WO2021085404A1 - 光学積層体及びフレキシブル表示装置 - Google Patents

光学積層体及びフレキシブル表示装置 Download PDF

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WO2021085404A1
WO2021085404A1 PCT/JP2020/040186 JP2020040186W WO2021085404A1 WO 2021085404 A1 WO2021085404 A1 WO 2021085404A1 JP 2020040186 W JP2020040186 W JP 2020040186W WO 2021085404 A1 WO2021085404 A1 WO 2021085404A1
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WO
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formula
optical laminate
group
layer
hard coat
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PCT/JP2020/040186
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English (en)
French (fr)
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一喜 大松
崇 中小路
鈴木 宏昌
Original Assignee
住友化学株式会社
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    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • GPHYSICS
    • G09EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09FDISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements

Definitions

  • the present invention relates to an optical laminate having at least a substrate layer containing a polyamide resin and a hard coat layer laminated on at least one surface of the substrate layer, and a flexible electronic device including the optical laminate.
  • Image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely used in various applications such as mobile phones and smart watches.
  • Glass has been used as the front plate of such an image display device, but it is difficult to use it as a front plate material for, for example, a flexible display because the glass is very rigid and easily broken.
  • a plastic film having a base material and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material has been studied (for example, Patent Document 1).
  • an optical laminate having a base material and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material is used in a flexible electronic device such as a flexible display
  • the base material is used. It was found that even if it has high bending resistance, the bending resistance as a laminated body may be lowered by laminating the hard coat layer. Furthermore, it was found that the optical characteristics may deteriorate due to repeated bending due to the low bending resistance. Therefore, it is an object of the present invention to provide an optical laminate having a base material and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material, and having excellent bending resistance. To do.
  • the present inventor has provided an intermediate layer at the interface between the base material layer and the hard coat layer, which is softer than the base material layer and the hard coat layer and has a uniform thickness. It has been found that the provision thereof makes it easy to prevent a decrease in the bending resistance of the optical laminate and suppress a decrease in the optical characteristics, and has completed the present invention. That is, the present invention includes the following aspects.
  • An optical laminate having at least a base material layer containing a polyamide resin and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material layer, wherein the base material layer and the hard coat layer
  • the intermediate layer has an intermediate layer having a thickness of 0.3 ⁇ m or more and a thickness variation of 25% or less, and is measured by using a nanoindenter in a cross section in the thickness direction of the optical laminate.
  • the optical laminate according to any one of [1] to [5] above which is a film for a front plate of a flexible display device.
  • the present invention is an optical laminate having a base material and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material, and has excellent bending resistance and high optical characteristics even after repeated bending. It is possible to provide an optical laminate having.
  • the optical laminate of the present invention has at least a base material layer containing a polyamide resin and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material layer, and the base material layer and the hard coat layer There is an intermediate layer having a thickness of 0.3 ⁇ m or more and a thickness variation of 25% or less between the layers.
  • the intermediate layer is a layer formed between the base material layer and the hard coat layer by laminating the hard coat layer on the base material layer under specific conditions, and is a component constituting the base material layer. It is considered that the layer is in a state where the components constituting the hard coat layer are mixed. Therefore, the intermediate layer is a layer containing a mixture of at least a part of the components constituting the hard coat layer and at least a part of the components constituting the base material layer.
  • the thickness of the intermediate layer in the optical laminate of the present invention is 0.3 ⁇ m or more. When the thickness of the intermediate layer is less than 0.3 ⁇ m, the bending resistance of the optical laminate of the present invention cannot be sufficiently enhanced.
  • the thickness of the intermediate layer is preferably 0.5 ⁇ m or more, more preferably 0.7 ⁇ m or more, still more preferably 0.9 ⁇ m or more, still more preferably 1. It is 1 ⁇ m or more, particularly preferably 1.3 ⁇ m or more.
  • the thickness of the intermediate layer is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 7 ⁇ m or less, still more preferably 5 ⁇ m or less, from the viewpoint of easily enhancing the mechanical strength and optical characteristics of the optical laminate.
  • the thickness of the intermediate layer is not more than the above upper limit, it is considered that it is easy to suppress the deterioration of the optical characteristics of the optical laminate (for example, partial whitening of the optical laminate) which may occur due to repeated bending. Further, when the thickness of the intermediate layer is equal to or more than the above lower limit, it is considered that it is easy to improve the bending resistance of the optical laminate while maintaining the mechanical strength (for example, pencil hardness) of the optical laminate.
  • the variation (uniformity) in the thickness of the intermediate layer in the optical laminate of the present invention is 25% or less.
  • the variation in the thickness of the intermediate layer is based on the maximum value (tmax) and the minimum value (tmin) of the thickness t ( ⁇ m) of the intermediate layer measured at any plurality of points in the cross-sectional direction of the optical laminate. , Formula: ⁇ (tmax-tmin) / (tmax + tmin) ⁇ ⁇ 100 (%).
  • the bending resistance of the optical laminate of the present invention is sufficiently enhanced, and deterioration of the optical characteristics of the optical laminate after repeated bending, for example, partial whitening of the optical laminate, increase in haze, etc. is suppressed.
  • the variation in the thickness of the intermediate layer is preferably 23% or less, more preferably 18% or less, still more preferably 15% or less, still more preferably 12% or less.
  • the intermediate layer in the optical laminate of the present invention is considered to be a layer in which the components constituting the base material layer and the components constituting the hard coat layer are mixed. Therefore, as a method of measuring the thickness of the intermediate layer, for example, the cross section of the optical laminate of the present invention in the thickness direction is observed with an electron microscope, and these layers located between the intermediate layer and the hard coat layer are measured. Method I of measuring the thickness of the mixed portion as an intermediate layer, a plurality of layers in the thickness direction from a certain position on the surface of the optical laminate of the present invention on the hard coat layer side to a certain position in the base material layer. Raman spectroscopic measurement, micro IR measurement, TOF-SIMS measurement, etc.
  • the portion having a composition between the composition of the hard coat layer and the composition of the base material layer and the composition changing is specified as an intermediate layer. Then, a method II for measuring the thickness thereof can be mentioned. From the viewpoint of facilitating accurate measurement of the thickness of the intermediate layer, it is preferable to measure the thickness of the intermediate layer by the above method II.
  • the intermediate layer is defined by focusing on the Raman peak, which is detected in the components constituting the hard coat layer but not in the components constituting the base material layer. It is preferable to specify. From the viewpoint of data reliability due to noise during measurement, increase / decrease in baseline, etc., it is preferable to specify the intermediate layer by comparison with a reference peak (for example, peak intensity ratio, peak area ratio). Specifically, after focusing the confocal Raman microscope on the surface of the optical laminate of the present invention on the hard coat layer side, the peak intensity peculiar to the components constituting the hard coat layer is constant in the thickness direction. Measure at every interval.
  • the peak intensity in the hard coat layer may be I H, and the distance in the thickness direction from the position where the peak intensity starts to decrease to the position where the intensity becomes I H ⁇ 0.1 may be the thickness of the intermediate layer. ..
  • the peak area may be obtained, and the thickness of the intermediate layer may be obtained according to the same criteria.
  • a Raman spectrum is obtained at regular intervals in the thickness direction from the hard coat layer side to the base material side, and the peak intensity of the peak that appears particularly strongly in the hard coat layer with respect to any peak in the spectrum.
  • the ratio or the peak area ratio may be obtained, and the thickness of the intermediate layer may be obtained from the relationship between the peak intensity ratio and the peak area ratio from the hard coat layer to the base material side.
  • the indentation hardness of the intermediate layer and the base material layer is measured by using a nanoindenter in a cross section in the thickness direction of the optical laminate, and the indentation hardness of the intermediate layer is measured. Is AN / mm 2, and the indentation hardness of the base material layer is BN / mm 2 , the ratio of A to B (A / B) is 0.96 or less.
  • the above ratio (A / B) is preferably 0.94 or less, more preferably 0.93 or less, and further, from the viewpoint of easily improving the bending resistance of the optical laminate of the present invention. It is more preferably 0.92 or less, and particularly preferably 0.91 or less.
  • the ratio (A / B) is preferably 0.6 or more, more preferably 0.7 or more, still more preferably 0, from the viewpoint of easily improving the mechanical strength and optical characteristics of the optical laminate of the present invention. It is 0.8 or more.
  • the indentation hardness of each of the above layers of the optical laminate of the present invention is measured by injecting a measuring jig into each layer in the cross section of the optical laminate in the thickness direction using a nanoindenter.
  • a cross section in the thickness direction of the optical laminate is obtained by a method as described in Examples.
  • the indentation hardness is measured at a plurality of points from the point on the hard coat layer side to the point on the base material layer side, and each layer is made to correspond to the position of the intermediate layer or the like specified by the above method. It is possible to measure the indentation hardness of.
  • the fact that the thickness of the intermediate layer is 0.3 ⁇ m or more, the variation in thickness is 25% or less, and the ratio (A / B) is 0.96 or less is that the optical laminate of the present invention has. It indicates that the intermediate layer softer than the base material layer exists with a predetermined thickness or more and a uniform thickness. Although it is not clear why the optical laminate of the present invention having the above characteristics has good bending resistance and optical characteristics after repeated bending, it is specified between the hard coat layer and the base material layer in the optical laminate. This is because the flexible layer of the optical laminate itself can be improved while maintaining the optical characteristics and mechanical strength of the optical laminate by uniformly presenting the layer having the softness of the above. It is believed that there is. The indentation hardness of the hard coat layer is higher than the indentation hardness of the base material layer and the intermediate layer.
  • the method for forming the intermediate layer satisfying the thickness, variation in thickness, and ratio (A / B) of the intermediate layer as described above is not particularly limited as long as an optical laminate having the above characteristics can be obtained, but for example, a group.
  • a composition for forming a hard coat layer in which a component that gives a hard coat layer is dissolved in a solvent having solubility in a resin constituting the material layer is applied onto the base material layer, and at a predetermined holding temperature or lower, a predetermined It is preferable to leave it for a holding time.
  • the holding temperature is preferably a temperature lower than 25 ° C., more preferably 20 ° C. or lower, still more preferably 15 ° C. or lower, still more preferably 10 ° C.
  • the holding time is preferably 20 minutes to 5 ° C.
  • the time more preferably 25 minutes to 3 hours, still more preferably 0.5 hours to 1 hour.
  • Examples thereof include a method of forming a hard coat layer by drying and curing the composition for forming a hard coat layer after performing a drying step after leaving the composition at a predetermined holding temperature or lower for a predetermined holding time. Further, by adjusting the thickness of the base material layer, the composition of the hard coat layer, the solvent of the composition for forming the hard coat layer, the concentration of the monomer in the composition for forming the hard coat layer, etc. An intermediate layer that satisfies the thickness variation and ratio (A / B) can be formed.
  • the hardness A push of the intermediate layer from the viewpoint of easier to improve the flex resistance of the optical stack, preferably 700 N / mm 2 or less, more preferably 600N / mm 2 or less, More preferably, it is 570 N / mm 2 or less.
  • the indentation hardness A is preferably 300 N / mm 2 or more, more preferably 350 N / mm 2 or more, still more preferably 400 N / mm 2 from the viewpoint of easily improving the mechanical strength and optical characteristics of the optical laminate. That is all.
  • the total light transmittance of the optical laminate of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 83% or more, still more preferably 85% or more, even more preferably 88% or more, particularly preferably 89% or more, especially more. It is preferably 90% or more.
  • the total light transmittance is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to improve the visibility when the optical laminate is incorporated into the display device, particularly as a front plate. Since the optical laminate of the present invention usually exhibits a high total light transmittance, for example, the emission intensity of a display element or the like required to obtain a constant brightness can be determined as compared with the case where a film having a low transmittance is used. It becomes possible to suppress it. Therefore, power consumption can be reduced.
  • the optical laminate of the present invention when the optical laminate of the present invention is incorporated into a display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light from the backlight is reduced, which can contribute to energy saving.
  • the upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less.
  • the total light transmittance can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7361-1: 1997, for example.
  • the total light transmittance may be the total light transmittance in the range of the thickness of the optical laminate described later.
  • the optical laminate when the optical laminate is excellent in optical characteristics, it means that the total light transmittance is high, the haze is low, and / or the YI is low.
  • the haze of the optical laminate of the present invention is preferably 5% or less, more preferably 4% or less, still more preferably 3% or less, even more preferably 2.5% or less, particularly preferably 2% or less, and particularly more preferably. Is 1% or less, and more preferably 0.5% or less.
  • the lower limit of haze is usually 0.01% or more.
  • the haze can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7136: 2000.
  • the amount of change in haze before and after repeated bending of the optical laminate of the present invention is preferably less than 0.5%, more preferably 0.4% or less, still more preferably 0.3% or less, and further. More preferably, it is 0.1% or less.
  • the ⁇ Hz of the optical laminate is not more than the above upper limit, the durability and visibility are improved when the optical laminate is used as the front plate of a flexible display device, particularly as the front plate of a rollable display or a foldable display.
  • Cheap. ⁇ Hz can be calculated from the amount of change in haze before and after the test, preferably by bending 50,000 times using a U-shaped expansion / contraction tester.
  • the optical laminate of the present invention has excellent bending resistance.
  • the bending resistance of the optical laminate of the present invention in the U-shaped expansion / contraction test is preferably 50,000 times or more, more preferably 60,000 times or more, still more preferably 70,000 times or more.
  • the U-shaped expansion / contraction test can be measured using a U-shaped expansion / contraction tester, for example, by the method described in Examples.
  • the yellowness (YI value) of the optical laminate of the present invention is preferably 3.5 or less, more preferably 3.0 or less, still more preferably 2.5 or less, and particularly preferably 2.0 or less.
  • the yellowness is usually ⁇ 5 or higher, preferably ⁇ 2 or higher.
  • the thickness of the optical laminate of the present invention is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, still more preferably 25 ⁇ m or more, particularly preferably 30 ⁇ m or more, preferably 200 ⁇ m or less, more preferably 120 ⁇ m or less, still more preferably. It is 110 ⁇ m or less, particularly preferably 100 ⁇ m or less, and may be a combination of the upper limit and the lower limit thereof.
  • the thickness of the optical laminate can be measured using a micrometer, for example, by the method described in Examples.
  • the pencil hardness of the surface of the optical laminate of the present invention on the hard coat layer side is preferably HB or higher, more preferably F or higher, further preferably H or higher, and particularly preferably 2H or higher.
  • the pencil hardness can be measured in accordance with JIS K 5600-5-4: 1999.
  • the optical laminate of the present invention has a base material layer containing a polyamide resin.
  • the base material layer may contain one kind of polyamide-based resin, or may contain two or more kinds of polyamide-based resins. Further, the base material layer may be a single layer or a multilayer layer.
  • the thickness of the base material layer is not particularly limited as long as an optical laminate having the above characteristics can be obtained, but the thickness, variation in thickness, and ratio (A / B) of the intermediate layer can be easily adjusted to a desired range.
  • the thickness of the base material layer is within the above range, the thickness and thickness of the intermediate layer are considered to be due to the relationship between the evaporation of the residual solvent in the base material layer and the permeation of the composition for forming the hard coat layer into the base material layer. It is considered that it is easy to adjust the variation and the ratio (A / B) of the solvent to a desired range.
  • the optical laminate of the present invention has at least a base material layer and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material layer, and the base material layer and the hard coat layer are combined with each other. An intermediate layer is formed between them. Therefore, it is considered that the thickness of the base material layer in the optical laminate of the present invention is usually slightly thinner than the thickness of the base material film constituting the base material layer used in the production of the optical laminate of the present invention.
  • the thickness of the base material layer is preferably 150 ⁇ m or less, more preferably 110 ⁇ m or less, and further preferably 75 ⁇ m or less from the viewpoint of easily increasing the pencil hardness and light transmission. Further, the thickness is preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, still more preferably, from the viewpoint of easily forming an intermediate layer satisfying the above-mentioned thickness, variation in thickness, and ratio (A / B). Is 25 ⁇ m or more, particularly preferably 30 ⁇ m or more.
  • the base material layer contains a polyamide resin.
  • the polyamide-based resin contained in the base material layer is not particularly limited as long as it contains at least a repeating structural unit containing an amide group, and for example, a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group (hereinafter, also referred to as a polyamide resin). ), And at least one polymer selected from the group consisting of a polymer containing both a repeating structural unit containing an amide group and a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter, also referred to as a polyamide imide resin). It may be there.
  • the base material layer may contain one kind of polyamide-based resin, or may contain two or more kinds of polyamide-based resins.
  • the polyamide-based resin contained in the base material layer is preferably a polyamide-imide resin from the viewpoint of film-forming property.
  • the polyamide resin is based on the formula (2):
  • Y represents a tetravalent organic group
  • X represents a divalent organic group
  • * represents a bond
  • It is a polyamide-imide resin having a structural unit represented by the above formula (2) and a structural unit represented by the above formula (2).
  • the polyamide-based resin is preferably a polyamide-imide resin having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (2) from the viewpoint of film forming property, transparency and bending resistance. ..
  • the formulas (1) and (2) will be described below.
  • the description of the formula (2) is for both the polyamide resin and the polyamide-imide resin (polyamide-based resin), and the description of the formula (1) is for the polyamide-imide. Regarding resin.
  • the structural unit represented by the formula (2) is a structural unit formed by reacting a dicarboxylic acid compound and a diamine compound
  • the structural unit represented by the formula (1) is a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound. Is a structural unit formed by the reaction of and.
  • Z represents a divalent organic group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (these groups).
  • the hydrogen atom in the above represents a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, which may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom), and more preferably 1 to 1 to carbon atoms. It is substituted with an alkyl group of 6 or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)).
  • Examples of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms include examples relating to R 3a and R 3b in the formula (3) described later.
  • Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure.
  • the organic group of Z the formula (20), the formula (21), the formula (22), the formula (23), the formula (24), the formula (25), the formula (26), the formula (27), the formula (28).
  • W 1 represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar- , -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2-Ar- Alternatively, it represents -Ar-SO 2- Ar-, where Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (for example, a phenylene group) in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom independently of each other.
  • Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (for example, a phenylene group) in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom independently of each other.
  • Examples of the organic group of Z include the formula (20'), the formula (21'), the formula (22'), the formula (23'), the formula (24'), the formula (25'), the formula (26'), and the formula. (27'), equation (28') and equation (29'):
  • W 1 and * are as defined in formula (20) to (29)]
  • the divalent organic group represented by is more preferable.
  • the hydrogen atom on the ring in the formulas (20) to (29) and the formulas (20') to (29') is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. It may be substituted with an aryl group having 6 to 12 carbon atoms (the hydrogen atom in these groups may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom)).
  • the polyamide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by any of the above formulas (20') to (29'), Z in the formula (2) will be described later.
  • the polyamide resin is added to the structural unit and has the following formula (d1):
  • R 24 is a group or a hydrogen atom defining R 3a in the formula (3) described later
  • * is Representing a join hand
  • the polyamide resin may contain a plurality of types of Z as Z in the formula (2), and the plurality of types of Z may be the same as or different from each other.
  • Z in the formula (2) is preferably the formula (3): from the viewpoint that the bending resistance and the impact resistance of the optical laminate of the present invention can be easily improved and the optical characteristics can be easily improved.
  • R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 3a. and hydrogen atoms contained in R 3b are each independently may be substituted with a halogen atom, W is, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 - , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )- R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, s is an integer of 0 to 4, and t is an integer of 0 to 4. u is an integer from 0 to 4, and
  • R 3a , R 3b , s, t, u, W and * are as defined in equation (3)] It is preferable to have at least a structural unit represented by.
  • the polyamide resin has a structural unit in which Z in the formula (2) is represented by the formula (3), and the polyamide resin has a Z in the formula (2) as the formula (3). Having a structure represented by (2) has the same meaning, and among the plurality of structural units represented by the formula (2) contained in the polyamide resin, Z in at least a part of the structural units is represented by the formula ( It means that it is represented by 3). This statement also applies to other similar statements.
  • W independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C ( CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-is preferable from the viewpoint of bending resistance of the optical laminate.
  • R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • alkyl group having 1 to 6 carbon atoms examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, and 2 -Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like can be mentioned.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group and a cyclohexyl.
  • Examples include oxy groups.
  • Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and the like.
  • R 3a and R 3b independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. ..
  • the hydrogen atoms contained in R 3a and R 3b may be substituted with halogen atoms independently of each other.
  • R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom.
  • Examples of monovalent hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and n-. Pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group Etc., and these may be substituted with a halogen atom.
  • Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • T and u in the formula (3) and the formula (3') are independently integers of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0. is there.
  • the s in the formula (3) and the formula (3') is an integer in the range of 0 to 4, and when s is in this range, the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate are improved. It's easy to do.
  • the s in the formulas (3) and (3') is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably, from the viewpoint of easily improving the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate.
  • the structural unit including the structure represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 as Z in the formula (2) is, for example, a structural unit derived from terephthalic acid or isophthalic acid.
  • the unit is particularly preferably a structural unit including a structure in which s is 0 and u is 0 in the formula (3) or the formula (3').
  • the polyamide resin preferably contains a structural unit derived from terephthalic acid.
  • the polyamide resin may contain one or more structural units in which Z is represented by the formula (3) or the formula (3').
  • Z is represented by the formula (3) or the formula (3').
  • the polyamide resin is designated as Z in the formula (2), and is in the formula (3) or in the formula (3).
  • the polyamide resin is represented by the formula (2) from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate and easily reducing the yellowness (YI value) of the optical laminate.
  • Z in the represented structural unit a structure represented by the formula (3) in which s is 0 is contained, and a structure represented by the formula (3) in which s is 1 in addition to the structural unit containing the structure. It is more preferable to further contain a structural unit containing.
  • It has a structure represented by. In this case, it is easy to improve the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate, and it is easy to reduce the yellowness.
  • the ratio thereof is the configuration represented by the formula (1) of the polyamide resin.
  • the total of the units and the constituent units represented by the formula (2) is 100 mol%, it is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 40 mol% or more, still more preferably. It is 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less.
  • the ratio of the structural unit represented by the formula (3) or the formula (3') in the formula (2) is equal to or more than the above lower limit, the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate are increased. Easy to raise.
  • Z in the formula (2) is equal to or less than the above upper limit of the proportion of the structural unit represented by the formula (3) or the formula (3'), the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the formula (3). It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the film.
  • the ratio of the structural unit represented by the formula (2) having Z represented by the formula (3') is represented by the structural unit represented by the formula (1) and the formula (2) of the polyamide resin.
  • the total of the constituent units is 100 mol%, it is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, still more preferably 7 mol% or more, still more preferably 9 mol% or more, and preferably 9 mol% or more.
  • the resistance of the optical laminate is increased. It is easy to improve impact resistance, elastic modulus and bending resistance.
  • the ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which s is 1 to 4 or the formula (2) having Z represented by the formula (3') is equal to or less than the above upper limit, the formula (3) or It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the structure represented by the formula (3').
  • the ratio of the structural unit in which Z in the formula (1), the formula (2), and the formula (2) is represented by the formula (3) or the formula (3') is measured by using, for example, 1 1 H-NMR. It can also be calculated from the raw material charging ratio.
  • Z in the polyamide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more, still more preferably 50 mol% or more. It is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4. When the above lower limit of Z or more is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4, it is easy to improve the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate. Further, 100 mol% or less of Z in the polyamide resin may be represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 0 to 4.
  • the ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which s is 0 to 4 or the formula (2) having Z represented by the formula (3') in the resin is, for example, 1 1 H-NMR. It can be measured using it, or it can be calculated from the charging ratio of raw materials.
  • Z in the polyamide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, still more preferably 12 mol% or more. It is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4. When the above lower limit or more of Z of the polyamide resin is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4, the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate are determined. Easy to raise.
  • the formula (3) or the formula (3) in which s is 1 to 4 in Z preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less. It is represented by the formula (3').
  • the table is represented by the formula (3) or the formula (3') in which s is 1 to 4. It is easy to improve the processability of the film by suppressing the increase in viscosity of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between the amide bonds derived from the structure.
  • the ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which s is 1 to 4 in the resin or the formula (2) having Z represented by the formula (3') is determined by using, for example, 1 1 H-NMR. It can be measured or calculated from the raw material charge ratio.
  • X has a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a cyclic structure having 4 to 40 carbon atoms independently of each other.
  • the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure.
  • the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine, in which case the number of carbon atoms of the hydrocarbon group and the hydrocarbon group substituted with fluorine is preferable. Is 1-8.
  • the polyamide-based resin of the present invention may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other.
  • X is represented by the formula (10), the formula (11), the formula (12), the formula (13), the formula (14), the formula (15), the formula (16), the formula (17) and the formula (18).
  • Formula hydrocarbon groups can be mentioned.
  • V 1 and V 3 are single bonds, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2. -Or-SO 2- .
  • the bonding positions of V 1 and V 2 with respect to each ring and the bonding positions of V 2 and V 3 with respect to each ring are independent of each other, preferably in the meta position or para position, and more preferably in the meta position or para position with respect to each ring. It is a para position.
  • V 1 , V 2 and V 3 are independent of each other, preferably single bond, —O— or —S—, more preferably, from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and flexibility of the optical laminate. Is a single bond or -O-.
  • the polyamide resin is represented by X in the formula (1) or X in the formula (2), and the formula (4):
  • R 10 to R 17 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms independently of each other.
  • the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and * represents a bond.
  • R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3).
  • R 10 ⁇ R 17 independently of one another, preferably hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein, R 10 ⁇
  • the hydrogen atom contained in R 17 may be substituted with a halogen atom independently of each other.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • R 10 to R 17 are more preferably hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl, independently of each other, from the viewpoint of impact resistance, elasticity, transparency and bending resistance of the optical laminate.
  • R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluorogroups, chloro groups or trifluoromethyl.
  • the structural unit represented by the formula (4) is the formula (4'):
  • the skeleton containing the fluorine element enhances the solubility of the polyamide resin in the solvent, and it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, and it is easy to reduce the viscosity of the varnish. It is easy to improve the workability of. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical laminate.
  • X in the above-mentioned polyamide-based resin is the formula (4), particularly the formula (4). It is represented by').
  • the obtained optical film has a skeleton containing a fluorine element to enhance the solubility of the resin in the solvent. It is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, it is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the processability of the optical film.
  • the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical laminate.
  • 100 mol% or less of X in the above-mentioned polyamide-based resin is represented by the formula (4), particularly the formula (4').
  • X in the resin may be of formula (4), especially of formula (4').
  • the ratio of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured by using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.
  • Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a tetravalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms.
  • the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure, and an aromatic ring is preferably used from the viewpoint of easily increasing impact resistance and elastic modulus.
  • the organic group is an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, in which case the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group
  • the number of carbon atoms is preferably 1 to 8.
  • the polyamide-based resin is a polyamide-imide resin, and the polyamide-imide resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other. May be good.
  • W 1 is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar- CH 2 -Ar -, - Ar- C (CH 3) represents a 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-.
  • Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.
  • W 1 is independent of each other, preferably single bond, from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate and easily reducing the yellowness of the optical laminate.
  • -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - more preferably a single bond, -O-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or-C (CF 3 ) 2- , more preferably single bond, -C (CH 3 ) 2 -or-C (CF) 3 ) 2- , even more preferably a single bond or -C (CF 3 ) 2- .
  • Y is the formula within the above range in the polyamide-imide resin (26), preferably W 1 is a single bond, -C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - a is the formula (26), more preferably
  • W 1 is represented by the equation (26) of single bond or ⁇ C (CF 3 ) 2 ⁇
  • the ratio of the structural unit in which Y is represented by the formula (26) in the polyamide-imide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.
  • At least a part of Y in the plurality of formulas (1) is the formula (5) :.
  • R 18 to R 25 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and * represents a bond.
  • R 35 to R 40 represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and hydrogen contained in R 35 to R 40. Atoms may be substituted with halogen atoms independently of each other, with * representing a bond] It is represented by.
  • Y in the plurality of formulas (1) is represented by the formula (5) and / or represented by the formula (9)
  • R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 carbon atom.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3).
  • R 18 ⁇ R 25 independently of one another, preferably hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein, R 18 ⁇
  • the hydrogen atom contained in R 25 may be substituted with a halogen atom independently of each other.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • R 18 to R 25 are independent of each other, from the viewpoint of easily increasing the impact resistance, elasticity and bending resistance of the optical laminate, and from the viewpoint of easily increasing the transparency and maintaining the transparency. It preferably represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and even more preferably R 18 , R 19 , R 20 and R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R. 22 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 21 and R 22 represent a methyl group or a trifluoromethyl group.
  • R is from the viewpoint of easily increasing the chemical stability, impact resistance, elasticity and bending resistance of the optical laminate, and easily increasing the transparency and maintaining the transparency.
  • 35 to R 40 preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom.
  • the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and examples of the halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms. ..
  • Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 35 to R 40 are exemplified above.
  • the formula (5) is represented by the formula (5')
  • the formula (9) is represented by the formula (9'):
  • the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyimide resin in the solvent and improves the storage stability of the varnish containing the resin. In addition to being easy, it is easy to reduce the viscosity of the varnish and improve the processability of the optical film. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical laminate.
  • Y in the polyamide-imide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, according to the formula (5), particularly the formula (5). It is represented by').
  • the skeleton containing a fluorine element enhances the solubility of the polyamide-based resin in a solvent and contains the resin. It is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the workability of the optical film. Further, the skeleton containing a fluorine element makes it easy to improve the optical characteristics of the optical laminate.
  • Y in the above-mentioned polyamide-imide resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5').
  • Y in the polyamide-imide resin may be of formula (5), particularly of formula (5').
  • the ratio of the structural units represented by the formula (5) of Y in the polyamide-imide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.
  • the plurality of structural units represented by the formula (1) have a configuration in which Y is represented by the formula (9) in addition to the structural unit in which Y is represented by the formula (5). It is preferable to include more units.
  • Y further includes a structural unit represented by the formula (9), the impact resistance and elastic modulus of the optical laminate can be further improved.
  • the polyamide-imide resin may contain a structural unit represented by the formula (30) and / or a structural unit represented by the formula (31), and may also contain the structural unit represented by the formula (1) and optionally the formula (2).
  • the structural unit represented by the formula (30) and / or the structural unit represented by the formula (31) may be included.
  • Y 1 represents a tetravalent organic group, and preferably represents an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine.
  • Y 1 include formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group represented by the formula (29), a group in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a group.
  • Examples thereof include a chain hydrocarbon group having a tetravalent carbon number of 6 or less.
  • a polyimide resin may include a plurality of kinds of Y 1, Y 1 of the plurality of kinds can be the same or may be different from one another.
  • Y 2 represents a trivalent organic group, and preferably represents an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine.
  • Examples of Y 2 include the above equations (20), (21), (22), (23), (24), (25), (26), (27), and (28). ) And a group in which any one of the bonds of the group represented by the formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a chain hydrocarbon group having a trivalent carbon number of 6 or less.
  • the polyamide-imide resin may include a plurality of kinds of Y 2, Y 2 a plurality of species may be the same or may be different from one another.
  • X 1 and X 2 independently represent a divalent organic group, preferably a hydrocarbon group in which the hydrogen atom in the organic group is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Represents an organic group that may be substituted with.
  • Examples of X 1 and X 2 include the above equations (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) and A group represented by the formula (18); a group in which the hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; Examples thereof include chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.
  • the polyamide-based resin has a structural unit represented by the formulas (1) and / or the formula (2), and optionally a configuration represented by the formulas (30) and / or the formula (31). It consists of units. Further, from the viewpoint of easily improving the optical characteristics, impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical laminate, the ratio of the structural units represented by the formulas (1) and (2) in the above-mentioned polyamide resin is determined. Based on the formulas (1) and (2), and optionally all the structural units represented by the formulas (30) and (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, still more preferable. Is 95 mol% or more.
  • the proportions of the structural units represented by the formulas (1) and (2) are the formulas (1) and (2), and in some cases, the formulas (30) and / or the formula (31). It is usually 100% or less based on all the constituent units represented by.
  • the above ratio can be measured using, for example, 1 1 H-NMR, or can be calculated from the raw material charging ratio.
  • the content of the polyamide resin in the base material layer contained in the optical laminate is preferably 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the base material layer constituting the optical laminate. It is preferably 30 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more, preferably 99.5 parts by mass or less, and more preferably 95 parts by mass or less.
  • the content of the polyamide resin is within the above range, the thickness, variation in thickness, and ratio (A / B) of the intermediate layer of the optical laminate can be easily adjusted within the above range, and the flexural resistance is enhanced. In addition to being easy, it is easy to improve the optical characteristics, impact resistance and elastic modulus of the optical laminate.
  • the weight average molecular weight of the polyamide resin is determined from the viewpoint that the thickness, variation in thickness, and ratio (A / B) of the intermediate layer of the optical laminate can be easily adjusted within the above ranges, as well as impact resistance, elastic modulus, and From the viewpoint of easily increasing the flexural resistance, in terms of standard polystyrene, it is preferably 200,000 or more, more preferably 230,000 or more, further preferably 250,000 or more, still more preferably 270,000 or more, and particularly preferably 280. It is over 000.
  • the weight average molecular weight of the polyamide-based resin is determined from the viewpoint that the thickness, variation in thickness, and ratio (A / B) of the intermediate layer of the optical laminate can be easily adjusted within the above ranges, and with respect to the solvent of the resin. From the viewpoint of easily improving the solubility and the stretchability and processability of the optical film, it is preferably 1,000,000 or less, more preferably 800,000 or less, still more preferably 700,000 or less, and even more. It is preferably 500,000 or less.
  • the weight average molecular weight can be determined by, for example, gel permeation chromatography (sometimes referred to as GPC) measurement and converted to standard polystyrene, and may be calculated by, for example, the method described in Examples.
  • the content of the structural unit represented by the formula (2) in the polyamideimide resin is the structural unit represented by the formula (1).
  • 1 mol it is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, still more preferably 1.0 mol or more, still more preferably 1.5 mol or more, and preferably 6.0 mol or more.
  • it is more preferably 5.0 mol or less, still more preferably 4.5 mol or less.
  • the content of the structural unit represented by the formula (2) is at least the above lower limit, the impact resistance and elastic modulus of the optical laminate can be easily increased.
  • the content of the structural unit represented by the formula (2) is not more than the above upper limit, the thickening due to the hydrogen bond between the amide bonds in the formula (2) is suppressed and the processability of the optical film is improved. Easy to make.
  • the polyamide resin may contain a halogen atom such as a fluorine atom which can be introduced by, for example, the above-mentioned fluorine-containing substituent or the like.
  • a halogen atom such as a fluorine atom which can be introduced by, for example, the above-mentioned fluorine-containing substituent or the like.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • Preferred fluorine-containing substituents for containing a fluorine atom in the polyamide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.
  • the content of halogen atoms in the polyamide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and further preferably 5 to 30% by mass, based on the mass of the polyamide resin.
  • the content of the halogen atom is at least the above lower limit, the elastic modulus of the optical laminate is further improved, the water absorption rate is lowered, the yellowness is further reduced, and the transparency and visibility are more likely to be improved.
  • the content of halogen atoms is not more than the above upper limit, synthesis becomes easy.
  • the imidization ratio of the polyamide-imide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, still more preferably 96% or more. From the viewpoint of easily improving the optical characteristics of the optical laminate, the imidization ratio is preferably at least the above lower limit. The upper limit of the imidization rate is 100% or less.
  • the imidization ratio indicates the ratio of the molar amount of the imide bond to the value of twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyamide-imide resin.
  • the value is twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyamide-imide resin, and the molar amount of the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound.
  • the ratio of the molar amount of the imide bond in the polyamide-imide resin to the total of the above is shown.
  • the imidization rate can be determined by an IR method, an NMR method, or the like.
  • the polyamide resin can be produced, for example, using a diamine compound and a dicarboxylic acid compound as main raw materials.
  • the polyamide-imide resin and the polyamide-imide precursor resin can be produced, for example, using a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound as main raw materials.
  • the dicarboxylic acid compound preferably contains at least a compound represented by the formula (3 ").
  • R 1 ⁇ R 8 are each independently hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the R 1 ⁇ R 8
  • the hydrogen atoms contained may be substituted with halogen atoms independently of each other.
  • A represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - Represents SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )- R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom.
  • R 31 and R 32 independently contain a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or a chlorine atom. Represent. ]
  • the dicarboxylic acid compound is a compound represented by the formula (3 ") in which m is 0.
  • the dicarboxylic acid compound is represented by the formula (3") in which m is 0. It is more preferable to use a compound represented by the formula (3 ′′) in which A is an oxygen atom in addition to the compound to be used.
  • the dicarboxylic acid compound is R 31 and It is a compound represented by the formula (3 ′′) in which R 32 is a chlorine atom.
  • a diisocyanate compound may be used instead of the diamine compound.
  • diamine compound used in the production of the resin examples include aliphatic diamines, aromatic diamines and mixtures thereof.
  • aromatic diamine represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or other substituent may be contained in a part of the structure.
  • the aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferable.
  • the "aliphatic diamine” represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be contained as a part of the structure thereof.
  • aliphatic diamine examples include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine and 4,4'.
  • -Cyral aliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.
  • aromatic diamine examples include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylene diamine, p-xylylene diamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene and the like.
  • aromatic diamine preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-Diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, TFMB, 4,4' -Bis (4-aminophenoxy) biphenyl, more preferably 4,4'-di
  • aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoints of high elastic modulus, high transparency, high flexibility, high bending resistance and low coloring property of the optical laminate.
  • Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. Be done.
  • the tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the tetracarboxylic dian compound may be a tetracarboxylic dian compound analog such as an acid chloride compound in addition to the dianhydride.
  • aromatic tetracarboxylic dianhydride examples include a non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, a monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and a condensed polycyclic aromatic tetra. Examples include carboxylic dianhydride. Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 2,2.
  • Examples of the monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and the condensed polycyclic aromatic dianhydride dianhydride. Examples thereof include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.
  • 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride BPDA, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 6FDA, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4, Examples thereof include 4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.
  • the cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride.
  • Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2] .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride and their positional isomers are listed. Be done. These can be used alone or in combination of two or more.
  • acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride examples include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Further, a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.
  • tetracarboxylic dianhydrides more preferably from the viewpoints of high impact resistance, high elasticity, high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance, and low coloring property of the optical laminate.
  • BPDA and 6FDA, and mixtures thereof are mentioned, and particularly preferably 6FDA and BPDA.
  • terephthalic acid As the dicarboxylic acid compound used in the production of the resin, terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-oxybis benzoic acid or an acid chloride compound thereof is preferably used.
  • other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination.
  • dicarboxylic acid compound of isophthalic acid examples include a dicarboxylic acid compound of isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4′-biphenyldicarboxylic acid; 3,3′-biphenyldicarboxylic acid; a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms, and two benzoic acids.
  • examples thereof include compounds in which the compound is a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or a phenylene group, and their acid chloride compounds.
  • OBBC 4,4'-oxybis (benzoyl chloride)
  • TPC terephthaloyl chloride
  • isophthaloyl chloride preferably OBBC and TPC. It is more preferable to use in combination.
  • the polyimide resin is obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid and their anhydrides and derivatives in addition to the tetracarboxylic acid compound as long as the various physical properties of the optical laminate are not impaired. You may.
  • tetracarboxylic acid examples include a water adduct of an anhydride of the above-mentioned tetracarboxylic acid compound.
  • tricarboxylic acid compound examples include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples thereof include an anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; an anhydride of 1,3,5-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; phthalate.
  • the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and / or the dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected according to the ratio of each structural unit of the desired polyimide resin.
  • the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350 ° C., preferably 20 to 200 ° C., and more preferably 25 to 100 ° C.
  • the reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours.
  • the reaction may be carried out under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and / or an atmosphere of an inert gas with stirring. The reaction is preferably carried out in a solvent inert to the reaction.
  • the solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and is, for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, and the like.
  • Alcohol-based solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, ⁇ -butyrolactone (sometimes referred to as GBL), ⁇ -valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate , Ester solvent such as ethyl lactate; Ketone solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, heptane; fat such as ethyl cyclohexane Cyclic hydrocarbon solvent; aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene; nitrile solvent such as acetonitrile; ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethan
  • imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst.
  • imidization catalysts include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidin, N-propylpiperidin, N-butylpyrrolidin, N-butylpiperidin, and N-propylhexahydro.
  • Alicyclic amines such as azepine (monocyclic); azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2.
  • Alicyclic amines such as nonane (polycyclic); and pyridine, 2-methylpyridine (2-picolin), 3-methylpyridine (3-picolin), 4-methylpyridine (4-picolin), 2- Ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and Examples include aromatic amines such as isoquinolin. Further, from the viewpoint of easily promoting the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst.
  • Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidization reaction, and specific examples thereof include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride and other aliphatic acid anhydrides, and phthalic acid and other aromatics. Acid anhydride and the like can be mentioned.
  • the polyamide-based resin may be separated and purified by a conventional method, for example, a separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, or column chromatography, or a separation means combining these, which is preferable.
  • a separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, or column chromatography, or a separation means combining these, which is preferable.
  • it can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to a reaction solution containing a transparent polyamide resin, precipitating the resin, and performing concentration, filtration, drying and the like.
  • the base material layer in the optical laminate of the present invention may contain at least one kind of filler in addition to the polyamide resin.
  • the filler include organic particles and inorganic particles, and preferably inorganic particles.
  • the inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide, magnesium fluoride, and fluoride.
  • metal fluoride particles such as sodium oxide.
  • silica particles, zirconia particles, and alumina are preferable from the viewpoint of increasing the elasticity and / or tear strength of the optical laminate and easily improving the impact resistance. Particles are mentioned, and more preferably silica particles are mentioned. These fillers can be used alone or in combination of two or more.
  • the average primary particle size of the filler is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, still more preferably 15 nm or more, particularly preferably 20 nm or more, preferably 100 nm or less, more preferably. It is 90 nm or less, more preferably 80 nm or less, even more preferably 70 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, particularly more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less.
  • the average primary particle size of the filler preferably the silica particles
  • the aggregation of the filler preferably the silica particles is suppressed, and the optical characteristics of the obtained optical laminate are likely to be improved.
  • the average primary particle size of the filler can be measured by the BET method.
  • the average primary particle size may be measured by image analysis of a transmission electron microscope or a scanning electron microscope.
  • the content of the filler is usually 0.1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the film constituting the base material layer. It is preferably 1 part by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more, further preferably 10 parts by mass or more, still more preferably 20 parts by mass or more, particularly preferably 30 parts by mass or more, and preferably 60 parts by mass or less. Is.
  • the content of the filler is at least the above lower limit, the elastic modulus of the obtained optical laminate can be easily improved. Further, when the content of the filler is not more than the above upper limit, it is easy to improve the optical characteristics of the optical laminate.
  • the optical laminate of the present invention may further contain an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber may be contained in the base material layer, the hard coat layer, or another layer in the optical laminate of the present invention.
  • the ultraviolet absorber can be appropriately selected from those usually used as an ultraviolet absorber in the field of resin materials.
  • the ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds.
  • the UV absorber can be used alone or in combination of two or more.
  • system compound refers to a derivative of a compound to which the "system compound” is attached.
  • the "benzophenone-based compound” refers to a compound having benzophenone as a maternal skeleton and a substituent attached to benzophenone.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably 1 part by mass or more, more preferably 2 parts by mass or more, and further preferably 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the optical laminate. It is 10 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or less, and further preferably 6 parts by mass or less.
  • the suitable content varies depending on the UV absorber used, but adjusting the content of the UV absorber so that the light transmittance at 400 nm is about 20 to 60% enhances the light resistance of the optical laminate and is transparent. Easy to enhance sex.
  • the optical laminate of the present invention may further contain additives other than fillers and ultraviolet absorbers.
  • additives include, for example, antioxidants, mold release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, pH regulators, silica dispersants, lubricants, thickeners, leveling agents and the like.
  • the content thereof is preferably 0.001 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 15 parts by mass, and further preferably 0. It may be 1 to 10 parts by mass.
  • the elastic modulus of the base material layer constituting the optical laminate of the present invention is preferably 4.5 GPa or more, more preferably 4.8 GPa or more, further preferably 4.8 GPa or more, from the viewpoint of easily preventing wrinkles or scratches of the optical laminate. Is 5.0 GPa or more, more preferably 5.1 GPa or more, and particularly preferably 5.2 GPa or more.
  • the upper limit of the elastic modulus is not particularly limited, but is usually 100 GPa or less.
  • the elastic modulus can be measured using a tensile tester under conditions such as a distance between chucks of 50 mm and a tensile speed of 10 mm / min.
  • the hard coat layer is a layer having a function of imparting scratch resistance, chemical resistance, and the like to the surface of the optical laminate to protect the optical laminate.
  • the hard coat layer a known one may be appropriately adopted, and examples thereof include known hard coat layers such as acrylic type, epoxy type, urethane type, benzyl chloride type, and vinyl type.
  • an acrylic-based, urethane-based, epoxy-based, or a combination thereof hard coat layer is preferable from the viewpoint of suppressing a decrease in visibility in the wide-angle direction of the optical laminate and improving bending resistance.
  • the pencil hardness of the hard coat layer is preferably HB or higher, more preferably F or higher, still more preferably H or higher, and particularly preferably 2H or higher, as measured in the state of being laminated on the optical film in the optical laminate of the present invention. is there.
  • the pencil hardness can be measured according to JIS K 5600-5-4: 1999.
  • the hard coat layer may be, for example, a cured product of a composition containing an active energy ray-curable compound.
  • the active energy ray-curable compound is a compound having a property of being cured by irradiating with an active energy ray such as an electron beam or ultraviolet rays.
  • Examples of such an active energy ray-curable compound include an electron beam-curable compound that is cured by irradiating an electron beam, an ultraviolet-curable compound that is cured by irradiating an ultraviolet ray, and the like.
  • These compounds are the same compounds as the main components of the hard coat agent used for forming a normal hard coat layer, and examples thereof include at least one compound of a radical polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.
  • the radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group contained in the radically polymerizable compound may be a functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically, a vinyl group. , (Meta) acryloyl group and the like.
  • the radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be the same or different from each other.
  • the number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably 2 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
  • Examples of the radically polymerizable compound include compounds having a (meth) acryloyl group from the viewpoint of high reactivity, and specifically, 2 to 6 (meth) acryloyl groups in one molecule.
  • Compounds called polyfunctional acrylate monomers and epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates have a molecular weight of several hundreds of (meth) acryloyl groups in the molecule.
  • Thousands of oligomers are mentioned, preferably one or more selected from epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates and polyester (meth) acrylates.
  • (meth) acrylic resins are preferable, and those containing a polyfunctional (meth) acrylate compound as a main component are more preferable.
  • (meth) acrylic means acrylic and / or methacrylic
  • (meth) acrylate means acrylate and / or methacrylate.
  • the polyfunctional (meth) acrylate-based compound is a compound having at least two acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule, and specifically, ethylene glycol di (meth) acrylate and diethylene glycol di (meth).
  • a phosphazenic acrylate compound or a phosphazene-based methacrylate compound into which a group has been introduced a polyisocyanate having at least two isocyanate groups in the molecule, and a polyol compound having at least one (meth) acryloyloxy group and a hydroxyl group.
  • At least one monofunctional (meth) acrylate may be used.
  • the monofunctional (meth) acrylate include hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl.
  • examples thereof include (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate.
  • the content of the monofunctional (meth) acrylate-based compound is preferably 10% by mass or less with respect to the solid content of the compound contained in the composition for forming a functional layer (paint for a hard coat layer).
  • a solid content means all components except a solvent contained in a curable composition.
  • a polymerizable oligomer may be added to the hard coat layer for the purpose of adjusting the hardness, for example.
  • examples of such oligomers include terminal (meth) acrylate polymethyl methacrylate, terminal styryl poly (meth) acrylate, terminal (meth) acrylate polystyrene, terminal (meth) acrylate polyethylene glycol, terminal (meth) acrylate acrylonitrile-styrene copolymer, and the like.
  • Macromonomers such as terminal (meth) acrylate styrene-methyl (meth) acrylate copolymers can be mentioned.
  • the active energy ray-curable compound may be used in the state of a solution mixed with a solvent.
  • the active energy ray-curable compound and a solution thereof may be commercially available as a hard coat agent.
  • Specific examples of commercially available hard coating agents include "NK Hard M101” (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., urethane acrylate compound) and "NK Ester A-TMM-3L” (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
  • the cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group.
  • the number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
  • a compound having at least one epoxy group and an oxetanyl group as the cationically polymerizable group is preferable.
  • a cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetanyl group is preferable because the shrinkage associated with the polymerization reaction is small. Further, among the cyclic ether groups, compounds having an epoxy group are easily available, compounds having various structures are easily available, the durability of the obtained hard coat layer is not adversely affected, and compatibility with radically polymerizable compounds is easily controlled. There is an advantage. Further, among the cyclic ether groups, the oxetanyl group tends to have a higher degree of polymerization than the epoxy group, accelerates the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound of the obtained hard coat layer, and is mixed with the radically polymerizable compound. There are advantages such as forming an independent network without leaving unreacted monomers in the film even in the region where the polymer is formed.
  • Examples of the cationically polymerizable compound having an epoxy group include polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring, or a cyclohexene ring or cyclopentene ring-containing compound with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid.
  • Alicyclic epoxy resin obtained by epoxidation polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or its alkylene oxide adduct, polyglycidyl ester of aliphatic long chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth) acrylate, An aliphatic epoxy resin such as a copolymer; a glycidyl ether produced by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and hydrogenated bisphenol A, or derivatives such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts thereof with epichlorohydrin. And glycidyl ether type epoxy resin which is a novolak epoxy resin and is derived from bisphenols and the like.
  • the thickness of the hard coat layer is not particularly limited and can be appropriately set. For example, it may be 2 to 100 ⁇ m, but is preferably 30 ⁇ m or less from the viewpoint of easily increasing the bending resistance and surface hardness of the optical laminate. It is more preferably 20 ⁇ m or less, still more preferably 15 ⁇ m or less, even more preferably 10 ⁇ m, and particularly preferably 8 ⁇ m or less.
  • a composition for forming a hard coat layer containing an active energy ray-curable compound for example, an active energy ray-curable resin is used as a base material on the surface of the optical film. And irradiate with active energy rays.
  • a composition can be obtained by mixing an active energy ray-curable compound with an additive or the like, if necessary.
  • the cured product of the hard coat layer forming composition constitutes the hard coat layer.
  • the composition for forming a hard coat layer preferably contains a solvent, and it is preferable that the active energy ray-curable compound is diluted with a solvent in the composition for forming a hard coat layer.
  • the composition is produced by mixing an active energy ray-curable compound with various additives for imparting surface smoothness, for example, silicone oil, and then diluting the obtained mixture with a solvent.
  • the active energy ray-curable compound may be diluted with a solvent and then mixed with an additive to be produced, or the active energy ray-curable compound and an additive diluted with a solvent in advance may be mixed and produced.
  • it may be produced by mixing an active energy ray-curable compound diluted with a solvent in advance and an additive diluted with a solvent in advance. The mixed composition may be further stirred.
  • the composition for forming a hard coat layer contains an appropriate solvent.
  • Solvents include aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and dichloroethane, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, cyclohexanol, etc.
  • Alcohols acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone and other ketones, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl glycol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and other esters
  • ethers such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether and polyethylene glycol monomethyl ether, cellosolves, sulfoxides such as DMSO, and amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide. It can be selected and used.
  • the solvent contained in the composition for forming a hard coat layer is preferably a polyimide resin.
  • the solvent preferably includes methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and propylene glycol monomethyl ether, and more preferably methyl ethyl ketone and propylene glycol monomethyl ether.
  • the boiling point of the solvent is preferably in the range of 70 ° C. to 200 ° C.
  • the organic solvent can be easily evaporated after the composition for forming the hard coat layer is applied.
  • the type and amount of the solvent are appropriately selected according to the type and amount of the active energy ray-curable compound used, the material and shape of the base material (optical film), the coating method, the thickness of the target hard coat layer, and the like.
  • the temperature is kept below a predetermined holding temperature. It is preferable to leave it for a predetermined holding time.
  • the holding temperature is preferably a temperature lower than 25 ° C., more preferably 20 ° C.
  • the holding time is preferably 20 minutes to 5 ° C. The time, more preferably 25 minutes to 3 hours, still more preferably 0.5 hours to 1 hour.
  • the drying temperature is preferably X-55 ° C. or higher, more preferably X-50 ° C. or higher, still more preferably X-45 ° C. or higher, where the boiling point of the solvent contained in the hard coat layer forming composition is X ° C. Yes, preferably X + 20 ° C. or lower, more preferably X ° C. or lower, still more preferably X-20 ° C. or lower.
  • the composition for forming a hard coat layer contains two or more kinds of solvents
  • the drying time is preferably 1 minute to 30 minutes, more preferably 2 minutes to 20 minutes, still more preferably 5 minutes to 12 minutes.
  • the solid content of the composition for forming a hard coat layer is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 55% by mass, still more preferably 20 to 50% by mass, and particularly preferably 25 to 50% by mass.
  • the film thickness to be coated is not too thick and the value of Equation 1 is not too large, so that the visibility is good and the surface smoothness of the obtained hard coat layer is good. Tends to be.
  • the composition for forming a hard coat layer may contain a polymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator is usually used as the polymerization initiator.
  • photopolymerization initiator examples include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, anthraquinone, 1- (4-isopropylphenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, carbazole, xanthone, 4-chlorobenzophenone, 4, 4'-diaminobenzophenone, 1,1-dimethoxydeoxybenzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, thioxanthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1- (4-dodecylphenyl) -2- Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morphorinopropane-1-one, triphenylamine, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl Phosphine oxide, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-pheny
  • the photopolymerization initiator may be used in combination with a dye sensitizer.
  • the dye sensitizer include xanthene, thioxanthene, coumarin, ketocoumarin and the like.
  • the combination of the photopolymerization initiator and the dye sensitizer include a combination of BTTB and xanthene, a combination of BTTB and thioxanthene, a combination of BTTB and coumarin, and a combination of BTTB and ketocoumarin.
  • the amount used is preferably 0.1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound. When the amount used is in the above range, it tends to be easy to obtain a sufficient curing rate.
  • the amount of the photopolymerization initiator used is preferably 10 parts by mass or less per 100 parts by mass of the active energy ray-curable compound.
  • examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radical and cationic polymerization initiators. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization.
  • the radical polymerization initiator may be any as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by at least one of irradiation with active energy rays and heating.
  • examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxides such as hydrogen peroxide and perbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.
  • Active energy ray radical polymerization initiators include Type 1 radical polymerization initiators, which generate radicals by decomposition of molecules, and Type 2 radical polymerization initiators, which coexist with tertiary amines and generate radicals by hydrogen abstraction type reactions. Yes, they are used alone or in combination.
  • the cationic polymerization initiator may be any one as long as it can release a substance that initiates cationic polymerization by at least one of activation energy ray irradiation and heating.
  • an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, a cyclopentadienyl iron (II) complex and the like can be used. These can initiate cationic polymerization by either irradiation with active energy rays or heating, depending on the difference in structure.
  • the radical polymerization initiator and the cationic polymerization initiator polymerization initiator can preferably contain 0.1 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the entire composition for forming a hard coat layer.
  • the content of the polymerization initiator is in the above range, curing can proceed sufficiently, and the mechanical properties and adhesive strength of the finally obtained coating film can be in a good range. Poor adhesive strength due to curing shrinkage, cracking phenomenon, and curling phenomenon tend to be less likely to occur.
  • the composition for forming a hard coat layer may contain an antistatic agent in addition to the active energy ray-curable compound.
  • an antistatic agent in addition to the active energy ray-curable compound.
  • an antistatic function can be imparted to the hard coat layer.
  • the antistatic agent include surfactants, conductive polymers, conductive particles, alkali metal salts and / or organic cation-anionic salts. These antistatic agents are used alone or in admixture of two or more.
  • surfactant examples include hydrocarbon-based surfactants, fluorine-based surfactants, silicone-based surfactants, and the like.
  • Examples of the conductive polymer include polyaniline, polypyrrole, polyacetylene, polythiophene and the like.
  • the conductive particles include particles such as indium-tin-composite oxide (ITO) and antimony-doped tin oxide.
  • alkali metal salts include organic salts and inorganic salts of alkali metals.
  • alkali metal ion constituting the cation part of the alkali metal salt include lithium, sodium, and potassium ions. Among these alkali metal ions, lithium ions are preferable.
  • the anion portion of the alkali metal salt may be composed of an organic substance or an inorganic substance.
  • the anion portion constituting the organic salt include CH 3 COO ⁇ , CF 3 COO ⁇ , CH 3 SO 3 ⁇ , CF 3 SO 3 ⁇ , (CF 3 SO 2 ) 3 C ⁇ , C 4 F 9 SO 3 -, C 3 F 7 COO - , (CF 3 SO 2) (CF 3 CO) N -, (FSO 2) 2 N -, - O 3 S (CF 2) 3 SO 3 -, CO 3 2-, wherein (A1) to formula (A4), (A1) :( C n F 2n + 1 SO 2) 2 N - (n represents an integer of 1 to 10), (A2): CF 2 (C m F 2m SO 2) 2 N - (m represents an integer of 1 to 10), (A3): - O 3 S (CF 2) l SO 3 - (l represents an integer of 1 to 10), (A4) :( C p F 2
  • the anion portion containing a fluorine atom is preferably used because an ionic compound having good ionic dissociation property can be obtained.
  • the anion portion constituting the inorganic salts, Cl -, Br -, I -, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, BF 4 -, PF 6 -, ClO 4 -, NO 3 -, AsF 6 -, SbF 6 -, NbF 6 -, TaF 6 -, (CN) 2 N - and the like are used.
  • anionic portion (FSO 2) 2 N - , (CF 3 O 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N - are preferred, (FSO 2) 2 N - , (CF 3 SO 2 ) 2 N - is more preferable.
  • the organic cation-anion salt is an organic salt in which the cation portion is composed of a cation portion and an anion portion, and the cation portion is an organic substance.
  • the anion portion may be an organic substance or an inorganic substance.
  • the "organic cation-anionic salt” may be a substance referred to as an ionic liquid or an ionic solid.
  • the cation component examples include pyridinium cation, piperidinium cation, pyrrolidinium cation, cation having a pyrolin skeleton, cation having a pyrrole skeleton, imidazolium cation, tetrahydropyrimidinium cation, and dihydropyrimidinium cation.
  • examples thereof include pyrazolium cation, pyrazolinium cation, tetraalkylammonium cation, trialkylsulfonium cation, tetraalkylphosphonium cation and the like.
  • the anion component include the same as the anion portion of the alkali metal salt. Among them, the anionic component containing a fluorine atom is preferably used because an ionic compound having good ionic dissociation property can be obtained.
  • the composition for forming a hard coat layer is an organic compound containing, for example, a bromine atom, a fluorine atom, a sulfur atom, a benzene ring, and an inorganic oxide such as tin oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and silicon oxide. It may contain fine particles and the like.
  • the refractive index of the obtained hard coat layer can be adjusted, and the hard coat layer can be provided with optical functions such as a low reflection function and an antireflection function.
  • a layer containing an active energy ray-curable compound can be formed by applying a composition for forming a hard coat layer containing an active energy ray-curable compound on an optical film and then drying the composition.
  • the coating can be carried out by a usual method such as a microgravure coating method, a roll coating method, a dipping coating method, a spin coating method, a die coating method, a cast transfer method, a flow coating method, or a spray coating method. From the viewpoint of easily enhancing the optical characteristics of the optical laminate, it is preferable to laminate the composition for forming a hard coat layer by a microgravure coating method or a die coating method.
  • the active energy ray-curable compound coated on the surface of the optical film is cured, and a target hard coat layer is obtained.
  • the active energy ray include an electron beam, ultraviolet rays, visible light, and the like, and are appropriately selected depending on the type of the active energy ray-curable compound used.
  • the active energy rays may be irradiated in the same manner as in the formation of a normal hard coat layer.
  • the intensity of the active energy ray to be irradiated, the irradiation time, and the like are appropriately selected according to the type of the curable compound to be used, the thickness of the layer containing the curable compound, and the like.
  • the active energy rays may be irradiated in an atmosphere of an inert gas.
  • the active energy rays may be irradiated in a container sealed with an inert gas, and as the inert gas, nitrogen gas, argon gas or the like can be used. It is also useful to further laminate other layers, which will be described later, on the surface of the hard coat layer. The other layers in this case can be laminated on the surface of the hard coat layer in a single layer or in multiple layers.
  • the optical laminate of the present invention has other layers such as an antireflection layer, a low reflection layer, an antistatic layer, an antiglare layer, an ultraviolet absorbing layer, an adhesive layer, and a hue adjusting layer. May further have.
  • the hard coat layer contained in the optical laminate of the present invention may have an antireflection function as well as a hard coat function.
  • the ultraviolet absorbing layer is a layer having an ultraviolet absorbing function.
  • a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a thermosetting transparent resin, and the main material thereof. It is composed of a dispersed ultraviolet absorber.
  • the adhesive layer is a layer having an adhesive function, and has a function of adhering an optical laminate to another member.
  • a material for forming the adhesive layer a commonly known material can be used.
  • a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used.
  • the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy after the fact.
  • the adhesive layer may be a layer called a pressure-sensitive adhesive (Pressure Sensitive Adhesive, PSA), which is attached to an object by pressing.
  • PSA Pressure Sensitive Adhesive
  • the pressure-sensitive adhesive may be an adhesive that is "a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to an adherend with a light pressure" (JIS K 6800), and “protects a specific component (microcapsules). ), And an adhesive that can maintain stability until the film is destroyed by an appropriate means (pressure, heat, etc.) ”(JIS K 6800).
  • the hue adjustment layer is a layer having a hue adjustment function, and is a layer capable of adjusting the optical laminate to a desired hue.
  • the hue adjusting layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant.
  • this colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, petals, titanium oxide-based calcined pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; azo compounds, quinacridone compounds, anthracinone compounds, and the like.
  • Organic pigments such as perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, slene compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and basic dyes, Examples thereof include dyes such as acidic dyes and medium dyes.
  • the refractive index adjusting layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, for example, a layer having a refractive index different from that of the optical film constituting the base material layer and capable of imparting a predetermined refractive index to the optical laminate.
  • the refractive index adjusting layer may be, for example, a resin layer appropriately selected and, in some cases, a resin layer further containing a pigment, or a thin film of metal.
  • the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide.
  • the average primary particle size of the pigment may be 0.1 ⁇ m or less.
  • the metal used for the refractive index adjusting layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Oxides or metal nitrides can be mentioned.
  • the method for producing the optical film constituting the base material layer contained in the optical laminate of the present invention is not particularly limited, and for example, the following steps: (A) A step (varnish preparation step) of preparing a resin composition (hereinafter, also referred to as "varnish") containing at least the polyamide resin and a solvent. (B) A step of applying varnish to a support material to form a coating film (coating step), and (c) a step of drying the coating film to form an optical film (optical film forming step). It may be a manufacturing method including at least.
  • the polyamide resin is dissolved in a solvent, and if necessary, additives such as the filler and the ultraviolet absorber are added and mixed by stirring to prepare the varnish.
  • additives such as the filler and the ultraviolet absorber are added and mixed by stirring to prepare the varnish.
  • silica particles are used as the filler, a silica sol in which the dispersion liquid of the silica sol containing the silica particles is replaced with a solvent in which the resin can be dissolved, for example, a solvent used for preparing the following varnish may be added to the resin. ..
  • the solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved.
  • a solvent include amide solvents such as DMAc and DMF; lactone solvents such as GBL and ⁇ -valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide, DMSO and sulfolane; and carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate. ; And combinations thereof.
  • an amide solvent or a lactone solvent is preferable.
  • These solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent and the like.
  • the solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and further preferably 5 to 15% by mass.
  • a varnish is applied onto the support material to form a coating film by a known coating method.
  • Known coating methods include, for example, wire bar coating method, reverse coating, roll coating method such as gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, dipping method, and the like. Examples include a spray method and a salivation molding method.
  • an optical film can be formed by drying the coating film and peeling it from the support material. A step of further drying the optical film after peeling may be provided.
  • the coating film can be dried at a temperature of usually 50 to 350 ° C. If necessary, the coating film may be dried under an inert atmosphere or under reduced pressure conditions.
  • the support material examples include a SUS plate for a metal-based material, a PET film, a PEN film, a polyamide-based resin film for a resin-based material, another polyimide-based resin film, and a cycloolefin-based polymer (COP). ) Films, acrylic films, etc. can be mentioned. Among them, PET film, COP film and the like are preferable from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, and PET film is more preferable from the viewpoint of adhesion to an optical film and cost.
  • the optical laminate of the present invention can be produced by laminating a hard coat layer on the obtained optical film, for example, by the method described above.
  • the optical laminate of the present invention is not particularly limited, and it may be used for various purposes.
  • the optical laminate of the present invention is very much used as a front plate of an image display device, particularly a front plate of a flexible display device (window film), and particularly a front plate of a rollable display or a foldable display. It is useful.
  • the flexible display device has, for example, a flexible functional layer and an optical laminate that is superposed on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display device is arranged on the visual side on the flexible functional layer.
  • This front plate has a function of protecting a flexible functional layer, for example, an image display element in a flexible display.
  • the flexible display device is a display device that is used with operations such as repeatedly bending and repeatedly winding the image display device.
  • High bending resistance is required for the front plate of a flexible display device used with such repeated bending operations.
  • the front plate is also required to have high visibility.
  • the front plate of the image display device particularly the film for the front plate of the flexible display device, is required to have high visibility and high visibility.
  • High bending resistance is required.
  • the film of the present invention preferably has the total light transmittance, haze and / or YI value as described above from the viewpoint of easily enhancing visibility when used for the front plate of a flexible display device. Further, from the viewpoint of easily increasing the bending resistance when used as the front plate of the flexible display device, it is preferable to satisfy the bending resistance number of times in the U-shaped expansion / contraction test as described above.
  • Examples of image display devices include wearable devices such as televisions, smartphones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game machines, electronic papers, indicators, bulletin boards, watches, and smart watches.
  • Examples of the flexible display device include all image display devices having flexible characteristics, and examples thereof include the rollable display and the foldable display as described above.
  • the rollable display is an image display device in which an image display portion including a front plate is wound in a roll shape, and the image display portion is pulled out to form a flat surface or a curved surface, and is wound in a roll shape. It is an image display device in which operations such as taking are performed each time it is used.
  • a foldable display is an image display device in which an image display portion including a front plate is bent and is used in a state where the image display portion is opened to form a flat surface or a curved surface, and an operation such as folding is used. It is an image display device that is performed every time. An image display device in which such operations such as winding and bending are repeatedly performed is referred to as a flexible image display device.
  • the present invention also provides a flexible display device including the optical laminate of the present invention.
  • the optical laminate of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate may be referred to as a window film.
  • the flexible display device includes a laminated body for a flexible display device and an organic EL display panel, and the laminated body for the flexible display device is arranged on the visual side with respect to the organic EL display panel and is configured to be bendable.
  • the laminated body for a flexible display device may contain a window film, a polarizing plate, and a touch sensor, which are the optical laminated bodies of the present invention, and the stacking order thereof is arbitrary, but the window film and the polarizing plate are viewed from the visual side.
  • Touch sensor or window film, touch sensor, and circularly polarizing plate are preferably laminated in this order.
  • the presence of a circularly polarizing plate on the visual side of the touch sensor is preferable because the pattern of the touch sensor is less likely to be visually recognized and the visibility of the displayed image is improved.
  • Each member can be laminated using an adhesive, an adhesive, or the like. Further, a light shielding pattern formed on at least one surface of any layer of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor can be provided.
  • the flexible display device of the present invention may further include a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate.
  • the circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only a right circularly polarized light component or a left circularly polarized light component by laminating a ⁇ / 4 retardation plate on a linear polarizing plate.
  • the external light is converted to right-handed circularly polarized light and reflected by the organic EL panel to block the left-handed circularly polarized light, and only the light emitting component of the organic EL is transmitted to suppress the influence of the reflected light. It is used to make it easier to see.
  • the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the ⁇ / 4 retardation plate must theoretically be 45 °, but practically, they are 45 ⁇ 10 °.
  • the linear polarizing plate and the ⁇ / 4 retardation plate do not necessarily have to be laminated adjacent to each other, and the relationship between the absorption axis and the slow phase axis may satisfy the above range. It is preferable to achieve perfect circularly polarized light at all wavelengths, but it is not always necessary in practical use. Therefore, the circularly polarizing plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate. It is also preferable to further laminate a ⁇ / 4 retardation film on the visible side of the linear polarizing plate to convert the emitted light into circularly polarized light to improve the visibility when wearing polarized sunglasses.
  • the linear polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting light vibrating in the transmission axis direction but blocking polarization of a vibration component perpendicular to the linear polarizing plate.
  • the linear polarizing plate may be configured to include a linear polarizing element alone or a linear polarizing element and a protective film attached to at least one surface thereof.
  • the thickness of the linear polarizing plate may be 200 ⁇ m or less, preferably 0.5 to 100 ⁇ m. If the thickness is within the above range, the flexibility tends to be difficult to decrease.
  • the linear polarizer may be a film-type polarizer produced by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (hereinafter, may be abbreviated as PVA) -based film.
  • a dichroic dye such as iodine is adsorbed on the PVA-based film oriented by stretching, or the dichroic dye is oriented in a state of being adsorbed on the PVA to exhibit polarization performance.
  • other steps such as swelling, cross-linking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be included.
  • the stretching and dyeing steps may be performed on the PVA-based film alone, or may be performed in a state of being laminated with another film such as polyethylene terephthalate.
  • the thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 ⁇ m, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.
  • a liquid crystal coating type polarizer formed by coating a liquid crystal polarizing composition may be used.
  • the liquid crystal polarizing composition may contain a liquid crystal compound and a dichroic dye compound.
  • the liquid crystal compound may have a property of exhibiting a liquid crystal state, and it is particularly preferable that the liquid crystal compound has a high-order orientation state such as a smectic phase because it can exhibit high polarization performance. It is also preferable that the liquid crystal compound has a polymerizable functional group.
  • the dichroic dye is a dye that is oriented together with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and the dichroic dye itself may have liquid crystal properties or has a polymerizable functional group. You can also do it. Any compound in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.
  • the liquid crystal polarizing composition can further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent and the like.
  • the liquid crystal polarizing layer is manufactured by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal polarizing layer can be formed to be thinner than the film-type polarizing element.
  • the thickness of the liquid crystal polarizing layer may be preferably 0.5 to 10 ⁇ m, more preferably 1 to 5 ⁇ m.
  • the alignment film can be produced, for example, by applying an alignment film forming composition on a substrate and imparting orientation by rubbing, polarized light irradiation, or the like.
  • the alignment film forming composition may contain a solvent, a cross-linking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like in addition to the alignment agent.
  • the alignment agent for example, polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides can be used. When applying photo-orientation, it is preferable to use an orientation agent containing a synnamate group.
  • the weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent may be about 10,000 to 1,000,000.
  • the thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of orientation regulating force.
  • the liquid crystal polarizing layer can be peeled off from the base material, transferred and laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, and a window film.
  • the protective film may be a transparent polymer film, and specifically, the polymer film used has a unit of a monomer containing polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, norbornene or cycloolefin.
  • Polyolefins such as cycloolefin derivatives, (modified) celluloses such as diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, propionyl cellulose, acrylics such as methyl methacrylate (co) polymer, polystyrenes such as styrene (co) polymer, acrylonitrile -Butadiene-styrene copolymers, acrylonitrile-styrene copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers, polyvinyl chlorides, polyvinylidene chlorides, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, poly Films such as polyesters such as
  • preferred examples include polyamide, polyamideimide, polyimide, polyester, olefin, acrylic or cellulose-based films.
  • Each of these polymers can be used alone or in combination of two or more. These films are used unstretched or as uniaxially or biaxially stretched films.
  • Cellulose-based films, olefin-based films, acrylic films, and polyester-based films are preferable. It may be a coating type protective film obtained by applying a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as acrylate and curing the film.
  • plasticizers may be 200 ⁇ m or less, preferably 1 to 100 ⁇ m. When the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the protective film is unlikely to decrease.
  • the ⁇ / 4 retardation plate is a film that gives a ⁇ / 4 retardation in the direction orthogonal to the traveling direction of the incident light, in other words, in the in-plane direction of the film.
  • the ⁇ / 4 retardation plate may be a stretch-type retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film.
  • Phase difference adjusters, plasticizers, UV absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antioxidants, antioxidants as needed , Lubricants, solvents and the like may be contained.
  • the thickness of the stretchable retardation plate may be 200 ⁇ m or less, preferably 1 to 100 ⁇ m. When the thickness is in the above range, the flexibility of the film tends to be difficult to decrease.
  • a liquid crystal coating type retardation plate formed by coating a liquid crystal composition may be used as another example of the ⁇ / 4 retardation plate.
  • the liquid crystal composition contains a liquid crystal compound having a property of exhibiting a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, and smectic. Any compound, including the liquid crystal compound in the liquid crystal composition, has a polymerizable functional group.
  • the liquid crystal coating type retardation plate can further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent, and the like.
  • the liquid crystal coating type retardation plate can be manufactured by coating and curing a liquid crystal composition on an alignment film to form a liquid crystal retardation layer in the same manner as described in the liquid crystal polarizing layer.
  • the liquid crystal coating type retardation plate can be formed to be thinner than the stretch type retardation plate.
  • the thickness of the liquid crystal polarizing layer may be usually 0.5 to 10 ⁇ m, preferably 1 to 5 ⁇ m.
  • the liquid crystal coating type retardation plate can be peeled off from the base material, transferred and laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material for a protective film, a retardation plate, and a window film.
  • JP-A-2007-232873 for stretch-type retardation plates and those described in JP-A-2010-30979 for liquid crystal-coated retardation plates may be used. preferable.
  • a technique for obtaining a wideband ⁇ / 4 retardation plate by combining with a ⁇ / 2 retardation plate is also known (Japanese Patent Laid-Open No. 10-90521).
  • the ⁇ / 2 retardation plate is also manufactured by the same material and method as the ⁇ / 4 retardation plate.
  • the combination of the stretchable retardation plate and the liquid crystal coating type retardation plate is arbitrary, but it is preferable to use the liquid crystal coating type retardation plate in both cases because the thickness can be reduced.
  • a method of laminating a positive C plate on the circularly polarizing plate in order to enhance visibility in an oblique direction is also known (Japanese Patent Laid-Open No. 2014-224738).
  • the positive C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretched retardation plate.
  • the phase difference in the thickness direction is usually ⁇ 200 to ⁇ 20 nm, preferably ⁇ 140 to ⁇ 40 nm.
  • the flexible display device of the present invention may further include a touch sensor.
  • the touch sensor is used as an input means.
  • various types such as a resistance film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitance method have been proposed, and any method may be used. Of these, the capacitance method is preferable.
  • the capacitive touch sensor is divided into an active region and an inactive region located outside the active region.
  • the active area is the area where the screen is displayed on the display panel, that is, the area corresponding to the display unit, and the area where the user's touch is sensed
  • the inactive area is the area where the screen is not displayed on the display device, that is, This is the area corresponding to the non-display part.
  • the touch sensor is formed on a substrate having flexible characteristics; a sensing pattern formed in an active region of the substrate; and is formed in an inactive region of the substrate, and is connected to an external drive circuit via the sensing pattern and a pad portion. Each sensing line for can be included.
  • the substrate having flexible properties the same material as the polymer film can be used.
  • the substrate of the touch sensor preferably has a toughness of 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%.
  • toughness is defined as the lower area of the curve to the fracture point by the stress-strain curve obtained through the tensile experiment of the polymer material.
  • the sensing pattern can include a first pattern formed in the first direction and a second pattern formed in the second direction.
  • the first pattern and the second pattern are arranged in different directions from each other.
  • the first pattern and the second pattern are formed in the same layer, and each pattern must be electrically connected in order to sense the point to be touched.
  • the first pattern is a form in which the unit patterns are connected to each other via a joint, but the second pattern has a structure in which the unit patterns are separated from each other into an island form, so that the second pattern is electrically connected.
  • a separate bridge electrode is required for connection.
  • a well-known transparent electrode material can be applied to the sensing pattern.
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • ZnO zinc oxide
  • IZTO indium gallium zinc oxide
  • IGZO indium gallium zinc oxide
  • CTO cadmium tin oxide
  • PEDOT poly (3,4-ethylenedioxythiophene)
  • carbon nanotubes CNT
  • graphene metal wire and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
  • ITO can be preferably used.
  • the metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the bridge electrode can be formed on the upper part of the insulating layer via the insulating layer on the upper part of the sensing pattern, the bridge electrode is formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern can be formed on the bridge electrode.
  • the bridge electrode can also be formed of the same material as the sensing pattern and is made of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium or an alloy of two or more of these. You can also do it. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode.
  • the insulating layer can be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or can be formed in a layer structure covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer.
  • the difference in transmittance between the patterned region in which the pattern is formed and the non-patterned region in which the pattern is not formed specifically, the light transmittance induced by the difference in the refractive index in these regions.
  • An optical control layer may be further included between the substrate and the electrode as a means for appropriately compensating for the difference, and the optical control layer may contain an inorganic insulating material or an organic insulating material.
  • the optical control layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate.
  • the photocurable composition may further contain inorganic particles.
  • the refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.
  • the photocurable organic binder may contain, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer.
  • the photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.
  • the inorganic particles can include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles and the like.
  • the photocuring composition may further contain additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.
  • Adhesive layer Each layer such as a window film, a polarizing plate, and a touch sensor that forms the laminate for a flexible display device, and a film member such as a linear polarizing plate or a ⁇ / 4 retardation plate that constitutes each layer are adhered with an adhesive. Can be done.
  • Adhesives include water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent volatilization adhesives, moisture-curable adhesives, heat-curable adhesives, anaerobic curable adhesives, and water-based adhesives.
  • the thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive force and the like, and is, for example, 0.01 to 500 ⁇ m, preferably 0.1 to 300 ⁇ m.
  • a plurality of adhesive layers may be present in the laminated body for the flexible image display device, but the thickness of each adhesive layer and the type of adhesive used may be the same or different.
  • a polyvinyl alcohol-based polymer a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate-based emulsion, a styrene-butadiene-based emulsion, or the like in an aqueous-dispersed state can be used as the main polymer.
  • a cross-linking agent a silane compound, an ionic compound, a cross-linking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent and the like may be blended.
  • the water-based solvent volatilization type adhesive When adhering with the water-based solvent volatilization type adhesive, the water-based solvent volatilization type adhesive can be injected between the layers to be adhered, the adherend layers are bonded, and then dried to impart adhesiveness.
  • the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 10 ⁇ m, preferably 0.1 to 1 ⁇ m.
  • the thickness of each layer and the type of the adhesive may be the same or different.
  • the active energy ray-curable adhesive can be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that is irradiated with active energy rays to form an adhesive layer.
  • the active energy ray-curable composition can contain at least one polymer of a radical-polymerizable compound and a cationically polymerizable compound similar to the hard coat composition.
  • the radically polymerizable compound is the same as the hard coat composition, and the same kind as the hard coat composition can be used.
  • As the radically polymerizable compound used for the adhesive layer a compound having an acryloyl group is preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound in order to reduce the viscosity of the adhesive composition.
  • the cationically polymerizable compound is the same as the hard coat composition, and the same kind as the hard coat composition can be used.
  • an epoxy compound is more preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to reduce the viscosity of the adhesive composition.
  • the active energy ray composition may further contain a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator includes a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical or a cationic polymerization initiator, and the like, and can be appropriately selected and used.
  • These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization.
  • an initiator that can initiate at least one of radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.
  • the active energy ray-curing composition further comprises an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a fluid viscosity modifier, a plasticizer, a defoaming agent solvent, an additive, and a solvent. Can be included.
  • the active energy ray-curable composition is applied to either or both of the adherend layers and then bonded, and is activated through either or both adherend layers. Adhesion can be achieved by irradiating with energy rays and curing.
  • the thickness of the adhesive layer may be usually 0.01 to 20 ⁇ m, preferably 0.1 to 10 ⁇ m.
  • the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.
  • the pressure-sensitive adhesive is classified into an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, and the like according to the main polymer, and any of them can be used.
  • the pressure-sensitive adhesive may contain a cross-linking agent, a silane compound, an ionic compound, a cross-linking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizing agent, a dye, a pigment, an inorganic filler and the like.
  • Each component constituting the pressure-sensitive adhesive is dissolved and dispersed in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and the pressure-sensitive adhesive composition is applied onto a substrate and then dried to replace the pressure-sensitive adhesive layer with the pressure-sensitive adhesive.
  • an adhesive is used, an adhesive layer is formed.
  • the adhesive layer may be directly formed, or a separately formed base material may be transferred. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before bonding.
  • the thickness of the adhesive layer may be usually 1 to 500 ⁇ m, preferably 2 to 300 ⁇ m.
  • the thickness of each layer and the type of pressure-sensitive adhesive used may be the same or different.
  • the shading pattern can be applied as at least a part of the bezel or housing of the flexible image display device.
  • the light-shielding pattern hides the wiring arranged at the edge of the flexible image display device to make it difficult to see, thereby improving the visibility of the image.
  • the shading pattern may be in the form of a single layer or multiple layers.
  • the color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and can have various colors such as black, white, and metallic.
  • the light-shielding pattern can be formed of a pigment for embodying color and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, or silicone. They can also be used alone or in mixtures of two or more.
  • the shading pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet.
  • the thickness of the shading pattern is usually 1 to 100 ⁇ m, preferably 2 to 50 ⁇ m. It is also preferable to give a shape such as an inclination in the thickness direction of the light-shielding pattern.
  • ⁇ Thickness of hard coat layer> The thickness of the hard coat layer was measured using an F20 tabletop film thickness system manufactured by Filmetics.
  • the optical laminate was cut into a size of 10 mm ⁇ 150 mm using a dumbbell cutter.
  • the hard coat layer is located inside when the cut laminate (film) is bent into the expansion / contraction test jig of the horizontal body no-load U-shaped expansion / contraction test (“DLDMLLH-FS” manufactured by Yuasa System Co., Ltd.).
  • DLDMLLH-FS horizontal body no-load U-shaped expansion / contraction test manufactured by Yuasa System Co., Ltd.
  • ⁇ Raman spectroscopy (measurement of intermediate layer thickness)> (Preparation of measurement sample)
  • the optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 2 mm ⁇ 5 mm using a cutter. At this time, the optical laminate was cut so that the TD direction of the optical film constituting the base material layer was on the long side side.
  • the cut optical laminate was embedded with an epoxy-based room temperature curing resin type 53 (manufactured by Acura) so that the cut cross section was arranged on the surface.
  • the cross-sectional side of the optical laminate was treated with Ultramicrotome EM UC7 (manufactured by Leica) to prepare a cross section.
  • Raman spectroscopic measurement of the cross section of the laminate of Examples and Comparative Examples was performed using RAMANtouch manufactured by Nanophoton Co., Ltd. under the conditions shown below, with the longitudinal cross section in the thickness direction and the base material layer from the hard coat layer side. Raman light was irradiated in a line crossing the above, Raman spectra were obtained at intervals of 0.2 ⁇ m, and data processing was performed. 1600 cm -1 at each point to determine the peak area of 3000 cm -1.
  • the peak of 1600 cm -1 is a peak derived from a carbonyl group contained in the base material layer or the hard coat layer
  • the peak of 3000 cm -1 is a peak derived from two CH groups contained in the hard coat layer. It is conceivable that.
  • the peak of 3000 cm -1 showed the maximum peak intensity in the hard coat layer portion, and the peak intensity decreased as the measurement position approached the base material layer, and became 0 in the portion corresponding to the base material layer.
  • the peak intensity of the 1600 cm- 1 peak increased as the measurement position approached the base material layer. Obtains the ratio of the peak area of 3000 cm -1 to the peak intensity of 1600 cm -1, an intermediate peak intensity ratio starts to decrease, i.e.
  • ⁇ Raman spectroscopic measurement (measurement of variation in thickness of intermediate layer)> The thickness of the intermediate layer was determined by the above method at any five points on the cross section of the laminate of Examples and Comparative Examples. From the obtained maximum value (tmax) and minimum value (tmin) values of the plurality of thicknesses, the thickness of the intermediate layer of each film is determined by the formula: ⁇ (tmax-tmin) / (tmax + tmin) ⁇ ⁇ 100 (%). The variation of was calculated.
  • ⁇ Pushing hardness> (Preparation of measurement sample) A measurement sample was prepared in the same manner as the measurement sample of the above Raman spectroscopic measurement. (Measurement method using nano indenter) The indentation hardness of the cross section of the laminate of Examples and Comparative Examples was measured using an ultra-fine indentation hardness tester (ENT-2100, manufactured by Elionix Inc.) under the following conditions.
  • Indenter Berkovich Indenter Load-bearing method: Electromagnetic method Surface detection: Inclined method Set value 2.0 Load curve: 0.5 mN (linear) over 15 seconds Creep: 0.5mN per second Unloading curve: 0 mN (linear) over 15 seconds Measurement temperature: 26 ° C The measurement was carried out at intervals of 1.5 ⁇ m from the hard coat layer to the base material layer. The measurement results near the interface where the indentation hardness was the lowest and the measurement results at the center of the base material layer (average value of 5 points close to the center in the thickness direction) are shown in the table. Regarding the optical laminate of the example, the point of the interface showing the lowest indentation hardness was the position corresponding to the intermediate layer defined in the above Raman spectroscopic measurement.
  • the weight average molecular weight of the resin was measured using GPC.
  • the method for preparing the measurement sample and the measurement conditions are as follows. (1) Sample preparation method 20 mg of the resin was weighed, 10 mL of DMF (10 mmol / L lithium bromide-added DMF solution) was added, and the mixture was completely dissolved. This solution was filtered through a chromatographic disk (pore size 0.45 ⁇ m) to prepare a sample solution.
  • ⁇ Preparation of silica sol> Put 442.6 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle diameter 27 nm, silica particle solid content 30.5%) and 301.6 g of GBL in a 1,000 mL flask, and use a vacuum evaporator in a hot water bath at 45 ° C. for 1 hour at 400 hPa. Methanol was evaporated at 250 hPa for 1 hour. Further, the temperature was raised to 70 ° C. under 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain GBL-dispersed silica sol 1. The solid content concentration of the obtained GBL-dispersed silica sol 1 was 29.1%.
  • the obtained resin varnish 1 is molded into a coating film by salivation molding on a PET (polyethylene terephthalate) film ("Cosmo Shine (registered trademark) A4100" manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 188 ⁇ m, thickness distribution ⁇ 2 ⁇ m). did. At this time, the linear velocity was 0.3 m / min. Further, the coating film was dried under the condition that after heating at 80 ° C. for 10 minutes, heating at 100 ° C. for 10 minutes, then heating at 90 ° C. for 10 minutes, and finally heating at 80 ° C. for 10 minutes.
  • the coating film was peeled off from the PET film to obtain a raw material film 1 having a thickness of 58 ⁇ m and a width of 700 mm.
  • the raw material film 1 having a width of 700 mm was heated using a tenter type dryer having a structure of 1 to 6 chambers equipped with a clip as a gripping tool, and the solvent was removed to obtain a resin film 1 having a thickness of 49.5 ⁇ m.
  • the conditions in the drying oven are that the temperature in the drying oven is 200 ° C., the gripping width of the clip is 25 mm, the transport speed of the film is 0.9 m / min, and the film width at the entrance of the drying oven, that is, the drying with respect to the distance between clips
  • the ratio to the film width at the outlet of the furnace was adjusted to 0.98, and the wind speed in each chamber of the tenter dryer was 13.5 m / sec in one chamber, 13 m / sec in two chambers, and 3 to 6 chambers. Then, it was adjusted to be 11 m / sec. Hot air was applied from above and below the film.
  • a resin film 2 having a thickness of 49.5 ⁇ m was obtained by the same method as in Example 1 except that the resin varnish 2 was used as the resin varnish.
  • curable resin composition 1 Trimethylol propantriacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMPT) 28.4 parts by mass, pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMMT) 28.4 parts by mass, photopolymerization started As the agent, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (BASF Co., Ltd., Irgacure (registered trademark) 184) 1.8 parts by mass, leveling agent (Big Chemie Japan Co., Ltd., BYK (registered trademark) -307) 0. 1 part by mass and 39 parts by mass of propylene glycol 1-monomethyl ether (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) were stirred and mixed to obtain a photocurable resin composition 1.
  • A-TMPT pentaerythritol tetraacrylate
  • (Curable resin composition 2) Trimethylol propantriacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMPT) 28.4 parts by mass, pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMMT) 28.4 parts by mass, photopolymerization started As the agent, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (BASF Co., Ltd., Irgacure (registered trademark) 184) 1.8 parts by mass, leveling agent (Big Chemie Japan Co., Ltd., BYK (registered trademark) -307) 0. 1 part by mass and 39 parts by mass of methanol (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were stirred and mixed to obtain a photocurable resin composition 2.
  • 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone BASF Co., Ltd., Irgacure (register
  • Example 1 Production of optical laminate> A 300 mm ⁇ 200 mm film was cut out from the resin film 1, the curable composition 1 was applied to one side thereof with a bar coater, and the film was left at a temperature of 5 ° C. for 1 hour. Then, after drying at 80 ° C. for 3 minutes, a hard coat layer was formed by irradiating and curing under the conditions of 500 mJ / cm 2 and 200 mW / cm 2 using a high-pressure mercury lamp under a nitrogen atmosphere to form a hard coat layer having a thickness of 10 ⁇ m. A laminate 1 having a hard coat layer was obtained.
  • Example 2 Production of optical laminate> A laminate 2 was obtained by the same method as in Example 1 except that the resin film 2 was used instead of the resin film 1.
  • Example 3 Production of optical laminate>
  • the laminated body 4 was obtained by the same method as in Example 2 except that the drying time at 80 ° C. was set to 10 minutes.
  • Example 2 Manufacturing of Optical Laminates>
  • the laminate 5 was obtained by the same method as in Example 1 except that the curable resin composition 1 was left to stand at a temperature of 25 ° C. for 20 minutes.
  • indentation stiffness of the middle layer of the indentation hardness A (N / mm 2) and a base material layer B to (N / mm 2) was measured, calculates the ratio (A / B) did.
  • the thickness of the intermediate layer, the variation in thickness, the number of bending resistances of the optical laminate, and ⁇ Hz before and after the bending test of 50,000 times were measured. The results obtained are shown in Table 1.
  • the pencil hardness of the surface of the hard coat layer of the laminated body was 2H or more in all of Examples 1 to 3, and was lower than 2B in Comparative Example 1.

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Abstract

基材と、該基材の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを有する光学積層体であって、耐屈曲性に優れる光学積層体を提供する。 ポリアミド系樹脂を含む基材層と、該基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを少なくとも有する光学積層体であって、該基材層と該ハードコート層との間に厚さが0.3μm以上、かつ厚さのばらつきが25%以下の中間層を有し、該光学積層体の厚み方向の断面においてナノインデンターを用いて測定される、該中間層の押し込み硬さをAN/mmとし、該基材層の押し込み硬さをBN/mmとすると、Bに対するAの割合(A/B)は0.96以下である、光学積層体。

Description

光学積層体及びフレキシブル表示装置
 本発明は、ポリアミド系樹脂を含む基材層と、該基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを少なくとも有する光学積層体、及び該光学積層体を含むフレキシブル電子デバイスに関する。
 液晶表示装置や有機EL表示装置等の画像表示装置は、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途に広く活用されている。このような画像表示装置の前面板として、ガラスが用いられてきたが、ガラスは非常に剛直であり、割れやすいため、例えばフレキシブルディスプレイ等の前面板材料としての利用は難しい。ガラスに代わる光学フィルムとして、基材と、該基材の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを有するプラスチックフィルムが検討されている(例えば特許文献1)。
特開2016-125063号公報
 本発明者の検討によれば、基材と、該基材の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを有する光学積層体をフレキシブルディスプレイ等のフレキシブル電子デバイスにおいて使用する場合、基材が高い耐屈曲性を有しているとしても、ハードコート層を積層させることにより積層体としての耐屈曲性が低下する場合があることがわかった。さらに、耐屈曲性が低いために、屈曲を繰り返すことによって光学特性が低下する場合があることがわかった。したがって、本発明は、基材と、該基材の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを有する光学積層体であって、耐屈曲性に優れる光学積層体を提供することを課題とする。
 本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、基材層とハードコート層との界面に、基材層及びハードコート層よりも柔らかく、厚さが均一な中間層を設けることにより、光学積層体の耐屈曲性の低下を防止しやすく、光学特性の低下を抑制しやすいことを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下の態様が含まれる。
[1]ポリアミド系樹脂を含む基材層と、該基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを少なくとも有する光学積層体であって、該基材層と該ハードコート層との間に厚さが0.3μm以上、かつ厚さのばらつきが25%以下の中間層を有し、該光学積層体の厚み方向の断面においてナノインデンターを用いて測定される、該中間層の押し込み硬さをAN/mmとし、該基材層の押し込み硬さをBN/mmとすると、Bに対するAの割合(A/B)は0.96以下である、光学積層体。
[2]前記中間層の押し込み硬さAは、700N/mm以下である、前記[1]に記載の光学積層体。
[3]前記基材層の押し込み硬さBは、350~800N/mmである、前記[1]又は[2]に記載の光学積層体。
[4]基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層の表面の鉛筆硬度はH以上である、前記[1]~[3]のいずれかに記載の光学積層体。
[5]前記ハードコート層は(メタ)アクリレート系モノマーの硬化物を含む、前記[1]~[4]のいずれかに記載の光学積層体。
[6]フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、前記[1]~[5]のいずれかに記載の光学積層体。
[7]前記[1]~[6]のいずれかに記載の光学積層体を備えるフレキシブル表示装置。
[8]タッチセンサをさらに備える、前記[7]に記載のフレキシブル表示装置。
[9]偏光板をさらに備える、前記[7]又は[8]に記載のフレキシブル表示装置。
 本発明によれば、基材と、該基材の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを有する光学積層体であって、耐屈曲性に優れ、繰り返しの屈曲後も高い光学特性を有する光学積層体を提供することができる。
 以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。
<光学積層体>
 本発明の光学積層体は、ポリアミド系樹脂を含む基材層と、該基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを少なくとも有し、該基材層と該ハードコート層との間に厚さが0.3μm以上、かつ厚さのばらつきが25%以下の中間層を有する。該中間層は、基材層上にハードコート層を特定の条件にて積層させることにより、基材層とハードコート層との間に形成される層であり、基材層を構成する成分とハードコート層を構成する成分とが混合した状態にある層であると考えられる。したがって、中間層は、ハードコート層を構成する成分の少なくとも一部と、基材層を構成する成分の少なくとも一部との混合物を含む層である。
 本発明の光学積層体における中間層の厚さは0.3μm以上である。中間層の厚さが0.3μm未満である場合、本発明の光学積層体の耐屈曲性を十分に高めることができない。中間層の厚さは、光学積層体の耐屈曲性を向上させやすい観点から、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは0.7μm以上、さらに好ましくは0.9μm以上、さらにより好ましくは1.1μm以上、とりわけ好ましくは1.3μm以上である。また、中間層の厚さは、光学積層体の機械的強度及び光学特性を高めやすい観点から、好ましくは10μm以下、より好ましくは7μm以下、さらに好ましくは5μm以下である。中間層の厚さが上記の上限以下である場合、繰り返しの屈曲により生じ得る光学積層体の光学的特性の低下(例えば光学積層体の部分的な白化等)を抑制しやすいと考えられる。また、中間層の厚さが上記の下限以上である場合、光学積層体の機械的強度(例えば鉛筆硬度)を維持しつつ、光学積層体の耐屈曲性を向上させやすいと考えられる。
 本発明の光学積層体における中間層の厚さのばらつき(均一性)は25%以下である。該中間層の厚さのばらつきは、光学積層体の断面方向の任意の複数の点で測定した中間層の厚さt(μm)の最大値(tmax)と最小値(tmin)とに基づいて、式:{(tmax-tmin)/(tmax+tmin)}×100(%)から求めることができる。本発明の光学積層体の耐屈曲性を十分に高め、また、繰り返し屈曲させた後の光学積層体の光学的特性の低下、例えば光学積層体の部分的な白化、ヘーズの上昇等を抑制しやすい観点から、中間層の厚さのばらつきは、好ましくは23%以下、より好ましくは18%以下、さらに好ましくは15%以下、さらにより好ましくは12%以下である。
 本発明の光学積層体における中間層は、上記に述べたとおり、基材層を構成する成分とハードコート層を構成する成分とが混合した状態にある層であると考えられる。そのため、中間層の厚さを測定する方法としては、例えば本発明の光学積層体の厚さ方向の断面を電子顕微鏡にて観察し、中間層とハードコート層の間に位置するこれらの層の混合部分を中間層として、その厚さを測定する方法I、本発明の光学積層体のハードコート層側の表面上のある位置から、基材層中のある位置まで、厚さ方向に複数の位置に対してラマン分光測定、顕微IR測定又はTOF-SIMSによる測定等を行い、ハードコート層の組成と基材層の組成との間の組成を有する、組成が変化する部分を中間層として特定し、その厚さを測定する方法IIが挙げられる。中間層の厚さを正確に測定しやすい観点からは、上記方法IIにて中間層の厚さを測定することが好ましい。
 例えば共焦点ラマン顕微鏡を用いて中間層を特定する場合、ハードコート層を構成する成分には検出されるが、基材層を構成する成分には検出されないラマンピークに着目して、中間層を特定することが好ましい。測定時のノイズやベースラインの増減等によるデータの信頼性の観点からは、基準とするピークとの比較(例えば、ピーク強度比、ピーク面積比)により、中間層を特定することが好ましい。具体的には、本発明の光学積層体のハードコート層側の表面で共焦点ラマン顕微鏡の焦点を合せた後、ハードコート層を構成する成分に特有のピークの強度を、厚さ方向に一定の間隔毎に測定する。そして、ハードコート層における当該ピーク強度をIとし、ピーク強度が減少し始める位置から、I×0.1の強度となる位置までの厚さ方向の距離を、中間層の厚さとしてよい。また、ピーク強度の代わりに、ピーク面積を求め、同様の基準により、中間層の厚さを求めてもよい。さらに、実施例に記載の通り、ハードコート層側から基材側にかけて厚み方向に一定の間隔ごとにラマンスペクトルを得、該スペクトル中の任意のピークに対するハードコート層に特に強く表れるピークのピーク強度比又はピーク面積比を求め、ハードコート層から基材側にかけてのピーク強度比やピーク面積比の関係から、中間層の厚さを求めてもよい。
 また、本発明の光学積層体において、該光学積層体の厚み方向の断面においてナノインデンターを用いて、上記の中間層及び基材層の押し込み硬さを測定し、該中間層の押し込み硬さをAN/mmとし、該基材層の押し込み硬さをBN/mmとすると、Bに対するAの割合(A/B)が0.96以下である。
 本発明の光学積層体において、上記割合(A/B)は、本発明の光学積層体の耐屈曲性を向上させやすい観点から、好ましくは0.94以下、より好ましくは0.93以下、さらにより好ましくは0.92以下、とりわけ好ましくは0.91以下である。また、上記割合(A/B)は、本発明の光学積層体の機械的強度及び光学特性を向上させやすい観点から、好ましくは0.6以上、より好ましくは0.7以上、さらに好ましくは0.8以上である。
 ここで、本発明の光学積層体の上記各層の押し込み硬さは、光学積層体の厚み方向の断面における各層に対して、ナノインデンターを用いて測定冶具を押し込むことにより測定される。具体的には、例えば実施例に記載するような方法により、光学積層体の厚み方向の断面を得る。そして、当該断面において、ハードコート層側の点から、基材層側の点まで、複数の点について押し込み硬さを測定し、上記の方法で特定した中間層等の位置と対応させて、各層の押し込み硬さを測定することができる。
 ここで、中間層の厚さが0.3μm以上、かつ厚さのばらつきが25%以下であり、割合(A/B)が0.96以下であることは、本発明の光学積層体において、基材層よりも柔らかい中間層が、所定の厚さ以上、かつ均一な厚さで存在していることを表す。上記特徴を有する本発明の光学積層体の耐屈曲性及び繰り返しの屈曲後の光学特性が良好である理由は明らかではないが、光学積層体においてハードコート層と基材層との間に、特定の柔らかさを有する層が特定の厚さで均一に存在することにより、光学積層体の光学特性及び機械的強度等を維持しつつ、光学積層体自体のフレキシブル性を向上させることができるためであると考えられる。なお、ハードコート層の押し込み硬さは、基材層及び中間層の押し込み硬さよりも高い。
 上記のような中間層の厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を満たす中間層を形成する方法は、上記特徴を有する光学積層体が得られる限り特に限定されないが、例えば基材層を構成する樹脂に対する溶解性を有する溶媒中にハードコート層を与える成分を溶解させたハードコート層形成用組成物を基材層上に塗工し、所定の保持温度以下で、所定の保持時間放置することが好ましい。該保持温度は、好ましくは25℃より低い温度、より好ましくは20℃以下、さらに好ましくは15℃以下、さらにより好ましくは10℃以下の温度であり、該保持時間は、好ましくは20分~5時間、より好ましくは25分~3時間、さらに好ましくは0.5時間~1時間である。所定の保持温度以下で、所定の保持時間放置したのち、乾燥工程を行った後、ハードコート層形成用組成物を乾燥及び硬化させてハードコート層を形成する方法が挙げられる。また、基材層の厚さ、ハードコート層の組成、ハードコート層形成用組成物の溶媒、ハードコート層形成用組成物におけるモノマーの濃度等を調整することにより、上記のような厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を満たす中間層を形成することができる。
 本発明の光学積層体において、前記中間層の押し込み硬さAは、光学積層体の耐屈曲性をより向上させやすい観点から、好ましくは700N/mm以下、より好ましくは600N/mm以下、さらに好ましくは570N/mm以下である。また、押し込み硬さAは、光学積層体の機械的強度及び光学特性をより向上させやすい観点から、好ましくは300N/mm以上、より好ましくは350N/mm以上、さらに好ましくは400N/mm以上である。
 本発明の光学積層体の全光線透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは83%以上、さらに好ましくは85%以上、さらにより好ましくは88%以上、とりわけ好ましくは89%以上、とりわけより好ましくは90%以上である。全光線透過率が上記の下限以上であると、光学積層体を、特に前面板として、表示装置に組み込んだ際に視認性を高めやすい。本発明の光学積層体は通常、高い全光線透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るために必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の光学積層体を表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。全光線透過率の上限は、通常100%以下である。なお、全光線透過率は、例えばJIS K 7361-1:1997に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。全光線透過率は、後述する光学積層体の厚さの範囲における全光線透過率であってよい。なお、本明細書において、光学積層体が光学特性に優れるとは、全光線透過率が高いこと、へーズが低いこと、及び/又はYIが低いことを意味する。
 本発明の光学積層体のヘーズは、好ましくは5%以下、より好ましくは4%以下、さらに好ましくは3%以下、さらにより好ましくは2.5%以下、とりわけ好ましくは2%以下、とりわけより好ましくは1%以下、とりわけさらに好ましくは0.5%以下である。光学積層体のヘーズが上記の上限以下であると、光学積層体を、中でも前面板として、表示装置に組み込んだ際に、視認性を高めやすい。また、ヘーズの下限値は通常0.01%以上である。なお、ヘーズは、JIS K 7136:2000に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。
 また、本発明の光学積層体の繰り返しの屈曲前後のヘーズの変化量、すなわちΔHzは、好ましくは0.5%未満、より好ましくは0.4%以下、さらに好ましくは0.3%以下、さらにより好ましくは0.1%以下である。光学積層体のΔHzが上記の上限以下であると、光学積層体を、フレキシブル表示装置の前面板、中でもローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイの前面板として使用した際に、耐久性や視認性を高めやすい。ΔHzは、好ましくは5万回の屈曲を、U字伸縮試験機を用いて行い、試験前後のヘーズの変化量から算出できる。
 本発明の光学積層体は、優れた耐屈曲性を有する。本発明の光学積層体のU字伸縮試験における耐屈曲回数は、好ましくは50,000回以上、より好ましくは60,000回以上、さらに好ましくは70,000回以上である。耐屈曲回数が上記の下限以上であると、フレキシブルディスプレイ等の前面板材料として使用する際の屈曲による傷つき等を防止しやすく、屈曲による光学特性の低下を防止しやすい。なお、U字伸縮試験は、U字伸縮試験機を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
 本発明の光学積層体の黄色度(YI値)は、好ましくは3.5以下、より好ましくは3.0以下、さらに好ましくは2.5以下、とりわけ好ましくは2.0以下である。光学積層体の黄色度が上記の上限以下であると、透明性が良好となり、表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。また黄色度は通常-5以上であり、好ましくは-2以上である。なお、黄色度(YI値)は紫外可視近赤外分光光度計を用いて300~800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Yの式に基づいて算出できる。
 本発明の光学積層体の厚さは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、さらに好ましくは25μm以上、とりわけ好ましくは30μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは120μm以下、さらに好ましくは110μm以下、とりわけ好ましくは100μm以下であり、これらの上限と下限の組合せであってよい。光学積層体の厚さが上記の範囲内であると、光学積層体の耐屈曲性をより高めやすいと共に、弾性率を高めやすい。なお、光学積層体の厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
 本発明の光学積層体のハードコート層側の表面の鉛筆硬度は、好ましくはHB以上、より好ましくはF以上、さらに好ましくはH以上、とりわけ好ましくは2H以上である。光学積層体のハードコート層側の表面の鉛筆硬度が上記の硬度以上である場合、光学積層体の該表面における傷等を防止しやすい。なお、鉛筆硬度は、JIS K 5600-5-4:1999に準拠して測定できる。
<基材層>
 本発明の光学積層体はポリアミド系樹脂を含む基材層を有する。基材層は、1種のポリアミド系樹脂を含んでいてもよいし、2種以上のポリアミド系樹脂を含んでいてもよい。また、基材層は単層であってもよいし、多層であってもよい。基材層の厚さは、上記特徴を有する光学積層体が得られる限り特に限定されないが、中間層の厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を所望の範囲に調整しやすい観点及び光学積層体のフレキシブル性を向上させやすい観点から、好ましくは100μm以下、より好ましくは90μm以下、さらに好ましくは80μm以下、さらにより好ましくは60μm以下、とりわけ好ましくは50μm未満、とりわけより好ましくは49.5μm以下である。基材層の厚さが上記の範囲内である場合、基材層中の残溶媒の蒸発とハードコート層形成用組成物の基材層への浸透の関係から、中間層の厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を所望の範囲に調整しやすいと考えられる。なお、本発明の光学積層体は上記の通り、基材層と該基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを少なくとも有し、該基材層と該ハードコート層との間に中間層が形成されている。そのため本発明の光学積層体における基材層の厚さは、通常、本発明の光学積層体の製造に使用した基材層を構成する基材フィルムの厚さよりもやや薄くなると考えられる。
 基材層の厚さは、鉛筆硬度や光透過性を高めやすい観点からは、好ましくは150μm以下、より好ましくは110μm以下、さらに好ましくは75μm以下である。また、該厚さは、上記のような厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を満たす中間層を形成しやすい観点から、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、さらに好ましくは25μm以上、とりわけ好ましくは30μm以上である。
(ポリアミド系樹脂)
 基材層はポリアミド系樹脂を含む。基材層に含まれるポリアミド系樹脂は、アミド基を含む繰返し構造単位を少なくとも含有する限り特に限定されず、例えば、アミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体(以下において、ポリアミド樹脂とも称する)、及び、アミド基を含む繰返し構造単位及びイミド基を含む繰返し構造単位の両方を含有する重合体(以下において、ポリアミドイミド樹脂とも称する)からなる群から選択される少なくとも1種の重合体であってよい。基材層は、1種類のポリアミド系樹脂を含有してもよいし、2種以上のポリアミド系樹脂を含有してもよい。基材層に含まれるポリアミド系樹脂は、製膜性の観点からは、好ましくはポリアミドイミド樹脂である。
 本発明の一実施形態において、ポリアミド系樹脂は、式(2):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
[式(2)中、Z及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリアミド樹脂であるか、又は、式(1):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
[式(1)中、Yは4価の有機基を表し、Xは2価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位及び上記式(2)で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂である。ポリアミド系樹脂は、製膜性、透明性及び耐屈曲性の観点から、式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。以下において式(1)及び式(2)について説明するが、式(2)についての説明は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方(ポリアミド系樹脂)に関し、式(1)についての説明はポリアミドイミド樹脂に関する。
 式(2)で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式(1)で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。
 式(2)において、Zは、2価の有機基を表し、好ましくは炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、炭素数4~40の2価の有機基を表し、より好ましくは、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基を表す。なお、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基の例としては、後述する式(3)中のR3a及びR3bに関する例示が同様にあてはまる。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Zの有機基として、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
[式(20)~式(29)中、
 Wは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-又は-Ar-SO-Ar-を表し、ここで、Arは、互いに独立に、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基(例えばフェニレン基)を表し、*は結合手を表す]
で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が挙げられ、Zのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が挙げられる。光学積層体の黄色度を抑制(YI値を低減)しやすい観点から、式(20)~式(29)で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましく、式(26)、式(28)及び式(29)で表される基がより好ましい。
 Zの有機基としては、式(20’)、式(21’)、式(22’)、式(23’)、式(24’)、式(25’)、式(26’)、式(27’)、式(28’)及び式(29’):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
[式(20’)~式(29’)中、W及び*は、式(20)~式(29)において定義した通りである]
で表される2価の有機基がより好ましい。なお、式(20)~式(29)及び式(20’)~式(29’)における環上の水素原子は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基(これらの基における水素原子はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)で置換されていてもよい)で置換されていてもよい。
 ポリアミド系樹脂が、式(2)中のZが上記の式(20’)~式(29’)のいずれかで表される構成単位を有する場合、特に式(2)中のZが後述する式(3’)で表される構成単位を有する場合、ポリアミド系樹脂は、該構成単位に加えて、次の式(d1):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
[式(d1)中、R24は後述する式(3)中のR3aについて定義する基又は水素原子であり、R25は、R24又は-C(=O)-*を表し、*は結合手を表す]
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、ワニスの成膜性を高めやすく、光学フィルムの均一性を高めやすい観点から好ましい。構成単位(d1)としては、具体的には、R24及びR25がいずれも水素原子である構成単位(ジカルボン酸化合物に由来する構成単位)、R24がいずれも水素原子であり、R25が-C(=O)-*を表す構成単位(トリカルボン酸化合物に由来する構成単位)等が挙げられる。
 ポリアミド系樹脂は、式(2)中のZとして複数種のZを含んでよく、複数種のZは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。特に、本発明の光学積層体の耐屈曲性、耐衝撃性を高めやすく、かつ、光学特性を高めやすい観点から、式(2)中のZが、好ましくは式(3):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
[式(3)中、R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Wは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表し、sは0~4の整数であり、tは0~4の整数であり、uは0~4の整数であり、*は結合手を表す]
、より好ましくは式(3’):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
[式(3’)中、R3a、R3b、s、t、u、W及び*は、式(3)において定義した通りである]
で表される構成単位を少なくとも有することが好ましい。なお、本明細書において、ポリアミド系樹脂が式(2)中のZが式(3)で表される構成単位を有することと、ポリアミド系樹脂が式(2)中のZとして式(3)で表される構造を有することとは、同様の意味を有し、ポリアミド系樹脂に含まれる複数の式(2)で表される構成単位のうち、少なくとも一部の構成単位におけるZが式(3)で表されることを意味する。当該記載は、他の同様の記載にもあてはまる。
 式(3)及び式(3’)において、Wは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、光学積層体の耐屈曲性の観点から、好ましくは-O-又は-S-を表し、より好ましくは-O-を表す。
 R3a及びR3bは、互いに独立に、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6~12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学積層体の表面硬度及び柔軟性の観点から、R3a及びR3bは、互いに独立に、好ましくは炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは炭素数1~3のアルキル基を表す。ここで、R3a及びR3bに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
 Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
 式(3)及び式(3’)中のt及びuは、互いに独立に、0~4の整数であり、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。
 式(3)中及び式(3’)中のsは0~4の範囲の整数であり、sがこの範囲内であると、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい。式(3)及び式(3’)中のsは、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性をより向上しやすい観点から、好ましくは0~3の範囲の整数、より好ましくは0~2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。式(2)中のZとしてsが0である式(3)又は式(3’)で表される構造を含む構成単位は、例えばテレフタル酸又はイソフタル酸に由来する構成単位であり、該構成単位は特に、式(3)又は式(3’)中のsが0及びuが0である構造を含む構成単位であることが好ましい。光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい観点から、ポリアミド系樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含むことが好ましい。ポリアミド系樹脂はZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよい。光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性の向上、黄色度(YI値)低減の観点からは、ポリアミド系樹脂は式(2)中のZとして、式(3)中又は式(3’)中のsの値が異なる2種類以上の構造を含むことが好ましく、式(3)又は式(3’)中のsの値が異なる2種類又は3種類の構造を含むことがより好ましい。この場合、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、光学積層体の黄色度(YI値)を低減しやすい観点から、ポリアミド系樹脂が式(2)で表される構成単位におけるZとして、sが0である式(3)で表される構造を含有し、該構造を含む構成単位に加えてsが1である式(3)で表される構造を含む構成単位をさらに含有することがさらに好ましい。また、sが0である式(3)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位に加えて、上記の式(d1)で表される構成単位をさらに有することも好ましい。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂は、式(3)又は式(3’)で表される構造(2価の基)として、s=0であり、かつu=0である構造を有する。本発明のより好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂は、式(3)又は式(3’)で表される構造として、s=0であり、かつu=0である構造と、式(3”):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
で表される構造を有する。この場合、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を向上させやすいと共に、黄色度を低減しやすい。
 ポリアミド系樹脂が、式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位を有する場合、その割合は、ポリアミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上、とりわけ好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。
 また、ポリアミド系樹脂が式(2)中のZとしてs=1~4である式(3)又は式(3’)で表される構造を有する場合、sが1~4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合は、ポリアミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは3モル%以上、より好ましくは5モル%以上、さらに好ましくは7モル%以上、さらにより好ましくは9モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、さらにより好ましくは30モル%以下である。sが1~4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。sが1~4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)又は式(3’)で表される構造由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式(1)、式(2)、式(2)中のZが式(3)又は式(3’)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂中のZの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは40モル%以上、さらに好ましくは45モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上が、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表される。Zの上記の下限以上が、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表されると、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、ポリアミド系樹脂中のZの100モル%以下が、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表されればよい。なお、樹脂中の、sが0~4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂中のZの、好ましくは5モル%以上、より好ましくは8モル%以上、さらに好ましくは10モル%以上、さらにより好ましくは12モル%以上が、sが1~4である式(3)又は式(3’)で表される。ポリアミド系樹脂のZの上記の下限以上が、sが1~4である式(3)又は式(3’)で表される場合、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、Zの、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、さらにより好ましくは30モル%以下が、sが1~4である式(3)又は式(3’)で表される。Zの上記の上限以下が、sが1~4である式(3)又は式(3’)で表される場合、sが1~4である式(3)又は式(3’)で表される構造由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお樹脂中のsが1~4である式(3)又は式(3’)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
 式(1)及び式(2)において、Xは、互いに独立に、2価の有機基、好ましくは炭素数4~40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明の一実施形態において、本発明のポリアミド系樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。Xとしては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 [式(10)~式(18)中、
 *は結合手を表し、
 V、V及びVは、互いに独立に、単結合、-O-、-S-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-CO-又は-N(Q)-を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。]
 炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、Rについて上記に述べた基が挙げられる。
 1つの例は、V及びVが単結合、-O-又は-S-であり、かつ、Vが-CH-、-C(CH-、-C(CF-又は-SO-である。VとVとの各環に対する結合位置、及び、VとVとの各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して、好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
 式(10)~式(18)で表される基の中でも、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及び式(17)で表される基が好ましく、式(14)、式(15)及び式(16)で表される基がより好ましい。また、V、V及びVは、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、-O-又は-S-、より好ましくは単結合又は-O-である。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂は、式(1)中のX又は式(2)中のXとして、式(4):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
[式(4)中、R10~R17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R10~R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される構造を含む。式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中のXの少なくとも一部が式(4)で表される構造であると、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び透明性を高めやすい。
 式(4)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及びR17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基としては、式(3)における炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基として例示した基が挙げられる。R10~R17は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R10~R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R10~R17は、互いに独立に、光学積層体の耐衝撃性、弾性率、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、さらにより好ましくはR10、R12、R13、R14、R15及びR16が水素原子、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、とりわけ好ましくはR11及びR17がメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。
 本発明の好ましい一実施形態において、式(4)で表される構成単位は式(4’):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
で表される構成単位であり、すなわち、式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中のXの少なくとも一部は、式(4’)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリアミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学積層体の加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学積層体の光学特性を向上しやすい。
 本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリアミド系樹脂中のXの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、特に式(4’)で表される。ポリアミド系樹脂における上記範囲内のXが式(4)、特に式(4’)で表される場合、得られる光学フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学積層体の光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリアミド系樹脂中のXの100モル%以下が式(4)、特に式(4’)で表される。上記樹脂中のXは式(4)、特に式(4’)であってもよい。上記樹脂中のXの式(4)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
 式(1)において、Yは、4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4~40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられ、耐衝撃性及び弾性率を高めやすい観点からは、好ましくは芳香環が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明の一実施形態において、ポリアミド系樹脂はポリアミドイミド樹脂であり、該ポリアミドイミド樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。Yとしては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基;該式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 式(20)~式(29)中、*は結合手を表し、Wは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-又は-Ar-SO-Ar-を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。
 式(20)~式(29)で表される基の中でも、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、Wは、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学積層体の黄色度を低減しやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-、より好ましくは単結合、-O-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-、さらに好ましくは単結合、-C(CH-又は-C(CF-、さらにより好ましくは単結合又は-C(CF-である。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(26)で表される。ポリアミドイミド樹脂における上記範囲内のYが式(26)、好ましくはWが単結合、-C(CH-又は-C(CF-である式(26)、より好ましくはWが単結合又は-C(CF-である式(26)で表されると、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学積層体の黄色度を低減しやすい。ポリアミドイミド樹脂中のYが式(26)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
 本発明の好ましい一実施形態において、複数の式(1)中のYの少なくとも一部は、式(5):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
[式(5)中、R18~R25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R18~R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
及び/又は式(9):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
[式(9)中、R35~R40は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R35~R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される。複数の式(1)中のYの少なくとも一部が式(5)で表される、及び/又は、式(9)で表されると、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び光学特性を向上させやすい。
 式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24及びR25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基としては、式(3)における炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。R18~R25は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R18~R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。R18~R25は、互いに独立に、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、さらにより好ましくはR18、R19、R20、R23、R24及びR25が水素原子、R21及びR22が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、とりわけ好ましくはR21及びR22がメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。
 式(9)において、光学積層体の化学的安定性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、R35~R40は、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、R35~R40に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R35~R40における炭素数1~6のアルキル基及び炭素数6~12のアリール基としては、それぞれ上記に例示のものが挙げられる。
 本発明の好ましい一実施形態においては、式(5)は式(5’)で表され、式(9)は式(9’):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
で表される。すなわち、複数のYの少なくとも一部は、式(5’)及び/又は式(9’)で表される。この場合、光学積層体の耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。さらに、式(5)が式(5’)で表される場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学積層体の光学特性を向上しやすい。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(5)、特に式(5’)で表される。ポリアミドイミド樹脂における上記範囲内のYが式(5)、特に式(5’)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリアミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学積層体の光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリアミドイミド樹脂中のYの100モル%以下が式(5)、特に式(5’)で表される。ポリアミドイミド樹脂中のYは式(5)、特に式(5’)であってもよい。ポリアミドイミド樹脂中のYの式(5)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
 本発明の好ましい一実施形態において、式(1)で表される複数の構成単位は、Yが式(5)で表される構成単位に加えて、Yが式(9)で表される構成単位をさらに含むことが好ましい。Yが式(9)で表される構成単位をさらに含む場合、光学積層体の耐衝撃性及び弾性率をさらに向上させやすい。
 ポリアミドイミド樹脂は、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよく、また式(1)及び場合により式(2)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 式(30)において、Yは4価の有機基を表し、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基を表す。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、該式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
 式(31)において、Yは3価の有機基を表し、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基を表す。Yとしては、上記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。本発明の一実施形態において、ポリアミドイミド樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
 式(30)及び式(31)において、X及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基を表す。X及びXとしては、上記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。
 本発明の一実施形態において、ポリアミド系樹脂は、式(1)及び/又は式(2)で表される構成単位、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される構成単位からなる。また、光学積層体の光学特性、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、上記ポリアミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリアミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される全構成単位に基づいて、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、H-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。
 本発明の一実施形態において、光学積層体に含まれる基材層におけるポリアミド系樹脂の含有量は、光学積層体を構成する基材層100質量部に対して、好ましくは10質量部以上、より好ましくは30質量部以上、さらに好ましくは50質量部以上であり、好ましくは99.5質量部以下、より好ましくは95質量部以下である。ポリアミド系樹脂の含有量が上記範囲内であると、光学積層体の中間層の厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を上記の範囲に調整しやすく、耐屈曲性を高めやすいと共に、光学積層体の光学特性、耐衝撃性及び弾性率を向上させやすい。
 ポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、光学積層体の中間層の厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を上記の範囲に調整しやすい観点、並びに、耐衝撃性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、標準ポリスチレン換算で、好ましくは200,000以上、より好ましくは230,000以上、さらに好ましくは250,000以上、さらにより好ましくは270,000以上、とりわけ好ましくは280,000以上である。また、ポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、光学積層体の中間層の厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を上記の範囲に調整しやすい観点、並びに、該樹脂の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、光学フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは800,000以下、さらに好ましくは700,000以下、さらにより好ましくは500,000以下である。重量平均分子量は、例えばゲル浸透クロマトグラフィー(GPCと記載することがある)測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂がポリアミドイミド樹脂である場合、該ポリアミドイミド樹脂における式(2)で表される構成単位の含有量は、式(1)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、さらにより好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(2)で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、光学積層体の耐衝撃性及び弾性率を高めやすい。また、式(2)で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式(2)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、光学フィルムの加工性を向上させやすい。
 本発明の好ましい一実施形態において、ポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学積層体の弾性率を向上させ、かつ黄色度(YI値)を低減させやすい。光学積層体の弾性率が高いと、傷及びシワ等の発生を抑制しやすい。また、光学積層体の黄色度が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリアミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
 ポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1~40質量%、より好ましくは5~40質量%、さらに好ましくは5~30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、光学積層体の弾性率をより向上させ、吸水率を下げ、黄色度をより低減し、透明性及び視認性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。
 ポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上である。光学積層体の光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%以下である。イミド化率は、ポリアミドイミド樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、イミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリアミドイミド樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリアミドイミド樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリアミドイミド樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。
(樹脂の製造方法)
 ポリアミド樹脂は、例えば、ジアミン化合物及びジカルボン酸化合物を主な原料として製造できる。ポリアミドイミド樹脂及びポリアミドイミド前駆体樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造できる。ここで、ジカルボン酸化合物は少なくとも式(3”)で表される化合物を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
[式(3”)中、
 R~Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
 Aは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、
 Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表し、
 mは0~4の整数であり、
 R31及びR32は、互いに独立に、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基又は塩素原子を表す。]
 本発明の好ましい一実施形態において、ジカルボン酸化合物は、mが0である、式(3”)で表される化合物である。ジカルボン酸化合物として、mが0である式(3”)で表される化合物に加えて、Aが酸素原子である式(3”)で表される化合物を使用することがより好ましい。また、別の好ましい一実施形態においては、ジカルボン酸化合物は、R31及びR32が塩素原子である、式(3”)で表される化合物である。また、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。
 樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。
 脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。
 芳香族ジアミンとしては、例えばp-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-トルエンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
 芳香族ジアミンとしては、好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、TFMB、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルが挙げられ、より好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、TFMB、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
 上記ジアミン化合物の中でも、光学積層体の高弾性率、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’-ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、TFMBを用いることがよりさらに好ましい。
 樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。
 芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDAと記載することがある)、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
 これらの中でも、好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、BPDA、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、6FDA、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、BPDA、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、6FDA、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
 脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4-ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。
 上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学積層体の高耐衝撃性、高弾性率、高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性、及び低着色性の観点から、より好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、BPDA、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、6FDA、及びこれらの混合物が挙げられ、さらに好ましくはBPDA及び6FDA、並びにこれらの混合物が挙げられ、とりわけ好ましくは6FDA及びBPDAが挙げられる。
 樹脂の製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、イソフタル酸、4,4’-オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸、イソフタル酸、4,4’-オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’-ビフェニルジカルボン酸;3,3’-ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、4,4’-オキシビス(ベンゾイルクロリド)(OBBCと記載することがある)、テレフタロイルクロリド(TPCと記載することがある)又はイソフタロイルクロリドが好ましく、OBBCとTPCとを組合せて用いることがさらに好ましい。
 なお、上記ポリイミド系樹脂は、光学積層体の各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。
 テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。
 トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。その具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;1,3,5-ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
 樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とするポリイミド系樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。
 樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5~350℃、好ましくは20~200℃、より好ましくは25~100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば30分~10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び/又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン(GBLと記載することがある)、γ-バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N-ジメチルアセトアミド(DMAcと記載することがある)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMFと記載することがある)等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド(DMSO)と記載することがある、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。
 ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N-エチルピペリジン、N-プロピルピペリジン、N-ブチルピロリジン、N-ブチルピペリジン、及びN-プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2-メチルピリジン(2-ピコリン)、3-メチルピリジン(3-ピコリン)、4-メチルピリジン(4-ピコリン)、2-エチルピリジン、3-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2,4-ジメチルピリジン、2,4,6-トリメチルピリジン、3,4-シクロペンテノピリジン、5,6,7,8-テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。
 ポリアミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製して単離してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミド系樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。
 本発明の光学積層体における基材層は、ポリアミド系樹脂に加えて、少なくとも1種のフィラーを含んでよい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、光学積層体の弾性率及び/又は引裂き強度を高め、耐衝撃性を向上しやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が挙げられ、より好ましくはシリカ粒子が挙げられる。これらのフィラーは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
 フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、さらに好ましくは15nm以上、とりわけ好ましくは20nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは90nm以下、さらに好ましくは80nm以下、さらにより好ましくは70nm以下、とりわけ好ましくは60nm以下、とりわけより好ましくは50nm以下、とりわけさらに好ましくは40nm以下である。フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、フィラー、好ましくはシリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学積層体の光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、BET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。
 本発明の光学積層体において、基材層がフィラー、好ましくはシリカ粒子を含有する場合、フィラーの含有量は、基材層を構成するフィルム100質量部に対して、通常0.1質量部以上、好ましくは1質量部以上、より好ましくは5質量部以上、さらに好ましくは10質量部以上、さらによりに好ましくは20質量部以上、とりわけ好ましくは30質量部以上であり、好ましくは60質量部以下である。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、得られる光学積層体の弾性率を向上しやすい。また、フィラーの含有量が上記の上限以下であると、光学積層体の光学特性を向上しやすい。
 本発明の光学積層体は、紫外線吸収剤をさらに含有してもよい。紫外線吸収剤は、基材層に含まれていてもよいし、ハードコート層に含まれていてもよいし、本発明の光学積層体における他の層に含まれていてもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。紫外線吸収剤は単独又は二種以上を組合せて使用できる。光学積層体が紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、得られる光学積層体を画像表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。
 光学積層体が紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学積層体100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは2質量部以上、さらに好ましくは3質量部以上であり、好ましくは10質量部以下、より好ましくは8質量部以下、さらに好ましくは6質量部以下である。好適な含有量は用いる紫外線吸収剤により異なるが、400nmの光線透過率が20~60%程度になるように紫外線吸収剤の含有量を調節すると、光学積層体の耐光性が高められるとともに、透明性を高めやすい。
 本発明の光学積層体は、フィラー、紫外線吸収剤以外の他の添加剤をさらに含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、pH調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、光学積層体100質量部に対して、好ましくは0.001~20質量部、より好ましくは0.01~15質量部、さらに好ましくは0.1~10質量部であってよい。
 本発明の光学積層体を構成する基材層の弾性率は、光学積層体のシワや傷付き等を防止しやすい観点から、好ましくは4.5GPa以上、より好ましくは4.8GPa以上、さらに好ましくは5.0GPa以上、さらにより好ましくは5.1GPa以上、とりわけ好ましくは5.2GPa以上である。弾性率の上限は特に限定されないが、通常100GPa以下である。なお、弾性率は、引張試験機を用いて、例えばチャック間距離50mm、引張速度10mm/分等の条件により測定できる。
<ハードコート層>
 ハードコート層は、光学積層体の表面に耐傷性、耐薬品性などを付与して光学積層体を保護する機能を有する層である。ハードコート層としては、公知のものを適宜採用してよく、例えばアクリル系、エポキシ系、ウレタン系、ベンジルクロライド系、ビニル系等の公知のハードコート層が挙げられる。これらの中でも光学積層体の広角方向の視認性の低下を抑制し、かつ耐屈曲性を向上させる観点から、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系及びそれらの組合せのハードコート層が好ましい。ハードコート層の鉛筆硬度は、本発明の光学積層体において光学フィルムに積層された状態で測定して、好ましくはHB以上、より好ましくはF以上、さらに好ましくはH以上、とりわけ好ましくは2H以上である。なお、鉛筆硬度は、JIS K 5600-5-4:1999に準拠して測定できる。
 ハードコート層は、例えば、活性エネルギー線硬化性化合物を含有する組成物の硬化物であってよい。活性エネルギー線硬化性化合物は、電子線、紫外線などの活性エネルギー線を照射することにより硬化する性質を有する化合物である。このような活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えば、電子線を照射することにより硬化する電子線硬化性化合物や、紫外線を照射することにより硬化する紫外線硬化性化合物などが挙げられる。これらの化合物は、通常のハードコート層の形成に用いられるハードコート剤の主成分と同様の化合物であり、例えばラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の化合物が挙げられる。
 前記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素‐炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であっても、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上である。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられ、具体的には1分子中に2~6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが挙げられ、好ましくはエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート及びポリエステル(メタ)アクリレートから選択された1種以上が挙げられる。中でも、(メタ)アクリル系樹脂が好ましく、多官能(メタ)アクリレート系化合物を主成分とするものがより好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリルとは、アクリル及び/又はメタクリルを意味し、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。
 多官能(メタ)アクリレート系化合物とは、分子中に少なくとも2個のアクリロイルオキシ基及び/又はメタクリロイルオキシ基を有する化合物であり、具体的には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ホスファゼン化合物のホスファゼン環に(メタ)アクリロイルオキシ基が導入されたホスファゼン系アクリレート化合物又はホスファゼン系メタクリレート化合物、分子中に少なくとも2個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基及び水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるウレタン(メタ)アクリレート化合物、分子中に少なくとも2個のカルボン酸ハロゲン化物と少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基及び水酸基を有するポリオール化合物との反応により得られるポリエステル(メタ)アクリレート化合物、及び上記各化合物の2量体、3量体などのようなオリゴマーなどが挙げられる。
 これらの化合物は、それぞれ単独又は2種以上を混合して用いてよい。なお、上記の多官能(メタ)アクリレート系化合物の他に、少なくとも1種の単官能(メタ)アクリレートを使用してもよい。単官能(メタ)アクリレートとしては、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの化合物は単独又は2種類以上を混合して用いられる。単官能(メタ)アクリレート系化合物の含有量は、機能層形成用組成物(ハードコート層用塗料)に含まれる化合物の固形分に対して、好ましくは10質量%以下の量である。なお、本明細書において、固形分とは、硬化性組成物に含まれる溶媒を除く、全ての成分を意味する。
 ハードコート層には、例えば硬度を調整する目的で、重合性オリゴマーを添加してもよい。このようなオリゴマーとしては、末端(メタ)アクリレートポリメチルメタクリレート、末端スチリルポリ(メタ)アクリレート、末端(メタ)アクリレートポリスチレン、末端(メタ)アクリレートポリエチレングリコール、末端(メタ)アクリレートアクリロニトリル-スチレン共重合体、末端(メタ)アクリレートスチレン-メチル(メタ)アクリレート共重合体などのマクロモノマーが挙げられる。重合性オリゴマーを添加する場合、その含有量は、ハードコート層形成用組成物の固形分に対して、好ましくは5~50質量%である。
 活性エネルギー線硬化性化合物は、溶剤と混合された溶液の状態で用いてもよい。活性エネルギー線硬化性化合物やその溶液は、ハードコート剤として市販されているものであってもよい。市販のハードコート剤としては、具体的には、「NKハードM101」(新中村化学(株)製、ウレタンアクリレート化合物)、「NKエステルA-TMM-3L」(新中村化学(株)製、テトラメチロールメタントリアクリレート)、「NKエステルA-9530」(新中村化学(株)製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)、「KAYARAD(登録商標) DPCAシリーズ」(日本化薬(株)製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート化合物の誘導体)、「アロニックス(登録商標) M-8560」(東亜合成(株)製、ポリエステルアクリレート化合物)、「ニューフロンティア(登録商標) TEICA」(第一工業製薬(株)製、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート)、「PPZ」(共栄社化学(株)製、ホスファゼン系メタクリレート化合物)などが挙げられる。
 前記カチオン重合性化合物は、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上であり、より好ましくは3以上である。また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
 エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
 ハードコート層の厚さは、特に限定されず適宜設定することができ、例えば2~100μmであってよいが、光学積層体の耐屈曲性及び表面硬度を高めやすい観点から、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは15μm以下、さらにより好ましくは10μm、とりわけ好ましくは8μm以下である。
 ハードコート層を光学フィルムの少なくとも片面に積層させる方法としては、例えば活性エネルギー線硬化性化合物、例えば活性エネルギー線硬化性樹脂を含有するハードコート層形成用組成物を基材である光学フィルムの表面に塗布し、活性エネルギー線を照射すればよい。このような組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物を必要に応じて添加剤等と混合することにより得ることができる。該ハードコート層形成用組成物の硬化物がハードコート層を構成する。
 ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含むことが好ましく、該ハードコート層形成用組成物において、活性エネルギー線硬化性化合物が溶剤で希釈されていることが好ましい。この場合、該組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物と表面平滑性等を付与するための各種添加剤、例えばシリコーンオイル等とを混合後に、得られた混合物を溶剤で希釈して製造してもよいし、活性エネルギー線硬化性化合物を溶剤で希釈後、添加剤を混合して製造してもよいし、活性エネルギー線硬化性化合物と予め溶剤で希釈された添加剤とを混合して製造してもよいし、予め溶剤で希釈された活性エネルギー線硬化性化合物と予め溶剤で希釈された添加剤とを混合して製造してもよい。混合後の組成物は更に撹拌されてもよい。
 塗布を容易にする観点からも、ハードコート層形成用組成物が、適当な溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、エタノール、1-プロパノール、イソプロパノール、1-ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、エチルグリコールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、セロソルブ類、DMSOなどのスルホキシド類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類などが挙げられ、これらの中から適宜選択して用いることができる。これらの有機溶剤は、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。上記のような厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を満たす中間層を形成しやすい観点からは、ハードコート層形成用組成物に含まれる溶媒は、好ましくはポリイミド系樹脂に対して適度な溶解性を有する溶媒である。上記観点から、溶媒としては、好ましくはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、より好ましくはメチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。また、ハードコート層形成用組成物を塗工後、最終的に有機溶剤を蒸発させやすい観点から、溶剤の沸点は好ましくは70℃~200℃の範囲である。溶剤の種類や使用量は、用いる活性エネルギー線硬化性化合物の種類や量、基材(光学フィルム)の材質、形状、塗布方法、目的とするハードコート層の厚さなどに応じて適宜選択される。
 上記のような厚さ、厚さのばらつき、及び割合(A/B)を満たす中間層を形成しやすい観点からは、ハードコート層形成用組成物を塗工後、所定の保持温度以下で、所定の保持時間放置することが好ましい。該保持温度は、好ましくは25℃より低い温度、より好ましくは20℃以下、さらに好ましくは15℃以下、さらにより好ましくは10℃以下の温度であり、該保持時間は、好ましくは20分~5時間、より好ましくは25分~3時間、さらに好ましくは0.5時間~1時間である。ハードコート層形成用組成物と基材との接触を、上記の保持温度及び保持時間で行うことにより、ハードコート層形成用組成物に含まれる溶媒の揮発が抑えられ、ゆっくりとハードコート層形成用組成物中の溶剤やモノマーが基材表面に浸透することで、所定以上の厚さ及び厚さの均一性を有する中間層が形成されやすいと考えられる。また、上記の条件で保持後は、上記のような厚さ、厚さのばらつきを満たす中間層を形成しやすい観点から、所定の乾燥温度、所定の乾燥時間での乾燥工程を設けることが好ましい。該乾燥温度は、ハードコート層形成用組成物に含まれる溶剤の沸点をX℃とすると、好ましくはX-55℃以上、より好ましくはX-50℃以上、さらに好ましくはX-45℃以上であり、好ましくはX+20℃以下、より好ましくはX℃以下、さらに好ましくはX-20℃以下である。なお、ハードコート層形成用組成物が2種以上の溶剤を含有する場合、該組成物に含まれる混合溶剤の沸点をX℃として、乾燥温度を上記の範囲内に調整することが好ましい。該乾燥時間は、好ましくは1分~30分、より好ましくは2分~20分、さらに好ましくは5分~12分である。上記の乾燥温度、乾燥時間での乾燥工程を設けることにより、ハードコート層形成用組成物中の溶剤やモノマー、特にモノマーの均一な拡散が生じやすく、所定の範囲の厚さを有し、厚さのばらつきが小さい中間層が形成されやすいと考えられる。
 ハードコート層形成用組成物の固形分は、好ましくは5~60質量%、より好ましくは10~55質量%、さらに好ましくは20~50質量%、とりわけ好ましくは25~50質量%である。該固形分が前記の範囲にあると、塗工する膜厚が厚すぎず数式1の値が大きくなりすぎないため視認性が良好になり、また得られるハードコート層の表面の平滑性が良好となる傾向がある。
 ハードコート層形成用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。活性エネルギー線として紫外線や可視光線を用いる場合には、通常、重合開始剤として光重合開始剤が用いられる。
 光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフエノンベンジルケタール、アントラキノン、1-(4-イソプロピルフェニル-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、カルバゾール、キサントン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、1,1-ジメトキシデオキシベンゾイン、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、チオキサントン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフオリノプロパン-1-オン、トリフェニルアミン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、フルオレノン、フルオレン、ベンズアルデヒド、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、3-メチルアセトフェノン、3,3’,4,4’-テトラ-tert-ブチルパーオキシカルボニルベンゾフエノン(BTTB)、2-(ジメチルアミノ)-1-〔4-(モルフォリニル)フェニル〕-2-フェニルメチル)-1-ブタノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、ベンジルなどが挙げられる。また、光重合開始剤は色素増感剤と組合せて用いられてもよい。該色素増感剤としては、例えばキサンテン、チオキサンテン、クマリン、ケトクマリンなどが挙げられる。光重合開始剤と色素増感剤との組合せとしては、例えばBTTBとキサンテンとの組合せ、BTTBとチオキサンテンとの組合せ、BTTBとクマリンとの組合せ、BTTBとケトクマリンとの組合せなどが挙げられる。
 光重合開始剤を用いる場合、その使用量は、活性エネルギー線硬化性化合物100質量部に対して、好ましくは0.1質量部以上である。該使用量が前記の範囲にあると十分な硬化速度を得やすい傾向にある。なお、光重合開始剤の使用量は、活性エネルギー線硬化性化合物100質量部あたり、好ましくは10質量部以下である。
 また、重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤も挙げられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
 ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等が挙げられる。
 活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるType1型ラジカル重合開始剤と、3級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するType2型ラジカル重合開始剤があり、それらは単独で又は併用して使用される。
 カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄(II)錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれかあるいはいずれでもカチオン重合を開始することができる。
 前記ラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤重合開始剤は、前記ハードコート層形成用組成物全体100質量%に対して好ましくは0.1~10質量%を含むことができる。前記重合開始剤の含量が前記の範囲にあると、硬化を十分に進行させることができ、最終的に得られる塗膜の機械的物性や密着力を良好な範囲とすることができ、また、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生し難くなる傾向がある。
 ハードコート層形成用組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物の他に、帯電防止剤を含有していてもよい。該組成物が帯電防止剤を含有することにより、ハードコート層に帯電防止機能を付与することができる。帯電防止剤としては、例えば界面活性剤、導電性高分子、導電性粒子、アルカリ金属塩及び/又は有機カチオン-アニオン塩などが挙げられる。これらの帯電防止剤は、それぞれ1種又は2種以上を混合して使用される。
 界面活性剤としては、炭化水素系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などが挙げられる。
 導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリチオフェンなどが挙げられる。
 導電性粒子としては、例えばインジウム-スズ-複合酸化物(ITO)、アンチモンがドープされた酸化スズなどの粒子が挙げられる。
 アルカリ金属塩としては、アルカリ金属の有機塩及び無機塩が挙げられる。アルカリ金属塩のカチオン部を構成するアルカリ金属イオンとしては、リチウム、ナトリウム、カリウムの各イオンが挙げられる。これらアルカリ金属イオンのなかでもリチウムイオンが好ましい。
 アルカリ金属塩のアニオン部は有機物で構成されていてもよく、無機物で構成されていてもよい。有機塩を構成するアニオン部としては、例えば、CHCOO、CFCOO、CHSO 、CFSO 、(CFSO、CSO 、CCOO、(CFSO)(CFCO)N、(FSOS(CFSO 、CO 2-、式(A1)~式(A4)、
(A1):(C2n+1SO (nは1~10の整数を表す)、
(A2):CF(C2mSO (mは1~10の整数を表す)、
(A3):S(CFSO  (lは1~10の整数を表す)、
(A4):(C2p+1SO)N(C2q+1SO)、(但し、p及びqは、互いに独立に、1~10の整数を表す)、
で表わされるアニオン部等が用いられる。中でも、フッ素原子を含むアニオン部は、イオン解離性の良いイオン化合物が得られることから好ましく用いられる。無機塩を構成するアニオン部としては、Cl、Br、I、AlCl 、AlCl 、BF 、PF 、ClO 、NO 、AsF 、SbF 、NbF 、TaF 、(CN)などが用いられる。アニオン部としては、(FSO、(CF、(CSOが好ましく、(FSO、(CFSOがより好ましい。
 有機カチオン-アニオン塩は、カチオン部とアニオン部とから構成されており、前記カチオン部が有機物である、有機塩である。アニオン部は有機物であってもよいし、無機物であってもよい。「有機カチオン-アニオン塩」は、イオン性液体、イオン性固体と称される物質であってもよい。
 カチオン成分として、具体的には、ピリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピロリン骨格を有するカチオン、ピロール骨格を有するカチオン、イミダゾリウムカチオン、テトラヒドロピリミジニウムカチオン、ジヒドロピリミジニウムカチオン、ピラゾリウムカチオン、ピラゾリニウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオンなどが挙げられる。アニオン成分としては、前記アルカリ金属塩のアニオン部と同じものが挙げられる。なかでも、フッ素原子を含むアニオン成分は、イオン解離性のよいイオン化合物が得られることから好ましく用いられる。
 ハードコート層形成用組成物は、例えば臭素原子、フッ素原子、硫黄原子、ベンゼン環などを含む有機化合物、例えば酸化錫、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ケイ素などの無機酸化物微粒子などを含有してもよい。この場合、得られるハードコート層の屈折率を調整することができ、ハードコート層に低反射機能、反射防止機能等の光学的機能を付与することができる。
 活性エネルギー線硬化性化合物を含有するハードコート層形成用組成物を光学フィルムの上に塗布したのち、乾燥することにより、活性エネルギー線硬化性化合物を含有する層を形成することができる。塗布は、例えばマイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写法、フローコート法、スプレーコート法といった通常の方法により行うことができる。光学積層体の光学特性を高めやすい観点からは、マイクログラビアコート法又はダイコート法によりハードコート層形成用組成物を積層させることが好ましい。
 その後、活性エネルギー線を照射することにより、光学フィルムの表面に塗工された活性エネルギー線硬化性化合物が硬化して、目的とするハードコート層が得られる。活性エネルギー線としては、例えば電子線、紫外線、可視光線などが挙げられ、使用する活性エネルギー線硬化性化合物の種類に応じて適宜選択される。活性エネルギー線は、通常のハードコート層の形成におけると同様に照射すればよい。照射する活性エネルギー線の強度、照射時間などは、用いる硬化性化合物の種類、硬化性化合物を含有する層の厚さみなどに応じて適宜選択される。活性エネルギー線は、不活性ガス雰囲気中で照射してもよい。窒素雰囲気中で活性エネルギー線を照射するには、例えば不活性ガスでシールした容器の中で活性エネルギー線照射を行えばよく、不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガスなどが使用できる。
 ハードコート層の表面に、後述するその他の層をさらに積層させることも有用である。この場合のその他の層は、ハードコート層の表面に単層で、又は、複層で、積層させることができる。
<その他の層>
 本発明の光学積層体は、基材層及びハードコート層の他に、反射防止層、低反射層、帯電防止層、防眩層、紫外線吸収層、粘着層、色相調整層等の他の層をさらに有していてもよい。また、本発明の光学積層体に含まれるハードコート層が、ハードコート機能と共に反射防止機能等を有していてもよい。
 紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。
 粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学積層体を他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。
 粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSA)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K 6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、適当な手段(圧力、熱等)によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K 6800)であるカプセル型接着剤であってもよい。
 色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料;並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。
 屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば基材層を構成する光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、0.1μm以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。
(基材層を構成する光学フィルムの製造方法)
 本発明の光学積層体に含まれる基材層を構成する光学フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)前記ポリアミド系樹脂と溶媒とを少なくとも含む樹脂組成物(以下において、「ワニス」とも称する)を調製する工程(ワニス調製工程)、
(b)ワニスを支持材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び
(c)前記塗膜を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を少なくとも含む製造方法であってよい。
 ワニス調製工程において、ポリアミド系樹脂を溶媒に溶解させ、必要に応じて、前記フィラー、紫外線吸収剤等の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。なお、フィラーとしてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子を含むシリカゾルの分散液を、前記樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを樹脂に添加してもよい。
 ワニスの調製に用いる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばDMAc、DMF等のアミド系溶媒;GBL、γ-バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、DMSO、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは1~25質量%、より好ましくは5~20質量%、さらに好ましくは5~15質量%である。
 塗布工程において、公知の塗布方法により、支持材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。
 フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、支持材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後にさらに光学フィルムを乾燥する工程を設けてもよい。塗膜の乾燥は、通常50~350℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。
 支持材の例としては、金属系であればSUS板、樹脂系であればPETフィルム、PENフィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、他のポリイミド系樹脂フィルム、シクロオレフィン系ポリマー(COPと記載することがある)フィルム、アクリル系フィルム等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、PETフィルム、COPフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、PETフィルムがより好ましい。
<光学積層体の製造方法>
 得られた光学フィルムに、例えば上記に記載した方法によりハードコート層を積層させることにより、本発明の光学積層体を製造することができる。
 本発明の光学積層体の用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学積層体は、画像表示装置の前面板、中でもフレキシブル表示装置の前面板(ウィンドウフィルム)、中でもローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイの前面板として非常に有用である。フレキシブル表示装置は、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する光学積層体を有する。すなわち、フレキシブル表示装置の前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層、例えばフレキシブルディスプレイ内の画像表示素子を保護する機能を有する。なお、フレキシブル表示装置とは、画像表示装置を繰り返し折り曲げる、繰り返し巻く等の操作を伴い使用される表示装置である。このような繰り返しの折り曲げ操作等を伴い使用されるフレキシブル表示装置の前面板には高い耐屈曲性が求められる。また、前面板には、高い視認性も求められる。画像表示装置の内部で使用される画像表示装置の基板用のフィルムと比較して、画像表示装置の前面板、特にフレキシブル表示装置の前面板用のフィルムには、高い視認性が求められると共に、高い耐屈曲性が求められる。例えば、本発明のフィルムは、フレキシブル表示装置の前面板用に用いる場合の視認性を高めやすい観点から、上記に記載したような全光線透過率、ヘーズ及び/又はYI値を有することが好ましく、また、フレキシブル表示装置の前面板として用いる場合の耐屈曲性を高めやすい観点から、上記に記載したようなU字伸縮試験における耐屈曲回数を満たすことが好ましい。
 画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブル表示装置としては、フレキシブル特性を有する全ての画像表示装置が挙げられ、例えば上記のようなローラブルディスプレイやフォルダブルディスプレイが挙げられる。ローラブルディスプレイとは、前面板を含む画像表示部分がロール状に巻き取られており、該画像表示部分を引き出して平面又は曲面にした状態で使用される画像表示装置であり、ロール状に巻き取る等の操作が使用の度に行われるような画像表示装置である。また、フォルダブルディスプレイとは、前面板を含む画像表示部分が折り曲げられており、該画像表示部分を開いて平面又は曲面にした状態で使用される画像表示装置であり、折り曲げ等の操作が使用の度に行われるような画像表示装置である。このような巻き取り、折り曲げ等の操作が繰り返し行われる画像表示装置をフレキシブル画像表示装置と称する。
[フレキシブル表示装置]
 本発明は、本発明の光学積層体を備えるフレキシブル表示装置も提供する。本発明の光学積層体は、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウィンドウフィルムと称されることがある。フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体は、本発明の光学積層体であるウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサ又はウィンドウフィルム、タッチセンサ、円偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に円偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、ウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[偏光板]
 本発明のフレキシブル表示装置は、偏光板、好ましくは円偏光板をさらに備えていてもよい。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層することにより右円偏光成分又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45°である必要があるが、実用的には45±10°である。直線偏光板とλ/4位相差板とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
 直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは0.5~100μmである。厚さが前記の範囲にあると柔軟性が低下し難い傾向にある。
 前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール(以下、PVAと略すことがある)系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したPVA系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はPVAに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はPVA系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるPVA系フィルムの厚さは好ましくは10~100μmであり、延伸倍率は好ましくは2~10倍である。
 さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子であってもよい。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は液晶状態を示す性質を有していればよく、中でもスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は重合性官能基を有していることも好ましい。
 前記二色性色素は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、二色性色素自身が液晶性を有していてもよいし、重合性官能基を有していることもできる。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。
 前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
 前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。
 液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、好ましくは0.5~10μm、より好ましくは1~5μmであってもよい。
 前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。前記配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類を使用できる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量が10,000~1,000,000程度であってもよい。前記配向膜の厚さは、配向規制力の観点から、好ましくは5~10,000nm、より好ましは10~500nmである。前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
 前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、具体的には、用いられる高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の(変性)セルロース類、メチルメタクリレート(共)重合体等のアクリル類、スチレン(共)重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などのフィルムが挙げられ、透明性及び耐熱性に優れる点で、好ましくはポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステル、オレフィン、アクリル又はセルロース系のフィルムが挙げられる。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。これらのフィルムは未延伸のまま、あるいは1軸又は2軸延伸したフィルムとして使用される。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記保護フィルムの厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは1~100μmである。前記保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、保護フィルムの柔軟性が低下し難い。
 前記λ/4位相差板は、入射光の進行方向に直交する方向、言い換えるとフィルムの面内方向にλ/4の位相差を与えるフィルムである。前記λ/4位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記延伸型位相差板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは1~100μmである。厚さが前記の範囲にあるとフィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。
 さらに前記λ/4位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板であってもよい。前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。前記液晶塗布型位相差板はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、通常0.5~10μm、好ましくは1~5μmであってもよい。前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
 一般的には、短波長ほど複屈折が大きく、長波長ほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ/4の位相差を達成することはできないので、視感度の高い560nm付近に対してλ/4となるような面内位相差、すなわち100~180nm、好ましくは130~150nmとなるように設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ/4位相差板を用いることは視認性をよくすることができるので好ましい。このような材料としては延伸型位相差板の場合は特開2007-232873号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開2010-30979号公報に記載されているものを用いることも好ましい。
 また、他の方法としてはλ/2位相差板と組合せることで広帯域λ/4位相差板を得る技術も知られている(特開平10-90521号公報)。λ/2位相差板もλ/4位相差板と同様の材料及び方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板との組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることは厚さを薄くすることができるので好ましい。
 前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のCプレートを積層する方法も知られている(特開2014-224837号公報)。正のCプレートも液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。厚さ方向の位相差は、通常-200~-20nm、好ましくは-140~-40nmである。
[タッチセンサ]
 本発明のフレキシブル表示装置は、タッチセンサをさらに備えていてもよい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域、すなわち表示部に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域、すなわち非表示部に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と;前記基板の活性領域に形成された感知パターンと;前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記高分子フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、その靱性が2,000MPa%以上であるものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000~30,000MPa%であってもよい。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力(MPa)-歪み(%)曲線(Stress-strain curve)で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
 前記感知パターンは、第1方向に形成された第1パターン及び第2方向に形成された第2パターンを備えることができる。第1パターンと第2パターンは互いに異なる方向に配置される。第1パターン及び第2パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第1パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第2パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第2パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。好ましくはITOを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、セレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。
 ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの2種以上の合金などの金属で形成することもできる。第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と 、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を上昇させることができる。
 前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
 前記無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
[接着層]
 前記フレキシブル表示装置用積層体を形成する、ウィンドウフィルム、偏光板、タッチセンサなどの各層、並びに各層を構成する、直線偏光板やλ/4位相差板等のフィルム部材は接着剤によって接着することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤、感圧型粘着剤、再湿型接着剤等、汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、例えば0.01~500μm、好ましくは0.1~300μmである。接着層は、前記フレキシブル画像表示装置用積層体には複数存在してよいが、それぞれの厚さ及び用いられる接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。
 前記水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン-酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン-ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、前記主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01~10μm、好ましくは0.1~1μmであってもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び前記接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。
 前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物とは、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を含むことも好ましい。
 前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物がより好ましい。接着剤組成物の粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
 活性エネルギー線組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル又はカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカル又はカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
 前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか又は両方に塗布後貼合し、いずれかの被着層又は両方の被着層を通して活性エネルギー線を照射して硬化させることで接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは、通常0.01~20μm、好ましくは0.1~10μmであってもよい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層の形成に用いる場合には、それぞれの層の厚さ及び用いられる接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。
 前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着層が、粘着剤に代えて接着剤を用いた場合には接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記粘着剤を用いる場合の接着層の厚さは、通常1~500μm、好ましくは2~300μmであってもよい。前記粘着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる粘着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。
[遮光パターン]
 前記遮光パターンは前記フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有することができる。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は2種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、通常1~100μm、好ましくは2~50μmである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記しない限り、質量%及び質量部を意味する。まず評価方法について説明する。
<フィルムの厚さ>
 実施例及び比較例で得られた光学積層体、及び該光学積層体の基材層を構成する光学フィルムについて、ABSデジマチックインジケーター((株)ミツトヨ製、「ID-C112BS」)を用いて、フィルムの厚さを測定した。
<ハードコート層の厚さ>
 Filmetrics社製 F20卓上膜厚システムを用いて、ハードコート層の厚さを測定した。
<耐屈曲性>
 光学積層体を、ダンベルカッターを用いて10mm×150mmの大きさにカットした。カットした積層体(フィルム)を面状体無負荷U字伸縮試験(ユアサシステム機器(株)製「DLDMLH―FS」)の伸縮試験治具に、折り曲げた際にハードコート層が内側に位置し、屈曲半径が1mmとなるようにセットして、試験速度60rpmの条件で、稼働部の左右運動により水平とU字型を繰り返す折り曲げ試験を実施し、各フィルムの耐屈曲回数(屈曲部にヒビや、白化が生じずに折り曲げ可能な回数)を測定した。
<5万回屈曲試験の前後でのヘーズの変化量(ΔHz)の測定>
 実施例及び比較例で得られた光学積層体を、ダンベルカッターを用いて10mm×150mmの大きさにカットし、その長手方向の中央部において、ヘーズコンピュータ(スガ試験機(株)製、「HGM-2DP」)を用いて、屈曲試験前の光学積層体のヘーズHz2(%)を測定した。その後、上記耐屈曲性試験と同様の方法により、光学積層体の長手方向中央部にて、光学積層体を5万回屈曲させた後、光学積層体の屈曲部において、Hz1(%)を測定した。測定結果から、ΔHz(=Hz1-Hz2)を算出し、5万回屈曲試験前後のΔHzとした。
<ラマン分光測定(中間層の厚さの測定)>
(測定試料の作製)
 実施例及び比較例で得られた光学積層体を、カッターを用いて2mm×5mmの大きさにカットした。このとき、基材層を構成する光学フィルムのTD方向が長辺側となるように光学積層体をカットした。カットした光学積層体を、カットした断面が表面に配置されるようにし、エポキシ系常温硬化樹脂53型(アキュラ製)で包埋処理を行った。光学積層体の断面側をウルトラミクロトームEM UC7(ライカ製)で処理し、断面作製を行った。
(ラマン分光による測定)
 実施例及び比較例の積層体断面のラマン分光測定を、ナノフォトン(株)製のRAMANtouchを用い、以下に示す条件にて、長手方向断面を厚さ方向に、ハードコート層側から基材層を横断するライン状にラマン光を照射し、0.2μm間隔毎にラマンスペクトルを求め、データ処理を行った。各点における1600cm-1、3000cm-1のピーク面積を求めた。ここで、上記の1600cm-1のピークは、基材層やハードコート層に含まれるカルボニル基に由来するピーク、3000cm-1のピークはハードコート層に含まれるCH基に由来するピークであると考えられる。3000cm-1のピークは、ハードコート層部分において最大のピーク強度を示し、測定位置が基材層に近づくにつれてピーク強度が低下し、基材層に相当する部分では0となった。また、1600cm-1のピークは、測定位置が基材層に近づくにつれてピーク強度が増加した。1600cm-1のピーク強度に対する3000cm-1のピーク面積の比を求め、ピーク強度比が低下しはじめる、すなわち1未満となる位置から、平均値の1/10以上である範囲、すなわち傾斜部を中間層とした。
(測定条件)
露光時間:30秒
励起波長:531.90nm
スリット幅:50μm
グレーティング:300gr/mm
対物レンズ:TU Plan Fluor 100×/0.90N.A.
レーザー照射方式:ライン照射
<ラマン分光測定(中間層の厚さのばらつき測定)>
 実施例及び比較例の積層体断面の任意の5点において、上記の方法で中間層の厚さを求めた。求めた複数の厚さの最大値(tmax)、最小値(tmin)の値から、式:{(tmax-tmin)/(tmax+tmin)}×100(%)により、各フィルムの中間層の厚さのばらつきを算出した。
<押し込み硬さ>
(測定試料の作製)
 上記のラマン分光測定の測定試料と同様の方法にて、測定試料を作製した。
(ナノインデンターによる測定方法)
 実施例及び比較例の積層体断面の押し込み硬さを、超微小押し込み硬さ試験機((株)エリオニクス社製、ENT-2100)を用い、以下の条件で測定を実施した。
 圧子:バーコビッチ圧子
 荷重負荷方式:電磁方式
 表面検出:傾斜方式 設定値2.0
 負荷曲線:15秒かけて0.5mN(線形)
 クリープ:1秒間 0.5mN
 除荷曲線:15秒かけて0mN(線形)
 測定温度:26℃
 なお、測定は、ハードコート層から基材層に向けて、1.5μm間隔で行った。最も押し込み硬さが低かった界面付近の測定結果と、基材層の中央の測定結果(厚み方向中心に近接する5点の平均値)を表中に示す。なお、実施例の光学積層体に関し、最も低い押し込み硬さを示した界面の点は、上記のラマン分光測定において定めた中間層に相当する位置であった。
<鉛筆硬度の測定>
 JIS K 5600-5-4:1999に準拠して、実施例及び比較例で得られた積層体のハードコート層側の鉛筆硬度を測定した。測定時の荷重は750g、測定スピードは4.5mm/秒であった。
<重量平均分子量の測定>
 樹脂の重量平均分子量は、GPCを用いて測定した。測定試料の調製方法及び測定条件は次の通りである。
(1)試料調製方法
 樹脂を20mg秤りとり、10mLのDMF(10mmol/L臭化リチウム添加DMF溶液)を加え、完全に溶解させた。この溶液をクロマトディスク(孔径0.45μm)にてろ過し、試料溶液とした。
(2)測定条件
装置:HLC-8020GPC
カラム:ガードカラム+TSKgelα-M(300mm×7.8mm径)×2本+α-2500(300mm×7.8mm径)×1本
溶離液:DMF(10mmol/Lの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/分
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<シリカゾルの調製>
 1,000mLのフラスコにメタノール分散シリカゾル(一次粒子径27nm、シリカ粒子固形分30.5%)442.6g及びGBL 301.6gを入れ、真空エバポレータで45℃の湯浴下、400hPaで1時間、250hPaで1時間メタノールを蒸発させた。さらに250hPa下で70℃まで昇温して30分間加熱し、GBL分散シリカゾル1を得た。得られたGBL分散シリカゾル1の固形分濃度は29.1%であった。
<合成例1:ポリアミドイミド樹脂(1)の製造>
 十分に乾燥させた撹拌機と温度計を備える反応容器に、窒素を導通させ、容器内を窒素で置換した。該反応容器に、DMAc 1907.2質量部を入れ、TFMB 111.94質量部と6FDA 46.84質量部を加えて反応させた。
 次いで、OBBC 10.37質量部とTPC 42.79質量部を加えて反応させた。次いで、無水酢酸 37.66質量部を加え、15分間撹拌した後、4-ピコリン 11.45質量部を加え、反応容器を70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
 反応液を冷却し、メタノール 3794.5質量部を加え、次いでイオン交換水 1419.4質量部を滴下し、白色固体を析出させた。析出した白色固体を遠心ろ過により捕集し、メタノールで洗浄することにより、ポリアミドイミド樹脂を含むウェットケーキを得た。得られたウェットケーキを減圧下、78℃で乾燥させることによりポリアミドイミド樹脂の粉体を得た。得られたポリアミドイミド樹脂(1)の重量平均分子量は466,000であった。
<製造例1:基材層を構成する樹脂フィルムの作製(HC積層前)>
(樹脂組成物1の製造)
 室温にてGBL溶媒にGBL分散表面修飾シリカゾル1を加えて十分に撹拌、混合し、そこに、Sumisorb340[2-(2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、住化ケムテックス(株)製]及びSumiplast Violet B(ブルーイング剤、住化ケムテックス(株)製)を、樹脂とシリカ粒子の合計量100質量部に対して、それぞれ5.7質量部及び35ppmとなるように添加し、混合した。その後、樹脂とシリカ粒子との組成比が60:40となるようにポリアミドイミド樹脂(1)を加えて混合し、均一になるまで撹拌し、固形分10質量%である樹脂組成物1(以下、樹脂ワニス1ということがある)を得た。
(樹脂フィルム1の製造)
 得られた樹脂ワニス1を、PET(ポリエチレンテレフタラート)フィルム(東洋紡(株)製「コスモシャイン(登録商標)A4100」、厚さ188μm、厚さ分布±2μm)上において流涎成形により塗膜を成形した。この時、線速は0.3m/分であった。また、80℃で10分加熱した後、100℃で10分加熱し、次いで90℃で10分加熱し、最後に80℃で10分加熱するという条件で塗膜を乾燥した。その後、PETフィルムから塗膜を剥離し、厚さ58μm、幅700mmの原料フィルム1を得た。
 幅700mmの原料フィルム1を、把持具としてクリップを備えた、1~6室構成のテンター式乾燥機を用いて加熱し、溶媒を除去して厚さ49.5μmの樹脂フィルム1を得た。この時、乾燥炉内の条件は、乾燥炉内の温度が200℃、クリップの把持幅が25mm、フィルムの搬送速度が0.9m/分、乾燥炉入り口のフィルム幅、すなわちクリップ間距離に対する乾燥炉出口のフィルム幅との比が0.98となるように調製し、テンター式乾燥機の各室における風速を、1室では13.5m/秒、2室では13m/秒、3~6室では11m/秒となるように調整した。熱風はフィルムの上及び下から当てた。
<製造例2:基材層を構成する樹脂フィルムの作製(ハードコート積層前)>
(樹脂組成物2の製造)
 室温にてGBL溶媒にポリアミドイミド樹脂(1)を加えて十分に撹拌、混合し、そこに、Sumisorb340[2-(2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、住化ケムテックス(株)製]及びSumiplast Violet B(ブルーイング剤、住化ケムテックス(株)製)を、樹脂の合計量100質量部に対して、それぞれ5.7質量部及び35ppmとなるように添加し、混合した。均一になるまで撹拌し、固形分15質量%である樹脂組成物2(以下、樹脂ワニス2ということがある)を得た。
 (樹脂フィルム2の製造)
 樹脂ワニスとして、樹脂ワニス2を用いた以外は、実施例1と同様の方法にて、厚さ49.5μmの樹脂フィルム2を得た。
<硬化性組成物の作製>
(硬化性樹脂組成物1)
 トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学(株)製、A-TMPT)28.4質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学(株)製、A-TMMT)28.4質量部、光重合開始剤として、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF(株)製、Irgacure(登録商標) 184)1.8質量部、レベリング剤(ビックケミージャパン(株)製、BYK(登録商標)-307)0.1質量部、及びプロピレングリコール1-モノメチルエーテル(東京化成工業(株)製)39質量部を撹拌混合し、光硬化性樹脂組成物1を得た。
(硬化性樹脂組成物2)
 トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学(株)製、A-TMPT)28.4質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学(株)製、A-TMMT)28.4質量部、光重合開始剤として、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF(株)製、Irgacure(登録商標) 184)1.8質量部、レベリング剤(ビックケミージャパン(株)製、BYK(登録商標)-307)0.1質量部、及びメタノール(富士フィルム和光純薬(株)製)39質量部を撹拌混合し、光硬化性樹脂組成物2を得た。
<実施例1:光学積層体の製造>
 樹脂フィルム1から、300mm×200mmのフィルムを切り出し、その片面に前記硬化性組成物1をバーコーターにより塗布し、5℃の温度下で1時間放置した。その後、80℃で3分間乾燥後、窒素雰囲気下、高圧水銀灯を用いて、500mJ/cm、200mW/cmの条件で照射し硬化させることにより、ハードコート層を形成させ、厚さ10μmのハードコート層を有する積層体1を得た。
<実施例2:光学積層体の製造>
 樹脂フィルム1に代えて樹脂フィルム2を用いた以外は実施例1と同様の方法により、積層体2を得た。
<比較例1:光学積層体の製造>
 硬化性樹脂組成物1に代えて硬化性樹脂組成物2を用い、塗布後の放置時間を5分間とした以外は実施例1と同様の方法により、積層体3を得た。
<実施例3:光学積層体の製造>
 80℃での乾燥時間を10分間とした以外は実施例2と同様の方法により、積層体4を得た。
<比較例2:光学積層体の製造>
 硬化性樹脂組成物1の塗布後の放置を25℃の温度下で20分間とした以外は実施例1と同様の方法により、積層体5を得た。
 得られた積層体1~5について、中間層の押し込み硬さA(N/mm)及び基材層の押し込み硬さB(N/mm)を測定し、割合(A/B)を算出した。また、中間層の厚さ、厚さのばらつき、光学積層体の耐屈曲回数、及び5万回屈曲試験前後のΔHzを測定した。得られた結果を表1に示す。なお、積層体のハードコート層の表面の鉛筆硬度は、実施例1~3のいずれにおいても2H以上であり、比較例1においては2Bより低い結果であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018

Claims (9)

  1.  ポリアミド系樹脂を含む基材層と、該基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを少なくとも有する光学積層体であって、該基材層と該ハードコート層との間に厚さが0.3μm以上、かつ厚さのばらつきが25%以下の中間層を有し、該光学積層体の厚み方向の断面においてナノインデンターを用いて測定される、該中間層の押し込み硬さをAN/mmとし、該基材層の押し込み硬さをBN/mmとすると、Bに対するAの割合(A/B)は0.96以下である、光学積層体。
  2.  前記中間層の押し込み硬さAは、700N/mm以下である、請求項1に記載の光学積層体。
  3.  前記基材層の押し込み硬さBは、350~800N/mmである、請求項1又は2に記載の光学積層体。
  4.  基材層の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層の表面の鉛筆硬度はHB以上である、請求項1~3のいずれかに記載の光学積層体。
  5.  前記ハードコート層は(メタ)アクリレート系モノマーの硬化物を含む、請求項1~4のいずれかに記載の光学積層体。
  6.  フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、請求項1~5いずれかに記載の光学積層体。
  7.  請求項1~6のいずれかに記載の光学積層体を備えるフレキシブル表示装置。
  8.  タッチセンサをさらに備える、請求項6に記載のフレキシブル表示装置。
  9.  偏光板をさらに備える、請求項6又は7に記載のフレキシブル表示装置。
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