JPWO2018199096A1 - 液晶組成物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる液晶組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供することである。本発明の液晶組成物は、繰り返し単位を有する直鎖状の高分子液晶性化合物と、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下となる低分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有する、液晶組成物である。

Description

本発明は、液晶組成物、光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置に関する。

従来、レーザー光および自然光などの照射光の減衰機能、偏光機能、散乱機能、遮光機能などが必要となった際には、それぞれの機能ごとに異なった原理によって作動する装置を利用していた。
そのため、上記の機能に対応する製品も、それぞれの機能別に異なった製造工程によって製造されていた。
例えば、液晶ディスプレイ（liquid crystal display：ＬＣＤ）では、表示における旋光性および複屈折性を制御するために直線偏光板および円偏光板が用いられている。
また、有機発光ダイオード（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）においても、外光の反射防止のために円偏光板が使用されている。

従来、これらの偏光板（偏光素子）には、ヨウ素が二色性物質として広く使用されてきたが、ヨウ素の代わりに有機色素を二色性物質として使用する偏光素子についても検討されている。
例えば、特許文献１には、「少なくとも１種のサーモトロピック液晶性二色性色素、及び少なくとも１種のサーモトロピック液晶性高分子を含有し、上記サーモトロピック液晶性二色性色素の光吸収異方性膜中における質量含有率が３０％以上であることを特徴とする光吸収異方性膜。」が記載されている（［請求項１］）。

特開２０１１−２３７５１３号公報

本発明者らは、特許文献１に記載された光吸収異方性膜について検討したところ、光吸収異方性膜の形成に用いられるサーモトロピック液晶性高分子の種類によっては、二色性物質の配向度の低下に伴って、光吸収異方性膜の配向度が不十分となる場合があり、改善の余地があることを明らかとした。

そこで、本発明は、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる液晶組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、二色性物質とともに配合する液晶性化合物として、化学構造中に繰り返し単位を有する直鎖状の高分子液晶性化合物と、化学構造中に繰り返し単位を有さない所定の低分子液晶性化合物とを併用することにより、配向度が高い光吸収異方性膜を形成できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

［１］ 繰り返し単位を有する直鎖状の高分子液晶性化合物と、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下となる低分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有する、液晶組成物。
［２］ 高分子液晶性化合物が、後述する式（１）で表される繰り返し単位を有する、［１］に記載の液晶組成物。
［３］ 後述する式（１）中のＬ^１が、オキシアルキレン構造である、［２］に記載の液晶組成物。
［４］ 低分子液晶性化合物の融点が２００℃以下である、［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶組成物。
［５］ ［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
［６］ 基材と、基材上に設けられる［５］に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
［７］ さらに、光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、［６］に記載の積層体。
［８］ ［５］に記載の光吸収異方性膜、または、［６］もしくは［７］に記載の積層体を有する、画像表示装置。

本発明によれば、高い配向度の光吸収異方性膜を形成できる液晶組成物、それを用いた光吸収異方性膜、積層体および画像表示装置を提供できる。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、「アクリル酸」および「メタクリル酸」の総称であり、（メタ）アクリロイルとは、「アクリロイル」および「メタクリロイル」の総称である。

［液晶組成物］
本発明の液晶組成物は、繰り返し単位を有する直鎖状の高分子液晶性化合物と、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下となる低分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有する、液晶組成物である。
本発明の液晶組成物によれば、配向度の高い光吸収異方性膜を形成できる。この理由の詳細は明らかではないが、概ね以下のように推定している。
まず、低分子液晶性化合物を配合せずに、高分子液晶性化合物と二色性物質とを完全に相溶させた場合、二色性物質の配向度は、高分子液晶性化合物の配向度と略同等の配向度になると考えられる。
そのため、形成される光吸収異方性膜の配向度が向上する理由は、低分子液晶性化合物の配合により、高分子液晶性化合物に対する二色性物質の相溶性が低下し（すなわち、二色性物質の結晶性が向上し）、その結果、二色性物質の配向度が向上したことに原因があると推察できる。

〔高分子液晶性化合物〕
本発明の液晶組成物は、直鎖状の高分子液晶性化合物を含有する。
ここで、「高分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶性化合物のことをいう。
高分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶性高分子、特開２０１６−４０５５号公報に記載のサーモトロピック液晶性を有する二色性色素ポリマーが挙げられる。
また、高分子液晶性化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基）を有していてもよい。

上記高分子液晶性化合物が有する繰り返し単位としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルにおける繰り返し単位；エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位；プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位；などが挙げられる。
これらのうち、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルにおける繰り返し単位であることが好ましい。

上記高分子液晶性化合物としては、例えば、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」ともいう。）を有する液晶性化合物が好適に挙げられる。

上記式（１）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、Ｍ^１は、後述する式（１−１）で表されるメソゲン基を表し、Ｔ^１は、末端基を表す。

上記式（１）中のＬ^１およびＬ^２が表す２価の連結基について説明する。
２価の連結基としては、例えば、炭素数１〜３０のアルキレン基が挙げられ、アルキレン基を構成する−ＣＨ₂−の１個以上が、−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ｎ−、−（ＣＦ_２）_ｎ−、−Ｓｉ（ＣＨ_２）_ｎ−、−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｎ−、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）_２−Ｃ（Ｚ’）_２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、または、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−で置換されていてもよい。なお、ｎは１〜３の整数を表し、Ｚ、Ｚ’およびＺ”は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。
また、炭素数１〜３０のアルキレン基としては、具体的には、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基などが挙げられる。
また、アルキレン基の炭素数は、１〜１２であることが好ましい。

本発明においては、上記式（１）中のＬ^１が、上述したアルキレン基を構成する−ＣＨ₂−の１個以上が−Ｏ−で置換されたオキシアルキレン構造であることが好ましい。
オキシアルキレン構造としては、例えば、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ１−＊で表されるオキシエチレン構造、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２−＊または＊−（ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ２−＊で表されるオキシプロピレン構造、＊−（ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ３−＊で表されるオキシブチレン構造が挙げられる。なお、ｎ１、ｎ２およびｎ３は、それぞれ独立に１〜２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中の酸素原子またはＭ^１との結合位置を表す。
一方、上記式（１）中のＬ^２は、単結合であることが好ましい。

次に、上記式（１）中のＴ^１が表す末端基について説明する。
末端基としては、具体的には、例えば、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のオキシカルボニル基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数１〜１０のアシルアミノ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルホニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルファモイル基、炭素数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のスルフィニル基、および、炭素数１〜１０のウレイド基などが挙げられる。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。

次に、上記式（１）中のＭ^１、すなわち、下記式（１−１）で表されるメソゲン基について説明する。

上記式（１−１）中、Ａ^１は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群から選択される２価の基を表し、Ｌ^３は、単結合または２価の連結基を表し、ｍは、１〜１０の整数を表し、＊は、Ｌ^１またはＬ^２との結合位置を表す。ｍが２〜１０の整数である場合、複数のＡ^１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ^３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

Ａ^１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。
また、Ａ^１で表される２価の基は、単環であっても、縮環であってもよい。
また、Ａ^１が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、フッ化アルキル基およびアルコキシ基などが挙げられる。

Ａ^１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

Ａ^１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。

Ａ^１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

一方、Ｌ^３が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ_２）_ｇ−、−（ＣＦ_２）_ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−、−（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２）_ｇ−、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）_２−Ｃ（Ｚ’）_２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられ、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。なお、ｇは１〜１０の整数を表し、Ｚ、Ｚ’およびＺ”は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。

Ｍ^１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

繰り返し単位（１）を有する高分子液晶性化合物としては、具体的には、例えば、下記構造式で表される高分子化合物が挙げられる。なお、下記構造式中、Ｒは、水素原子またはメチル基を表す。

上記高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１）を有する場合の繰り返し単位（１）の含有量は、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０〜１００質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましく、４０〜９９．０質量％がさらに好ましい。
本発明において、高分子液晶性化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。

繰り返し単位（１）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。高分子液晶性化合物が繰り返し単位（１）を２種以上含むと、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

繰り返し単位（１）を２種以上含む場合には、Ｔ^１に重合性基を含まない繰り返し単位（１ａ）と、Ｔ^１に重合性基を含む繰り返し単位（１ｂ）と、を併用してもよい。これにより、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。
この場合、高分子液晶性化合物中における、Ｔ^１に重合性基を含まない繰り返し単位（１ａ）に対する、Ｔ^１に重合性基を含む繰り返し単位（１ｂ）の割合（Ｔ^１に重合性基を含む繰り返し単位（１ｂ）／Ｔ^１に重合性基を含まない繰り返し単位（１ａ））が、質量比で０．００５〜４が好ましく、０．０１〜２．４がより好ましい。質量比が４以下であると、光吸収異方性膜の配向度がより向上するという利点がある。質量比が０．０５以上であると、光吸収異方性膜の硬化性がより向上する。

また、上記高分子液晶性化合物は、高分子液晶性化合物の溶媒に対する溶解性、および、液晶相転移温度を調整する観点から、繰り返し単位（１）以外の他の繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（２）」とも略す。）を有していてもよい。
ここで、繰り返し単位（２）としては、メソゲン基を有していない点以外は、上述した繰り返し単位（１）と同じ繰り返し単位が挙げられる。

上記高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２）を有する場合、上記高分子液晶性化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）との共重合体となるが、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

上記高分子液晶性化合物が繰り返し単位（２）を含有する場合の繰り返し単位（２）の含有量は、上記高分子液晶性化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５〜４０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましい。
繰り返し単位（２）は、高分子液晶性化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

＜物性＞
上記高分子液晶性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００〜３０００００が好ましく、２０００〜１０００００がより好ましい。高分子液晶性化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶性化合物の取り扱いが容易になる。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

上記高分子液晶性化合物の液晶性は、ネマチック性およびスメクチック性のいずれを示してもよいが、少なくともネマチック性を示すことが好ましい。
ネマチック相を示す温度範囲は、室温（２３℃）〜４００℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃〜３００℃であることが好ましい。

＜含有量＞
本発明においては、上記高分子液晶性化合物の含有量は、液晶組成物における固形分中の８〜９９質量％となる量であることが好ましく、８〜９６質量％となる量であることがより好ましい。
ここで、「液晶組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記高分子液晶性化合物および後述する低分子液晶性化合物、ならびに、二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。

〔低分子液晶性化合物〕
本発明の液晶組成物は、低分子液晶性化合物を含有する。
ここで、「低分子液晶性化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶性化合物のことをいう。
低分子液晶性化合物としては、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報に記載されている液晶性化合物が挙げられる。

上記低分子液晶性化合物としては、例えば、下記式（２）で表される構造を有する液晶性化合物が好適に挙げられる。

上記式（２）中、Ｔ^１およびＴ^２は、それぞれ独立に末端基を表し、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、Ｍ^１は、下記式（２−１）で表されるメソゲン基を表す。

上記式（２−１）中、Ａ^１は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群から選択される２価の基を表し、Ｌ^３は、単結合または２価の連結基を表し、ｍは、１〜１０の整数を表し、＊は、Ｌ^１またはＬ^２との結合位置を表す。ｍが２〜１０の整数である場合、複数のＡ^１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ^３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

ここで、上記式（２）中のＴ^１およびＴ^２が表す末端基としては、上記式（１）中のＴ^１と同様のものが挙げられる。
また、上記式（２）中のＬ^１およびＬ^２が表す２価の連結基としては、それぞれ独立に、上記式（１）中のＬ^１およびＬ^２と同様のものが挙げられる。
また、上記式（２）中のＭ^１が示すメソゲン基としては、上記式（１）中のＭ１が示すメソゲン基、すなわち、上記式（１−１）で表されるメソゲン基と同様のものが挙げられる。

＜物性＞
上記低分子液晶性化合物は、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下である。
溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下であると、低分子液晶性化合物を配合し、二色性物質の配向度を向上させる際に、可視領域における配向度を低下させることなく、二色性物質の配向度を向上させることができる。
ここで、最大吸収波長は、石英セル（光路長１ｃｍ）中にクロロホルムに溶解させたサンプルを入れ、紫外可視分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、ＳＨＩＭＡＤＺＵ社製）を用い、サンプリングピッチ１ｎｍで２４０〜６００ｎｍの範囲の吸収スペクトルを測定し、求められた最大吸収波長をいう。

上記低分子液晶性化合物の分子量は、１７００未満であることが好ましく、２００〜１５００であることがより好ましく、２００以上１０００未満であることが更に好ましい。
また、上記低分子液晶性化合物の液晶性は特に限定されず、例えば、ネマチック性、スメクチック性などが挙げられる。
また、液晶相を示す温度としては、０℃〜３５０℃であることが好ましく、１０℃〜３００℃であることがより好ましく、２０℃〜２７０℃であることが更に好ましい。特に、液晶相を示す下限温度（以下、本明細書においては「融点」とも略す。）は、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる理由から、２００℃以下であることが好ましい。
ここで、本発明における液晶相転移温度は、光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ ＬＶ１００ＰＯＬ）に二枚の偏光板を吸収軸が垂直になるように配置し、二枚の偏光板の間に、ホットプレート上に置いたサンプルを配置し、光学顕微鏡で観察しながらホットプレートの温度を変えることにより、相転移温度を記録して行う。

＜含有量＞
本発明においては、上記低分子液晶性化合物の含有量は、液晶組成物における固形分中の１〜９０質量％となる量であることが好ましく、５〜８０質量％となる量であることがより好ましい。
また、上記低分子液晶性化合物の含有量は、上記高分子液晶性化合物１００質量部に対して３〜３００質量部であることが好ましく、５〜２００質量部であることがより好ましい。

〔二色性物質〕
本発明の液晶組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、従来公知の二色性色素を使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特願２０１５−００１４２５号公報の［００２２］〜［００８０］段落、特願２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］〜［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］〜［００６２］段落、特願２０１６−０４４９０９号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０４４９１０号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０９５９０７号公報の［００１３］〜［００３７］段落、特願２０１７−０４５２９６号公報の［００１４］〜［００３４］段落などに記載された二色性色素が挙げられる。

本発明においては、光吸収異方性膜の配向度がより高くなる理由から、二色性物質が、下記式（３）で表される構造を有する化合物（以下、「特定２色性色素化合物」ともいう。）であることが好ましい。

式（３）中、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。ただし、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基を表す。
Ｌ^４およびＬ^５は、それぞれ独立に、置換基を表す。

上記式（３）中、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」について説明する。
上記置換基としては、例えば、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２３７］〜［０２４０］段落に記載された置換基群Ｇが挙げられ、中でも、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、４−メチルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボニルなど）等が好適に挙げられ、アルキル基がより好適に挙げられ、炭素数１〜５のアルキル基がさらに好適に挙げられる。
２価の芳香族基としては、例えば、２価の芳香族炭化水素基および２価の芳香族複素環基が挙げられる。
上記２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、炭素数６〜１２のアリーレン基が挙げられ、具体的には、フェニレン基、クメニレン基、メシチレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙げられる。中でもフェニレン基が好ましい。
また、上記２価の芳香族複素環基としては、単環または２環性の複素環由来の基が好ましい。芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。芳香族複素環基としては、具体的には、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基（本発明において、「チエノチアゾール基」という。）等が挙げられる。
上記２価の芳香族基の中でも、２価の芳香族炭化水素基が好ましい。

ここで、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４のうちいずれか１つが、置換基を有していてもよい２価のチエノチアゾール基である。２価のチエノチアゾール基の置換基の具体例は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じである。
Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４のうち、Ａ^３が２価のチエノチアゾール基であることが好ましい。この場合には、Ａ^２およびＡ^３は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
Ａ^３が２価のチエノチアゾール基である場合には、Ａ^２およびＡ^３の少なくとも一方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、Ａ^２およびＡ^３の両方が置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基であることが好ましい。

上記式（３）中、Ｌ^４およびＬ^５が表す「置換基」について説明する。
上記置換基としては、アゾ化合物の溶解性やネマティック液晶性を高めるために導入される基、色素としての色調を調節するために導入される電子供与性や電子吸引性を有する基、または、配向を固定化するために導入される架橋性基（重合性基）を有する基が好ましい。
例えば、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ｎ-オクチル基、ｎ-デシル基、ｎ-ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２-ブテニル基、３-ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３-ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、２，６-ジエチルフェニル基、３，５-ジトリフルオロメチルフェニル基、スチリル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１５であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１５、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは２〜６であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０、特に好ましくは炭素数２〜６であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０、特に好ましくは炭素数１〜６であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、アゾ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｌ^４およびＬ^５が表す置換基として好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアシルアミノ基、置換基を有していてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルホニルアミノ基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいカルバモイル基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいスルホニル基、置換基を有していてもよいウレイド基、ニトロ基、ヒドロキシ基、シアノ基、イミノ基、アゾ基、ハロゲン原子、および、ヘテロ環基であり、より好ましくは、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいオキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、ニトロ基、イミノ基、および、アゾ基である。

Ｌ^４およびＬ^５の少なくとも一方は、架橋性基（重合性基）を含むことが好ましく、Ｌ^４およびＬ^５の両方に架橋性基を含むことがより好ましい。これにより、光吸収異方性膜の２色比をより向上できたりする。また、２色性色素化合物自体の硬化を促進できるので、光吸収異方性膜の硬化性および耐久性を向上できるという利点がある。
架橋性基としては、具体的には、特開２０１０−２４４０３８号公報の［００４０］〜［００５０］段落に記載された重合性基が挙げられ、反応性および合成適性の観点から、アクリロイル基、メタクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基が好ましい。

Ｌ^４およびＬ^５の好適な態様としては、上記架橋性基で置換されたアルキル基、上記架橋性基で置換されたジアルキルアミノ基、および、上記架橋性基で置換されたアルコキシ基が挙げられる。

上記式（３）で表される構造は、２色比が向上するという観点から、下記式（４）で表される構造であることが好ましい。

上記式（４）中、Ａ^５は、置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表す。
上記式（４）中、Ｌ^６およびＬ^７は、それぞれ独立に、置換基を表す。
上記式（４）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表す。
上記式（４）中、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表す。
上記式（４）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
上記式（４）中、Ｒ^４は、水素原子または置換基を表す。
上記式（４）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

上記式（４）中、Ａ^５が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」の具体例および好適態様は、上述した式（３）中のＡ^１〜Ａ^３が表す「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」と同様である。
Ａ^５の特に好ましい態様としては、フェニレン基である。

上記式（４）中、Ｌ^６およびＬ^７が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した式（３）中のＬ^４およびＬ^５が表す「置換基」と同様である。
Ｌ^６およびＬ^７のより好適な態様としては、Ｌ^６およびＬ^７の少なくとも一方が架橋性基を含むことであり、さらに好適な態様としては、Ｌ^６およびＬ^７の両方が架橋性基を含むことである。これにより、光吸収異方性膜の２色比をより向上できたりする。また、２色性色素化合物自体の硬化を促進できるので、光吸収異方性膜の硬化性および耐久性を向上できるという利点がある。
また、Ｌ^６およびＬ^７の架橋性基のより好適な態様としては、アクリロイル基またはメタクリロイル基である。

上記式（４）中、Ｅは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかの原子を表し、合成適性の観点から、窒素原子であることが好ましい。
また、特定２色性色素化合物を短波長側に吸収を持つもの（例えば、５００〜５３０ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、酸素原子であることが好ましい。
一方、特定２色性色素化合物を長波長側に吸収を持つもの（例えば、６００ｎｍ付近に極大吸収波長を持つもの）にすることが容易になるという観点からは、上記式（１）におけるＥは、窒素原子であることが好ましい。

上記式（４）中、Ｒ^２は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基および置換基を有していてもよいアルコキシ基のいずれかの基または原子を表し、水素原子または置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。
次に、Ｒ^２が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」および「置換基を有していてもよいアルコキシ基」について説明する。
置換基としては、例えば、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１〜８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が挙げられる。中でも、炭素数１〜６の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基またはエチル基がさらに好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられる。中でも、炭素数１〜６のアルコキシ基であることが好ましく、炭素数１〜３のアルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であることがさらに好ましい。

上記式（４）中、Ｒ^３は、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましい。
Ｒ^３が表す「置換基を有していてもよいアルキル基」の具体例および好適態様は、上述した式（４）のＲ^２における「置換基を有していてもよいアルキル基」と同様であるので、その説明を省略する。
なお、Ｒ^３は、Ｅが窒素原子である場合に式（４）中で存在する基となる（すなわち、ｎ＝１の場合を意味する）。一方で、Ｒ^３は、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合、式（４）中で存在しない基となる（すなわち、ｎ＝０の場合を意味する）。

上記式（４）中、Ｒ^４は、水素原子または置換基を表す。
Ｒ^４が表す「置換基」の具体例および好適態様は、上述した「置換基を有していてもよい２価の芳香族基」における置換基と同じであり、好ましい態様も同じであるので、その説明を省略する。

上記式（４）中、ｎは、０または１を表す。ただし、Ｅが窒素原子である場合には、ｎは１であり、Ｅが酸素原子または硫黄原子である場合には、ｎは０である。

本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、光吸収異方性膜を黒色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物とを併用することが好ましい。

本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、二色性物質が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

＜含有量＞
本発明においては、上記二色性物質の含有量は、液晶組成物における固形分中の２〜９０質量％となる量であることが好ましく、３〜８０質量％となる量であることがより好ましい。
また、上記二色性物質の含有量は、光吸収異方性膜の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、上記高分子液晶性化合物１００質量部に対して、２〜４００質量部であることが好ましく、３〜３００質量部であることがより好ましく、４〜２００質量部であることがさらに好ましい。

〔重合開始剤〕
本発明に用いられる液晶組成物は、重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）などが挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア（以下、「Ｉｒｇ」とも略す。）−１８４、イルガキュア−９０７、イルガキュア−３６９、イルガキュア−６５１、イルガキュア−８１９、イルガキュア−ＯＸＥ−０１およびイルガキュア−ＯＸＥ−０２等が挙げられる。
本発明の液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物と上記低分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．１〜３０質量部が好ましく、０．３〜３０質量部がより好ましく、０．５〜２０質量部が更に好ましい。重合開始剤の含有量が０．１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより良好となる。

〔溶媒〕
本発明の液晶組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、本発明の溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノン、シクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピラン、ジオキソラン）、および、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン）が好ましい。
本発明の液晶組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、液晶組成物の全質量に対して、８０〜９９質量％が好ましく、８３〜９８質量％がより好ましく、８５〜９６質量％がさらに好ましい。

〔界面改良剤〕
本発明の液晶組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度が更に向上したり、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性が向上したりする効果が見込まれる。
界面改良剤としては、高分子液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
本発明の液晶組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、液晶組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部が好ましい。

［光吸収異方性膜］
本発明の光吸収異方性膜は、上述した本発明の液晶組成物を用いて形成される光吸収異方性膜である。
本発明の光吸収異方性膜の製造方法の一例としては、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
以下、本発明の光吸収異方性膜を作製する製造方法の各工程について説明する。

〔塗布膜形成工程〕
塗布膜形成工程は、上記液晶組成物を基材上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
上述した溶媒を含有する液晶組成物を用いたり、液晶組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、基材上に液晶組成物を塗布することが容易になる。
液晶組成物の塗布方法としては、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
本態様では、液晶組成物が基材上に塗布されている例を示したが、これに限定されず、例えば、基材上に設けられた配向膜上に液晶組成物を塗布してもよい。基材および配向膜の詳細については後述する。

〔配向工程〕
配向工程は、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性膜が得られる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、液晶組成物に含まれる二色性物質は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、液晶組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。

配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
加熱処理は、製造適性などの面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。

配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる二色性物質の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
なお、本態様では、塗布膜に含まれる二色性物質を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

〔他の工程〕
光吸収異方性膜の製造方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって光吸収異方性膜の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。

光吸収異方性膜の膜厚は、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．３〜１．５μｍであることがより好ましい。液晶組成物中の二色性物質の濃度によるが、膜厚が０．１μｍ以上であると、優れた吸光度の光吸収異方性膜が得られ、膜厚が５．０μｍ以下であると、優れた透過率の光吸収異方性膜が得られる。

［積層体］
本発明の積層体は、基材と、基材上に設けられる本発明の光吸収異方性膜とを有する。
また、本発明の積層体は、上記光吸収異方性膜上に、λ／４板を有していてもよい。
さらに、本発明の積層体は、上記基材と上記光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。

〔基材〕
基材としては、光吸収異方性膜の用途に応じて選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２−２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。

〔光吸収異方性膜〕
光吸収異方性膜については、上述した通りであるので、その説明を省略する。

〔λ／４板〕
「λ／４板」とは、λ／４機能を有する板であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。
例えば、λ／４板が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４板が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板が挙げられる。
λ／４板と光吸収異方性膜とは、接して設けられていてもよいし、λ／４板と光吸収異方性膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層が挙げられる。

〔配向膜〕
本発明の積層体は、基材と光吸収異方性膜との間に、配向膜を有していてもよい。
配向膜は、配向膜上において本発明の液晶組成物に含まれる二色性物質を所望の配向状態とすることができるのであれば、どのような層でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性の点からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。

＜ラビング処理配向膜＞
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。

＜光配向膜＞
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。より好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、または、エステルである。

上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。

光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。

直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、２色色素偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。

照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°がさらに好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。

パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。

〔用途〕
本発明の積層体は、偏光素子（偏光板）として使用でき、例えば、直線偏光板または円偏光板として使用できる。
本発明の積層体が上記λ／４板などの光学異方性層を有さない場合には、積層体は直線偏光板として使用できる。
一方、本発明の積層体が上記λ／４板を有する場合には、積層体は円偏光板として使用できる。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、上述した光吸収異方性膜または上述した積層体を有する。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、および、プラズマディスプレイパネルなどが挙げられる。
これらのうち、液晶セルまたは有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置としては、上述した光吸収異方性膜と、液晶セルと、を有する態様が好ましく挙げられる。より好適には、上述した積層体（ただし、λ／４板を含まない）と、液晶セルと、を有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる光吸収異方性膜（積層体）のうち、フロント側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのが好ましく、フロント側およびリア側の偏光素子として本発明の光吸収異方性膜（積層体）を用いるのがより好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。

〔有機ＥＬ表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である有機ＥＬ表示装置としては、例えば、視認側から、光吸収異方性膜と、λ／４板と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順で有する態様が好適に挙げられる。
より好適には、視認側から、λ／４板を有する上述した積層体と、有機ＥＬ表示パネルと、をこの順に有する態様である。この場合には、積層体は、視認側から、基材、必要に応じて設けられる配向膜、光吸収異方性膜、および、λ／４板の順に配置されている。
また、有機ＥＬ表示パネルは、電極間（陰極および陽極間）に有機発光層（有機エレクトロルミネッセンス層）を挟持してなる有機ＥＬ素子を用いて構成された表示パネルである。有機ＥＬ表示パネルの構成は特に制限されず、公知の構成が採用される。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容および処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［合成例１］
〔高分子液晶性化合物Ｐ１の合成〕
下記ステップ１〜３に従い、高分子液晶性化合物Ｐ１を合成した。

＜ステップ１＞
４−（２−ヒドロキシエチル）アニリン２０ｇを、濃塩酸３７ｍＬおよび水３００ｍＬに溶解させ、外設０℃で３０分撹拌した。外設０℃で内温を１０℃以下に維持して、亜硝酸ナトリウム１０．４ｇを水８０ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。内温１０℃以下で２０分撹拌し、ジアゾニウム溶液を調製した。
また、水酸化ナトリウム１８．６ｇを水５００ｍＬに溶解させ、ｏ−メチルフェノール１６．２ｇを滴下し、外設０℃で１０分撹拌し、カプラー溶液を調製した。
次いで、調製したカプラー溶液に、上記で調製したジアゾニウム溶液を、内温１０℃以下を維持して滴下した。滴下終了後、室温で１時間撹拌した。
次いで、希塩酸水を用いてｐＨが８〜９になるまで中和し、固体を析出させた。析出した固体を濾別し、水で洗浄後、４０℃で乾燥し、黄色固体Ｐ１−Ａを３５ｇ得た。

＜ステップ２＞
３５ｇのアクリレート原料Ｂをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４００ｍＬに溶解させ、メタンスルホニルクロライド１０．６６ｇを添加した。外設０℃で５分撹拌し、内温１０℃以下を維持して、ジイソプロピルエチルアミン１２．０３ｇを滴下した。内温１０℃以下で３０分撹拌し、アクリレート原料溶液を調製した。
次いで、ｔ−ブトキシカリウム１１．３６ｇとＴＨＦ２００ｍＬを外設０℃で撹拌し、内温１０℃以下を維持して、ＴＨＦ２００ｍＬに黄色固体Ｐ１−Ａを１９．８８ｇ溶解させた溶液を、滴下した。反応液を室温で１時間撹拌後、メタノール１００ｍＬと水１０００ｍＬを加えて晶析した。得られた固体を、外設８０℃で酢酸エチル５００ｍＬに溶解させ、ｎ−ヘキサン５５０ｍＬを加え、室温まで降温することで、固体を析出させた。得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し、室温で乾燥することで、黄色固体Ｐ１−Ｂを３２ｇ得た。

＜ステップ３＞
３１．１３ｇの黄色固体Ｐ１−Ｂをジメチルアセトアミド１２５ｍＬに溶解させ、窒素を流しながら１時間撹拌した。外設９０℃で加熱し、重合開始剤Ｖ−６０１を０．５２ｇのジメチルアセトアミド１０ｍＬ溶液を添加し、２時間加熱した。重合開始剤の添加と外設９０℃での２時間加熱を２回繰り返し、黄色固体Ｐ１−Ｂを重合させた。反応終了後、反応液を１００℃で２時間加熱した。その後、内温を６０℃まで下げ、ジメチルアセトアミド１２５ｍＬを添加した。
次いで、反応液を外設０℃で冷却し、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．２ｇを添加し、内温１５℃以下を維持してアクリル酸クロライド４５．６ｇを滴下した。室温で２時間反応後、酢酸エチル５００ｍＬを添加し、メタノール２０００ｍＬに滴下してポリマー固体を析出させた。濾別したポリマー固体をメタノールで洗浄し、室温で乾燥し、黄色固体の高分子化合物Ｐ１を３１．６ｇ得た。得られた高分子液晶性化合物Ｐ１をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は９０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は１９０００（いずれもポリスチレン換算）であった。

［合成例２］
〔高分子液晶性化合物Ｐ２の合成〕
下記ステップ１〜３に従い、高分子液晶性化合物Ｐ２を合成した。

＜ステップ１＞
原料の４−（２−ヒドロキシエチル）アニリンを４−プロピルアニリンに変更した以外は、黄色固体Ｐ１−Ａの合成と同様の方法で、黄色固体Ｐ２−Ａを合成した。

＜ステップ２＞
原料の黄色固体Ｐ１−Ａを黄色固体Ｐ２−Ａに変更した以外は、黄色固体Ｐ１−Ｂの合成と同じ方法で、黄色固体Ｐ２−Ｂを合成した。

＜ステップ３＞
３０ｇの黄色固体Ｐ２−Ｂを、ジメチルアセトアミド１２０ｍＬに溶解させ、窒素を流しながら１時間撹拌した。外設９０℃で加熱し、重合開始剤Ｖ−６０１を０．６０のジメチルアセトアミド１０ｍＬ溶液を添加し、２時間加熱した。重合開始剤の添加と外設９０℃での２時間加熱を２回繰り返し、黄色固体Ｐ２−Ｂを重合させた。反応終了後、１００℃で２時間加熱した。その後、内温を６０℃まで下げ、酢酸エチル１５０ｍＬを添加し、メタノール２０００ｍＬに滴下してポリマー固体を析出させた。濾別したポリマー固体をメタノールで洗浄し、室温で乾燥し、黄色固体の高分子液晶性化合物Ｐ２を２９ｇ得た。得られた高分子液晶性化合物Ｐ２をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、数平均分子量（Ｍｎ）は６６００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４０００（いずれもポリスチレン換算）であった。

［合成例３］
〔高分子液晶性化合物Ｐ３の合成〕
下記ステップ１〜３に従い、高分子液晶性化合物Ｐ３を合成した。

＜ステップ１＞
２−クロロエトキシエトキシエタノール（１４．０５ｇ）のジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液（６０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１００ｍｇ）を加え、氷冷下においてアクリル酸クロリド（７．５４ｇ）、および、トリエチルアミン（８．８９ｇ）を滴下した。１時間攪拌した後、反応液を濾過した。次に、炭酸カリウム（１５．７ｇ）、ヨウ化カリウム（０．５７ｇ）、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド（９．２５ｇ）、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（１００ｍｇ）を添加し、１１０℃にて４時間攪拌した後、酢酸エチルと水を加え、分液操作により反応液を洗浄した。さらに、反応液をエバポレーターにより濃縮した後、室温に戻して２５ｍＬのアセトニトリル、２．３６ｇのリン酸二水素ナトリウム二水和物を８ｍＬの水に溶解したリン酸緩衝液、および１１．２ｍＬの過酸化水素水（３０質量％）を添加し、続けて３３．４ｇの２５質量％亜塩素酸ナトリウム水溶液を添加した。６時間室温で攪拌して８時間静置した後、水を加え、得られた沈殿を集め、白色固体の化合物Ｐ３−Ａを１６．９ｇ（収率６９％）得た。

＜ステップ２＞
メタンスルホニルクロリド（ＭｓＣｌ）（７３．４ｍｍｏｌ,５．７ｍＬ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液（７０ｍＬ）にジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（２００ｍｇ）を加え、内温を−５℃まで冷却した。そこに、化合物Ｐ３−Ａ（６６．７ｍｍｏｌ，２１．６ｇ）とジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）のＴＨＦ溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。−５℃で３０分撹拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（２００ｍｇ）を加え、ジイソプロピルエチルアミン（７５．６ｍｍｏｌ,１３．０ｍＬ）と、４−ヒドロキシ−４’−メトキシビフェニル（６０．６ｍｍｏｌ，１２．１ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）およびジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）溶液を内温が０℃以上に上昇しないように滴下した。その後、室温で４時間撹拌した。メタノール（５ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。酢酸エチルで抽出した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、酢酸エチルおよびヘキサンを用いたカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、白色固体である化合物Ｐ３−Ｂ１８．７ｇ（収率６１％）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．６５−３．８２（ｍ，６Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．８５−３．９５（ｍ，２Ｈ），４．１８−４．２８（ｍ，２Ｈ），４．２８−４．４０（ｍ，２Ｈ），５．８２（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４５−７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０−８．２０（ｍ，２Ｈ）

＜ステップ３＞
化合物（Ｐ３−Ｂ）（１．０ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオン酸）ジメチル（０．５４ｍｍｏｌ，０．１２ｇ）（商品名「Ｖ−６０１」、和光純薬社製）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である高分子液晶性化合物Ｐ３を０．９５ｇ得た。得られた高分子液晶性化合物Ｐ３をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１００００（ポリスチレン換算）であった。

［合成例４］
〔高分子液晶性化合物Ｐ４の合成〕
下記ステップ１〜３に従い、高分子液晶性化合物Ｐ４を合成した。

＜ステップ１＞
水酸化ナトリウム（３４．２ｇ）を１Ｌの水に溶解させ、窒素雰囲気下で、４，４’−ジヒドロキシビフェニル（４０．６ｇ）およびブロモエタノール（３７．２ｇ）を添加し、９５℃で１０時間攪拌した。
その後、室温まで冷却し、濃塩酸を加えて反応系を酸性に調整してから濾過および乾燥を行い、化合物Ｐ４−Ａを含む白色固体を得た。
得られた白色固体を４００ｍＬのジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）に溶解させ、氷冷下、３−クロロプロピオニルクロリド（６２．０ｇ）を滴下し、５時間攪拌した。メタノール（４０ｍＬ）を加えて反応を停止した後に、水と酢酸エチルを加えた。
分液操作により洗浄した有機層を、ロータリーエバポレーターで溶媒除去し、得られた濃縮物にクロロホルムを加えた。析出した固体を濾過により取り除いた後、ロータリーエバポレーターで溶媒除去をし、酢酸エチル／クロロホルムを用いたカラムクロマトグラフィーによるに精製を行い、白色固体である化合物Ｐ４−Ａを２０．３ｇ（収率２９％）得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ（ｐｐｍ）：２．８０−２．９０（ｔ，２Ｈ），３．７５−３．８５（ｔ，２Ｈ），４．１５−４．２５（ｍ，２Ｈ），４．３５−４．４５（ｍ，２Ｈ），６．７５−６．８５（ｍ，２Ｈ），６．９０−７．００（ｍ，２Ｈ），７．３０−７．５０（ｍ，４Ｈ），９．４０（ｂｒ ｓ，１Ｈ）

＜ステップ２＞
化合物Ｐ４−Ａ４．０ｇと、合成例３で調製した化合物Ｐ３−Ａ８．０８ｇと、ジクロロメタン１００ｍＬとを混合し、室温で撹拌した。混合物に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１５２ｍｇ、および、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ）９．５６ｇを加え、室温で１２時間撹拌した。
その後、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、メタノール１２０ｍＬと１Ｍ、塩酸水１２０ｍＬを加えて濾過を行い、白色固体を得た。得られた白色固体を酢酸エチルと水を加えて分液を行い、集めた有機層を１Ｎ塩酸水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾別して、ロータリーエバポレーターで溶媒を除去し、シリカゲルクロマトグラフィによる精製を行うことで化合物Ｐ４−Ｂを５．４ｇ得た（収率６９％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：２．８７（ｔ，２Ｈ）、３．６８−３．８２（ｍ，８Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），４．１８−４．２８（ｍ，４Ｈ），４．２８−４．３８（ｍ，２Ｈ），４．４６−４．５４（ｍ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１６（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），６．９０−７．０５（ｍ，４Ｈ），７．２０−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．４８−７．６５（ｍ，４Ｈ），８．１０−８．２０（ｍ，２Ｈ）

＜ステップ３＞
化合物Ｐ３−Ｂ（０．８ｇ）および化合物Ｐ４−Ｂ（０．２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（３．３ｍＬ）を、内温が８０℃まで加熱した。そこに、２，２’-アゾビス（２―メチルプロピオン酸）ジメチル（０．５４ｍｍｏｌ，０．１２ｇ）のＤＭＡｃ溶液（０．５ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて重合性基の消失を確認し、室温まで冷却した。メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である化合物Ｐ４−Ｃを０．９０ｇ得た。得られた化合物Ｐ４−Ｃのクロロホルム溶液（７ｍＬ）に、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）（５０ｍｇ）、および、トリエチルアミン（０．７ｍｌ）を加え、内温を５０℃まで加熱した。５０℃で９時間撹拌した後、^１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定にて原料の消失を確認し、室温へと冷却した。そこに、メタノールを加えてろ過を行い、残渣をメタノールで洗浄することで白色固体である高分子液晶性化合物Ｐ４を０．８ｇ得た。得られた高分子液晶性化合物Ｐ４をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００（ポリスチレン換算）であった。

［合成例５］
〔高分子液晶性化合物Ｐ５の合成〕
下記ステップ１および２に従い、高分子液晶性化合物Ｐ５を合成した。

＜ステップ１＞
４−ヒドロキシ−４’−メトキシビフェニルの代わりに、４−ヒドロキシ−４’−シアノビフェニルを用いた以外は、化合物Ｐ３−Ｂと同様の方法で、化合物Ｐ５−Ｂを合成した。なお、分子量に応じて４−ヒドロキシ−４’−シアノビフェニの量は適宜調整した。

＜ステップ２＞
モノマーとして、化合物Ｐ３−Ｂと化合物Ｐ５−Ｂを用いる以外は、高分子液晶性化合物Ｐ３と同様の方法で重合を行い、高分子液晶性化合物Ｐ５を合成した。なお、組成比に応じて化合物Ｐ３−Ｂおよび化合物Ｐ５−Ｂの量は適宜調整した。得られた高分子液晶性化合物Ｐ５をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１３０００（ポリスチレン換算）であった。

［合成例６］
〔高分子液晶性化合物Ｐ６の合成〕
下記ステップ１および２に従い、高分子液晶性化合物Ｐ６を合成した。

＜ステップ１＞
４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸エチルは、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００２，３５，１６６３−１６７１に記載の方法で合成した。
４−ヒドロキシ−４’−メトキシビフェニルの代わりに、４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸エチルを用いた以外は、化合物Ｐ３−Ｂと同様の方法で、化合物Ｐ６−Ｂを合成した。なお、分子量に応じて４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸エチルの量は適宜調整した。

＜ステップ２＞
モノマーとして、化合物Ｐ３−Ｂと化合物Ｐ６−Ｂを用いる以外は、高分子液晶性化合物Ｐ３と同様の方法で重合を行い、高分子液晶性化合物Ｐ６を合成した。なお、組成比に応じて化合物Ｐ３−Ｂおよび化合物Ｐ６−Ｂの量は適宜調整した。得られた高分子液晶性化合物Ｐ６をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１５０００（ポリスチレン換算）であった。

［合成例７］
〔高分子液晶性化合物Ｐ７の合成〕
下記ステップ１および２に従い、高分子液晶性化合物Ｐ７を合成した。

＜ステップ１＞
４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸メチルは、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００２，３５，１６６３−１６７１に記載の方法で合成した。
４−ヒドロキシ−４’−メトキシビフェニルの代わりに、４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸メチルを用いた以外は、化合物Ｐ３−Ｂと同様の方法で、化合物Ｐ７−Ｂを合成した。なお、分子量に応じて４−（４−ヒドロキシフェニル）安息香酸メチルの量は適宜調整した。

＜ステップ２＞
モノマーとして、化合物Ｐ３−Ｂと化合物Ｐ７−Ｂを用いる以外は、高分子液晶性化合物Ｐ３と同様の方法で重合を行い、高分子液晶性化合物Ｐ７を合成した。組成比に応じて化合物Ｐ３−Ｂおよび化合物Ｐ７−Ｂの量は適宜調整した。得られた高分子液晶性化合物Ｐ７をゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）で分析したところ、重量平均分子量（Ｍｗ）は１４０００（ポリスチレン換算）であった。

〔低分子液晶性化合物など〕
下記表１および表２の低分子液晶性化合物等一覧に示す化合物Ｌ１〜Ｌ２０を用意した。
なお、これらの化合物のうち、液晶性を示し、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下となる低分子液晶性化合物は、下記表１に示す通り、化合物Ｌ１〜Ｌ１５である。

［実施例１］
〔配向膜の作製〕
ガラス基材（セントラル硝子社製、青板ガラス、サイズ３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚み１．１ｍｍ）をアルカリ洗剤で洗浄し、次いで純水を注いだ後、ガラス基材を乾燥させた。
下記の配向膜形成用組成物１を＃４のバーを用いて乾燥後のガラス基材上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物１を８０℃で１５分間乾燥後、２５０℃で１時間加熱して、ガラス基材上に塗布膜を形成した。
得られた塗布膜にラビング処理（１０００回転、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、ガラス基材上に配向膜１（下記表２においては「ＰＩ」と表記する。）を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用組成物１の組成
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・ＳＥ−１３０（製品名、日産化学社製） ２．０質量部
・Ｎ−メチルピロリドン ９８．０質量部
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〔光吸収異方性膜の作製〕
得られた配向膜１上に、下記の液晶組成物１を１０００回転でスピンコートして、塗布膜を形成した。
塗布膜を室温で３０秒間乾燥させた後、さらに１５０℃で１５秒間加熱した。
次いで、塗布膜を室温になるまで冷却した後、８０℃で１分間加熱することにより、配向膜１上に光吸収異方性膜１を作製した。

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液晶組成物１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶性化合物Ｐ１ ２．８６質量部
・下記２色性色素化合物Ｄ１ ０．９４質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ１ １．１４質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０４質量部
・下記界面改良剤Ｆ１ ０．０２質量部
・クロロホルム ９５．００質量部
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［実施例２］
〔配向膜の作製〕
ガラス基材（セントラル硝子社製、青板ガラス、サイズ３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚み１．１ｍｍ）をアルカリ洗剤で洗浄し、次いで純水を注いだ後、ガラス基材を乾燥させた。
下記の配向膜形成用組成物２を＃１２のバーを用いて乾燥後のガラス基材上に塗布し、塗布した配向膜形成用組成物２を１１０℃で２分間乾燥して、ガラス基材上に塗布膜を形成した。
得られた塗布膜にラビング処理（ローラーの回転数：１０００回転／スペーサー厚２．９ｍｍ、ステージ速度１．８ｍ／分）を１回施して、ガラス基材上に配向膜２（下記表２においては「ＰＶＡ」と表記する。）を作製した。

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配向膜形成用組成物２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記変性ビニルアルコール ２．００質量部
・水 ７４．０８質量部
・メタノール ２３．８６質量部
・光重合開始剤
（ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９５９、ＢＡＳＦ社製） ０．０６質量部
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（変性ポリビニルアルコール）
（式中、繰り返し単位に付された数値は、各繰り返し単位のモル比率を表す。）

〔光吸収異方性膜の作製〕
得られた配向膜２上に、下記の液晶組成物２を１０００回転でスピンコートして、塗布膜を形成した。
塗布膜を室温で３０秒間乾燥させた後、さらに１５０℃で１５秒間加熱した。
次いで、塗布膜を室温になるまで冷却した後、８０℃で１分間加熱することにより、配向膜２上に光吸収異方性膜２を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記高分子液晶性化合物Ｐ１ １．５４質量部
・上記２色性色素化合物Ｄ１ ０．５１質量部
・上記低分子液晶性化合物Ｌ２ ２．３２質量部
・重合開始剤Ｉｒｇ−８１９（ＢＡＳＦ社製） ０．０２質量部
・上記界面改良剤Ｆ１ ０．０２質量部
・クロロホルム ９５．６０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

［実施例３〜２４、比較例１〜６］
液晶組成物における高分子液晶性化合物、二色性物質、低分子液晶性化合物、重合開始剤、界面改良剤および溶媒の種類または含有量を下記表２に示すように変更した以外は、実施例１または実施例２と同様の方法で、配向膜上に光吸収異方性膜を作製した。
また、二色性物質Ｄ２〜Ｄ６の構造式を以下に示す。

［評価］
＜配向度＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ Ｅ６００ ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に実施例および比較例の各光吸収異方性膜をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて下記表２に記載の波長域における光吸収異方性膜の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記表３〜表７に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）−１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光吸収異方性膜の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光吸収異方性膜の偏光軸方向の偏光に対する吸光度

表３〜表７に示す結果から、低分子液晶性化合物を配合せずに調製した液晶組成物を用いると、得られる光吸収異方性膜の配向度が劣ることが示された（比較例１）。
また、低分子液晶性化合物に代えて、液晶性を有しない重合性化合物を配合して調製した液晶組成物を用いると、得られる光吸収異方性膜の配向度が比較例１よりも劣ることが示された（比較例２〜６）。
これに対して、高分子液晶性化合物とともに、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下となる低分子液晶性化合物を配合して調製した液晶組成物を用いると、得られる光吸収異方性膜の配向度が向上することが示された（実施例１〜２４）。
特に、実施例６、７、１１および１４の結果から、液晶相を示す上限温度、すなわち、融点が２００℃以下であると、光吸収異方性膜の配向度がより高くなることが分かった。

Claims (8)

1. 繰り返し単位を有する直鎖状の高分子液晶性化合物と、溶液における最大吸収波長が３９０ｎｍ以下となる低分子液晶性化合物と、二色性物質と、を含有する、液晶組成物。
2. 前記高分子液晶性化合物が、下記式（１）で表される繰り返し単位を有する、請求項１に記載の液晶組成物。
   前記式（１）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に単結合または２価の連結基を表し、Ｍ^１は、下記式（１−１）で表されるメソゲン基を表し、Ｔ^１は、末端基を表す。
   前記式（１−１）中、Ａ^１は、置換基を有していてもよい、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群から選択される２価の基を表し、Ｌ^３は、単結合または２価の連結基を表し、ｍは、１〜１０の整数を表し、＊は、Ｌ^１またはＬ^２との結合位置を表す。ｍが２〜１０の整数である場合、複数のＡ^１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、複数のＬ^３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
3. 前記式（１）中のＬ^１が、オキシアルキレン構造である、請求項２に記載の液晶組成物。
4. 前記低分子液晶性化合物の融点が２００℃以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶組成物。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて形成される、光吸収異方性膜。
6. 基材と、前記基材上に設けられる請求項５に記載の光吸収異方性膜とを有する、積層体。
7. さらに、前記光吸収異方性膜上に設けられるλ／４板を有する、請求項６に記載の積層体。
8. 請求項５に記載の光吸収異方性膜、または、請求項６もしくは請求項７に記載の積層体を有する、画像表示装置。