JPWO2019038860A1 - レーザ加工方法およびレーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明の実施の形態にかかるレーザ加工装置1の構成を示す図である。レーザ加工装置1は、レーザビームの照射により、被加工物であるワーク9への穴あけ加工を行う。ワーク9は、表面に金属層を有しかつ樹脂層を含む積層体の板である。
Claims (11)
- 表面に金属層を有しかつ樹脂層を含む積層体に第1のレーザビームを照射して第1の穴を形成する第1の工程と、
前記積層体に第2のレーザビームを照射して、前記第1の穴を包含する領域に前記第1の穴の径より拡張された径の第2の穴を形成する第2の工程と、
を含むことを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記第1の穴の径は、前記第2の穴の径の70%以下であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工方法。
- 表面に金属層を有しかつ樹脂層を含む積層体に第1のレーザビームを照射して第1の穴を形成する第1の工程と、
前記第1のレーザビームよりビーム断面が拡大された第2のレーザビームを、前記第1の穴を包含する領域に照射して、前記積層体に第2の穴を形成する第2の工程と、
を含むことを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記積層体における前記第1のレーザビームのビーム径は、前記積層体における前記第2のレーザビームのビーム径の70%以下であることを特徴とする請求項3に記載のレーザ加工方法。
- 前記積層体に照射する前記第1のレーザビームのエネルギー密度と、前記積層体に照射する前記第2のレーザビームのエネルギー密度とが同じであることを特徴とする請求項1から4のいずれか1つに記載のレーザ加工方法。
- 前記第1のレーザビームは、マスクに形成された第1の透過領域の像を前記積層体に転写する転写光学系を通過したレーザビームであって、
前記第2のレーザビームは、マスクに形成され前記第1の透過領域より大きい第2の透過領域の像を前記積層体に転写する転写光学系を通過したレーザビームであることを特徴とする請求項1から5のいずれか1つに記載のレーザ加工方法。 - 前記第1のレーザビームは、前記積層体から第1の距離の位置にある集光光学系を透過したレーザビームであって、
前記第2のレーザビームは、前記積層体から前記第1の距離とは異なる第2の距離の位置にある前記集光光学系を透過したレーザビームであることを特徴とする請求項1から5のいずれか1つに記載のレーザ加工方法。 - 表面に金属層を有しかつ樹脂層を含む積層体へ進行させるレーザビームを出射するレーザビーム出射部と、
前記レーザビーム出射部の制御により、第1の穴の形成のための前記レーザビームである第1のレーザビームを前記積層体へ入射させ、かつ、前記第1の穴を包含する領域に前記第1の穴の径より拡張された径の第2の穴を形成するための前記レーザビームである第2のレーザビームを前記積層体へ入射させる制御器と、
を備えることを特徴とするレーザ加工装置。 - 表面に金属層を有しかつ樹脂層を含む積層体へ進行させるレーザビームを出射するレーザビーム出射部と、
前記レーザビーム出射部の制御により、第1のビーム径の前記レーザビームである第1のレーザビームを前記積層体へ入射させ、かつ、前記第1のレーザビームが照射された領域を含む領域に第1のビーム径より大きい第2のビーム径の前記レーザビームである第2のレーザビームを入射させる制御器と、
を備えることを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記レーザビーム出射部は、
レーザ発振によりレーザビームを出力するレーザ発振器と、
前記レーザビームを透過可能な第1の透過領域と、前記レーザビームを透過可能であり前記第1の透過領域より大きい第2の透過領域とを有するマスクと、
前記マスクにて整形された前記レーザビームの像を前記積層体に転写する転写光学系と、
を備え、
前記第1のレーザビームは、前記第1の透過領域を透過して前記転写光学系を通過した前記レーザビームであって、
前記第2のレーザビームは、前記第2の透過領域を透過して前記転写光学系を通過した前記レーザビームであることを特徴とする請求項8または9に記載のレーザ加工装置。 - 前記レーザビーム出射部は、
レーザ発振によりレーザビームを出力するレーザ発振器と、
前記レーザビームを収束する集光光学系と、
を備え、
前記第1のレーザビームは、前記積層体から第1の距離の位置にある集光光学系を透過した前記レーザビームであって、
前記第2のレーザビームは、前記第1の距離とは異なる第2の距離の位置へ移動させた前記集光光学系を透過したレーザビームであることを特徴とする請求項8または9に記載のレーザ加工装置。
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