JPWO2018159629A1 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
[1] 中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光して樹脂硬化物を得るための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、
(A)アルカリ可溶性高分子、
(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び
(C)光重合開始剤を含み、
前記感光性樹脂組成物は、前記第1のレーザー光及び前記第2のレーザー光の両者に対する感光性を有し、
前記(C)光重合開始剤はアントラセン及び/又はアントラセン誘導体を含む感光性樹脂組成物。
[2] 前記(A)アルカリ可溶性高分子における芳香族基含有コモノマーの共重合比率が、40質量%以上であり、
(B)エチレン性二重結合を有する化合物として、2官能のエチレン性二重結合を有し、かつ1モル以上15モル以下のエチレンオキサイド構造を有する化合物を、感光性樹脂組成物全体の固形分に対し5質量%以上含有する上記態様1に記載の感光性樹脂組成物。
[3] 前記(A)アルカリ可溶性高分子におけるスチレンの共重合比率が30質量%以上である上記態様1又は2に記載の感光性樹脂組成物。
[4] 前記アントラセン誘導体は、9位及び/又は10位に、置換基を有していてもよい炭素数1〜40のアルコキシ基及び/又は置換基を有していてもよい炭素数6〜40のアリール基を有する上記態様1〜3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[5] 前記アントラセン誘導体は、9,10位に、置換基を有していてもよい炭素数1〜40のアルコキシ基及び/又は置換基を有していてもよい炭素数6〜40のアリール基を有する上記態様1〜3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[6] 前記(C)光重合開始剤は、9,10−ジフェニルアントラセンを含む上記態様1〜5のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[7] 前記(C)光重合開始剤は、9,10−ジブトキシアントラセンを含む上記態様1〜5のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[8] 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、3官能以上のエチレン性二重結合を有する化合物を含む上記態様1〜7のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[9] 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、4官能以上のエチレン性二重結合を有する化合物を含む上記態様1〜8のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[10] 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、6官能以上のエチレン性二重結合を有する化合物を含む上記態様1〜9のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[11] 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、炭素数3以上のアルキレンオキシド構造を含む上記態様1〜10のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[12] 前記第1のレーザー光の中心波長が350nm以上380nm以下であり、前記第2のレーザー光の中心波長が400nm以上410nm以下である上記態様1〜11のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
[13] 上記態様1〜12のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を、中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光することを含む感光性樹脂硬化物の製造方法。
[14] 前記第1のレーザー光の中心波長が350nm以上380nm以下であり、前記第2のレーザー光の中心波長が400nm以上410nm以下である上記態様13に記載の感光性樹脂硬化物の製造方法。
[15] (A)アルカリ可溶性高分子、
(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び
(C)光重合開始剤を含み、
前記(C)光重合開始剤がアントラセン及び/又はアントラセン誘導体を含む感光性樹脂組成物を、中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光する露光工程と、
露光された感光性樹脂組成物を現像する現像工程と、を含むレジストパターンの製造方法。
[16] 前記露光工程の前記第1のレーザー光の中心波長が350nm以上380nm以下であり、前記第2のレーザー光の中心波長が400nm以上410nm以下である上記態様15に記載のレジストパターンの製造方法。
[17] 上記態様15又は16に記載の方法により製造されたレジストパターンを有する基板に対してエッチング又はめっきを施すことにより回路基板を形成する、回路基板の製造方法。
[18] (A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含み、
前記(C)光重合開始剤はハロゲン原子を有するアントラセン誘導体を含む、感光性樹脂組成物。
[19] 前記(C)光重合開始剤は9,10−ジアルコキシアントラセンのハロゲン置換体を含む、上記態様18に記載の感光性樹脂組成物。
[20] 前記(C)光重合開始剤は、9,10−ジアルコキシアントラセンの9位及び/又は10位のアルコキシ基が1つ以上のハロゲンで修飾されている化合物を含む、上記態様19に記載の感光性樹脂組成物。
[21] 前記(C)光重合開始剤は、アントラセン骨格に直接結合したハロゲン原子を有する化合物を含む、上記態様18に記載の感光性樹脂組成物。
[22] 上記態様18〜21のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光する露光工程と、
露光された感光性樹脂組成物を現像する現像工程と、を含むレジストパターンの製造方法。
[23] 中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光して樹脂硬化物を得るための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含み、
前記(A)アルカリ可溶性高分子における芳香族基含有コモノマーの共重合比率が、40質量%以上である感光性樹脂組成物。
[24] 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物として、2官能のエチレン性二重結合を有し、かつ1モル以上15モル以下のエチレンオキサイド構造を有する化合物を、感光性樹脂組成物全体の固形分に対し5質量%以上含有する上記態様23に記載の感光性樹脂組成物。
[25] 上記態様23又は24に記載の感光性樹脂組成物を中心波長390nm未満の第1のレーザー光と中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光する露光工程と、
露光された感光性樹脂組成物を現像する現像工程と、を含むレジストパターンの製造方法。
本実施形態では、感光性樹脂組成物が、(A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性二重結合(すなわちエチレン性不飽和結合)を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含む。(C)光重合開始剤はアントラセン及び/又はアントラセン誘導体を含む。所望により、感光性樹脂組成物は、(D)添加剤、といったその他の成分を更に含んでよい。また、本実施形態では、感光性樹脂組成物は、任意の支持体に適用されることにより、感光性樹脂層を形成することができる。
以下、感光性樹脂組成物に含まれる各成分について説明する。
(A)アルカリ可溶性高分子は、アルカリ物質に溶解可能な高分子である。(A)アルカリ可溶性高分子は、アルカリ現像性の観点から、カルボキシル基を有することが好ましく、そしてカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として含む共重合体であることが更に好ましい。(A)アルカリ可溶性高分子は熱可塑性でもよい。
なお、本明細書において「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味し、そして「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味する。
モノマーが、アラルキル基を有するモノマー、及び/又はスチレンを含有することは、レジストパターンの耐薬品性、密着性、高解像性、又はスソ形状の観点から好ましい。(A)アルカリ可溶性高分子としては、メタクリル酸とベンジルメタクリレートとスチレンとからなる共重合体、メタクリル酸とメチルメタクリレートとベンジルメタクリレートとスチレンとからなる共重合体、等が特に好ましい。
(B)エチレン性不飽和結合を有する化合物は、その構造中にエチレン性不飽和基を有することによって重合性を有する化合物である。
トリ(メタ)アクリレート、例えば、エトキシ化グリセリントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及びトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(例えば、柔軟性、密着性、及びブリードアウト抑制の観点での好適例として、トリメチロールプロパンに平均21モルのエチレンオキサイドを付加したトリ(メタ)アクリレート、及び、トリメチロールプロパンに平均30モルのエチレンオキサイドを付加したトリ(メタ)アクリレート)等;
テトラ(メタ)アクリレート、例えば、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等;
ペンタ(メタ)アクリレート、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等;
ヘキサ(メタ)アクリレート、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、等が挙げられる。
これらの中でも、テトラ、ペンタ又はヘキサ(メタ)アクリレートが好ましい。
(b2)ブチレンオキサイド鎖又はプロピレンオキサイド鎖と、1個又は2個の(メタ)アクリロイル基とを有する化合物は、ブリードアウトの抑制の観点から、好ましくは500以上、より好ましくは700以上、更に好ましくは1000以上の分子量を有する。
(C)光重合開始剤は、光によりモノマーを重合させる化合物である。感光性樹脂組成物は、(C)光重合開始剤として本技術分野において一般に知られている化合物を含むことができる。本実施形態において、(C)光重合開始剤は、中心波長390nm未満の第1の活性光と中心波長390nm以上の第2の活性光とを吸光して重合開始剤として機能する化合物を含む。これにより、感光性樹脂組成物は、第1の活性光と第2の活性光とに対する感光性を有することができ、2波長露光に用いることが可能になる。従って、本実施形態において用いる(C)光重合開始剤としては、第1の活性光と第2の活性光の波長範囲に複数の吸収極大を有する化合物が有利である。より具体的には、(C)光重合開始剤はアントラセン及び/又はアントラセン誘導体を含む。(C)光重合開始剤として、アントラセン及び/又はアントラセン誘導体を少なくとも用いることは、本実施形態の感光性樹脂組成物を2波長露光に適した組成とする点で有利である。
置換基を有していてもよいアルコキシ基としては:
メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基、2−メチルプロポキシ基、1−メチルプロポキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソアミルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、エイコシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、トリシクロデカニルオキシ基、テトラシクロドデシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、メチルアダマンチルオキシ基、エチルアダマンチルオキシ基、及びブチルアダマンチルオキシ基;
ハロゲンで修飾されたアルコキシ基、例えば、クロロブトキシ基、クロロプロポキシ基;
ヒドロキシル基が付加したアルコキシ基、例えば、ヒドロキシブチルオキシ基;
シアノ基が付加したアルコキシ基、例えば、シアノブトキシ基;
アルキレンオキサイド基が付加したアルコキシ基、例えば、メトキシブトキシ基;
アリール基が付加したアルコキシ基、例えば、フェノキシブトキシ基、
等が挙げられる。この中でn−ブトキシ基がより好ましい。
感光性樹脂組成物は、所望により、染料、可塑剤、酸化防止剤、安定化剤等の添加剤を含んでよい。例えば、特開2013−156369号公報に列挙されている添加剤を使用してよい。
ラジカル重合禁止剤、例えば、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、p−メトキシフェノール、4−tert−ブチルカテコール、4−エチル−6−tert−ブチルフェノール等;
ベンゾトリアゾール類、例えば、1−(N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル)−1,2,3−ベンゾトリアゾール、2,2’−(((メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル)イミノ)ビスエタノール、1−(2−ジ−n−ブチルアミノメチル)−5−カルボキシルベンゾトリアゾールと1−(2−ジ−n−ブチルアミノメチル)−6−カルボキシルベンゾトリアゾールの1:1混合物等;
カルボキシベンゾトリアゾール類、例えば、4−カルボキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール、5−カルボキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール、6−カルボキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール等;及び
グリシジル基を有する化合物、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等;
から成る群から選ばれる少なくとも1つを含むことが好ましい。
その他、2−メルカプトベンゾイミダゾール、1H−テトラゾール、1−メチル−5−メルカプト−1H−テトラゾール、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプトトリアゾール、4,5−ジフェニル−1,3−ジアゾール−2−イル、5−アミノ−1H−テトラゾール等を含んでいてもよい。
本実施形態では、感光性樹脂組成物に溶媒を添加することにより感光性樹脂組成物調合液を形成することができる。好適な溶媒としては:ケトン類、例えば、メチルエチルケトン(MEK)等;及びアルコール類、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられる。感光性樹脂組成物調合液の粘度が25℃で500mPa・秒〜4000mPa・秒となるように、溶媒を感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。
本実施形態では、支持体と、支持体上に積層された、上記感光性樹脂組成物から成る感光性樹脂層とを有する感光性樹脂積層体が提供されることができる。感光性樹脂積層体は、所望により、感光性樹脂層の支持体側と反対側に保護層を有していてもよい。
本実施形態は、レジストパターンの製造方法も提供する。当該方法は、上述の感光性樹脂組成物を露光する露光工程と、露光された感光性樹脂組成物を現像する現像工程とを含む。当該方法は、好ましくは、支持体に上述の感光性樹脂組成物から成る感光性樹脂層を積層するラミネート工程、感光性樹脂層を露光する露光工程、及び露光された感光性樹脂層を現像する現像工程を、好ましくはこの順に、含む。本実施形態においてレジストパターンを形成する具体的な方法の一例を以下に示す。
本実施形態の感光性樹脂組成物は、プリント基板の回路を形成するために好適に使用されることができる。本実施形態は、上記のレジストパターンの製造方法により製造されたレジストパターンを有する基板に対してエッチング又はめっきを施すことにより回路基板を形成する、回路基板の製造方法を提供する。
本実施形態では、感光性樹脂組成物はSAPのために使用されることがより好ましい。
導体パターンの製造方法は、金属板、金属皮膜絶縁板等の基板に上述の感光性樹脂組成物から成る感光性樹脂層を積層するラミネート工程、感光性樹脂層を露光する露光工程、露光された感光性樹脂層の未露光部又は露光部を現像液で除去することによって、レジストパターンが形成された基板を得る現像工程、及びレジストパターンが形成された基板をエッチング又はめっきする導体パターン形成工程を、好ましくはこの順に、含む。
導体パターンの製造方法により導体パターンを製造した後に、レジストパターンを、現像液よりも強いアルカリ性を有する水溶液により基板から剥離する剥離工程を更に行うことにより、所望の配線パターンを有する配線板(例えば、プリント配線板)を得ることができる。
SAPを行うためには、配線板の製造方法は、得られた配線板からパラジウムを除去する工程を更に含むことが好ましい。
基板として銅、銅合金、又は鉄系合金等の金属板を用いて、レジストパターン製造方法によってレジストパターンを形成した後に、以下の工程を経ることにより、リードフレームを製造できる。先ず、現像により露出した基板をエッチングして導体パターンを形成する工程を行う。その後、配線板の製造方法と同様の方法でレジストパターンを剥離する剥離工程を行って、所望のリードフレームを得ることができる。
レジストパターン製造方法により形成されるレジストパターンは、サンドブラスト工法により基板に加工を施す時の保護マスク部材として使用することができる。この場合、基板としては、例えば、ガラス、シリコンウエハー、アモルファスシリコン、多結晶シリコン、セラミック、サファイア、金属材料等が挙げられる。これらの基板上に、レジストパターン製造方法と同様の方法によって、レジストパターンを形成する。その後、形成されたレジストパターン上からブラスト材を吹き付けて、目的の深さに切削するサンドブラスト処理工程、及び基板上に残存したレジストパターン部分をアルカリ剥離液等で基板から除去する剥離工程を行って、基板上に微細な凹凸パターンを有する基材を製造できる。
基板として大規模集積化回路(LSI)の形成が終了したウエハを用いて、レジストパターン製造方法によりウエハにレジストパターンを形成した後に、以下の工程を経ることによって、半導体パッケージを製造することができる。先ず、現像により露出した開口部に銅、はんだ等の柱状めっきを施して、導体パターンを形成する工程を行う。その後、配線板の製造方法と同様の方法でレジストパターンを剥離する剥離工程を行って、更に、柱状めっき以外の部分の薄い金属層をエッチングにより除去する工程を行うことにより、所望の半導体パッケージを得ることができる。
本開示において、酸当量とは、分子中に1当量のカルボキシル基を有する重合体の質量(グラム)を意味する。平沼産業(株)製平沼自動滴定装置(COM−555)を使用し、0.1mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液を用いて電位差滴定法により酸当量を測定した。
評価用サンプルは以下のように作製した。
<感光性樹脂積層体の作製>
下記表1〜2に示す成分(但し、各成分の数字は固形分としての配合量(質量部)を示す。)及び溶媒を十分に攪拌、混合して、感光性樹脂組成物調合液を得た。表1〜2に略号で表した成分の名称を、表3に示す。支持フィルムとして16μm厚のポリエチレンテレフタラートフィルム(東レ(株)製、FB−40)を用い、その表面にバーコーターを用いて、この調合液を均一に塗布し、95℃の乾燥機中で2.5分間乾燥して、感光性樹脂組成物層を形成した。感光性樹脂組成物層の乾燥厚みは25μmであった。
感度、画像性、密着性及び耐薬液性の評価基板として、35μm圧延銅箔を積層した0.4mm厚の銅張積層板を、研削材(日本カーリット(株)製、サクランダムR(登録商標#220))を用いて、スプレー圧0.2MPaでジェットスクラブ研磨することにより、評価用基板を作製した。
感光性樹脂積層体のポリエチレンフィルムを剥がしながら、整面して60℃に予熱した銅張積層板に、ホットロールラミネーター(旭化成(株)社製、AL−700)により、感光性樹脂積層体をロール温度105℃でラミネートして試験片を得た。エアー圧は0.35MPaとし、ラミネート速度は1.5m/分とした。
実施例1から実施例23、比較例1においては、直接描画露光機(光源:375nm(30%)+405nm(70%))により、ストーファー41段ステップタブレット用いて露光した。露光は、前記ストーファー41段ステップタブレットをマスクとして露光、現像したときの最高残膜段数が19段となる露光量で行った。
感光性樹脂積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離した後、(株)フジ機工製現像装置を用い、フルコーンタイプのノズルにて、現像スプレー圧0.15MPaで、30℃の1質量%Na2CO3水溶液を所定時間スプレーして現像し、感光性樹脂層の未露光部分を溶解除去した。このとき、未露光部分の感光性樹脂層が完全に溶解するのに要する最も少ない時間を最小現像時間として測定し、最小現像時間の3倍の時間で現像してレジストパターンを作製した。その際、水洗工程は、フラットタイプのノズルにて水洗スプレー圧0.15MPaで、現像工程の5倍の時間処理した。
<感度評価>
上述の露光工程においてストーファー41段ステップタブレットのマスクを通して露光した後、現像し、最高残膜段数が19段となる露光量によって以下の基準によりランク分けした。
A(良好):最高残膜段数が19段となる露光量が60mJ/cm2以下。
B(可) :最高残膜段数が19段となる露光量が60mJ/cm2を超え、70mJ/cm2以下。
C(不良):最高残膜段数が19段となる露光量が70mJ/cm2を超える。
上述の露光工程において、露光部と未露光部の幅が1:1の比率のラインパターンを有する描画データを使用して露光した。上述の現像条件に従って現像し、硬化レジストラインを形成した。
硬化レジストラインが正常に形成されている最小ライン幅を解像度の値として以下の基準によりランク分けした。
AA(極めて良好):解像度の値が18μm以下。
A(良好):解像度の値が18μmを超え、22μm未満。
C(不良):解像度の値が22μm以上。
上述の露光工程において、露光部と未露光部の幅が1:200の比率のラインパターンを有する描画データを使用して露光した。上述の現像条件に従って現像し、硬化レジストラインが正常に形成されている最小ライン幅を密着性の値として以下の基準によりランク分けした。
AA(極めて良好):密着性の値が11μm以下。
A(良好):密着性の値が11μmを超え、13μm以下。
B(可) :密着性の値が13μmを超え、15μm以下。
C(不良):密着性の値が15μmを超える。
Claims (25)
- 中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光して樹脂硬化物を得るための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、
(A)アルカリ可溶性高分子、
(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び
(C)光重合開始剤を含み、
前記感光性樹脂組成物は、前記第1のレーザー光及び前記第2のレーザー光の両者に対する感光性を有し、
前記(C)光重合開始剤はアントラセン及び/又はアントラセン誘導体を含む感光性樹脂組成物。 - 前記(A)アルカリ可溶性高分子における芳香族基含有コモノマーの共重合比率が、40質量%以上であり、
(B)エチレン性二重結合を有する化合物として、2官能のエチレン性二重結合を有し、かつ1モル以上15モル以下のエチレンオキサイド構造を有する化合物を、感光性樹脂組成物全体の固形分に対し5質量%以上含有する請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 - 前記(A)アルカリ可溶性高分子におけるスチレンの共重合比率が30質量%以上である請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アントラセン誘導体は、9位及び/又は10位に、置換基を有していてもよい炭素数1〜40のアルコキシ基及び/又は置換基を有していてもよい炭素数6〜40のアリール基を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記アントラセン誘導体は、9,10位に、置換基を有していてもよい炭素数1〜40のアルコキシ基及び/又は置換基を有していてもよい炭素数6〜40のアリール基を有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(C)光重合開始剤は、9,10−ジフェニルアントラセンを含む請求項1〜5のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(C)光重合開始剤は、9,10−ジブトキシアントラセンを含む請求項1〜5のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、3官能以上のエチレン性二重結合を有する化合物を含む請求項1〜7のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、4官能以上のエチレン性二重結合を有する化合物を含む請求項1〜8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、6官能以上のエチレン性二重結合を有する化合物を含む請求項1〜9のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物は、炭素数3以上のアルキレンオキシド構造を含む請求項1〜10のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記第1のレーザー光の中心波長が350nm以上380nm以下であり、前記第2のレーザー光の中心波長が400nm以上410nm以下である請求項1〜11のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を、中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光することを含む感光性樹脂硬化物の製造方法。
- 前記第1のレーザー光の中心波長が350nm以上380nm以下であり、前記第2のレーザー光の中心波長が400nm以上410nm以下である請求項13に記載の感光性樹脂硬化物の製造方法。
- (A)アルカリ可溶性高分子、
(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び
(C)光重合開始剤を含み、
前記(C)光重合開始剤がアントラセン及び/又はアントラセン誘導体を含む感光性樹脂組成物を、中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光する露光工程と、
露光された感光性樹脂組成物を現像する現像工程と、を含むレジストパターンの製造方法。 - 前記露光工程の前記第1のレーザー光の中心波長が350nm以上380nm以下であり、前記第2のレーザー光の中心波長が400nm以上410nm以下である請求項15に記載のレジストパターンの製造方法。
- 請求項15又は16に記載の方法により製造されたレジストパターンを有する基板に対してエッチング又はめっきを施すことにより回路基板を形成する、回路基板の製造方法。
- (A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含み、
前記(C)光重合開始剤はハロゲン原子を有するアントラセン誘導体を含む、感光性樹脂組成物。 - 前記(C)光重合開始剤は9,10−ジアルコキシアントラセンのハロゲン置換体を含む、請求項18に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(C)光重合開始剤は、9,10−ジアルコキシアントラセンの9位及び/又は10位のアルコキシ基が1つ以上のハロゲンで修飾されている化合物を含む、請求項19に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(C)光重合開始剤は、アントラセン骨格に直接結合したハロゲン原子を有する化合物を含む、請求項18に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項18〜21のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光する露光工程と、
露光された感光性樹脂組成物を現像する現像工程と、を含むレジストパターンの製造方法。 - 中心波長390nm未満の第1のレーザー光と、中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光して樹脂硬化物を得るための感光性樹脂組成物であって、
前記感光性樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性二重結合を有する化合物、及び(C)光重合開始剤を含み、
前記(A)アルカリ可溶性高分子における芳香族基含有コモノマーの共重合比率が、40質量%以上である感光性樹脂組成物。 - 前記(B)エチレン性二重結合を有する化合物として、2官能のエチレン性二重結合を有し、かつ1モル以上15モル以下のエチレンオキサイド構造を有する化合物を、感光性樹脂組成物全体の固形分に対し5質量%以上含有する請求項23に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項23又は24に記載の感光性樹脂組成物を中心波長390nm未満の第1のレーザー光と中心波長390nm以上の第2のレーザー光とで露光する露光工程と、
露光された感光性樹脂組成物を現像する現像工程と、を含むレジストパターンの製造方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005321587A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターン形成方法 |
JP2008146045A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-06-26 | Taiyo Ink Mfg Ltd | ソルダーレジスト膜形成方法および感光性組成物 |
JP2010152336A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-07-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び表示装置 |
WO2010126006A1 (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-04 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法 |
WO2012101908A1 (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-02 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 |
Family Cites Families (13)
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US8105759B2 (en) | 2005-07-05 | 2012-01-31 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, and, photosensitive element, method for forming resist pattern, method for manufacturing printed wiring board and method for manufacturing partition wall for plasma display panel using the composition |
WO2007026520A1 (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-08 | Jsr Corporation | 感放射線性樹脂組成物およびメッキ造形物の製造方法 |
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JP2005321587A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターン形成方法 |
JP2008146045A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-06-26 | Taiyo Ink Mfg Ltd | ソルダーレジスト膜形成方法および感光性組成物 |
JP2010152336A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-07-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物及び表示装置 |
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WO2012101908A1 (ja) * | 2011-01-25 | 2012-08-02 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 |
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