JPWO2018180476A1 - 構造体、加飾フィルム、構造体の製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 - Google Patents
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- B32B2255/20—Inorganic coating
- B32B2255/205—Metallic coating
Abstract
Description
前記加飾部は、微細なクラックを有し所定の元素の添加濃度が厚み方向で異なる単層の金属層を含む。
前記部材は、前記加飾部が接着される被加飾領域を有する。
これにより第1の面の反射率を向上させることが可能となり、意匠性の高い金属光沢を実現することが可能となる。
これにより非常に高い反射率を発揮することが可能となる。
これにより微細なクラックを容易に形成することが可能となる。
これにより金属層を容易に形成することが可能となる。
これにより金属光沢の劣化を防止することが可能となり、高い意匠性を維持するすることが可能となる。
これにより金属光沢の劣化を防止することが可能となり、高い意匠性を維持するすることが可能となる。
酸素又は窒素を添加させることで、高い反射率を維持したまま微細クラックを形成することが可能となり、意匠性の高い構造体を実現することが可能となる。
これらの材料を用いることで、高い意匠性の維持に有利となる。
これにより高い反射率を維持しつつ十分な電波透過性を発揮することが可能となる。
これにより十分な電波透過性を発揮することが可能となる。
金属層よりも引張破断強度が小さい支持層を形成することで、低い延伸率により微細クラックを形成することが可能となる。
これにより十分な電波透過性を発揮することが可能となる。
本技術を適用することで、金属的な外観を有しつつも電波を透過可能な意匠性の高い筐体部品、車両、及び建築物を実現することが可能となる。
前記金属層は、単層からなり、前記ベースフィルムに形成され、微細なクラックを有し所定の元素の添加濃度が厚み方向で異なる。
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックが形成される。
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムが形成される。
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムが形成される。
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品が形成される。
所定の元素が添加されるので、低い延伸率にて微細クラックを形成することができる。
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックが形成される。
図1は、本技術の一実施形態に係る電子機器としての携帯端末の構成例を示す概略図である。図1Aは、携帯端末100の正面側を示す正面図であり、図1Bは、携帯端末100の背面側を示す斜視図である。
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
無延伸PET:約70MPa
PC:約69〜約72MPa
PMMA:約80MPa
PP:約30〜約72MPa
従ってこれらの材料からなるベースフィルムを支持層550Aとして用いることで、低い延伸率にて微細クラック522を適正に形成することが可能となる。なお支持層550Aとして、非塩化ビニル系の材料を選択することで、金属の腐食の防止に有利である。
(1) 微細なクラックを有し所定の元素の添加濃度が厚み方向で異なる単層の金属層を含む加飾部と、
前記加飾部が接着される被加飾領域を有する部材と
を具備する構造体。
(2)(1)に記載の構造体であって、
前記加飾部は、意匠面を有し、
前記金属層は、前記意匠面側の第1の面と、前記第1の面の反対側の第2の面とを有し、前記第1の面の近傍の領域が、前記添加濃度が相対的に低い低添加濃度領域となる
構造体。
(3)(2)に記載の構造体であって、
前記低添加濃度領域は、前記添加濃度がゼロである領域を含む
構造体。
(4)(2)又は(3)に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記第1の面の近傍の領域以外の少なくとも一部の領域が、前記添加濃度が相対的に高い高添加濃度領域となる
構造体。
(5)(2)から(4)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記金属層は、前記添加濃度が前記第2の面から前記第1の面にかけて減少する
構造体。
(6)(2)から(5)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記金属層は、前記第1の面の近傍の領域及び前記第2の面の近傍の領域の各々において、前記所定の元素と化合していない金属の割合が所定の閾値以上である
構造体。
(7)(6)に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記第1の面から約20nmまでの領域及び前記第2の面から約20nmまでの領域の各々において、前記所定の元素と化合していない金属の割合が約3atm%以上である
構造体。
(8)(1)から(7)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記所定の元素は、酸素又は窒素である
構造体。
(9)(1)から(8)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、及びこれらのうち少なくとも1つを含む合金のうちのいずれかである
構造体。
(10)(1)から(9)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記金属層は、50nm以上300nm以下の厚みを有する
構造体。
(11)(1)から(10)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、ピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれる
構造体。
(12)(1)から(11)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾部は、引張破断強度が前記金属層よりも小さく前記金属層を支持する支持層を有する
構造体。
(13)(1)から(12)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
前記加飾部は、前記微細のクラックを固定化する固定層を有する
構造体。
(14)(1)から(13)のうちいずれか1つに記載の構造体であって、
筐体部品、車両、又は建築物の少なくとも一部として構成される
構造体。
(15) ベースフィルムと、
前記ベースフィルムに形成され、微細なクラックを有し所定の元素の添加濃度が厚み方向で異なる単層の金属層と
を具備する加飾フィルム。
(16) ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムを形成し、
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。
(17) ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記ベースフィルムから剥離した前記金属層が転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。
(18) ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムを形成し、
インサート成形法により前記加飾フィルムと一体的に成形部品を形成する
構造体の製造方法。
(19)(16)から(18)のうちいずれか1つに記載の製造方法であって、
前記微細なクラックの形成ステップは、前記ベースフィルムを各々の軸方向の延伸率2%以下で2軸延伸する
構造体の製造方法。
(20) ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成する
加飾フィルムの製造方法。
11、411…被加飾領域
12…加飾フィルム
12a、412a…意匠面
19、419、519、919…ベースフィルム
20、420、520、620、720、820、920…金属層
20a、420a、620a、720a、820a、920a…第1の面
20b、420b、620b、720b、820b…第2の面
21、421…密封樹脂
22、422、522…微細クラック
25、625、725、825…第1の近傍領域
26、626、726…第2の近傍領域
30、430…転写用フィルム
90…アルミニウム
100…携帯端末
101…筐体部
200…真空蒸着装置
250…軸延伸装置
300…成形装置
350…成形装置
412…加飾部
550A、550B…支持層
Claims (20)
- 微細なクラックを有し所定の元素の添加濃度が厚み方向で異なる単層の金属層を含む加飾部と、
前記加飾部が接着される被加飾領域を有する部材と
を具備する構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記加飾部は、意匠面を有し、
前記金属層は、前記意匠面側の第1の面と、前記第1の面の反対側の第2の面とを有し、前記第1の面の近傍の領域が、前記添加濃度が相対的に低い低添加濃度領域となる
構造体。 - 請求項2に記載の構造体であって、
前記低添加濃度領域は、前記添加濃度がゼロである領域を含む
構造体。 - 請求項2に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記第1の面の近傍の領域以外の少なくとも一部の領域が、前記添加濃度が相対的に高い高添加濃度領域となる
構造体。 - 請求項2に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記添加濃度が前記第2の面から前記第1の面にかけて減少する
構造体。 - 請求項2に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記第1の面の近傍の領域及び前記第2の面の近傍の領域の各々において、前記所定の元素と化合していない金属の割合が所定の閾値以上である
構造体。 - 請求項6に記載の構造体であって、
前記金属層は、前記第1の面から約20nmまでの領域及び前記第2の面から約20nmまでの領域の各々において、前記所定の元素と化合していない金属の割合が約3atm%以上である
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記所定の元素は、酸素又は窒素である
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記金属層は、アルミニウム、チタン、クロム、及びこれらのうち少なくとも1つを含む合金のうちのいずれかである
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記金属層は、50nm以上300nm以下の厚みを有する
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記微細なクラックは、ピッチが1μm以上500μm以下の範囲に含まれる
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記加飾部は、引張破断強度が前記金属層よりも小さく前記金属層を支持する支持層を有する
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
前記加飾部は、前記微細のクラックを固定化する固定層を有する
構造体。 - 請求項1に記載の構造体であって、
筐体部品、車両、又は建築物の少なくとも一部として構成される
構造体。 - ベースフィルムと、
前記ベースフィルムに形成され、微細なクラックを有し所定の元素の添加濃度が厚み方向で異なる単層の金属層と
を具備する加飾フィルム。 - ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムを形成し、
前記加飾フィルムにキャリアフィルムを接着することで転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記転写用フィルムから前記加飾フィルムが転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。 - ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む転写用フィルムを形成し、
インモールド成形法、ホットスタンプ法、又は真空成形法により前記ベースフィルムから剥離した前記金属層が転写されるように成型部品を形成する
構造体の製造方法。 - ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成し、
前記微細クラックが形成された金属層を含む加飾フィルムを形成し、
インサート成形法により前記加飾フィルムと一体的に成形部品を形成する
構造体の製造方法。 - 請求項16に記載の製造方法であって、
前記微細なクラックの形成ステップは、前記ベースフィルムを各々の軸方向の延伸率2%以下で2軸延伸する
構造体の製造方法。 - ベースフィルムに蒸着により所定の元素が添加された単層の金属層を、前記所定の元素の添加濃度が前記金属層の厚み方向で異なるように形成し、
前記ベースフィルムを延伸することで前記金属層に微細なクラックを形成する
加飾フィルムの製造方法。
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