JPWO2019054441A1 - 積層体及びデバイス - Google Patents

Abstract

偏光板と、該偏光板の一方の面に積層された前面板とを含み、該前面板は、基材層を含み、該前面板の酸素透過度は１３００ｃｃ／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下である積層体。

Description

本特許出願は日本国特許出願第２０１７−１７８２３９号（出願日：２０１７年９月１５日）についてパリ条約上の優先権を主張するものであり、ここに参照することによって、その全体が本明細書中へ組み込まれるものとする。

本発明は、画像表示装置等に用いられる積層体、該積層体を含むデバイス、及び該積層体を有するフレキシブル画像表示装置に関する。

液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置の光学部材として、偏光板や位相差板などを含む積層体又はデバイスが使用されている（例えば特許文献１）。近年、画像表示装置の薄型化の要求が高まり、偏光板や位相差板などの積層体を構成する部材に対しても薄型化が要求されている。従来のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂を延伸したタイプの偏光子を含む偏光板や樹脂フィルムを延伸したタイプの位相差フィルムが、液晶塗布型の偏光子を含む偏光板や、液晶塗布型の位相差層を含む位相差フィルムに置き換えられつつある。

特開２０１１−２５１４６０

携帯型の画像表示装置は、高温の車内に放置されたり、屋外の太陽光下で使用されたりすることがある。しかし、本発明者の検討によれば、特に液晶化合物が硬化した層を含む部材を備える積層体は、高温環境下に曝露されると、偏光性能等が低下しやすく、耐熱性が十分でない場合があることがわかった。

従って、本発明の目的は、優れた耐熱性を有する積層体、該積層体を含むデバイス、及び該積層体を有するフレキシブル画像表示装置を提供することにある。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、偏光板と、該偏光板の一方の面に積層された前面板とを含む積層体において、該前面板が基材層を含み、かつ前面板の酸素透過度が１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であると、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下のものが含まれる。

［１］偏光板と、該偏光板の一方の面に積層された前面板とを含み、
該前面板は、基材層を含み、該前面板の酸素透過度は１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下である、積層体。
［２］前記前面板はハードコート層を含み、該ハードコート層は、基材層と偏光板との間に配置され、かつ基材層に隣接する、［１］に記載の積層体。
［３］前記ハードコート層は、第一の紫外線吸収剤を含有する、［２］に記載の積層体。
［４］前記偏光板は偏光子を含み、該偏光子は、重合性液晶化合物が硬化した層を含む、［１］〜［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］前記偏光板は位相差フィルムを含み、該位相差フィルムは、偏光子の前面板側とは反対側に配置され、重合性液晶化合物が硬化した層を含む、［４］に記載の積層体。
［６］前記前面板は、波長４３０ｎｍにおける吸光度（Ａ_４３０）に対する波長４０５ｎｍにおける吸光度（Ａ_４０５）の比（Ａ_４０５／Ａ_４３０）が３．００以上である、［１］〜［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］前記前面板は、基材層のハードコート層側とは反対側の面に、ガスバリア層を含む、［２］又は［３］に記載の積層体。
［８］前記基材層及び前記ガスバリア層の少なくとも一方は、第二の紫外線吸収剤を含有する［７］に記載の積層体。
［９］前記ガスバリア層は、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）とカチオン重合性モノマー（Ｂ）とを含む硬化性組成物の硬化物である、［７］又は［８］に記載の積層体。
［１０］前記カチオン重合性モノマー（Ｂ）は、１以上のエポキシ基及び／又は１以上のオキセタニル基を有する環状エーテル化合物（Ｂ−１）を含む、［９］に記載の積層体。
［１１］前記環状エーテル化合物（Ｂ−１）は、２以上のエポキシ基及び／又は２以上のオキセタニル基を有するビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）を含む、［１０］に記載の積層体。
［１２］環状エーテル化合物（Ｂ−１）は、ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）を含む、［１０］又は［１１］に記載の積層体。
［１３］前記ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）の含有量は、ビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）１質量部に対して、１〜１０質量部である、［１２］に記載の積層体。
［１４］第一の紫外線吸収剤は、式(I)で表される化合物である、［３］〜［１３］のいずれかに記載の積層体。
（式（Ｉ）中、Ａはメチレン基、第二級アミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよく、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｒ^４は炭素数３〜５０のアルキル基、又は少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数３〜５０のアルキル基であって、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されているアルキル基を表し、該アルキル基上の炭素原子には置換基が結合していてもよく、Ｘ^１は電子吸引性基を表し、Ｙ^１は−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^５−、−ＮＲ^６ＣＯ−、又は−ＣＯＮＲ^７−を表し、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す）
［１５］タッチセンサを含む、［１］〜［１４］のいずれかに記載の積層体。
［１６］フレキシブル画像表示装置用の、［１］〜［１５］のいずれかに記載の積層体。
［１７］［１］〜［１６］のいずれかに記載の積層体を含む、デバイス。
［１８］［１６］に記載の積層体を有する、フレキシブル画像表示装置。

本発明の積層体は、優れた耐熱性を有する。

図１は本発明のデバイスの層構成の一例を示す概略断面図である。

［積層体］
本発明の積層体は、偏光板と、該偏光板の一方の面に積層された前面板とを含む。該前面板は基材層を含み、かつ酸素透過度が１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下である。

本発明者は、前面板の酸素透過度が１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であると、積層体が優れた耐熱性を有することができ、高温環境下に曝露されても、積層体に含まれる偏光板の偏光性能の低下を有効に抑制できることを見出した。

本発明の積層体において、前面板の酸素透過度は、好ましくは１０００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、より好ましくは５００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、さらに好ましくは４００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、よりさらに好ましくは２００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、特に好ましくは１００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下である。前面板の酸素透過度が上記の上限以下であると、積層体の耐熱性を向上しやすく、積層体に含まれる偏光板の偏光性能の低下をより有効に抑制し得る。前面板の酸素透過度は、通常０ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）超である。なお、酸素透過度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１（差圧法）に準拠して測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。前面板の酸素透過度は、前面板に含まれる基材層、ハードコート層、又はガスバリア層の組成、例えば各層を構成する樹脂又は添加剤の種類又は含有量を適宜選択することにより調整し得る。このように本発明の積層体は、酸素透過度が低く、優れた酸素バリア性を有するとともに、優れた耐熱性を発現できる。

本発明の好ましい態様において、本発明の積層体は、優れた耐候性を有することもできる。そのため、本発明の積層体は、長時間、光、例えば紫外線又は可視光域の光に曝露されても、積層体に含まれる偏光板の偏光性能の低下、及び該偏光板が位相差フィルムを含む場合、位相差フィルムの位相差特性の低下を有効に抑制し得る。なお、偏光板の偏光性能の低下は、例えば耐熱性試験又は耐光性試験前後の視感度補正偏光度や視感度補正単体透過率の変化を測定することにより評価してもよく、その変化量が少ないほど偏光性能の低下が抑制されていることを示す。なお、本明細書において、耐候性とは耐光性を含む概念である。

＜基材層＞
基材層は、樹脂を含んでなる。該樹脂は透明性を有していることが好ましく、その例としては、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロース系高分子、ポリプロピレン等の鎖状オレフィン系高分子、ノルボルネン系高分子等の環状オレフィン系高分子、メタクリル酸メチル系高分子等の（メタ）アクリル系高分子、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエーテルスルフォン系高分子、ポリイミド系高分子、ポリアミド系高分子等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性、フレキシブル特性及び剛性に優れるため、ポリイミド系高分子又はポリアミド系高分子が好ましい。ポリイミド系高分子を含んでなる基材層を含む積層体は、フレキシブル特性に優れるため、特にフレキシブルディスプレイを含む画像表示装置に有用である。基材層は単層であってもよく、複層であってもよい。基材層が複層である場合、各層は同一又は異なる組成物であってよい。

ポリイミド系高分子とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体である。イミド基に加えてアミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体も好ましい。

ポリイミド系高分子は、例えば、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とを主な原料として製造することができる。本発明の一実施態様において、ポリイミド系高分子は、式（１０）で表される繰り返し構造単位を有する。ここで、Ｇは４価の有機基であり、Ａは２価の有機基である。ポリイミド系高分子において、Ｇ及び／又はＡが異なる、２種以上の式（１０）で表される構造が含まれていてもよい。

また、ポリイミド系高分子は、基材層の各種物性を損なわない範囲で、式（１１）〜式（１３）で表される構造からなる群から選択される１以上を含んでいてもよい。

Ｇ及びＧ^１は、それぞれ独立して、４価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｇ及びＧ^１としては、式（２０）〜式（２９）で表される基、並びに４価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。

式（２０）〜式（２９）中、
＊は結合手を表し、
Ｚは、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−Ａｒ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−Ｏ−Ａｒ−Ｏ−、−Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−、−Ａｒ−ＣＨ_２−Ａｒ−、−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ_３）_２−Ａｒ−又は−Ａｒ−ＳＯ_２−Ａｒ−を表す。Ａｒはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。

Ｇ^２は３価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｇ^２としては、式（２０）〜式（２９）で表される基の結合手のいずれか１つが水素原子に置き換わった基、及び３価の炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。

Ｇ^３は２価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ｇ^３としては、式（２０）〜式（２９）で表される基の結合手のうち、隣接しない２つが水素原子に置き換わった基、及び炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。

Ａ、Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３は、それぞれ独立して、２価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Ａ、Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３としては、式（３０）〜式（３８）で表される基；それらの水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基；並びに炭素数６以下の鎖式炭化水素基が例示される。

式（３０）〜式（３８）中、＊は結合手を表し、
Ｚ^１、Ｚ^２及びＺ^３は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＳＯ_２−又は−ＣＯ−を表す。
１つの例は、Ｚ^１及びＺ^３が−Ｏ−であり、かつ、Ｚ^２が−ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−又は−ＳＯ_２−である。Ｚ^１とＺ^２との各環に対する結合位置、及び、Ｚ^２とＺ^３との各環に対する結合位置は、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位であることが好ましい。

基材層は、前記ポリイミド系高分子とポリアミド系高分子とを含んでなってよい。ポリアミド系高分子とは、アミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体である。本実施形態に係るポリアミド系高分子は、式（１３）で表される繰り返し構造単位を主とする重合体である。好ましい例及び具体例は、ポリイミド系高分子におけるＧ^３及びＡ^３と同じである。Ｇ^３及び／又はＡ^３が異なる、２種類以上の式（１３）で表される構造を含んでいてもよい。

ポリイミド系高分子は、例えば、ジアミンとテトラカルボン酸化合物（テトラカルボン酸二無水物等）との重縮合によって得ることができ、例えば、特開２００６−１９９９４５号公報又は特開２００８−１６３１０７号公報に記載されている方法にしたがって合成することができる。ポリイミドの市販品としては、三菱瓦斯化学（株）製ネオプリム（登録商標）、河村産業（株）製ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ等を挙げることができる。

ポリイミド系高分子又はポリアミド系高分子の重量平均分子量は、好ましくは１０，０００〜５００，０００、より好ましくは５０，０００〜４８０，０００、さらに好ましくは７０，０００〜４５０，０００、特に好ましくは１００，０００〜４００，０００である。重量平均分子量が上記の下限値以上であると、ポリイミド系高分子は高い屈曲性を得ることができ、重量平均分子量が上記の上限値以下であると、ポリイミドワニスの粘度を低く抑えることができ、またポリイミド系高分子の延伸が容易であるため、加工性が良好である。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ測定を行い、標準ポリスチレン換算により求めることができる。

本発明の好ましい実施態様において、基材層に含まれるポリイミド系高分子及びポリアミド系高分子は、上述のフッ素系置換基等によって導入できるフッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。含フッ素置換基の具体例としては、フルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。ポリイミド系高分子及びポリアミド系高分子がハロゲン原子を含むことにより、基材層の弾性率を向上させ、同時に黄色度（ＹＩ値）を低減させることができるため、ポリイミド系高分子及びポリアミド系高分子が分子内にハロゲン原子を含むことが好ましい。また、黄色度の低減（透明性の向上）、吸水率の低減、及び基材層の変形抑制の観点から、ハロゲン原子は好ましくはフッ素原子である。さらに、ハロゲン原子がフッ素原子である場合、積層体を折り曲げた場合に折り曲げ線が残存し難く、フレキシブルディスプレイが折り曲がる等の変形を起こす場合に、該積層体を特に有用に用いることができる。

ポリイミド系高分子及びポリアミド系高分子におけるハロゲン原子の含有量は、硬度の向上、弾性率の向上、黄色度の低減（透明性の向上）、吸水率の低減、及び基材層の変形抑制の観点から、ポリイミド系高分子１００質量％に対して、好ましくは１〜４０質量％、より好ましくは３〜３５質量％、さらに好ましくは５〜３２質量％である。

本発明の好ましい態様において、基材層は、前記ポリイミド系高分子を含んでなる。基材層中におけるポリイミド系高分子の含有量は、基材層１００質量％に対して、好ましくは４０質量％以上、より好ましくは５０質量％以上、さらに好ましくは７０質量％、特に好ましくは９０質量％以上であり、好ましくは１００質量％以下である。ポリイミド系高分子の含有量が４０質量％以上であると、基材層の屈曲性が良好となる。

本発明の一実施態様において、基材層は、シリカ粒子を含んでいてもよい。基材層にシリカ粒子を含む場合、基材層におけるシリカ粒子の含有量は、基材層１００質量％に対して、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、さらに好ましくは３０質量％以上、特に好ましくは４０質量％以上であり、好ましくは６０質量％以下であり、より好ましくは５０質量％以下である。シリカの含有量が上記の下限以上であると、迷路効果により、気体透過係数が低くなりやすい。また上記の上限以下であると、基材層の屈曲性が良好となる。

基材層は、前記シリカ粒子及び後述の第二の紫外線吸収剤以外の他の添加剤を含むこともできる。他の添加剤としては、例えば＜ガスバリア層＞の項に例示の添加剤等が挙げられる。これらの他の添加剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。基材層が他の添加剤を含む場合、他の添加剤の含有量は、添加剤の種類に応じて適宜選択でき、基材層の総量１００質量％に対して、好ましくは０．１〜２０質量％、より好ましくは１〜１０質量％である。

基材層の厚みは、用途に応じて適宜調整されるが、例えば１０〜１０００μｍ、好ましくは１５〜５００μｍ、より好ましくは２０〜４００μｍ、さらに好ましくは２５〜３００μｍであってもよい。また、基材層の厚みは、例えば５〜１０００μｍ、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍであってもよい。基材層の厚みが上記範囲であると、屈曲性が良好であり、同時にデバイスの薄型化に有利に寄与することができる。

＜偏光板＞
偏光板は、少なくとも偏光子を含む層であることができる。偏光板は、偏光子の少なくとも一方の面に、樹脂フィルムが積層又は貼合されたものであってもよい。該偏光板は、偏光子の一方の面に樹脂フィルムが積層又は貼合された片面保護偏光板であってもよく、偏光子の両面に樹脂フィルムが積層又は貼合された両面保護偏光板であってもよい。偏光板の樹脂フィルム及び位相差フィルムは、接着剤層や粘着剤層を介して偏光子に積層又は貼合されていてもよい。また、視認側の樹脂フィルムは前述の前面板を兼ねていてもよい。好ましい偏光板は、塗布型偏光板である。

偏光子は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有するフィルムであり、例えば、重合性液晶化合物が硬化した層（硬化層ということがある）を含む層であることができる。偏光性能を付与するには、該硬化層中に二色性色素を配向させてもよいし、二色性を示す重合性液晶化合物を用いてもよいし、二色性色素と高分子化合物からなる膜でもよい。また、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムを用いることができる。二色性色素としては、例えばヨウ素や二色性有機染料などが挙げられる。積層体の耐熱性を向上しやすい観点から、偏光子は重合性液晶化合物が硬化した層を含むことが好ましい。

重合性液晶化合物とは、液晶性を発現することができるメソゲン（ｍｅｓｏｇｅｎ）と、重合反応に関与する重合基とを含む化合物である。重合性基は、光重合性基であることが好ましい。光重合性基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基をいう。

重合性液晶化合物の液晶性は、サーモトロピック液晶であってもよく、リオトロピック液晶であってもよい。二色性色素と混合するため、サーモトロピック液晶であることが好ましい。重合性液晶化合物がサーモトロピック液晶化合物である場合、ネマチック液晶相を示す液晶化合物であってもよく、スメクチック液晶相を示す液晶化合物であってもよい。重合反応により硬化膜として偏光機能を発現させるためには、スメクチック液晶相を示す液晶化合物であることが好ましい。

スメクチック液晶相としては、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相、スメクチックＬ相等が挙げられる。中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相、スメクチックＩ相が好ましく、スメクチックＢ相がより好ましい。重合性液晶化合物が示す液晶相がこれらの液晶相であることにより、より高い偏光特性を得ることができる。

このような重合性液晶化合物としては、具体的には、下記式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）ということがある）等が挙げられる。
Ｕ^１−Ｖ^１−Ｗ^１−Ｘ^１−Ｙ^１−Ｘ^２−Ｙ^２−Ｘ^３−Ｗ^２−Ｖ^２−Ｕ^２ （１）
［式（１）中、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表す。ただし、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。シクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。
Ｙ^１及びＹ^２は、互いに独立に、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ｂ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＲ^ａ＝Ｎ−を表す。Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｕ^１及びＵ^２は、水素原子又は重合性基を表し、少なくとも一方が重合性基である。
Ｗ^１及びＷ^２は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯＯ−を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−に置き換わっていてもよい。］

化合物（１）において、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であることが好ましい。置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基は、無置換であることが好ましい。置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基は、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基は無置換であることが好ましい。置換基としては、メチル基、エチル基、ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、シアノ基又はハロゲン原子等が挙げられる。

Ｙ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−又は単結合であることが好ましく、Ｙ^２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は−ＣＨ_２Ｏ−であることが好ましい。

Ｕ^２は、水素原子又は重合性基である。Ｕ^１は、水素原子又は重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ^１及びＵ^２は、ともに重合性基であることが好ましく、ともに光重合性基であることが好ましい。光重合性基を有する重合性液晶化合物は、より低温条件下で重合できる点で有利である。Ｕ^１及びＵ^２で表される重合性基は互いに異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基又はオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ｖ^１及びＶ^２で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基、イコサン−１，２０−ジイル基等が挙げられる。Ｖ^１及びＶ^２は、好ましくは炭素数２〜１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６〜１２のアルカンジイル基である。炭素数１〜２０のアルカンジイル基が有することができる置換基としては、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換且つ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。

Ｗ^１及びＷ^２は、互いに独立に、好ましくは単結合又は−Ｏ−である。

式（１）で表される重合性液晶化合物としては、例えば、以下の式で表される化合物等を挙げることができる。化合物（１）が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン−１，４−ジイル基は、トランス体であることが好ましい。

例示した化合物（１）の中でも、式（１−２）、式（１−３）、式（１−４）、式（１−６）、式（１−７）、式（１−８）、式（１−１３）、式（１−１４）及び式（１−１５）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。化合物（１）としては、市販品を使用してもよく、例えばパリオカラーＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社）が挙げられる。

例示した化合物（１）は、単独又は組み合わせて使用できる。また、２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が化合物（１）であることが好ましく、２種以上が化合物（１）であることがより好ましい。２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、液晶−結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の重合性液晶化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９〜５０：５０であり、５：９５〜５０：５０であることが好ましく、１０：９０〜５０：５０であることがさらに好ましい。

偏光子中における重合性液晶化合物の含有量は、偏光子形成用組成物の固形分１００質量部に対して、通常７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは８０〜９４質量部であり、さらに好ましくは８０〜９０質量部である。ここで、固形分とは、偏光層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素は、染料であっても顔料であってもよく、液晶性を示してもよく、非液晶性の二色性色素であることが好ましい。二色性色素は、重合性基を有するものを含んでいてもよく、重合性基を有しないものを含んでいてもよい。二色性色素としては、３００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λ_ＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、スチルベンアゾ色素等が挙げられ、好ましくはビスアゾ色素又はトリスアゾ色素である。二色性色素は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、３種類以上の二色性色素を組み合わせることが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせることがより好ましい。

二色性色素の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、良好な光吸収特性を得る観点から、偏光子中の重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．１〜２０質量部であることがより好ましく、０．１〜１０質量部であることがさらに好ましく、０．１〜５質量部であることが特に好ましい。二色性色素の含有量がこの範囲であれば、重合性液晶化合物の液晶配向を乱しにくいため好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムにおいて、該ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得ることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、酢酸ビニルと共重合可能な単量体（例えば不飽和カルボン酸、オレフィン、ビニルエーテル、不飽和スルホン酸、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミドなど）と酢酸ビニルとの共重合体などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタールなどであってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常、１０００〜１００００、好ましくは１５００〜５０００である。なお、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６に準拠して求めることができる。

通常、ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものを偏光子の原反フィルムとして用いる。ポリビニルアルコール系樹脂は、公知の方法で製膜することができる。原反フィルムの厚みは、通常１〜１５０μｍであり、延伸のしやすさなどを考慮すれば、好ましくは１０μｍ以上である。

重合性液晶化合物が硬化した硬化層を含む偏光子は、例えば、重合性液晶化合物を含む偏光子形成用組成物を、支持体上に形成された配向膜に塗布する工程、活性エネルギー線（例えば紫外線）を塗膜に照射して、重合性液晶化合物を硬化させる工程を経て製造される。また、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させてなる偏光子は、例えば、原反フィルムに対して、一軸延伸する工程、二色性色素でフィルムを染色してその二色性色素を吸着させる工程、ホウ酸水溶液でフィルムを処理する工程、及び、フィルムを水洗する工程が施され、最後に乾燥されて製造される。偏光子の厚みは、通常１〜３０μｍであり、薄膜化の観点から、好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１５μｍ以下、特に１０μｍ以下であり、４μｍ以下であることもできる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させてなる偏光子は、１）原反フィルムとしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムの単独フィルムを用い、このフィルムに対して一軸延伸処理及び二色性色素の染色処理を施す方法のほか、２）支持体にポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工液（水溶液等）を塗工、乾燥させてポリビニルアルコール系樹脂層を有する支持体を得た後、これを支持体ごと一軸延伸し、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂層に対して二色性色素の染色処理を施し、次いで支持体を剥離除去する方法によっても得ることができる。支持体としては、慣用の樹脂、好ましくは、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂などの環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂などからなるフィルムが挙げられる。上記２）の方法を利用すると、薄膜の偏光子の作製が容易となり、例えば厚み７μｍ以下の偏光子の作製も容易となる。

前記樹脂フィルムは、慣用の樹脂を含んでなり、慣用の添加剤を含んでいてもよい。また、樹脂フィルムは延伸されていないフィルム又は一軸若しくは二軸延伸されたフィルムのいずれであってもよい。さらに、樹脂フィルムは偏光子を保護する役割を担う保護フィルムであってよく、位相差等の光学機能を併せ持つ保護フィルムであってよい。

樹脂フィルムの厚みは、好ましくは１〜１５０ｎｍ、より好ましくは５〜１００ｎｍ、さらに好ましくは５０μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以下である。

本発明の一実施態様において、本発明の積層体に含まれる偏光板は、位相差フィルムを含むことが好ましく、該位相差フィルムは、偏光子の前面板側とは反対側に配置されることが好ましい。

位相差フィルムは、偏光板の薄膜化の観点から、重合性液晶化合物が硬化した層（硬化層ということがある）を含むことが好ましい。本明細書において、該硬化層を位相差層ということがあり、位相差層は、λ／２の位相差を与える層、λ／４の位相差を与える層（ポジティブＡ層）及びポジティブＣ層等を意味する。さらに、位相差フィルムは後述の配向膜を含んでいてもよい。

λ／２の位相差を与える層としては、好ましくは波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が２００〜２８０ｎｍである層のことを意味し、より好ましくは面内位相差値が２１５〜２６５ｎｍである層のことを意味する。λ／４の位相差を与える層としては、好ましくは波長５５０ｎｍにおける面内位相差値が１００〜１６０ｎｍである層のことを意味し、より好ましくは面内位相差値が１１０〜１５０ｎｍである層のことを意味する。ポジティブＣ層は、屈折率がｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚの関係性を示す層であることができる。ポジティブＣ層の厚み方向の位相差値は、波長５５０ｎｍにおいて−５０ｎｍ〜−１５０ｎｍであることができ、−７０ｎｍ〜−１２０ｎｍであることができる。位相差層の波長分散性は、正波長分散性であっても逆波長分散性であってもよく、特にλ／４の位相差を与える層は逆波長分散性であることが好ましい。

重合性液晶化合物が硬化した層は、例えば、支持体に設けられた配向膜上に形成される。基材は、配向膜を支持する機能を有し、長尺に形成されている支持体であってもよい。この支持体は、離型性支持体として機能し、転写用の位相差層を支持することができる。さらに、その表面が剥離可能な程度の接着力を有するものが好ましい。該支持体としては、上記基材層に含まれる樹脂として例示の高分子が挙げられる。

本実施形態で使用される重合性液晶化合物の種類については、特に限定されないものの、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。なお、高分子とは、一般に重合度が１００以上のものをいう（高分子物理・相転移ダイナミクス、土井 正男著、２頁、岩波書店、１９９２を参照）。

本実施形態では、何れの重合性液晶化合物を用いることもできる。重合性液晶化合物は、２種類以上を併用して用いてもよい。その場合、少なくとも１種類が分子内に２以上の重合性基を有している。すなわち、前記重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。この場合、層となった後はもはや液晶性を示さなくてもよい。

重合性液晶化合物は、重合反応をし得る重合性基を有する。重合性基としては、例えば、重合性エチレン性不飽和基や環重合性基などの付加重合反応が可能な官能基が好ましい。より具体的には、重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などを挙げることができる。その中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

重合性液晶化合物が硬化した層は、重合性液晶化合物を含む組成物を、例えば配向膜上に塗工し、活性エネルギー線を照射することによって形成することができる。前記組成物には、上述した重合性液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。例えば、前記組成物には、重合開始剤、溶剤が含まれていることが好ましい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤が選択される。重合開始剤の使用量は、前記塗工液中の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。

位相差層の厚みは、０．５μｍ以上であることが好ましい。また、前記位相差層の厚みは、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましい。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。位相差層の厚みが前記下限値以上であると、十分な耐久性が得られる。位相差層の厚みが前記上限値以下であると、円偏光板の薄層化に貢献し得る。位相差層の厚みは、λ／４の位相差を与える層、λ／２の位相差を与える層、又はポジティブＣ層の所望の面内位相差値、及び厚み方向の位相差値が得られるよう調整し得る。

位相差フィルムは、重合性液晶化合物が硬化した層を１層含むものであってもよいし、重合性液晶化合物が硬化した層を２層以上含むものであってもよい。位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した層を２層含む場合、２層はλ／４の位相差を与える層及びポジティブＣ層、又はλ／４の位相差を与える層及びλ／２の位相差を与える層であることが好ましい。位相差フィルムが、重合性液晶化合物が硬化した層を２層含む場合、重合性液晶化合物が硬化した層を配向膜上にそれぞれ作製し、両者を接着剤層や粘着剤層を介して積層することにより、位相差フィルムを製造してもよい。両者を積層した後、基材及び配向膜は剥離することができる。位相差フィルムの厚みは、３〜３０μｍであることが好ましく、５〜２５μｍであることがより好ましい。

粘着剤層は、位相差フィルムの偏光子側とは反対側の面に積層されてもよい。粘着剤層は、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系等の樹脂を主成分とする粘着剤組成物で構成することができる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。粘着剤層の厚みは、通常３〜３０μｍであり、好ましくは３〜２５μｍである。

本発明の好ましい積層体では、偏光板の前面板側とは反対側の面に、セパレートフィルム（剥離フィルム）を含んでなる。セパレートフィルムは、好ましくは偏光板が備える粘着剤層に接して積層される。セパレートフィルムは通常、本発明の積層体の使用時、例えば画像表示装置等に使用する際に剥離除去される。セパレートフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアレートなどからなるフィルムが挙げられる。これらのフィルムは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。セパレートフィルムは偏光板側の面に離型処理が施されたものであってよい。

偏光板は、その他のフィルム又は層をさらに含むことができる。その例としては、例えば輝度向上フィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、拡散フィルム、集光フィルム、粘着剤層、コーティング層が挙げられる。偏光板を構成する各層は、接着剤や粘着剤により積層される。接着剤は、水系接着剤であってもよいし、活性エネルギー線硬化型接着剤であってもよい。

＜ハードコート層＞
本発明の積層体に含まれる前面板は、耐熱性及び耐候性の観点から、さらにハードコート層（層(I)ということがある）を含むことが好ましく、該ハードコート層は、基材層と偏光板との間に配置されることがより好ましい。すなわち、本発明の積層体がハードコート層を有する場合、基材層、ハードコート層及び偏光板の順に配置されることが好ましい。このような位置関係は、高温環境下において偏光板の偏光性能が低下するのを防止するために有効である。高温環境下では、偏光板を構成する偏光子に含まれる二色性色素が拡散し、偏光性能が低下するが、前面板がハードコート層を備えることで、ハードコート層が二色性色素の拡散を防止できるからである。また、ハードコート層の組成によっては、前面板の酸素透過性をさらに低下し得る場合があり、積層体の耐熱性を向上できる。

また、ハードコート層に隣接して偏光子が配置されてもよい。すなわち、ハードコート層上に偏光子を形成することができる。このような構成とすることで、偏光子と前面板との密着性を向上することができる。

ハードコート層は、耐熱性を向上しやすい観点から、（メタ）アクリル系樹脂を含むことが好ましい。ハードコート層が（メタ）アクリル系樹脂を含有する場合、ハードコート層は、（メタ）アクリレートモノマー、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、及びエポキシ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物を含む硬化性組成物［硬化性組成物（Ｙ）又はハードコート層形成用組成物と称する場合がある］の硬化物であることが好ましい。

（メタ）アクリレートモノマーとは、分子内に１個以上の（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を意味し、その例としては、分子内に１個の（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単官能（メタ）アクリレートモノマー、及び分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。また、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、及びエポキシ（メタ）アクリレートについても単官能であっても、多官能であってもよい。

単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、tert−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−又は３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、２−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、１−［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］フタル酸、１−［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］ヘキサヒドロフタル酸、１−［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］コハク酸及び４−［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］トリメリット、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びジシクロペンテニル（メタ）アクリレート酸等が挙げられる。単官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば＜ガスバリア層＞の項に例示の多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）が挙げられる。多官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

ハードコート層を構成する硬化性組成物（Ｙ）は、耐熱性の観点から、多官能（メタ）アクリレートモノマーを含有することが好ましい。本発明の一実施態様において、硬化性組成物（Ｙ）は、３官能（メタ）アクリレートモノマー及び４官能（メタ）アクリレートモノマーで構成されることがより好ましい。４官能（メタ）アクリレートモノマーの含有量は、３官能（メタ）アクリレートモノマー１質量部に対して、好ましくは０．１〜５質量部、より好ましくは０．５〜５質量部、さらに好ましくは０．５〜３質量部である。

本発明の一実施態様において、硬化性組成物（Ｙ）は、耐熱性を向上しやすい観点から、２官能（メタ）アクリレートモノマー、３官能（メタ）アクリレートモノマー及び４官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよく、３官能（メタ）アクリレートモノマー及び６官能ウレタン（メタ）アクリレートを含んでいてもよい。また、ガスバリア性及び耐熱性を向上しやすい観点から、１０官能以上の（メタ）アクリレートを含むこともできる。

本発明の一実施態様において、硬化性組成物（Ｙ）は、硬化性組成物（Ｙ）の固形分の質量に対して、好ましくは７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、さらに好ましくは８５質量％以上の（メタ）アクリレート化合物を含む。なお、本明細書において、組成物の固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分の合計量を示す。また、（メタ）アクリレート化合物の含有量の上限は１００質量％以下、好ましくは９８質量％以下である。

ハードコート層、すなわち、ハードコート層を構成する硬化性組成物（Ｙ）は、第一の紫外線吸収剤を含有することが好ましい。本発明の積層体は、ハードコート層が偏光板よりも外側に位置するため、第一の紫外線吸収剤が吸収可能な光による偏光性能の劣化、又はハードコート層よりも内側に位相差フィルムや表示素子を含むデバイスにおいて、該位相差フィルムや表示素子の性能の劣化を抑制できるため、高い耐候性を発現できる。

第一の紫外線吸収剤は、紫外線を吸収可能な化合物であれば、特に限定されず、例えば公知の紫外線吸収剤などであってよい。紫外線吸収剤としては、オリヱント化学工業株式会社製のＢｏｎａｓｏｒｂ（登録商標）、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎ ＣａｒｂｏＰｒｏｔｅｃｔ（登録商標）などが挙げられる。第一の紫外線吸収剤は、優れた光吸収選択性や層(I)に含まれる疎水性物質との親和性に優れる化合物、及び層(I)を形成する際に溶媒を用いる場合があることから、種々の溶媒への溶解性に優れる化合物が好ましい。このような観点から、本発明では、第一の紫外線吸収剤として、式(I)で表される化合物（化合物（I）と称することがある）が好ましく用いられる。
（式(I)中、
Ａはメチレン基、第二級アミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよく、
Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、
Ｒ^４は炭素数３〜５０のアルキル基、又は少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数３〜５０のアルキル基であって、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されているアルキル基を表し、該アルキル基上の炭素原子には置換基が結合していてもよく、
Ｘ^１は電子吸引性基を表し、
Ｙ^１は−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^５−、−ＮＲ^６ＣＯ−、又は−ＣＯＮＲ^７−を表し、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。）

式(I)において、Ａはメチレン基、第二級アミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表し、高い光選択吸収性を発現させる観点から、好ましくはメチレン基、第二級アミノ基又は酸素原子を表す。

式(I)において、Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、高い光選択吸収性を発現させる観点から、好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜５、さらに好ましくは炭素数１〜３のアルキル基を表す。ここで、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい。かかるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、メトキシ基、エトキシ基、及びイソプロポキシ基等が挙げられる。

式(I)において、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、高い光選択吸収性を発現させる観点から、好ましくは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基、より好ましくは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基、さらに好ましくは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基、特に好ましくは水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。

式(I)において、Ｒ^４は炭素数３〜５０のアルキル基、又は少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数３〜５０のアルキル基であって、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されているアルキル基を表す。

Ｒ^４における炭素数３〜５０のアルキル基は、疎水性物質との親和性、疎水性溶媒への溶解性及び製造上の経済性の観点から、炭素数が好ましくは８〜４５（例えば１０〜４５）、より好ましくは１２〜４０、さらに好ましくは１３〜３５、特に好ましくは１４〜３０である。なお、該アルキル基上の炭素原子には置換基が結合していてもよい。

Ｒ^４における少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数３〜５０のアルキル基は、疎水性物質との親和性、疎水性溶媒への溶解性及び製造上の経済性の観点から、炭素数が好ましくは３〜４０、より好ましくは４〜３５、特に好ましくは５〜３０、のアルキル基を示す。ここで、少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数３〜５０のアルキル基において、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されていており、例えば、エトキシ基、プロポキシ基、２−メトキシエトキシメチル基が挙げられる。また、ジエチレングリコール基、トリエチレングリコール基等のポリエチレングリコール基、及びジプロピレングリコール基、トリプロピレングリコール基等のポリプロピレングリコール等も挙げられる。

また、Ｒ^４のアルキル基上の炭素原子には置換基が結合していてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。

Ｒ^４が炭素数３〜５０のアルキル基である場合、疎水性物質との親和性、及び疎水性溶媒への溶解性の観点から、Ｒ^４は炭素数３〜１２の枝分かれ構造を有するアルキル基であることがより好ましく、炭素数６〜１０の枝分かれ構造を有するアルキル基であることが更に好ましい。

ここで、枝分かれ構造を有するアルキル基とは、該アルキル基が有する炭素原子の少なくとも一つが第三級炭素、又は第四級炭素であるアルキル基を示す。炭素数３〜１２の枝分かれ構造を有するアルキル基の具体例としては、下記構造を有するアルキル基が挙げられる。

＊は連結部を表す。

式(I)において、Ｘ^１は電子吸引性基を表す。光選択吸収性を向上させる観点から、Ｘ^１は−ＮＯ_２、−ＣＮ、−ＣＯＲ^８、−ＣＯＯＲ^９、−ＯＲ^１０、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、−ＣＳＲ^１１、−ＣＳＯＲ^１２、又は−ＣＳＮＲ^１３が好ましく、ニトロ基、シアノ基、又は−ＣＯＯＲ^９がより好ましく、シアノ基、又は−ＣＯＯＲ^９がさらに好ましい。ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６、例えば炭素数２〜５のアルキル基、又はフェニル基を表す。

式(I)において、Ｙ^１は−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^５−、−ＮＲ^６ＣＯ−、−ＣＯＮＲ^７−、又は−ＣＳ−を表し、光選択吸収性を向上させる観点から、好ましくは−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は−Ｏ−を表し、より好ましくは−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表す。ここで、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６、例えば炭素数２〜５のアルキル基又はフェニル基を表す。

本発明の好ましい実施態様において、式(I)で表される化合物は、式（I−I）で表される。
このような化合物（I−I）は、ハードコート層に含まれる種々の化合物との親和性及び／又は種々の溶媒への溶解性に優れる観点から好ましい。

式（I−I）において、Ｒ^４−１の炭素数は上記種々の化合物との親和性や種々の溶媒への溶解性に優れる観点から、炭素数２〜２０のアルキル基、好ましくは炭素数３〜２０のアルキル基、より好ましくは４〜２０のアルキル基、さらにより好ましくは４〜２０の分岐したアルキル基を表す。なお、炭素数が上記範囲内であると、１質量部当たりが有する光吸収性が向上し、より耐候性の発現が容易となる。
Ａ、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は式(I)中と同一である。

本発明のより好ましい実施態様において、式（I）で表される化合物は、式（I−II）で表されることがより好ましい。
式（I）で表される化合物が式（I−II）で表される化合物であると、ハードコート層に含まれる種々の化合物との親和性及び／又は種々の溶媒への溶解性に優れるため、化合物（I−II）を溶媒に均一に溶解させることが容易となり、また同時に、種々の化合物との親和性にも優れ、両親媒性を示すため、ハードコート層に化合物（I−II）を含ませた場合にブリードアウトを生じにくく、安定して光吸収機能を発揮させることができ、優れた耐光性を発現できる。

式（I−II）において、Ｒ^４−１及びｎは式（I−I）中と同一である。

化合物（I）は、種々の溶媒への溶解性に優れる。かかる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶媒；アセトン、２−ブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル溶媒；及び、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶媒が挙げられる。

かかる溶媒には、親水性溶媒及び疎水性溶媒がある。例えばアルコール溶媒は、炭素数にもよるが、一般に親水性を有する溶媒である。一方、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒は一般に疎水性を有する溶媒である。これらの溶媒の中でも、ブリードアウトが生じにくい観点及び溶媒の選択性を拡げることができる観点から、親水性溶媒又は疎水性溶媒に可溶であることが好ましく、親水性溶媒及び疎水性溶媒に可溶であること、すなわち両親媒性を有することがより好ましい。

化合物（I）は、式（ａ）を満たすことが好ましい。

ε（４２０） ／ ε（４００） ≦ ０．４ （ａ）
式（ａ）中、ε（４２０）／ε（４００）の値は波長４２０ｎｍにおける吸収の強さに対する波長４００ｎｍにおける吸収の強さを表しており、この値が小さいほど、４２０ｎｍ付近の波長域の吸収と比較して４００ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを示す。この値が小さいほど黄色みが少なく透明な化合物となる。また、表示素子として有機ＥＬ表示素子を用いる場合、有機ＥＬ表示素子の発光を妨げにくい。さらに、二色性色素の分解による偏光性能の低下を抑制しやすく、耐候性を向上できる傾向にある。

式（ａ）を満たす化合物（I）が、層（I）に含まれる場合、積層体又はデバイスを構成する部材、特に、偏光子、位相差フィルム、有機ＥＬ素子や液晶表示素子等の表示素子などが、波長４００ｎｍ付近の光によって性能が劣化することを抑制することができ、積層体又はデバイスの耐候性をより向上することができる。このような第一の紫外線吸収剤を含有することで、特に偏光子や位相差フィルムや表示素子の劣化を有効に保護することができる。特に、偏光板が塗布型偏光子を含む場合、第一の紫外線吸収剤が、二色性色素の分解を促進する波長域の光を吸収し得るため、偏光性能の低下をより有効に抑制できる傾向にある。

化合物（I）におけるε（４２０）／ε（４００）の値は、好ましくは０．４以下であり、より好ましくは０．２５以下であり、さらに好ましくは０．２以下であり、特に好ましくは０．１５以下であり、とりわけ好ましくは０．１以下であり、非常に好ましくは０．０５以下であり、例えば０．０３以下である。その下限値は特に限定されるものではないが、化合物（I）による４００ｎｍ付近の吸収能を維持する観点からは、通常０．００５以上であることが好ましい。本発明の好適な一実施態様において、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．０１〜０．１である。

また、化合物（I）は式（ａ）に加えて、さらに式（ｂ）及び式（ｃ）を満たすことが好ましい。
λｍａｘ ＜ ４２０ｎｍ （ｂ）
ε（４００） ≧ ４０ （ｃ）
式（ｂ）中、λｍａｘは化合物（I）の極大吸収波長を表す。式（ｃ）中、ε（４００）は波長４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を表し、グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）で定義する。

式（ｂ）及び式（ｃ）を満たす場合、化合物（I）の極大吸収は４２０ｎｍより短波長側に存在し、かつ、波長４００ｎｍ付近に対する高い吸収を示す化合物であるといえる。化合物（I）がこのような式を満たすことにより、かかる化合物（I）を含む層（I）は、高い耐候性を有することができる。本発明において、化合物（I）の極大吸収λｍａｘは、４１５ｎｍ以下であることがより好ましく、４１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
また、化合物（I）が式（ｃ）を満たす場合、高い光吸収性を有するため、層（I）に含まれる化合物が少量であっても、高い光吸収選択機能を発現でき、耐候性を向上することができる。ε（４００）の値は、６０以上であることがより好ましく、８０以上であることがさらに好ましく、１００以上であることが特に好ましい。なお、ε（４００）の値は、通常５００以下である。

式（I−II）で表される化合物は、例えば、２−メチルピロリンをメチル化剤によって１，２−ジメチルピロリニウム塩とし、続いてＮ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジンと反応させ、最後に、無水酢酸、アミン触媒存在下、活性メチレン化合物を反応することにより製造することができる。また、これらの化合物として市販されているものを用いてもよい。式（I）及び式（I−I）で表される化合物も同様に製造することができる。

第一の紫外線吸収剤の含有量は、層(I)に含まれる樹脂又は硬化性組成物（Ｙ）に含まれる硬化性モノマー［例えば（メタ）アクリレートモノマー］１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、より好ましくは０．１〜８質量部であってもよく、好ましくは０．１〜２０質量部、より好ましくは１〜１５質量部であってもよい。第一の紫外線吸収剤の含有量が、上記下限値以上であると、層(I)の光吸収性能を有効に発現でき、耐候性を向上できる。上記上限値以下であると、層(I)の機械的特性等の低減を抑制することができる。

ハードコート層、すなわち、ハードコート層を構成する硬化性組成物（Ｙ）は、（メタ）アクリレートモノマーや第一の紫外線吸収剤の他、慣用の添加剤をさらに含んでよい。添加剤としては、例えば、光重合開始剤、赤外線吸収剤、有機系染料、顔料、無機系色素、酸化防止剤、帯電防止剤、界面活性剤、滑剤、分散剤、熱安定剤、無機材料、反応性ウレタンポリマー等の反応性ポリマーなどが挙げられる。無機材料としては、前述の無機粒子の他、オルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）等の４級アルコキシシラン等のケイ素化合物などが挙げられ、無機粒子、特にシリカ粒子であることが好ましい。無機粒子同士は、シロキサン結合（−ＳｉＯＳｉ−）を有する分子により結合されていてもよい。添加剤の含有量は、添加剤の種類により適宜選択でき、層(I)に含まれる樹脂又は硬化性組成物（Ｙ）に含まれる硬化性モノマー［例えば（メタ）アクリレートモノマー］１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部、より好ましくは１〜１０質量部である。

層(I)の厚みは、基材層及びガスバリア層の厚みに応じて適宜設定でき、例えば、好ましくは１〜２０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍ、さらに好ましくは３〜１０μｍである。

＜ガスバリア層＞
本発明の積層体は、ガスバリア層を含むことができる。該ガスバリア層は、基材層の偏光板側とは反対側の面に配置されていることが好ましい。すなわち、この態様では、積層体は、ガスバリア層、基材層、及び偏光板の順に配置されている。ガスバリア層を含むことで、前面板の酸素透過度を低減でき、積層体の耐熱性を向上し得る。本発明の好適な実施態様において、本発明の積層体がハードコート層を含む場合、該ガスバリア層は、基材層のハードコート層とは反対側の面に配置されることが好ましい。すなわち、この態様では、積層体は、ガスバリア層、基材層、ハードコート層、及び偏光板の順に配置されている。本発明の好ましい態様では、本発明の積層体は、ガスバリア層が偏光板よりも外側に位置するため、酸素による偏光板の性能劣化を抑制でき、高い耐候性を発現できる。

ガスバリア層は硬化性組成物（硬化性組成物（Ｘ）又はガスバリア層形成用組成物と称することがある）の硬化物であることが好ましい。硬化性組成物（Ｘ）は、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）と、カチオン重合性モノマー（Ｂ）とを含有することが好ましい。

（１）多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）
多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）とは、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物を意味し、その例としては、分子内に（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する２官能（メタ）アクリレートモノマー、分子内に（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を３個以上有する３官能以上の（メタ）アクリレートモノマー等が挙げられる。なお、本明細書において、用語「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味し、用語「（メタ）アクリロイル」も同様に、「アクリロイル」又は「メタクリロイル」を意味する。

２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート及びネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラフルオロエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のハロゲン置換アルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の脂肪族ポリオールのジ（メタ）アクリレート；水添ジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の水添ジシクロペンタジエン又はトリシクロデカンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート；１，３−ジオキサン−２，５−ジイルジ（メタ）アクリレート〔別名：ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート〕等のジオキサングリコール又はジオキサンジアルカノールのジ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物ジアクリレート物、ビスフェノールＦエチレンオキサイド付加物ジアクリレート物等のビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物等のビスフェノールＡ又はビスフェノールＦのエポキシジ（メタ）アクリレート；シリコーンジ（メタ）アクリレート；ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステルのジ（メタ）アクリレート；２，２−ビス［４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシフェニル］プロパン；２，２−ビス［４−（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシシクロヘキシル］プロパン；２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５−エチル−５−ヒドロキシメチル−１，３−ジオキサン〕のジ（メタ）アクリレート；トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの２官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組合わせて使用できる。

３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーとしては、特に限定されないが、例えば３官能〜８官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられ、３官能（メタ）アクリレートモノマー、４官能（メタ）アクリレートモノマーが特に好ましい。

３官能（メタ）アクリレートモノマーは、分子内に３個の（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を有するモノマーであり、その例としては、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物の反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物などが挙げられる。これらの中でも、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートが好ましい。これらの３官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組合わせて使用できる。本明細書において、酸素バリア性とは、酸素を透過させにくい特性を意味し、酸素バリア性が高いほど、酸素透過性又は酸素透過度が低いことを示す。

４官能（メタ）アクリレートモノマーは、分子内に４個の（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を有するモノマーであり、その例としては、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが好ましい。これらの４官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組合わせて使用できる。

５官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えばジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物などが挙げられる。これらの５官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組合わせて使用できる。

６官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの６官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組合わせて使用できる。

７官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えばトリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物などが挙げられる。これらの７官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組合わせて使用できる。

８官能（メタ）アクリレートモノマーは、分子内に８個の（メタ）アクリロイル基、好ましくは（メタ）アクリロイルオキシ基を有するモノマーであり、その例としては、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレートが好ましい。これらの８官能（メタ）アクリレートモノマーは単独又は二種以上組合わせて使用できる。

一実施態様において、硬化性組成物（Ｘ）は、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から、３官能（メタ）アクリレートモノマー、４官能（メタ）アクリレートモノマー及び８官能（メタ）アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも２種を含み、３官能（メタ）アクリレートモノマー、４官能（メタ）アクリレートモノマー及び８官能（メタ）アクリレートモノマーの総質量が、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）１００質量部に対して、５０質量部以上であってよい。硬化性組成物（Ｘ）中の３官能（メタ）アクリレートモノマー、４官能（メタ）アクリレートモノマー及び８官能（メタ）アクリレートモノマーの総質量は、好ましくは６０質量部以上であり、より好ましくは７０質量部以上であり、さらに好ましくは８０質量部以上であり、特に好ましくは９０質量部以上であり、最も好ましくは１００質量部である。３官能（メタ）アクリレートモノマー、４官能（メタ）アクリレートモノマー及び８官能（メタ）アクリレートモノマーの総質量が上記の範囲であると、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から有利である。

本発明の好ましい一態様において、硬化性組成物（Ｘ）における多官能（メタ）アクリレートモノマーは３官能（メタ）アクリレートモノマー及び４官能（メタ）アクリレートモノマーで構成される。３官能（メタ）アクリレートモノマー及び４官能（メタ）アクリレートモノマーを組み合わせると、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から有利である場合が多い。

４官能（メタ）アクリレートモノマーの含有量は、３官能（メタ）アクリレートモノマー１質量部に対して、好ましくは０．５〜５質量部、より好ましくは１〜３質量部である。４官能（メタ）アクリレートモノマーの含有量が上記範囲であると、積層体の表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等を向上しやすい。

なお、硬化性組成物（Ｘ）は、＜ハードコート層＞の項に例示の単官能（メタ）アクリレートモノマーを含むこともできる。

（２）カチオン重合性モノマー（Ｂ）
カチオン重合性モノマー（Ｂ）とは、分子内にカチオン重合性基を有する化合物を意味する。カチオン重合性モノマー（Ｂ）は、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から、１以上のエポキシ基及び／又は１以上のオキセタニル基を有する環状エーテル化合物（Ｂ−１）並びにビニルオキシ化合物（Ｂ−２）から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。

（I）環状エーテル化合物（Ｂ−１）
環状エーテル化合物（Ｂ−１）としては、例えば分子内に１以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物［エポキシ化合物（ｂ）と称する］、分子内に１以上のオキセタニル基を有するオキセタン化合物［オキセタン化合物（ｂ）と称する］、１以上のラジカル重合性官能基を有するラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）などが挙げられる。エポキシ化合物（ｂ）、オキセタン化合物（ｂ）、及びラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）は単独又は二種以上組合わせて使用できる。

エポキシ化合物（ｂ）中のエポキシ基は、無置換又は炭素数６以下、好ましくは３以下の炭化水素基で修飾された基であることが好ましく、無置換であることがより好ましい。エポキシ化合物（ｂ）としては、脂肪族エポキシ化合物（ｂ１）、脂環式エポキシ化合物（ｂ２）、芳香族エポキシ化合物（ｂ３）が好ましく用いられる。これらのエポキシ化合物（ｂ）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

脂肪族エポキシ化合物（ｂ１）は、脂肪族炭素原子に結合するエポキシ基を分子内に、少なくとも１以上、好ましくは少なくとも２以上有する化合物である。脂肪族エポキシ化合物（ｂ１）としては、例えば、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等の２官能エポキシ化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等の３官能以上のエポキシ化合物等が挙げられる。これらの中でも、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等の脂肪族炭素原子に結合するエポキシ基を分子内に２個有する２官能のエポキシ化合物（脂肪族ジエポキシ化合物）が好ましい。なお、これらの脂肪族エポキシ化合物（ｂ１）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

脂環式エポキシ化合物（ｂ２）は、脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に少なくとも１以上有する化合物、好ましくはエポキシ基を分子内に２以上有する化合物、より好ましくはエポキシ基を分子内に２つ有する化合物（脂環式ジエポキシ化合物（ｂ２））である。「脂環式環に結合したエポキシ基」とは、下記式（ａ）：
で示される構造における橋かけの酸素原子−Ｏ−を意味する。上記式（ａ）中、ｍは２〜５の整数である。

上記式（ａ）における（ＣＨ_２）_ｍ中の１個又は複数個の水素原子を取り除いた形の基２つ以上が他の化学構造に結合している化合物が、脂環式エポキシ化合物（ｂ２）となり得る。（ＣＨ_２）_ｍ中の１個又は複数個の水素原子は、メチル基やエチル基等の直鎖状アルキル基で適宜置換されていてもよい。

これらの中でも、エポキシシクロペンタン構造〔上記式（ａ）においてｍ＝３のもの〕や、エポキシシクロヘキサン構造〔上記式（ａ）においてｍ＝４のもの〕を有する脂環式エポキシ化合物が好ましい。

脂環式エポキシ化合物（ｂ２）としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、ジエチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、エチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）などが挙げられる。これらの中でも、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートがより好ましい。なお、脂環式エポキシ化合物（ｂ２）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

芳香族エポキシ化合物（ｂ３）としては、例えば、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール等の少なくとも１つの芳香環を有する１価フェノール又は、そのアルキレンオキシド付加物のモノ／ポリグリシジルエーテル化物、例えばビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、又はこれらにさらにアルキレンオキシドを付加した化合物のグリシジルエーテル化物やエポキシノボラック樹脂；レゾルシノールやハイドロキノン、カテコール等の２以上のフェノール性水酸基を有する芳香族化合物のグリシジルエーテル；ベンゼンジメタノールやベンゼンジエタノール、ベンゼンジブタノール等のアルコール性水酸基を２以上有する芳香族化合物のモノ／ポリグリシジルエーテル化物；フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の２以上のカルボン酸を有する多塩基酸芳香族化合物のグリシジルエステル；安息香酸やトルイル酸、ナフトエ酸等の安息香酸類のグリシジルエステル；スチレンオキシド又はジビニルベンゼンのエポキシ化物等が挙げられる。これらの芳香族エポキシ化合物（ｂ３）は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

エポキシ化合物（ｂ）のうち、脂環式エポキシ化合物（ｂ１）が好ましく、脂環式エポキシ化合物（ｂ１）を含有すると、積層体の表面硬度、耐熱性、屈曲性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から有利である。

オキセタン化合物（ｂ）中のオキセタニル基は、無置換又は炭素数６以下、好ましくは１〜３の炭化水素基で修飾された基であることが好ましく、炭素数１〜３の炭化水素基で修飾された基であることがより好ましい。

オキセタン化合物（ｂ）としては、例えば、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（オキセタンアルコールという場合がある）、２−エチルヘキシルオキセタン、１，４−ビス〔｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル〕ベンゼン（キシリレンビスオキセタンという場合がある）、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−（シクロヘキシルオキシ）メチル−３−エチルオキセタン等の単官能オキセタン化合物；３−エチル−３〔｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル〕オキセタン等の２官能オキセタン化合物などが挙げられる。これらのオキセタン化合物（ｂ）のうち、２官能のオキセタン化合物が好ましい。

ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）は、分子内に１以上のラジカル重合性官能基を有する。ラジカル重合性官能基としては、例えばビニル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリロイル基であり、より好ましくはメタクリロイル基である。ラジカル重合性環状エーテル化合物は、ラジカル重合性官能基を有するエポキシ化合物、ラジカル重合性官能基を有するオキセタン化合物等であってもよく、ラジカル重合性官能基を有するエポキシ化合物であることが好ましい。ラジカル重合性官能基を有するエポキシ化合物は脂環式、脂肪族、芳香族のいずれであってもよいが、特に脂環式が好ましい。ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）は、ラジカル重合性基とカチオン重合性基（例えばエポキシ基、オキセタニル基等）とを有するため、ラジカル重合とカチオン重合の両方を生じ得る。

ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）の具体例としては、１，２−エポキシ-４-ビニルシクロヘキサン等のビニル基を有するエポキシ化合物；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリロイル基を有するエポキシ化合物；（メタ）アクリル酸（３−エチル−３−オキセタニル）メチル等の（メタ）アクリロイル基を有するオキセタン化合物などが挙げられる。これらのラジカル重合性環状エーテル化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。

環状エーテル化合物（Ｂ−１）は、積層体の表面硬度、屈曲性、酸素バリア性、及び耐反り性の観点から、２以上のエポキシ基及び／又は２以上のオキセタニル基を有するビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）を含むことが好ましい。ビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）としては、上記エポキシ化合物（ｂ）及び上記オキセタン化合物（ｂ）のうち、２以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、２以上のオキセタニル基を有するオキセタン化合物などが挙げられる。

また、環状エーテル化合物（Ｂ−１）は、ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）を含むことが好ましい。ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）を含むことで、積層体の表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等をより向上することができる。

硬化性組成物（Ｘ）がラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）を含む場合、ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）の含有量は、ビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）１質量部に対して、好ましくは１〜１０質量部、より好ましくは１．５〜７質量部、さらに好ましくは１．５〜５質量部である。ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）の含有量が上記範囲であると、表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等により優れた積層体を形成することができる。

（II）ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）
ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）とは、分子内に１以上のビニルオキシ基を有する化合物を意味する。特にビニルオキシ化合物（Ｂ−２）は２以上のビニルオキシ基を有する化合物が好ましい。これらのビニルオキシ化合物（Ｂ−２）は単独又は２種以上組み合わせて使用できる。ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）はモノマー又はオリゴマーであってもよいが、好ましくはモノマーである。

ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）としては、例えば、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、アジピン酸ジビニル等の脂肪族ビニルエーテル化合物；シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等の脂環式ビニルエーテル化合物；フェニルビニルエーテル、ベンゼンジメタノールジビニルエーテル等の芳香族ビニルエーテル化合物などが挙げられる。これらのビニルオキシ化合物（Ｂ−２）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）の中でも、積層体の表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から、脂環式ビニルエーテル化合物が好ましい。

硬化性組成物（Ｘ）において、カチオン重合性モノマー（Ｂ）がビニルオキシ化合物（Ｂ−２）を含むことが、得られる積層体の表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から有利である。硬化性組成物（Ｘ）がビニルオキシ化合物（Ｂ−２）を含有する場合、ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）の含有量は、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）及びカチオン重合性モノマー（Ｂ）の総量１００質量部に対して、好ましくは３〜５０質量部、より好ましくは１０〜４０質量部、さらに好ましくは１５〜３５質量部であることが好ましい。ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）の含有量が上記範囲であると、積層体の表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等をより向上することができる。

また硬化性組成物（Ｘ）において、ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）の含有量は、環状エーテル化合物（Ｂ−１）１質量部に対して、好ましくは０．１〜３質量部、より好ましくは０．５〜２．５質量部、さらに好ましくは０．５〜２．０質量部である。ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）の含有量が上記範囲であると、積層体の表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等をより向上できる。

カチオン重合性モノマー（Ｂ）の含有量は、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）１質量部に対して、好ましくは０．１〜５質量部、より好ましくは０．５〜３質量部、さらに好ましくは０．５〜１．５質量部、特に好ましくは０．８〜１．２質量部である。カチオン重合性モノマー（Ｂ）の含有量が上記範囲であると、積層体の表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、耐反り性等の観点から有利である。

本発明の好ましい一実施態様において、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）の含有量は、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは１０〜６０質量％、さらに好ましくは２０〜５０質量％、特に好ましくは２５〜４０質量％であり、環状エーテル化合物（Ｂ−１）の含有量は、好ましくは５〜８０質量％、より好ましくは７〜６０質量％、さらに好ましくは１０〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％であり、ビニルオキシ化合物（Ｂ−２）の含有量は、好ましくは３〜６０質量％、より好ましくは５〜４０質量％、さらに好ましくは１０〜３０質量％である。ここで、前記含有量は硬化性組成物の固形分１００質量％を基準とする。多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、環状エーテル化合物（Ｂ−１）、及びビニルオキシ化合物（Ｂ−２）の含有量が上記範囲であると、表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、及び耐反り性に優れた積層体を形成しやすい。

本発明の好ましい一実施態様において、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）の含有量は、好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは１０〜４５質量％、さらに好ましくは２０〜４０質量％であり、ビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）の含有量は、好ましくは３〜２０質量％、より好ましくは５〜１５質量％であり、ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）の含有量は、好ましくは１０〜４０質量％であり、より好ましくは１５〜４０質量％であり、さらに好ましくは１５〜３５質量％である。ここで、前記含有量は硬化性組成物の固形分１００質量％を基準とする。多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、ビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）、及びラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）の含有量が上記範囲であると、表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、及び耐反り性等により優れた積層体を形成しやすい。

（３）添加剤
硬化性組成物（Ｘ）は、ラジカル重合開始剤（Ｃ）及びカチオン重合開始剤（Ｄ）を含んでよい。迅速に硬化させやすいという観点から、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）及び光カチオン重合開始剤（Ｄ）を含むことが好ましい。硬化性組成物中に光ラジカル重合開始剤を含有すると、ラジカル重合性化合物である多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）を迅速に硬化させることができる。光ラジカル重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線のような活性エネルギー線の照射により、ラジカル重合性化合物の硬化を開始できるものであれば特に限定されず、その具体例としては、アセトフェノン、３−メチルアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン及び２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン系開始剤；ベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン及び４，４′−ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のアルキルフェノン系開始剤；ベンゾインプロピルエーテル及びベンゾインエチルエーテル等のベンゾインエーテル系開始剤；４−イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系開始剤；その他、キサントン、フルオレノン、カンファーキノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン等が挙げられる。これらの光ラジカル重合開始剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの光ラジカル重合開始剤の中でも、アルキルフェノン系開始剤、アシルホスフィンオキサイド系開始剤などが好ましい。

また、硬化性組成物中に光カチオン重合開始剤を含有すると、カチオン重合性化合物であるカチオン重合性モノマー（Ｂ）を迅速に硬化することができる。光カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線の照射によって、カチオン種又はルイス酸を発生し、カチオン重合性モノマーの硬化を開始できるものであれば特に限定されず、その具体例としては、芳香族ジアゾニウム塩、例えば、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロボレート；芳香族ヨードニウム塩、例えば、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−ノニルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート；芳香族スルホニウム塩、例えば、トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４，４’−ビス（ジフェニルスルホニオ）ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン ヘキサフルオロアンチモネート、７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルカルボニル−４’−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロホスフェート、４−（ｐ−tert−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロアンチモネート、４−（ｐ−tert−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオジフェニルスルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート；鉄−アレーン錯体、例えば、キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II） ヘキサフルオロアンチモネート、クメン−シクロペンタジエニル鉄（II） ヘキサフルオロホスフェート、キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II） トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタナイドなどが挙げられる。これらの光カチオン重合開始剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの光カチオン重合開始剤の中でも、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルフォニウム塩が好ましい。なお、ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）は、ラジカル重合性基とカチオン重合性基（例えばエポキシ基、オキセタニル基等）とを有するため、ラジカル重合とカチオン重合の両方を生じ得る。そのため、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤を併用すると、より迅速に硬化させやすい。

硬化性組成物（Ｘ）は、ラジカル重合性化合物である多官能（メタ）アクリレートモノマー及びカチオン重合性化合物であるカチオン重合性モノマーを含むため、硬化性組成物中に光カチオン重合開始剤と光ラジカル重合開始剤とを含むことが好ましく、光カチオン重合開始剤と光ラジカル重合開始剤とを併用することで、より表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、及び耐反り性に優れた積層体を形成することができる。

硬化性組成物にラジカル重合開始剤を含む場合、ラジカル重合開始剤（Ｃ）の含有量は、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１〜１５質量部、より好ましくは３〜１２質量部である。カチオン重合開始剤（Ｄ）の含有量は、カチオン重合性モノマー（Ｂ）１００質量部に対して、好ましくは１〜１５質量部、より好ましくは３〜１０質量部である。ラジカル重合開始剤やカチオン重合開始剤の含有量が上記範囲であると、硬化性をより高め、表面硬度、屈曲性、耐熱性、酸素バリア性、及び耐反り性をより向上できる。

硬化性組成物（Ｘ）は、積層体の表面硬度を高めるという観点から、無機粒子をさらに含んでいてよい。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、反応性シリカ粒子、アルミナ粒子、反応性アルミナ粒子、タルク粒子、クレイ粒子、炭酸カルシウム粒子、炭酸マグネシウム粒子、硫酸バリウム粒子、水酸化アルミニウム粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子等が挙げられる。無機粒子は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。好ましい態様では、硬化性組成物（Ｘ）は、反応性シリカ粒子をさらに含む。硬化性組成物に反応性シリカ粒子を含有すると、硬化性組成物に含まれる反応性基又は反応性部位を有する化合物等と架橋構造を形成でき、特に酸素バリア性に優れた積層体を得ることができる。反応性基としては、例えば、アクリロイル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば、メチル基、エチル基等）、カルボキシル基、チオール基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、エポキシ基などが挙げられる。これらのうち、多官能アクリレートモノマー（Ａ）のアクリロイル基やラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）のラジカル重合性基と反応して架橋構造を形成し、特に積層体の酸素透過性を向上させるという観点から、アクリロイル基が最も好ましい。無機粒子は単独又は二種以上組合わせて使用できる。

反応性シリカ粒子の平均粒子径は、積層体の酸素バリア性、透明性、及び粒子の凝集抑制の観点から、好ましくは１〜１００ｎｍ、より好ましくは３〜５０ｎｍ、さらに好ましくは５〜３０ｎｍである。平均粒子径は、慣用の方法、例えばレーザー回折法等を用いて測定できる。

硬化性組成物に反応性シリカ粒子を含む場合、反応性シリカ粒子の含有量は、酸素バリア性及び屈曲性等の観点から、硬化性組成物（Ｘ）の固形分の質量に対して、好ましくは１〜７０質量％、より好ましくは５〜６５質量％、さらに好ましくは５〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％、とりわけ１５〜４５質量％である。

硬化性組成物（Ｘ）は、レベリング剤をさらに含むことができる。レベリング剤は、硬化性組成物の流動性を調整し、硬化性組成物を塗布して得られる硬化膜をより平坦にする機能を有するものであり、その例としては、ポリジメチルシロキサン等のシリコン系、ポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系の界面活性剤などが挙げられる。レベリング剤の含有量は、硬化性組成物（Ｘ）の固形分の質量に対して、好ましくは０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０５〜３質量％である。

積層体に帯電防止能を付与するという観点から、硬化性組成物に帯電防止剤を含有させてもよい。帯電防止剤としては、金属酸化物及び金属塩が好ましい。該金属酸化物としては、例えばＩＴＯ（インジウム−錫複合酸化物）、ＡＴＯ（アンチモン−錫複合酸化物）、酸化錫、五酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アルミニウム等が挙げられる。金属塩としては、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。硬化性組成物（Ｘ）に帯電防止剤を含む場合、帯電防止剤の含有量は求める帯電防止性能にもよるが、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）及びカチオン重合性モノマー（Ｂ）の総量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部、より好ましくは１〜１０質量部である。

本発明の好ましい実施態様において、基材層及び／又はガスバリア層は、第二の紫外線吸収剤を含有する。この態様では、本発明の積層体は、第二の紫外線吸収剤を含有する基材層及び／又はガスバリア層が偏光板よりも外側に位置するため、第二の紫外線吸収剤が吸収可能な光による偏光板の性能の劣化、若しくは基材層及び／又はガスバリア層よりも、内側に表示素子を含むデバイスにおいて、表示素子の性能の劣化を抑制でき、高い耐候性を発現可能である。

第二の紫外線吸収剤としては、例えば有機紫外線吸収剤及び微粉末系紫外線遮断剤が挙げられる。有機紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、サリチレート系などを用いることができる。これらの紫外線吸収剤の中でも、紫外線吸収性が高く、画像表示装置に用いた場合であっても、高い紫外線カット能を発現できるという観点から、ベンゾトリアゾール系又はトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。紫外線吸収幅を広げるために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を単独又は二種以上組み合わせて使用することもできる。

第二の紫外線吸収剤は、波長３８０ｎｍ付近の光の吸収選択性が良好な紫外線吸収剤が好ましい。このような第二の紫外線吸収剤を基材層及び／又はガスバリア層に含有すると、積層体又はデバイスを構成する部材の劣化、特に、波長３８０ｎｍ付近の紫外線による表示素子の性能の劣化を有効に抑制することができ、積層体又はデバイスの耐候性をより向上することができる。

第二の紫外線吸収剤において、ベンゾトリアゾール系としては、例えば２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール等を挙げることができる。

ベンゾトリアゾール系有機紫外線吸収剤の代表的市販品としては、住化ケムテックス社Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ２００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ２５０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３００、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３４０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３５０、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ４００、ＢＡＳＦ社ＴＩＮＵＶＩＮ ＰＳ、ＴＩＮＵＶＩＮ ９９−２、ＴＩＮＵＶＩＮ ３８４−２、ＴＩＮＵＶＩＮ ９００、ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ １１３０、ＡＤＥＫＡ社アデカスタブ ＬＡ−２４、アデカスタブ ＬＡ−２９、アデカスタブ ＬＡ−３１、アデカスタブ ＬＡ−３２、アデカスタブ ＬＡ−３６等が挙げられる。

トリアジン系としては、例えば２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール等を挙げることができる。

トリアジン系有機紫外線吸収剤の代表的市販品としては、ＢＡＳＦ社製ＴＩＮＵＶＩＮ ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ ４０５、ＴＩＮＵＶＩＮ ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７７、ＴＩＮＵＶＩＮ ４７９、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカスタブ ＬＡ−４６、アデカスタブ ＬＡ−Ｆ７０等が挙げられる。

また紫外線防止剤と同等の劣化防止機能のあるＨＡＬＳ剤を使用してもよく、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ポリ［［６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル］［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］］、ジブチルアミン・１，３，５−トリアジン・Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−１，６−ヘキサメチレンジアミン・Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンの重縮合物等を挙げることができる。

ＨＡＬＳ剤の代表的市販品としては、ＢＡＳＦ社ＴＩＮＵＶＩＮ １１１、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＴＩＮＵＶＩＮ １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ ２９２、ＴＩＮＵＶＩＮ ５１００、（株）ＡＤＥＫＡ製アデカスタブ ＬＡ−５２、アデカスタブ ＬＡ−５７、アデカスタブ ＬＡ−６３Ｐ、アデカスタブ ＬＡ−６８、アデカスタブ ＬＡ−７２、アデカスタブ ＬＡ−７７、アデカスタブ ＬＡ−８１、アデカスタブ ＬＡ−８２、アデカスタブ ＬＡ−８７、アデカスタブ ＬＡ−４０２、アデカスタブ ＬＡ−５０２等が挙げられる。

微粉末系紫外線遮断剤としては、微粒子金属酸化物が好ましく、その平均一次粒子径が１〜１００ｎｍの範囲にあり紫外線防御効果を有するものがより好ましい。金属酸化物としては、例えば酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、酸化マグネシウムが挙げられる。これらの微粒子金属酸化物の１種以上、好ましくは２種以上を組み合わせてもよい。また、微粒子金属酸化物の形状としては、球状、針状、棒状、紡錘状、不定形状、板状など特に限定されず、さらに結晶形についてもアモルファス、ルチル型、アナターゼ型など特に限定されない。

微粒子金属酸化物は、従来公知の表面処理、例えばフッ素化合物処理、シリコーン処理、シリコーン樹脂処理、ペンダント処理、シランカップリング剤処理、チタンカップリング剤処理、油剤処理、Ｎ−アシル化リジン処理、ポリアクリル酸処理、金属石鹸処理、アミノ酸処理、無機化合物処理、プラズマ処理、メカノケミカル処理などによって事前に表面処理されていることが好ましく、特にシリコーン、シラン、フッ素化合物、アミノ酸系化合物、金属石鹸から選ばれる一種以上の表面処理剤により撥水化処理されていることが好ましい。

微粒子金属酸化物の代表的市販品としては、住友大阪セメント社ＨＭＺＤ−５０等が挙げられる。

基材層及び／又はガスバリア層に第二の紫外線吸収剤を含む場合、第二の紫外線吸収剤の含有量は、紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度に応じて適宜選択でき、好ましくは０．１〜１０質量部である。第二の紫外線吸収剤の含有量が上記下限値以上であると、各層の紫外線吸収性を有効に発現でき、耐候性を向上できる。上記上限値以下であると、各層の機械的特性等の低減を抑制することができる。なお、第二の紫外線吸収剤の含有量は、基材層に含まれる樹脂１００質量部、又はガスバリア層を形成する硬化性組成物（Ｘ）に含まれる硬化性モノマー［例えば多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）及びカチオン重合性モノマー（Ｂ）］の総量１００質量部を基準とする。

硬化性組成物（Ｘ）は溶媒を含むことができる。溶媒は、硬化性組成物（Ｘ）を溶解可能であればよく、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール（イソプロピルアルコール）、１−ブタノール、２−ブタノール（ｓｅｃ−ブチルアルコール）、２−メチル−１−プロパノール（イソブチルアルコール）、２−メチル−２−プロパノール（ｔｅｒｔ−ブチルアルコール）等のアルコール溶媒；２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、３−メトキシ−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール等のアルコキシアルコール溶媒；ジアセトンアルコール等のケトール溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は単独又は二種以上組み合わせて用いることができる。

硬化性組成物（Ｘ）は、酸素バリア性を損なわない範囲で、他の添加剤をさらに含むことができる。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、ｐＨ調整剤、増粘剤が挙げられる。これらの他の添加剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。硬化性組成物に他の添加剤を含む場合、他の添加剤の含有量は、硬化性組成物の固形分の質量に対して、好ましくは０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％である。

硬化性組成物（Ｘ）は、組成物に含まれる成分、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）、カチオン重合性モノマー（Ｂ）、必要に応じてラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、無機粒子、第二の紫外線吸収剤、レベリング剤及び他の添加剤等を慣用の方法、例えば混合して得ることができ、混合順序などは特に限定されない。なお、前記ハードコート層の組成によっては、ガスバリア特性を示すことがあり、この場合、ガスバリア層として、前記ハードコート層を使用してもよい。すなわち、ガスバリア層を形成する組成物として、硬化性組成物（Ｙ）を使用してもよい。

ガスバリア層は、後述のように、基材層、機能層又はプライマー層等に硬化性組成物（Ｘ）を塗布して塗膜を形成し、塗膜を硬化することにより得てもよい。

ガスバリア層の厚みは、ハードコート層及び基材層等の厚みに応じて適宜選択でき、好ましくは１〜５０μｍ、より好ましくは２〜３０μｍである。

本発明の積層体は、積層体を構成する各層間に他の層を有していてもよい。本発明の一実施態様では、偏光板とハードコート層の間や、各層の間に、異なる層、例えばプライマー層などを含んでいてもよい。

例えば、基材層とガスバリア層との間に、プライマー層が配置されていてよい。プライマー層は、プライマー剤から形成された層であり、基材層とガスバリア層との密着性を高めることができる。プライマー層に含まれる化合物が、基材層に含まれる樹脂、好ましくはポリイミド系高分子と、界面において化学結合していてもよい。

プライマー剤として、例えば、紫外線硬化型、熱硬化型又は２液硬化型のエポキシ系化合物のプライマー剤がある。プライマー剤は、ポリアミック酸であってもよい。これらは、基材層とガスバリア層との密着性を高めるために好適である。

プライマー剤は、シランカップリング剤を含んでいてもよい。シランカップリング剤は、縮合反応により基材層に含まれ得るケイ素化合物と化学結合してもよい。シランカップリング剤は、特に基材層に含まれ得るケイ素化合物の配合比が高い場合に好適に用いることができる。

シランカップリング剤は、ケイ素原子と、該ケイ素原子に共有結合した１〜３個のアルコキシ基とを有するアルコキシシリル基を有する化合物である。ケイ素原子にアルコキシ基が２個以上共有結合している構造を含む化合物が好ましく、ケイ素原子にアルコキシ基が３個共有結合している構造を含む化合物がより好ましい。上記アルコキシ基として、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられる。これらの中でも、メトキシ基、エトキシ基がケイ素材料との反応性を高めることができるため好ましい。

シランカップリング剤は、基材層及びガスバリア層との親和性の高い置換基を有することが好ましい。基材層に含み得るポリイミド系高分子との親和性の観点から、シランカップリング剤の置換基は、エポキシ基、アミノ基、ウレイド基又はイソシアネート基であることが好ましい。基材層が（メタ）アクリレート類を含む場合、プライマー層に用いられ得るシランカップリング剤が、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基、アミノ基又はスチリル基を有していると、親和性が高まるので好ましい。これらの中でも、メタクリル基、アクリル基及びアミノ基から選ばれる置換基を有するシランカップリング剤は、基材層がポリイミド系高分子を含んでなる場合、基材層とガスバリア層との親和性に優れる傾向を示すため好ましい。

プライマー層の厚みは、ガスバリア層の厚みに応じて適宜調整されるが、例えば０．０１ｎｍ〜２０μｍである。エポキシ系化合物のプライマー剤を用いる場合には、プライマー層の厚みは、好ましくは０．０１〜２０μｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍである。シランカップリング剤を用いる場合には、プライマー層の厚さは、好ましくは０．１ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは０．５ｎｍ〜０．１μｍである。

本発明の一実施態様において、本発明の積層体は、偏光板、ハードコート層、基材層、及びガスバリア層の他に、さらに機能層を備えていてもよい。機能層としては、紫外線吸収層、粘着剤層、色相調整層、屈折率調整層等の種々の機能を有する層が挙げられる。本発明の積層体は、単数又は複数の機能層を備えていてもよい。また、１つの機能層が複数の機能を有してもよい。

紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。紫外線吸収層は、前記第一又は第二の紫外線吸収剤を含有してよい。

粘着剤層は、粘着性の機能を有する層であり、積層体を他の部材に接着させる機能を有する。粘着剤層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。

粘着剤層は、重合性官能基を有する成分を含む樹脂組成物から構成されていてもよい。この場合、積層体を他の部材に密着させた後に粘着剤層を構成する樹脂組成物をさらに重合させることにより、強固な接着を実現することができる。積層体と粘着剤層との接着強度は、０．１Ｎ／ｃｍ以上、又は０．５Ｎ／ｃｍ以上であってもよい。

粘着剤層は、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を材料として含んでいてもよい。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。

粘着剤層は、感圧型接着剤（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＰＳＡ）と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」（ＪＩＳ Ｋ６８００）である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜（マイクロカプセル）に内容し、適当な手段（圧力、熱等）によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」（ＪＩＳ Ｋ６８００）であるカプセル型接着剤であってもよい。

色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料；アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料；硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料；並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。

屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば基材層とは異なる屈折率を有し、積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。

屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。顔料の平均一次粒子径は、０．１μｍ以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を０．１μｍ以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。

屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。

また、例えば基材層と機能層との間には、上記プライマー層が配置されてもよい。

本発明の積層体又はデバイスにおいて、層(I)に第一の紫外線吸収剤として、式(I)で表される化合物を含有する場合（好ましくは波長４００ｎｍ付近の光吸収性を有する化合物(I)を含有する場合）、第一の紫外線吸収剤が酸素により分解劣化し、層(I)における波長４００ｎｍ付近の光吸収性が低下するため、特にデバイスに含まれる偏光子、位相差フィルムや表示素子などの性能が劣化することがある。しかし、本発明の積層体又はデバイスでは、層(I)の外側に、ガスバリア層を有するため、該ガスバリア層の内側への酸素の浸入が有効に抑制され、層(I)に含まれる第一の紫外線吸収剤の分解劣化を防止することができる。また、第一の紫外線吸収剤は紫外線（特に波長３８０ｎｍ付近の紫外線）により分解劣化する場合もあり、これにより層(I)における波長４００ｎｍ付近の光吸収性が低下することがある。しかし、基材層及び／又はガスバリア層に第二の紫外線吸収剤を含有する本発明の積層体又はデバイスでは、層(I)の外側に、第二の紫外線吸収剤を含む基材層及び／又はガスバリア層を有するため、紫外線（特に波長３８０ｎｍ付近の紫外線）の基材層及び／又はガスバリア層の内側への透過が有効に抑制され、層(I)に含まれる第一の紫外線吸収剤の分解劣化を防止することができる。従って、本発明の積層体又はデバイスは、偏光板の性能劣化だけでなく、位相差フィルムや表示素子などの性能劣化も有効に抑制することができ、優れた耐候性を発現できる。

積層体を構成する前面板において、波長４３０ｎｍにおける吸光度（Ａ_４３０）に対する波長４０５ｎｍにおける吸光度（Ａ_４０５）の比（Ａ_４０５／Ａ_４３０）（吸光度比Ａ_４０５／Ａ_４３０と表記することがある）が大きいほど、偏光板へ到達する波長４０５ｎｍの光の量を少なくすることができるため、４０５ｎｍ付近の光による偏光板の偏光性能の低下及び有機ＥＬ表示素子の発光の妨げを有効に抑制し得る。特に、偏光板が塗布型偏光子を含む場合、二色性色素の分解を促進する波長域の光を吸収し得るため、偏光性能の低下をより有効に抑制できる傾向にある。
本発明の積層体を構成する前面板は、吸光度比Ａ_４０５／Ａ_４３０が好ましくは３．００以上であり、より好ましくは６．００以上であり、さらに好ましくは８．００以上である。そのため、偏光板の偏光性能の低下及び有機ＥＬ表示素子の発光の妨げを有効に抑制しやすい。なお、吸光度比Ａ_４０５／Ａ_４３０は、例えば、ガスバリア層及び／又は基材層に含まれる前記第一紫外線吸着剤の種類若しくは含有量や、ハードコート層に含まれる前記第二紫外線吸着剤の種類若しくは含有量などにより調整することができ、好ましくは前記第二紫外線吸収剤の種類若しくは含有量により調整してよい。なお、吸光度は、分光光度計により測定できる。

本発明の一実施態様において、本発明の積層体は、優れた酸素バリア性を有する。該積層体の酸素透過度は、１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であり、好ましくは１０００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、より好ましくは５００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、さらに好ましくは４００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、よりさらに好ましくは２００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは１００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であってもよく、好ましくは８００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、より好ましくは６００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下、さらに好ましくは４００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）、特に好ましくは３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下であってもよい。酸素透過度が上記の上限以下であると、酸素による偏光板の性能の劣化、積層体を含むデバイスの位相差フィルムや表示素子の性能の劣化を有効に抑制できるため、優れた酸素バリア性と耐候性とを両立することができる。さらに、積層体の耐熱性を向上しやすい。なお、酸素透過度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１（差圧法）に準拠して測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。

本発明の好適な実施態様において、本発明の積層体は、優れた屈曲性を有することができる。本発明の積層体は、好ましくは、マンドレル試験において、屈曲半径３ｍｍで折り曲げた際に割れが生じない。特に好ましくは、屈曲半径１ｍｍで折り曲げた際であっても、割れが生じることはない。本発明の積層体は、このように優れた屈曲性を有するため、フレキシブルディスプレイに用いることができる。

本発明の好適な実施態様において、本発明の積層体は、鉛筆硬度が好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上、さらに好ましくは３Ｈ以上である。本発明の積層体は、このように優れた表面硬度を有するため、積層体又は該積層体を含むデバイスの表面の傷つきを有効に抑制することができる。

［積層体の製造方法］
本発明の積層体は、慣用の方法により、前記偏光板の一方の面に前記前面板を積層することにより製造できる。なお、任意の位置に前記機能層、前記プライマー層を慣用の方法により積層してもよい。本発明の好適な実施態様である偏光板／ハードコート層／基材層／ガスバリア層をこの順に有する積層体の製造方法の一例を以下に示す。

本発明の好ましい態様では、本発明の積層体は、例えば以下の工程：
（ａ）基材層の一方の面に硬化性組成物（Ｘ）、及びもう一方の面に硬化性組成物（Ｙ）を塗布して塗膜を形成する工程（塗膜形成工程と称する場合がある）
（ｂ）工程（ａ）で形成されたそれぞれの塗膜に高エネルギー線を照射し、塗膜を硬化させて、ハードコート層／基材層／ガスバリア層からなる積層体を形成する工程（硬化工程）
（ｃ）工程（ｂ）で得られたハードコート層／基材層／ガスバリア層からなる積層体を、偏光板に積層又は貼合する工程（積層工程）
により製造できる。

塗膜形成工程において、溶媒に溶解させた硬化性組成物（Ｘ）及び硬化性組成物（Ｙ）をそれぞれ基材に塗布してもよい。溶媒はガスバリア層の項に例示のものを適宜使用することができる。

基材層上に形成された塗膜の乾燥を行ってもよい。塗膜の乾燥は、温度５０℃〜１５０℃にて溶媒を蒸発させることにより行うことができ、乾燥時間は通常３０秒〜１８０秒である。大気下、不活性雰囲気下、又は減圧の条件下で乾燥を行ってよい。

また、塗膜形成工程後、基材層を延伸する延伸工程を設けてもよい。延伸は一軸延伸であっても、二軸延伸であってもよいが、面内位相差分布均一性の観点から、基材層の延伸を一軸延伸によって行うことが好ましい。二軸延伸を行う場合、二軸延伸は、同時の二軸延伸であってもよく、逐次の二軸延伸であってもよい。

硬化工程において、塗膜に高エネルギー線（例えば活性エネルギー線）を照射し、塗膜を硬化させて層（硬化膜）を形成する。照射強度は、硬化性組成物の組成によって適宜決定され、特に限定されないが、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域の照射が好ましい。照射強度は、好ましくは０．１〜６０００ｍＷ／ｃｍ^２、より好ましくは１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ^２、さらに好ましくは２０〜５００ｍＷ／ｃｍ^２である。照射強度が前記範囲内であると、適当な反応時間を確保でき、光源から輻射される熱及び硬化反応時の発熱による樹脂の黄変や劣化を抑えることができる。照射時間は、硬化性組成物の組成によって適宜選択すればよく、特に制限されるものではないが、前記照射強度と照射時間との積として表される積算光量が好ましくは１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２、さらに好ましくは８０〜５００ｍＪ／ｃｍ^２となるように設定される。積算光量が前記範囲内であると、光カチオン重合開始剤や光ラジカル重合開始剤由来の活性種を十分量発生させて、硬化反応をより確実に進行させることができ、また、照射時間が長くなりすぎず、良好な生産性を維持できる。また、この範囲での照射工程を経ることで硬化膜の硬度をさらに高め得るため有用である。

積層工程では、偏光板が塗布型偏光子で形成されている場合は、ハードコート層／基材層／ガスバリア層からなる積層体のハードコート層上に、配向膜を形成し、該配向膜上に重合性液晶化合物及び二色性色素等を含む偏光子形成用組成物を塗布して硬化させることで、偏光板を積層してもよい。また、ハードコート層／基材層／ガスバリア層からなる積層体を、偏光板の一方の面に慣用の方法、例えば接着剤を介して貼合してもよい。

［デバイス］
本発明は、前記積層体を含むデバイスを包含する。本発明のデバイスは、前記積層体の偏光板側を画像表示装置の光学部材、例えば位相差フィルム、表示素子、タッチセンサーフィルム等に積層又は貼合した形態を有する。好ましい態様では、積層体の偏光板側に粘着剤層を配置して、該粘着剤層を光学部材に積層又は貼合することでデバイスを得ることができる。本発明のデバイスは、前記積層体を含むため、優れた耐熱性を有する。さらに、本発明のデバイスは、優れた酸素バリア性と耐候性とを有することもできる。図１は、本発明のデバイスの層構成の一例を示す概略断面図である。図１に示されるデバイス１は、表面側（視認側）から順に、ガスバリア層２／基材層３／ハードコート層４／偏光板５／粘着剤層６／位相差フィルム７という構成を有する。

ガスバリア層２、基材層３、ハードコート層４、偏光板５、及び粘着剤層６は、上述のガスバリア層、基材層、ハードコート層、偏光板、及び粘着剤層と同様のものである。位相差フィルム７は、＜偏光層＞の項に記載の位相差フィルムと同様のものであってもよく、慣用の延伸フィルムであってもよい。

このようなデバイスは、画像表示装置に利用することができる。画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットＰＣ、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。

［フレキシブル画像表示装置］
本発明の積層体は屈曲性に優れる。そのため、本発明の積層体は、フレキシブル画像表示装置用の積層体（フレキシブル画像表示装置用積層体ということがある）として有用である。また、本発明は、フレキシブル画像表示装置用積層体を有するフレキシブル画像表示装置を包含する。本発明の一実施態様において、フレキシブル画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなり、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル画像表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用積層体としては、前面板、偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側から前面板、偏光板、タッチセンサ、又は前面板、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。

［タッチセンサ］
本発明の積層体は、上述の態様の通り、タッチセンサを含むことができる。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と；前記基板の活性領域に形成された感知パターンと；前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％〜３０，０００ＭＰａ％であってもよい。

前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４―ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。好ましくはＩＴＯを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金などの金属で形成することもできる。第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を上昇することができる。

前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。前記無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。

［遮光パターン］
前記遮光パターンは前期フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有する。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは１μｍ〜１００μｍであってもよく、好ましくは２μｍ〜５μｍであってもよい。また、光パターンの厚み方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。

以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。以下、使用量、含有量を表す部及び％は、特に断りのない限り質量基準である。

（１）前面板の酸素透過度
ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１（差圧法）に準拠して、差圧式ガス透過率測定装置「ＧＴＲ−３０ＡＳ型」（ＧＴＲテック株式会社製）を用いて、実施例及び比較例で得られた前面板の酸素透過度［ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）］を測定した。

（２）前面板の透湿度
ＪＩＳ Ｚ ０２０８に基づき、実施例及び比較例で得られた前面板の透湿度を測定した。温度及び湿度条件は、４０度９０％ＲＨとした。

（３）耐熱性試験
実施例及び比較例で得られた積層体を、温度８５℃のオーブンに２４０時間載置した。オーブンに投入する前後で、各積層体の視感度補正偏光度（Ｐｙ）（％）及び視感度補正単体透過率（Ｔｙ）（％）を測定した。以下の式に従い偏光性能の変化度Δ（％）を算出した。
変化度Δ＝（ΔＰｙ^２＋ΔＴｙ^２）^１／２
ΔＰｙ＝試験後のＰｙ−試験前のＰｙ
ΔＴｙ＝試験後のＴｙ−試験前のＴｙ

（４）耐光性試験
実施例及び比較例で得られた積層体に下記条件で光を照射した。光を照射する前後で、各積層体の視感度補正偏光度（Ｐｙ）（％）及び視感度補正単体透過率（Ｔｙ）（％）を測定した。以下の式に従い偏光性能の変化度Δ（％）を算出した。
変化度Δ＝（ΔＰｙ^２＋ΔＴｙ^２）^１／２
ΔＰｙ＝試験後のＰｙ−試験前のＰｙ
ΔＴｙ＝試験後のＴｙ−試験前のＴｙ
光の照射条件は、以下のとおりである。
使用機器：ＡＴＬＡＳ社製 サンテストＸＬＳ＋
使用光源：キセノンアークランプ
暴露量：９６１２０ｋＪ／ｍ^２
時間：１００時間
温度：４５℃

（５）吸光度の比
実施例及び比較例で得られた前面板について、分光光度計Ｕ−４１００（日立製作所（株）製）により、波長４０５ｎｍにおける吸光度（Ａ_４３０）（Ａｂｓ）及び波長４０５ｎｍにおける吸光度（Ａ_４０５）（Ａｂｓ）をそれぞれ測定し、吸光度の比（Ａ_４０５／Ａ_４３０）を算出した。

（６）屈曲性試験
実施例及び比較例で得られた積層体を１ｃｍ×８ｃｍにカットして、測定サンプルを得た。Ｃ−ＰＯＬ積層面が内側（ｉｎ−ｆｏｌｄｉｎｇ）・外側（ｏｕｔ−ｆｏｌｄｉｎｇ）になる向きで、２ｍｍ（半径Ｒ＝１ｍｍ）のロールそれぞれに測定サンプルを巻きつけ、元に戻す操作を連続１０回行った。
硬化膜におけるヒビ割れの発生の有無に基づいて、屈曲性を次のように判定した。判定結果を表１及び２に示す。
（屈曲性の判定）
〇…クラックが発生せず、外観は良好であった。
△…１〜４本のクラックが発生した。
なお、実施例で得られた積層体について、４ｍｍ（半径Ｒ＝２ｍｍ）のロールそれぞれに測定サンプルを巻きつけ、元に戻す操作を連続１０回行った場合は、ｉｎ−ｆｏｌｄｉｎｇ、ｏｕｔ−ｆｏｌｄｉｎｇともに外観は良好であった。

＜偏光子形成用組成物の調製＞
下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、偏光子形成用組成物を得た。二色性色素には、特開２０１３−１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。
・重合性液晶化合物：
（Ａ−６） ９０部

(Ａ−７) １０部

・二色性色素：
アゾ色素；
（二色性色素 Ａ） ２．５部

（二色性色素 Ｂ） ２．５部

（二色性色素 Ｃ） ２．５部

・重合開始剤：
２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製） ６部
・レベリング剤：
ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製） １．２部
・溶剤：
ｏ−キシレン ４００部

＜配向膜形成用組成物の調製＞
特開２０１３−０３３２４９号公報記載の下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。
・光配向性ポリマー：
２部
・溶剤：
ｏ−キシレン ９８部

［１］実施例１
［１−１］ハードコート層形成用組成物の調製
１８官能のアクリロイル基（アクリル基ということがある）を有するデンドリマーアクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ ＳＰ１１０６、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）２．０質量部、６官能のアクリル基を有するウレタンアクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ ＰＵ−６２０Ｄ、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）１０．０質量部、３官能のアクリル基を有するアクリレートモノマー（Ｍ３４０、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）８質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）２質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ−ＵＶ３５３０、ビックケミー・ジャパン株式会社）０．１質量部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量部に溶解させて攪拌混合し、ハードコート層形成用組成物Ａを得た。

［１−２］前面板の作製
基材層として、ポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。基材層の厚みは５０μｍであった。

基材層の一方の表面に、ハードコート層形成用組成物Ａを塗工し、塗膜を形成した。塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、紫外線照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射してハードコート層を形成した。なお、ハードコート層の厚みは１０．０μｍであった。このようにして、ハードコート層と基材層とからなる前面板を得た。

［１−３］積層体の作製
前面板におけるハードコート層の表面にコロナ処理を施した後に、配向膜形成用組成物を塗布し、１２０℃で１分間乾燥させ、乾燥被膜を得た。この乾燥被膜上に偏光ＵＶを照射して光配向膜を形成し、光配向膜付きフィルムを得た。偏光ＵＶ処理は、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３６５ｎｍで測定した積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２となるような条件で行った。

配向膜上に、偏光子形成用組成物を塗布し、１２０℃の乾燥オーブンにて１分間加熱乾燥することにより重合性液晶化合物を液体相に相転移させた後、室温まで冷却して該重合性液晶化合物をスメクチック液晶状態に相転移させた。次いで、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を、偏光膜形成用組成物から形成された層に照射することにより、該乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物を、前記重合性液晶化合物のスメクチック液晶状態を保持したまま重合させ、該乾燥被膜から偏光子を形成した。このようにして、偏光子、ハードコート層、及び基材層がこの順に積層された積層体を製造した。

［２］実施例２
基材層として、ポリエチレンナフタレートフィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、積層体を製造した。この基材層は、厚みが２５μｍであった。

［３］実施例３
基材層として、環状オレフィン系樹脂フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、積層体を製造した。この基材層は、厚みが２３μｍであった。

［４］実施例４
基材層として、トリアセチルセルロースフィルムを準備した。基材層の厚みは２５μｍであった。

基材層の一方の表面に、ハードコート層形成用組成物Ａを塗工し、塗膜を形成した。塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、紫外線照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射してハードコート層を形成した。さらに、基材層のもう一方の表面に同様にハードコート層形成用組成物Ａを塗工し、前記と同様に硬化させてハードコート層（ガスバリア層）を形成した。なお、ハードコート層の厚みはいずれも１０．０μｍであった。このようにして、ハードコート層と基材層とガスバリア層とからなる前面板を得た。

前面板におけるハードコート層上に、実施例１と同様にして偏光子を形成し、積層体を得た。積層体は、偏光子、ハードコート層、基材層及びガスバリア層がこの順に積層されていた。

［５］実施例５
基材層として、厚み方向の位相差値が略０ｎｍであるトリアセチルセルロースフィルムを準備した。基材層の厚みは２５μｍであった。この基材層を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、積層体を製造した。

［６］実施例６
［６−１］ハードコート層形成用組成物の調製
６官能のアクリル基を有するウレタンアクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ ＰＵ−６２０Ｄ、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）１８質量部、３官能のアクリル基を有するアクリレートモノマー（Ｍ３４０、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）１０質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）２質量部、及びレベリング剤（ＢＹＫ−ＵＶ３５３０、ビックケミー・ジャパン株式会社）０．１質量部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量部に溶解させて攪拌混合し、ハードコート層形成用組成物Ｂを得た。

［６−２］前面板の作製
基材層として、トリアセチルセルロースフィルムを準備した。基材層の厚みは２５μｍであった。

基材層の一方の表面に、ハードコート層形成用組成物Ｂを塗工し、塗膜を形成した。塗膜を温度８０℃で５分間乾燥し、紫外線照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７、ウシオ電機株式会社製）を用いて、積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ基準）の紫外線を照射してハードコート層を形成した。なお、ハードコート層の厚みは１０．０μｍであった。このようにして、ハードコート層と基材層とからなる前面板を得た。

［６−３］積層体の作製
実施例１と同様にして、ハードコート層上に偏光子を形成した。このようにして、偏光子、ハードコート層、及び基材層がこの順に積層された積層体を製造した。

［７］実施例７
基材層として、厚み方向の位相差値が略０ｎｍであるトリアセチルセルロースフィルムを準備した。基材層の厚みは２５μｍであった。この基材層を用いたこと以外は、実施例６と同様にして、積層体を製造した。

［８］実施例８
［８−１］ハードコート層形成用組成物の調製
４官能アクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学工業株式会社製）２４．４質量部、３官能アクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学工業株式会社製）４８．８質量部、２官能アクリレート（Ａ−４００ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレート、新中村化学工業株式会社製）２４．４質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）１．６１質量部、及び光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）８１９、ＢＡＳＦ社製）０．７３質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させ撹拌混合し、ハードコート層形成用組成物Ｃを得た。

［８−２］前面板の作製
河村産業株式会社製のポリイミド「ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ（１００）」、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３４０（紫外線吸収剤）、及びγ−ブチロラクトンを含む溶液を流延成膜して基材層を作製した。紫外線吸収剤の量は、ポリイミド１００質量部に対して３質量部とした。基材層の厚みは、５０μｍであった。

基材層の一方の表面に、ハードコート層形成用組成物Ｃをバーコーター塗工し、紫外線を照射して硬化させて、ハードコート層を形成した。なお、ハードコート層の厚みは１０．０μｍであった。このようにして、ハードコート層と基材層とからなる前面板を得た。

［８−３］積層体の作製
実施例１と同様にして、ハードコート層上に偏光子を形成した。このようにして、偏光子、ハードコート層及び基材層がこの順に積層された積層体を製造した。

［９］実施例９
［９−１］ガスバリア層形成用組成物の調製
４官能アクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−ＴＭＭＴ、ペンタエリスリトールテトラアクリレート）１８．９質量部、３官能アクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート）９．５質量部、ビス環状エーテル化合物（ダイセル株式会社製、セロキサイド２０２１Ｐ：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）９．５質量部、ラジカル重合性環状エーテル化合物（ダイセル株式会社製、サイクロマ―Ｍ１００：３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート）１８．９質量部、アクリロイル修飾シリカ粒子（日産化学工業株式会社製、ＰＧＭ−２１４０Ｙ、平均粒子径１０〜１５ｎｍ）４０質量部、光カチオン重合開始剤（イルガキュア（登録商標）２５０、ＢＡＳＦ社製、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェートとプロピレンカーボネートとの３：１（質量比）の混合物）１．０質量部、光ラジカル重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）２．２質量部、及びレベリング剤（ビックケミー・ジャパン株式会社製、「ＢＹＫ−３０７」、シリコン系レベリング剤）０．１重量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて撹拌混合し、ガスバリア層形成用組成物を得た。

［９−２］ハードコート層形成用組成物の調製
４官能アクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学工業株式会社製）２３．８質量部、３官能アクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学工業株式会社製）４７．６質量部、２官能アクリレート（Ａ−４００ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレート、新中村化学工業株式会社製）２３．８質量部、紫外線吸収剤（特開２０１７‐１２０４３０号公報を参考に合成した）２．４３質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）１．５７質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）８１９、ＢＡＳＦ社製）０．７１質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させ撹拌混合し、ハードコート層形成用組成物Ｄを得た。

上記紫外線吸収剤は、Ｒ^４−１が２−エチルヘキシル基である、式（I−II）で表される化合物である。

［９−２］前面板の作製
河村産業株式会社製のポリイミド「ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ（１００）」、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３４０（紫外線吸収剤）、及びγ−ブチロラクトンを含む溶液を流延成膜して基材層を作製した。紫外線吸収剤の量は、ポリイミド１００質量部に対して３質量部とした。基材層の厚みは、５０μｍであった。

基材層の一方の面にハードコート層形成用組成物Ｄを、もう一方の面にガスバリア層形成用組成物をそれぞれバーコーター塗工し、８０℃で３分間乾燥させた。塗膜に窒素雰囲気下で、紫外線（高圧水銀灯：積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２、照射強度２００ｍＷ／ｃｍ^２）を照射し、硬化させた。このようにして、ハードコート層と基材層とガスバリア層とからなる前面板を得た。ハードコート層の厚みは６μｍであり、ガスバリア層の厚みは１６μｍであった。

［９−３］積層体の作製
実施例１と同様にして、ハードコート層上に偏光子を形成した。このようにして、偏光子、ハードコート層、基材層、及びガスバリア層がこの順に積層された積層体を製造した。

［１０］実施例１０
［１０−１］ハードコート層形成用組成物の調製
４官能アクリレート（Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学工業株式会社製）２２．５質量部、３官能アクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ：トリメチロールプロパントリアクリレート、新中村化学工業株式会社製）４４．９質量部、２官能アクリレート（Ａ−４００ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレート、新中村化学工業株式会社製）２２．５質量部、紫外線吸収剤（Ｃａｒｂｏｐｒｏｔｅｃｔ、ＢＡＳＦ社製）８．０質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）１．４８質量部、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）８１９、ＢＡＳＦ社製）０．６７質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させ撹拌混合し、ハードコート層形成用組成物Ｅを得た。

［１０−２］前面板の作製
河村産業株式会社製のポリイミド「ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ（１００）」、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３４０（紫外線吸収剤）、及びγ−ブチロラクトンを含む溶液を流延成膜して基材層を作製した。紫外線吸収剤の量は、ポリイミド１００質量部に対して３質量部とした。基材層の厚みは、５０μｍであった。

基材層の一方の面にハードコート層形成用組成物Ｅを、もう一方の面に前記ガスバリア層形成用組成物をそれぞれバーコーター塗工し、８０℃で３分間乾燥させた。塗膜に窒素雰囲気下で、紫外線（高圧水銀灯：積算光量５００ｍＪ／ｃｍ^２、照射強度２００ｍＷ／ｃｍ^２）を照射し、硬化させた。このようにして、ハードコート層と基材層とガスバリア層とからなる前面板を得た。ハードコート層の厚みは１０μｍであり、ガスバリア層の厚みは１６μｍであった。

［１０−３］積層体の作製
実施例１と同様にして、ハードコート層上に偏光子を形成した。このようにして、偏光子、ハードコート層、基材層、及びガスバリア層がこの順に積層された積層体を製造した。

［１１］実施例１１
ガスバリア層を形成しなかったこと以外は実施例１０と同様にして、積層体を作製した。積層体は、偏光子、ハードコート層、及び基材層がこの順に積層されていた。

［１２］実施例１２
偏光子層を基材層上に形成したこと以外は実施例８と同様にして、積層体を作製した。積層体は、偏光子、基材層及びハードコート層（ガスバリア層）がこの順に積層されていた。

［１３］実施例１３
［１３−１］ガスバリア層形成用組成物の調製
ガスバリア層形成用組成物として、ハードコート層形成用組成物Ｄを用いた。

［１３−２］前面板の作製
河村産業株式会社製のポリイミド「ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ（１００）」、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３４０（紫外線吸収剤）、及びγ−ブチロラクトンを含む溶液を流延成膜して基材層を作製した。基材層の厚みは、５０μｍであった。

基材層の一方の表面に、上記ガスバリア層形成用組成物をバーコーター塗工し、紫外線を照射して硬化させて、ガスバリア層を形成した。なお、ガスバリア層の厚みは１０．０μｍであった。このようにして、ガスバリア層と基材層とからなる前面板を得た。

［１３−３］積層体の作製
実施例１と同様にして、基材層上に偏光子を形成した。このようにして、偏光子、基材層及びガスバリア層がこの順に積層された積層体を製造した。

［１４］比較例１
ハードコート層及びガスバリア層を形成しなかったこと以外は実施例４と同様にして、積層体を作製した。積層体は、偏光子、及び基材層が積層されていた。

［１５］比較例２
ハードコート層及びガスバリア層を形成しなかったこと以外は実施例５と同様にして、積層体を作製した。積層体は、偏光子、及び基材層が積層されていた。

実施例１〜１３、及び比較例１、２で作製した積層体について、前面板の酸素透過度測定、吸光度の測定、耐熱性試験、耐光性試験、及び屈曲性試験を実施し、結果を表１及び表２に示す。なお、表１及び表２中、ガスバリア層欄における組成物は、ガスバリア層を形成する組成物を示し、ハードコート層欄における組成物は、ハードコート層を形成する組成物を示す。ＧＢはガスバリア層形成用組成物を示し、ＨＣ，Ａはハードコート層形成用組成物Ａを示し、ＨＣ，Ｂはハードコート層形成用組成物Ｂを示し、ＨＣ，Ｃはハードコート層形成用組成物Ｃを示し、ＨＣ，Ｄはハードコート層形成用組成物Ｄを示し、ＨＣ，Ｅはハードコート層形成用組成物Ｅを示す。ＵＶＡ（１）は紫外線吸収剤「Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ３４０」を示し、ＵＶＡ（２）はＲ^４−１が２−エチルヘキシル基である式（Ｉ−ＩＩ）で表される化合物を示し、ＵＶＡ（３）は紫外線吸収剤「Ｃａｒｂｏｐｒｏｔｅｃｔ」を示し、ＰＥＴはポリエチレンテレフタレートフィルムを示し、ＰＥＮはポリエチレンナフタレートフィルムを示し、ＣＯＰは環状オレフィン系樹脂フィルムを示し、ＴＡＣはトリアセチルセルロースフィルムを示し、Ｚ−ＴＡＣは厚み方向の位相差値が略０ｎｍであるトリアセチルセルロースフィルムを示し、ＰＩはポリイミド「ＫＰＩ−ＭＸ３００Ｆ（１００）」を示す。偏光板欄における塗布型は各実施例及び比較例で使用した塗布型の偏光子を示す。Δは偏光性能の変化度Δを示す。

表１及び表２に示されるように、酸素透過度が１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下である前面板を含む、実施例１〜１３で得られた積層体は、前面板の酸素透過度が１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）超である前面板を含む、比較例１及び２で得られたと比べ、高温環境下に置かれた後であっても、ΔＰｙ、ΔＴｙ及び変化度Δの値が小さかった。従って、本発明の積層体は、高温環境下に曝露されても、偏光性能の低下を有効に抑制でき、優れた耐熱性を有することがわかった。

１…デバイス、２…ガスバリア層、３…基材層、４…ハードコート層、５…偏光板、６…粘着剤層、７…位相差フィルム

Claims (18)

1. 偏光板と、該偏光板の一方の面に積層された前面板とを含み、
   該前面板は、基材層を含み、該前面板の酸素透過度は１３００ｃｃ／（ｍ^２・２４ｈ・ａｔｍ）以下である、積層体。
2. 前記前面板はハードコート層を含み、該ハードコート層は、基材層と偏光板との間に配置され、かつ基材層に隣接する、請求項１に記載の積層体。
3. 前記ハードコート層は、第一の紫外線吸収剤を含有する、請求項２に記載の積層体。
4. 前記偏光板は偏光子を含み、該偏光子は、重合性液晶化合物が硬化した層を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
5. 前記偏光板は位相差フィルムを含み、該位相差フィルムは、偏光子の前面板側とは反対側に配置され、重合性液晶化合物が硬化した層を含む、請求項４に記載の積層体。
6. 前記前面板は、波長４３０ｎｍにおける吸光度（Ａ_４３０）に対する波長４０５ｎｍにおける吸光度（Ａ_４０５）の比（Ａ_４０５／Ａ_４３０）が３．００以上である、請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
7. 前記前面板は、基材層のハードコート層側とは反対側の面に、ガスバリア層を含む、請求項２又は３に記載の積層体。
8. 前記基材層及び前記ガスバリア層の少なくとも一方は、第二の紫外線吸収剤を含有する、請求項７に記載の積層体。
9. 前記ガスバリア層は、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ａ）とカチオン重合性モノマー（Ｂ）とを含む硬化性組成物の硬化物である、請求項７又は８に記載の積層体。
10. 前記カチオン重合性モノマー（Ｂ）は、１以上のエポキシ基及び／又は１以上のオキセタニル基を有する環状エーテル化合物（Ｂ−１）を含む、請求項９に記載の積層体。
11. 前記環状エーテル化合物（Ｂ−１）は、２以上のエポキシ基及び／又は２以上のオキセタニル基を有するビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）を含む、請求項１０に記載の積層体。
12. 前記環状エーテル化合物（Ｂ−１）は、ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）を含む、請求項１０又は１１に記載の積層体。
13. 前記ラジカル重合性環状エーテル化合物（Ｂ−１−２）の含有量は、ビス環状エーテル化合物（Ｂ−１−１）１質量部に対して、１〜１０質量部である、請求項１２に記載の積層体。
14. 第一の紫外線吸収剤は、式(I)で表される化合物である、請求項３〜１３のいずれかに記載の積層体。
    （式（Ｉ）中、Ａはメチレン基、第二級アミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよく、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｒ^４は炭素数３〜５０のアルキル基、又は少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数３〜５０のアルキル基であって、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されているアルキル基を表し、該アルキル基上の炭素原子には置換基が結合していてもよく、Ｘ^１は電子吸引性基を表し、Ｙ^１は−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^５−、−ＮＲ^６ＣＯ−、又は−ＣＯＮＲ^７−を表し、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す）
15. タッチセンサを含む、請求項１〜１４のいずれかに記載の積層体。
16. フレキシブル画像表示装置用の、請求項１〜１５のいずれかに記載の積層体。
17. 請求項１〜１６のいずれかに記載の積層体を含む、デバイス。
18. 請求項１６に記載の積層体を有する、フレキシブル画像表示装置。