JP2017080796A - 加工樹脂基板の製造方法およびレーザー加工装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施の形態に係る加工樹脂基板の製造方法は、樹脂層と、樹脂層の少なくとも一方の面の一部を被覆する金属層とを有する樹脂基板にレーザー加工により貫通孔を形成して加工樹脂基板を得る方法である。ここで「樹脂基板」とは、レーザー加工前の樹脂基板を意味し、「加工樹脂基板」とはレーザー加工後の樹脂基板を意味する。このようにレーザー加工の前後で樹脂基板の呼称を変えているが、レーザー加工の前後でその物性や組成などが大きく変化することはない。
第1工程では、加工対象物として、樹脂層と、樹脂層の少なくとも一方の面の一部を被覆する金属層とを有する樹脂基板を準備する。樹脂基板は、市販品を購入してもよいし、自ら製造してもよい。樹脂基板は、例えばリジットプリント基板であるが、これに限定されない。
第2工程では、第1工程で準備した樹脂基板の少なくとも一方の面が金属層で被覆された部分にパルスレーザー光を照射して貫通孔を形成する。たとえば、貫通孔(広義)として開口部を形成する場合には、形成しようとする開口部の外縁予定ラインに沿ってパルスレーザー光を走査することを複数周繰り返すことで、貫通孔(開口部)を形成する。このとき、パルスレーザー光は、複数周にわたり走査されることが好ましい。また、樹脂層における熱的損傷の発生を抑制する観点からは、パルスレーザー光は、樹脂基板の金属層が配置されている側から樹脂基板に照射されることが好ましい。この場合、パルスレーザー光は、樹脂層だけでなく金属層にも照射されることとなる。
本実施の形態に係るレーザー加工装置は、本実施の形態に係るレーザー加工方法の第2工程に用いられる装置である。すなわち、本実施の形態に係るレーザー加工装置は、樹脂層と、樹脂層の少なくとも一方の面の一部を被覆する金属層とを有する樹脂基板にパルスレーザー光を照射して貫通孔を形成する装置である。
加工対象物として、その両面に銅層(厚み2〜5μm)が貼られているガラスエポキシ基板(厚み300〜330μm)を準備した。
波長:355nm
パルス幅:2ns
出力:30W
パルスエネルギー:15μJ
繰り返し周波数:2MHz
集光点の位置:表側の銅層の表面から100μm
表側の銅層の表面におけるスポット径:10.5μm
表側の銅層の表面におけるフルエンス:18J/cm2
集光点におけるスポット径:5.6μm
集光点におけるフルエンス:61J/cm2
走査速度:2000mm/s
走査周数:60周
加工対象物として、その両面に銅層(厚み2〜5μm)が貼られているガラスエポキシ基板(厚み300〜330μm)を準備した。
波長:355nm
パルス幅:2ns
出力:30W
パルスエネルギー:15μJ
繰り返し周波数:2MHz
集光点の位置:表側の銅層の表面から100μm
表側の銅層の表面におけるスポット径:10.5μm
表側の銅層の表面におけるフルエンス:18J/cm2
集光点におけるスポット径:5.6μm
集光点におけるフルエンス:61J/cm2
走査速度:2000mm/s
走査周数:60周
加工対象物として、その両面に銅層(厚み2〜5μm)が貼られているガラスエポキシ基板(厚み300〜330μm)を準備した。
波長:355nm
パルス幅:2ns
出力:30W
パルスエネルギー:15μJ
繰り返し周波数:2MHz
集光点の位置:表側の銅層の表面から100μm
表側の銅層の表面におけるスポット径:10.5μm
表側の銅層の表面におけるフルエンス:18J/cm2
集光点におけるスポット径:5.6μm
集光点におけるフルエンス:61J/cm2
走査速度:2000mm/s
走査周数:60周
加工対象物として、その両面に銅層(厚み2〜5μm)が貼られているガラスエポキシ基板(厚み300〜330μm)を準備した。
波長:355nm
パルス幅:2ns
出力:4.98〜30.18W
パルスエネルギー:8.3〜50.3μJ
繰り返し周波数:600kHz
集光点の位置:表側の銅層の表面から100μm
表側の銅層の表面におけるスポット径:10.5μm
表側の銅層の表面におけるフルエンス:10.0〜60.0J/cm2
集光点におけるスポット径:5.6μm
集光点におけるフルエンス:33.7〜204J/cm2
走査速度:600mm/s
走査周数:10周
加工対象物として、その両面に銅層(厚み2〜5μm)が貼られているガラスエポキシ基板(銅層を含めた厚み200μm)を準備した。
波長:1064nm
パルス幅:15ps
出力:12W
パルスエネルギー:60μJ
繰り返し周波数:200kHz
集光点の位置:表側の銅層の表面から70μm
表側の銅層の表面におけるスポット径:9.9μm
表側の銅層の表面におけるフルエンス:78J/cm2
集光点におけるスポット径:5μm
集光点におけるフルエンス:300J/cm2
走査速度:200mm/s
走査周数:30周
110 樹脂層
120 金属層
130 パルスレーザー光
140 開口部(貫通孔)
150 外縁
150’ 外縁予定ライン
160 溝
200 レーザー加工装置
210 レーザー光源
220 テレスコープ光学系
230 ガルバノスキャナー
240 fθレンズ
250 ステージ
260 AFカメラ
270 XYステージコントローラー
280 Zコントローラー
290 コンピューター
Claims (16)
- 樹脂層と、前記樹脂層の少なくとも一方の面の一部を被覆する金属層とを有する樹脂基板を準備する工程と、
前記樹脂基板にパルスレーザー光を照射して、前記樹脂基板に貫通孔を形成する工程と、
を含み、
前記貫通孔を形成する工程において、前記樹脂基板の各点における前記パルスレーザー光の照射間隔は、5ミリ秒以上である、
加工樹脂基板の製造方法。 - 前記金属層は、前記樹脂層の両方の面の一部または全部を被覆している、請求項1に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記貫通孔を形成する工程において、前記パルスレーザー光は、前記貫通孔としての開口部の外縁予定ラインに沿って走査される、請求項1または請求項2に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記貫通孔を形成する工程において、前記パルスレーザー光は、前記貫通孔としての開口部の外縁予定ラインに沿って複数周走査され、
前記外縁予定ライン上の各点における前記パルスレーザー光の周回間の照射間隔は、5ミリ秒以上である、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。 - 前記貫通孔を形成する工程において、前記パルスレーザー光は、前記樹脂基板の前記金属層が配置されている側から前記樹脂基板に照射される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記外縁予定ライン1周あたりの前記パルスレーザー光の走査時間は、5ミリ秒未満であり、
前記パルスレーザー光の照射は、前記外縁予定ライン上の各点における周回間の照射間隔が5ミリ秒以上となるように間欠的に止められる、
請求項4に記載の加工樹脂基板の製造方法。 - 前記貫通孔を形成する工程において、第1開口部および第2開口部を含む複数の開口部が前記貫通孔として形成され、
前記パルスレーザー光は、前記第1開口部の外縁予定ラインに沿って1周照射された後、前記第1開口部の外縁予定ラインに沿ってさらに1周照射される前に、前記第2開口部の外縁予定ラインに沿って1周照射され、
前記第1開口部の外縁予定ライン上の各点における前記パルスレーザー光の周回間の照射間隔は、5ミリ秒以上である、
請求項1〜3のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。 - 前記パルスレーザー光の波長は、250〜2000nmの範囲内であり、
前記パルスレーザー光の出力は、10W以上である、
請求項1〜7のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。 - 前記貫通孔を形成する工程において、前記パルスレーザー光の集光点は、前記樹脂層中に位置し、
前記パルスレーザー光の波長は、355nmであり、
前記パルスレーザー光のパルスエネルギーは、3μJ以上であり、
前記樹脂基板表面における前記パルスレーザー光のフルエンスは、3J/cm2以上であり、
前記集光点における前記パルスレーザー光のフルエンスは、10J/cm2以上である、
請求項1〜8のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。 - 前記パルスレーザー光のパルス幅は、10ピコ秒〜100ナノ秒の範囲内である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記樹脂層を構成する樹脂は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂およびエポキシ変性シリコーン樹脂からなる群から選択される1または2以上の樹脂である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記樹脂層は、ガラス繊維、セラミックス、セラミックス繊維、紙、布、カーボン繊維およびアラミド繊維からなる群から選択される1または2以上の強化材を含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記樹脂層は、ガラスエポキシ基板またはポリカーボネート基板である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記金属層を構成する金属は、銅、銀、金およびアルミニウムからなる群から選択される1または2以上の金属、あるいはこれらの金属を主成分として含む合金である、請求項1〜13のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 前記金属層の厚みは、2〜50μmの範囲内である、請求項1〜14のいずれか一項に記載の加工樹脂基板の製造方法。
- 樹脂基板にパルスレーザー光を照射して貫通孔を形成するレーザー加工装置であって、
パルスレーザー光を出射するレーザー光源と、
樹脂層と、前記樹脂層の少なくとも一方の面の一部を被覆する金属層とを有する樹脂基板を載置するためのステージと、
前記レーザー光源から出射された前記パルスレーザー光を、前記ステージ上に載置された前記樹脂基板に導く光学系と、
前記ステージおよび前記光学系により導かれた前記パルスレーザー光の集光点の少なくとも一方を移動させて、前記ステージ上に載置された前記樹脂基板と前記パルスレーザー光の集光点とを相対的に移動させる走査部と、
前記走査部の動作を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、貫通孔の外縁予定ラインに沿って前記パルスレーザー光が複数周照射され、かつ前記外縁予定ライン上の各点における周回間の照射間隔が5ミリ秒以上となるように前記走査部を制御する、
レーザー加工装置。
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US15/337,513 US11338393B2 (en) | 2015-10-30 | 2016-10-28 | Manufacturing method of processed resin substrate and laser processing apparatus |
US17/723,160 US20220241901A1 (en) | 2015-10-30 | 2022-04-18 | Manufacturing method of processed resin substrate and laser processing apparatus |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019062195A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | 株式会社タムラ製作所 | ソルダーレジスト膜のパターン形成方法、および電子基板の製造方法 |
KR102305651B1 (ko) * | 2021-05-27 | 2021-09-28 | (주)일지테크 | 이종 소재 접합 장치 및 방법 |
US11383321B2 (en) | 2017-06-21 | 2022-07-12 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Laser cutting of metal-ceramic substrates |
WO2023233514A1 (ja) * | 2022-05-31 | 2023-12-07 | 株式会社ニコン | 加工システム |
WO2024043220A1 (ja) * | 2022-08-24 | 2024-02-29 | 株式会社ヨコオ | 照射対象物、方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11524366B2 (en) * | 2018-07-26 | 2022-12-13 | Coherent Munich GmbH & Co. KG | Separation and release of laser-processed brittle material |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006026665A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ穴あけ加工方法 |
JP2006205261A (ja) * | 2006-04-14 | 2006-08-10 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント基板の穴あけ加工装置 |
JP2012061480A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 基板の製造方法 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4504727A (en) * | 1982-12-30 | 1985-03-12 | International Business Machines Corporation | Laser drilling system utilizing photoacoustic feedback |
US5483100A (en) * | 1992-06-02 | 1996-01-09 | Amkor Electronics, Inc. | Integrated circuit package with via interconnections formed in a substrate |
EP0623957B1 (en) * | 1992-11-24 | 1999-02-03 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Lead frame manufacturing method |
US5593606A (en) * | 1994-07-18 | 1997-01-14 | Electro Scientific Industries, Inc. | Ultraviolet laser system and method for forming vias in multi-layered targets |
US6373026B1 (en) * | 1996-07-31 | 2002-04-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser beam machining method for wiring board, laser beam machining apparatus for wiring board, and carbonic acid gas laser oscillator for machining wiring board |
JPH09168877A (ja) | 1995-12-21 | 1997-06-30 | Mitsubishi Electric Corp | 配線基板の加工方法および加工装置 |
US5841102A (en) * | 1996-11-08 | 1998-11-24 | W. L. Gore & Associates, Inc. | Multiple pulse space processing to enhance via entrance formation at 355 nm |
US6037103A (en) * | 1996-12-11 | 2000-03-14 | Nitto Denko Corporation | Method for forming hole in printed board |
JP2000244076A (ja) | 1999-02-19 | 2000-09-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 保護膜付きフレキシブルプリント回路用基板 |
JP3202977B2 (ja) | 1999-10-18 | 2001-08-27 | 日東電工株式会社 | フレキシブル配線板の加工方法およびフレキシブル配線板の固定装置 |
WO2001074529A2 (en) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser system and method for single pass micromachining of multilayer workpieces |
US6676878B2 (en) * | 2001-01-31 | 2004-01-13 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser segmented cutting |
JP4780881B2 (ja) | 2001-09-28 | 2011-09-28 | 京セラ株式会社 | プリプレグシートのレーザによる穿孔方法 |
JP4781635B2 (ja) | 2004-03-30 | 2011-09-28 | 日東電工株式会社 | レーザー加工品の製造方法及びレーザー加工用保護シート |
JP4781634B2 (ja) | 2004-03-30 | 2011-09-28 | 日東電工株式会社 | レーザー加工品の製造方法及びレーザー加工用保護シート |
JP2005186110A (ja) | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Nitto Denko Corp | レーザー加工用保護シート及びこれを用いたレーザー加工品の製造方法 |
JP2005223174A (ja) | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Ube Ind Ltd | 両面回路基板の製造法 |
JP4854059B2 (ja) | 2004-07-27 | 2012-01-11 | 日東電工株式会社 | レーザー加工用保護シートを用いたレーザー加工品の製造方法 |
US7259354B2 (en) * | 2004-08-04 | 2007-08-21 | Electro Scientific Industries, Inc. | Methods for processing holes by moving precisely timed laser pulses in circular and spiral trajectories |
US7528342B2 (en) * | 2005-02-03 | 2009-05-05 | Laserfacturing, Inc. | Method and apparatus for via drilling and selective material removal using an ultrafast pulse laser |
JP2005303322A (ja) | 2005-05-12 | 2005-10-27 | Mitsubishi Electric Corp | 配線基板の加工方法、加工装置およびレーザ加工用ヘッド |
US7605343B2 (en) * | 2006-05-24 | 2009-10-20 | Electro Scientific Industries, Inc. | Micromachining with short-pulsed, solid-state UV laser |
CN101543144B (zh) | 2007-03-14 | 2012-12-05 | 松下电器产业株式会社 | 识别标志以及电路基板的制造方法 |
JP4478184B2 (ja) * | 2008-01-17 | 2010-06-09 | 株式会社レーザーシステム | レーザ割断方法およびレーザ加工装置 |
EP2252426A4 (en) * | 2008-03-21 | 2014-08-06 | Imra America Inc | METHODS AND SYSTEMS FOR LASER MATERIAL PROCESSING |
CN102858489B (zh) | 2010-04-12 | 2014-12-31 | 三菱电机株式会社 | 激光切割方法及激光切割装置 |
WO2012029123A1 (ja) | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 三菱電機株式会社 | レーザー加工方法 |
JP2014130962A (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-10 | Ibiden Co Ltd | キャビティの形成方法、キャビティの形成装置、プログラム、配線板の製造方法、及び配線板 |
JP6433641B2 (ja) | 2013-04-02 | 2018-12-05 | クラリオン株式会社 | 情報表示装置および情報表示方法 |
-
2015
- 2015-10-30 JP JP2015214787A patent/JP6671145B2/ja active Active
-
2016
- 2016-10-28 US US15/337,513 patent/US11338393B2/en active Active
-
2022
- 2022-04-18 US US17/723,160 patent/US20220241901A1/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006026665A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ穴あけ加工方法 |
JP2006205261A (ja) * | 2006-04-14 | 2006-08-10 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント基板の穴あけ加工装置 |
JP2012061480A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 基板の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11383321B2 (en) | 2017-06-21 | 2022-07-12 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Laser cutting of metal-ceramic substrates |
JP2019062195A (ja) * | 2017-09-27 | 2019-04-18 | 株式会社タムラ製作所 | ソルダーレジスト膜のパターン形成方法、および電子基板の製造方法 |
KR102305651B1 (ko) * | 2021-05-27 | 2021-09-28 | (주)일지테크 | 이종 소재 접합 장치 및 방법 |
WO2023233514A1 (ja) * | 2022-05-31 | 2023-12-07 | 株式会社ニコン | 加工システム |
WO2024043220A1 (ja) * | 2022-08-24 | 2024-02-29 | 株式会社ヨコオ | 照射対象物、方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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