ17、19、21のそれぞれを流れる電流は、半導体チップ17、19、21がONする際のゲートとソースとの間の電圧の大きさの影響を強く受ける。半導体チップ17、19、21のそれぞれのゲートは電気的に並列に接続されているとともに、ソースも電気的に並列に接続されている。ところが、ソース側は下アームモジュール13の回路が有するインダクタンスによって、電流が変化した際に、それぞれ異なる誘起電圧が発生する場合がある。発生する誘起電圧の差が、電流の不均一さを生じさせることになるため、下アームモジュール13(半導体モジュール1)では、半導体チップ17、19、21のそれぞれのソース電位が均一になるような構造が望ましい。
ここで、リードフレーム31がリードフレーム32に接合されている部分の電圧を、基準の電圧Vs_Nとする。半導体チップ17に流れる電流をI17とし、半導体チップ19に流れる電流をI19とし、半導体チップ21に流れる電流をI21とする。半導体チップ17のソース側の電圧をVs_17とし、半導体チップ19のソース側の電圧をVs_19とし、半導体チップ21のソース側の電圧をVs_21とする。
そうすると、半導体チップ17、19、21のそれぞれのソース側の電圧は、以下の式(1)、式(2)および式(3)によって表される。
s_21−Vs_N=L・d(I21)/dt …(1)
s_19−Vs_N=L・d(I17+I19)/dt−M・d(I17+I19+I21)/dt …(2)
s_17−Vs_N=L・d(I17)/dt+L・d(I17+I19)/dt−(M+M)・d(I17+I19+I21)/dt …(3)
制御系の配線が有するインピーダンスは、半導体チップ17、19、21のそれぞれにおいて同一と考え、半導体チップ17、19、21のそれぞれの特性が同一と考えると、電流が均一に流れている場合は、その均一に流れている電流をIとすると、下記の式(4)および式(5)を満足することになる。
17=I19=I21=I …(4)
s_17=Vs_19=Vs_21 …(5)
式(1)〜式(5)より、次の式(6)および式(7)の関係が得られる。
=3M …(6)
=2L−3M …(7)
式(6)を満たすように、リードフレーム31とリードフレーム32との間の距離を調節すると、下アームモジュール13の構造から、次の式(8)も満たすとする。
=3M …(8)
式(7)に式(8)を代入すると、次の式(9)の関係が得られる。
=2L−3M=L …(9)
上述した理想的な条件では、まず、式(6)を満足するように、リードフレームの間隔を設定する。さらに、式(9)を満足するように、半導体チップ19と半導体チップ21との中点において、リードフレーム31をリードフレーム32に接合材67によって接合する。このようにリードフレーム31とリードフレーム32とを配置することで、各半導体チップ17、19、21に流れる電流を完全に均一化させることができる。
ただし、実際には、制御配線のインピーダンスの差、または、半導体チップの特性のばらつき等によって、リードフレーム31とリードフレーム32とが接合される接合部分の最適位置が中点からずれる場合がある。しかしながら、通常、半導体チップ21が配置されている側の端部、または、半導体チップ17が配置されている側の端部まで接合部分を移動させなければならないような条件で使用することはない。
このため、半導体チップ17、19、21の特性等にばらつきがある場合においても、リードフレーム31とリードフレーム32との一部をあえて対向させない非対向配置部83を設けることで、半導体チップ17、19、21の特性等のばらつきに対して、非対向配置部83が調整代となって、各半導体チップ17、19、21に流れる電流を均一化させることができる。たとえば、製造上の理由等により、L>3M、L>3Mとなる場合には、接合材67の接続位置を、X軸の負方向に移動させて、Lを大きくすることで、寄生インダクタンスが均一となるように調整することができる。
このように、下アームモジュール13(半導体モジュール1)において、リードフレーム31およびリードフレーム32の配置構造として、対向配置部81と非対向配置部83とを設けることで、長期信頼性と寄生インダクタンスの点で優れるDLB構造を採用しながら、電気的に並列に接続された半導体チップ17、19、21の電流のばらつきを抑制することができる。上アームモジュール3についても、下アームモジュール13と同様に、半導体チップ7、9、11(図1参照)およびリードフレームが配置されている(図示せず)。
上述した半導体モジュール1では、リードフレーム31とリードフレーム32とが接合材67によって接合された場合について説明したが、2つのリードフレームを一体化させたリードフレームを用いて接続してもよい。
また、図6に示すように、上述した半導体モジュール1では、絶縁材である封止材71によって封止されており、リードフレーム31とリードフレーム32の間には、その封止材71が存在する。このため、リードフレーム31をリードフレーム32に接近させた場合であっても、電気的な絶縁性を担保することが可能になる。
これにより、リードフレーム31に流れる電流とリードフレーム32に流れる電流とが、互いに逆向きに流れた際に、磁界を打ち消す効果が大きくなり、寄生インダクタンスを低減することができる。なお、リードフレーム31とリードフレーム32の間に、封止材71とは異なる材料の絶縁材を設けてもよい。
図2および図3に示すように、導体45の上方において、リードフレーム31とリードフレーム32とを対向させることで、下アームモジュール13を小型化することが可能になるとともに、導体45の長さを短くすることができ、寄生インダクタンスを低減することができる。すなわち、対向配置部81を、半導体チップ17、19、21に対して、基板41が配置されている側とは反対側に配置することで、寄生インダクタンスを低減することができる。
また、図7および図8に示すように、リードフレーム31の代わりに、リードフレーム34を適用してもよい。リードフレーム34では、リードフレーム31の形状と比べて、折り曲げ部分が設けられている。リードフレーム34に折り曲げ部を設けることで、半導体チップ17、19、21上では、対向配置部81において、リードフレーム34とリードフレーム32との間の距離として、2つの異なる距離が設定される。
これにより、リードフレーム34とリードフレーム32との間の相互インダクタンスMと相互インダクタンスMとを個々に調整することができ、より細かな自己インダクタンスの調整が可能になる。なお、折り曲げ部を有するリードフレーム34とリードフレーム32との間の距離を調整する他に、リードフレーム31、32の幅を調整することによって、自己インダクタンスL、L、L(図5参照)を調整してもよい。
さらに、上述した半導体モジュール1(下アームモジュール13)では、半導体チップ17、19、21が一方向(X軸方向)に1列で配置されている場合を例に挙げて説明した。半導体チップの配置としては、3つ以上の半導体チップが一方向に配列されていれば、1列に限られず、複数の列にわたって半導体チップを配置させた構造であってもよい。
ところで、半導体チップとして、たとえば、シリコン(Si)と比較して、バンドギャップが大きいワイドバンドギャップ半導体を適用した半導体チップがある。ワイドバンドギャップ半導体を適用した半導体モジュールでは、製造上の理由により、小型の多数の半導体チップを電気的に並列に接続して使用することが多い。また、半導体モジュールの電力損失を低減させるため、スイッチング速度を上げて使用することが多い。
このため、式(1)、式(2)および式(3)のそれぞれに示されているdI/dtの値が大きくなり、従来の半導体モジュールの構成では、シリコン(Si)の半導体チップと比べて、各半導体チップを流れる電流にばらつきが生じ、電流が不均一になりやすい。したがって、上述した半導体モジュール1としては、ワイドバンドギャップ半導体を適用した半導体チップを搭載した場合に、より有効とされる。
実施の形態2.
ここでは、半導体モジュールの一部である下アームモジュールの第2例について説明する。
図9および図10に示すように、下アームモジュール13では、リードフレーム35とリードフレーム36とが配置されている。リードフレーム35は、半導体チップ17、19、21のそれぞれに電気的に接続されている。リードフレーム36は、リードフレーム35の半導体チップ21側の端部にまで延在している。リードフレーム36は、半導体チップ19と半導体チップ21との中間に位置するリードフレーム35の部分からリードフレーム35の端部に至るまで、リードフレーム35に接合されている。
リードフレーム35とリードフレーム36とが、距離を隔てて互いに対向している部分が対向配置部81となる。リードフレーム36が、半導体チップ19と半導体チップ21との中間に位置するリードフレーム35の部分から、接合材66によって半導体チップ21に接合されているリードフレーム35の部分にわたり、リードフレーム35に接合されている箇所が非対向配置部83となる。なお、これ以外の構成については、図2および図3に示す半導体モジュール1(下アームモジュール13)の構成と同様なので、同一部材には同一符号を付し、必要である場合を除きその説明を繰り返さないこととする。
上述した半導体モジュール1についても、前述した半導体モジュール1の場合と同様に、半導体チップ17、19、21のそれぞれのソース側の電圧を求めて、式(6)に対応する関係式と式(9)に対応する関係式とを導くことができる。その関係式に基づいて対向配置部81と非対向配置部83とを設定することで、半導体チップ17、19、21のそれぞれを流れる電流を均一化することができる。
なお、上述した半導体モジュール1では、リードフレーム36が、半導体チップ19と半導体チップ21との中間に位置するリードフレーム35の部分からリードフレーム35の端部に至るまで、リードフレーム35に接合されている構造について説明した。このような構造の代わりに、リードフレーム36がリードフレーム35に接合されている箇所を一体化させたバスバーを適用してもよい。
また、図11および図12に示すように、リードフレーム36の代わりに、リードフレーム37を適用してもよい。リードフレーム37に折り曲げ部を設けることで、半導体チップ17、19、21上では、対向配置部81において、リードフレーム37とリードフレーム35との間の距離として、2つの異なる距離が設定される。
これにより、リードフレーム37とリードフレーム35との間の相互インダクタンスMと相互インダクタンスMとを個々に調整することができ、より細かな自己インダクタンスの調整が可能になる。なお、折り曲げ部を有するリードフレーム37とリードフレーム35との間の距離を調整する他に、リードフレーム37、35の幅を調整することによって、自己インダクタンスL、L、L(図5参照)を調整してもよい。
さらに、実施の形態1において説明したのと同様に、上述した半導体モジュール1としては、ワイドバンドギャップ半導体を適用した半導体チップを搭載した場合に、より有効とされる。
実施の形態3.
ここでは、半導体モジュールの一部である下アームモジュールの第3例について説明する。
図13および図14に示すように、下アームモジュール13では、リードフレーム38とリードフレーム39とが配置されている。リードフレーム38は、第1部38a、第2部38bおよび第3部38cから形成されている。第1部38aは、Y軸方向に幅を有し、X軸方向に延在する。第2部38bも、Y軸方向に幅を有し、X軸方向に延在する。
第3部38cは、Z軸方向に幅を有し、X軸方向に延在する。第3部38cは、第1部38aおよび第2部38bに対して、約90°折り曲げられている。リードフレーム39は、Z軸方向に幅を有し、X軸方向に延在する。
第1部38aは、接合材64によって半導体チップ17に接合されているとともに、接合材65によって半導体チップ19に接合されている。第2部38bは、接合材66によって半導体チップ21に接合されている。第3部38cは、接合材69によってリードフレーム39に接合されている。
図15および図16に示すように、第3部38cとリードフレーム39とが互いに対向している箇所が対向配置部81となる。第1部38aとリードフレーム39とが交差するように配置されている箇所が、非対向配置部83となる。
上述した半導体モジュール1についても、実施の形態1において説明した半導体モジュール1の場合と同様に、半導体チップ17、19、21のそれぞれのソース側の電圧を求めて、式(6)に対応する関係式と式(9)に対応する関係式とを導くことができる。その関係式に基づいて対向配置部81と非対向配置部83とを設定することで、半導体チップ17、19、21のそれぞれを流れる電流を均一化することができる。
さらに、リードフレーム38の第3部38cとリードフレーム39とが対向する面を変え、また、リードフレーム38の第1部38aの形状を変更することで、自己インダクタンスを半導体チップ17、19、21ごとに調整しやすくなるだけでなく、上アームモジュールへの適用も容易となる利点がある。
また、上述した半導体モジュール1では、リードフレーム38の第3部38cとリードフレーム39とが接合材69によって接合された場合について説明したが、リードフレーム38の第3部38cとリードフレーム39とを溶接によって接合してもよい。また、一体化させたリードフレーム(バスバー)を用いてもよい。
また、上述した半導体モジュール1(下アームモジュール13)では、半導体チップ17、19、21が一方向(X軸方向)に1列で配置されている場合を例に挙げて説明したが、3つ以上の半導体チップが一方向に配列されていれば、1列に限られず、複数の列にわたって半導体チップを配置させた構造であってもよい。
さらに、実施の形態1において説明したのと同様に、上述した半導体モジュール1としては、ワイドバンドギャップ半導体を適用した半導体チップを搭載した場合に、より有効とされる。
なお、各実施の形態では、基材として、絶縁体43および導体45、47を有する基板41を例に挙げて説明した。基材としては、このような基板41に限られるものではなく、導体および絶縁体の少なくともいずれかを含むものであればよく、たとえば、絶縁シートでもよいし、導電板等でもよい。
実施の形態4.
ここでは、上述した実施の形態1〜3に係る半導体モジュール1を適用した電力変換装置について説明する。本発明は特定の電力変換装置に限定されるものではないが、以下、実施の形態4として、三相のインバータに本発明を適用した場合について説明する。
図17は、本実施の形態に係る電力変換装置を適用した電力変換システムの構成を示すブロック図である。図17に示す電力変換システムは、電源100、電力変換装置200、負荷300から構成される。電源100は、直流電源であり、電力変換装置200に直流電力を供給する。電源100は種々のものにより構成することが可能であり、たとえば、直流系統、太陽電池、蓄電池により構成することができる。また、交流系統に接続された整流回路またはAC/DCコンバータにより構成してもよい。また、電源100を、直流系統から出力される直流電力を所定の電力に変換するDC/DCコンバータによって構成してもよい。
電力変換装置200は、電源100と負荷300の間に接続された三相のインバータであり、電源100から供給された直流電力を交流電力に変換し、負荷300に交流電力を供給する。電力変換装置200は、図17に示すように、直流電力を交流電力に変換して出力する主変換回路201と、主変換回路201を制御する制御信号を主変換回路201に出力する制御回路203とを備えている。
負荷300は、電力変換装置200から供給された交流電力によって駆動する三相の電動機である。なお、負荷300は特定の用途に限られるものではなく、各種電気機器に搭載された電動機であり、たとえば、ハイブリッド自動車、電気自動車、鉄道車両、エレベーター、または、空調機器向けの電動機として用いられる。
以下、電力変換装置200の詳細について説明する。主変換回路201は、スイッチング素子と還流ダイオードを備えている(いずれも図示せず)。スイッチング素子がスイッチングすることによって、電源100から供給される直流電力が交流電力に変換されて、負荷300に供給される。主変換回路201の具体的な回路構成は種々のものがあるが、本実施の形態に係る主変換回路201は2レベルの三相フルブリッジ回路であり、6つのスイッチング素子と、必要に応じてそれぞれのスイッチング素子に逆並列された6つの還流ダイオードから構成することができる。
主変換回路201の各スイッチング素子および各還流ダイオードの少なくともいずれかに、上述した実施の形態1〜3のいずれかに係る半導体モジュール1を、半導体モジュール202として構成する。6つのスイッチング素子は2つのスイッチング素子ごとに直列接続され上下アームを構成し、各上下アームはフルブリッジ回路の各相(U相、V相、W相)を構成する。そして、各上下アームの出力端子、すなわち主変換回路201の3つの出力端子は、負荷300に接続される。
また、主変換回路201は、各スイッチング素子を駆動する駆動回路(図示せず)を備えているが、駆動回路は半導体モジュール202に内蔵されていてもよいし、半導体モジュール202とは別に駆動回路を備える構成であってもよい。駆動回路は、主変換回路201のスイッチング素子を駆動する駆動信号を生成し、主変換回路201のスイッチング素子の制御電極に供給する。具体的には、後述する制御回路203からの制御信号に従い、スイッチング素子をオン状態にする駆動信号とスイッチング素子をオフ状態にする駆動信号とを各スイッチング素子の制御電極に出力する。スイッチング素子をオン状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以上の電圧信号(オン信号)であり、スイッチング素子をオフ状態に維持する場合、駆動信号はスイッチング素子の閾値電圧以下の電圧信号(オフ信号)となる。
制御回路203は、負荷300に所望の電力が供給されるように、主変換回路201のスイッチング素子を制御する。具体的には、負荷300に供給すべき電力に基づいて主変換回路201の各スイッチング素子がオン状態となるべき時間(オン時間)を算出する。たとえば、出力すべき電圧に応じてスイッチング素子のオン時間を変調するPWM制御によって主変換回路201を制御することができる。そして、各時点においてオン状態となるべきスイッチング素子にはオン信号を、オフ状態となるべきスイッチング素子にはオフ信号が出力されるように、主変換回路201が備える駆動回路に制御指令(制御信号)を出力する。駆動回路は、この制御信号に従い、各スイッチング素子の制御電極にオン信号またはオフ信号を駆動信号として出力する。
本実施の形態に係る電力変換装置では、主変換回路201のスイッチング素子および還流ダイオードのすくなくともいずれかに、実施の形態1〜3のいずれかに係る半導体モジュール1を半導体モジュール202として適用するため、電力変換装置の信頼性を向上させることができる。
本実施の形態では、2レベルの三相インバータに本発明を適用する例について説明したが、本発明は、これに限られるものではなく、種々の電力変換装置に適用することができる。本実施の形態では、2レベルの電力変換装置としたが、3レベルまたはマルチレベルの電力変換装置であっても構わないし、単相負荷に電力を供給する場合には、単相のインバータに本発明を適用しても構わない。また、直流負荷等に電力を供給する場合には、DC/DCコンバータまたはAC/DCコンバータに本発明を適用することも可能である。
また、本発明を適用した電力変換装置は、上述した負荷が電動機の場合に限定されるものではなく、たとえば、放電加工機、レーザー加工機、誘導加熱調理器または非接触器給電システムの電源装置として用いることもでき、さらには、太陽光発電システムまたは蓄電システム等のパワーコンディショナーとして用いることも可能である。
なお、各実施の形態において説明した半導体モジュールについては、必要に応じて種々組み合わせることが可能である。
今回開示された実施の形態は例示であってこれに制限されるものではない。本発明は上記で説明した範囲ではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明は、ダイレクトリードボンディング構造を有する半導体モジュールに有効に利用される。
1 半導体モジュール、3 上アームモジュール、5 上アーム素子、7、9、11、17、19、21 半導体チップ、13 下アームモジュール、15 下アーム素子、31、32、33、34、35、36、37、38、39 リードフレーム、41 基板、43 絶縁体、45、47 導体、61、62、63、64、65、66、67、68、69 接合材、71 封止材、73 ヒートシンク、81 対向配置部、83 非対向配置部、P、N 端子、AC 外部端子、G ゲート電極、S ソース電極。

Claims (11)

  1. 主面を有し、導体および絶縁体の少なくともいずれかを含む基材と、
    前記基材の前記主面にそれぞれ搭載された複数の半導体チップと、
    複数の前記半導体チップを電気的に並列に接続する態様で、複数の前記半導体チップのそれぞれに電気的に接続された第1配線導体と、
    前記第1配線導体と電気的に接続された第2配線導体と、
    を有し、
    前記第1配線導体および前記第2配線導体では、
    前記第1配線導体と前記第2配線導体とが互いに対向するように配置されている対向配置部と、
    前記第1配線導体と前記第2配線導体とが互いに対向しないように配置されている非対向配置部と
    が設けられた、半導体モジュール。
  2. 前記対向配置部および前記非対向配置部では、前記第1配線導体と前記第2配線導体とが互いに対向している部分の面積は、前記第1配線導体と前記第2配線導体とが互いに対向していない部分の面積よりも大きい、請求項1記載の半導体モジュール。
  3. 前記対向配置部は、前記半導体チップに対して、前記基材が位置する側とは反対の側に位置する、請求項1記載の半導体モジュール。
  4. 複数の前記半導体チップは、前記基材の前記主面において一方向に沿って配置され、
    前記主面を平面視した状態では、前記第1配線導体および前記第2配線導体は、前記一方向に沿って配置された、請求項1記載の半導体モジュール。
  5. 前記基材の前記主面を平面視した状態では、前記対向配置部と前記非対向配置部とは、一方向に沿って配置された、請求項1記載の半導体モジュール。
  6. 前記第1配線導体は、
    第1平面上に位置する第1配線導体第1部と
    前記第1平面と交差する第2平面上に位置する第1配線導体第2部と
    を含み、
    前記第2配線導体は、前記第2平面と対向する第3平面上に位置し、
    前記対向配置部では、前記第1配線導体第2部と前記第2配線導体とが対向し、
    前記非対向配置部では、前記第1配線導体第1部と前記第2配線導体とが、互いに交差する態様で配置されている、請求項1記載の半導体モジュール。
  7. 前記対向配置部では、前記第1配線導体第2部および前記第2配線導体は、前記基材の前記主面に交差するように位置し、
    前記非対向配置部では、前記第1配線導体第1部は、前記基材の前記主面に平行に位置する、請求項6記載の半導体モジュール。
  8. 前記第1配線導体と前記第2配線導体との間に絶縁体が充填された、請求項1記載の半導体モジュール。
  9. 前記対向配置部では、
    前記第1配線導体と前記第2配線導体とが、第1距離を隔てられている第1部分と、
    前記第1配線導体と前記第2配線導体とが、前記第1距離とは異なる第2距離を隔てられている第2部分と
    が設けられた、請求項1記載の半導体モジュール。
  10. 前記半導体チップは、ワイドバンドギャップ半導体を含む、請求項1記載の半導体モジュール。
  11. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体パワーモジュールを有し、入力される電力を変換して出力する主変換回路と、
    前記主変換回路を制御する制御信号を前記主変換回路に出力する制御回路と
    を備えた電力変換装置。
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