TWI832690B - 光阻液及其製造方法 - Google Patents
光阻液及其製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI832690B TWI832690B TW112103784A TW112103784A TWI832690B TW I832690 B TWI832690 B TW I832690B TW 112103784 A TW112103784 A TW 112103784A TW 112103784 A TW112103784 A TW 112103784A TW I832690 B TWI832690 B TW I832690B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- acrylic resin
- photoresist liquid
- content
- reactive
- reactive acrylic
- Prior art date
Links
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 93
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims abstract description 117
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims abstract description 117
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 21
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 92
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 22
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 21
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 19
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 18
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 18
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 17
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)CO CUDYYMUUJHLCGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical group N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 7
- HSGLYHHOCKTAEL-UHFFFAOYSA-N 1-(6,6-dimethoxycyclohexa-2,4-dien-1-yl)ethanone Chemical group COC1(OC)C=CC=CC1C(C)=O HSGLYHHOCKTAEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 6
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 6
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 6
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- -1 [2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-2H-imidazole-2-yl]-4,5-diphenyl-1H-imidazole Chemical compound 0.000 claims description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- BHBPJIPGXGQMTE-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound OCCO.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O BHBPJIPGXGQMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical group CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-M 2-ethylacrylate Chemical compound CCC(=C)C([O-])=O WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
本發明公開一種光阻液及其製造方法。所述光阻液包含一非反應型壓克力樹脂、一反應型壓克力樹脂、一反應性單體及一光起始劑。基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間。所述非反應型壓克力樹脂是由一第一原料成分與一起始劑反應形成，所述反應型壓克力樹脂是由一第二原料成分、所述起始劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯反應形成。
Description
本發明涉及一種光阻液及其製造方法，特別是涉及一種能適用於鍍金製程的光阻液及其製造方法。
現有的光阻液在應用於鍍金製程時，容易發生滲鍍的問題。當滲鍍問題發生時，電鍍液自光阻液所形成的薄膜的一側滲透至另一側，導致金形成於原本被薄膜遮蔽不應形成有鍍金膜的部位。
本發明所要解決的技術問題在於，針對現有技術的不足提供一種光阻液及其製造方法，其能有效改善有的光阻液在應用於鍍金製程時，容易發生滲鍍的問題。
為了解決上述的技術問題，本發明所採用的其中一技術方案是提供一種光阻液，其特徵在於，所述光阻液能適用於鍍金製程，並且所述光阻液包含一非反應型壓克力樹脂、一反應型壓克力樹脂、一反應性單體及一光起始劑；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，
並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間；其中，所述非反應型壓克力樹脂是由一第一原料成分與一起始劑反應形成，所述反應型壓克力樹脂是由一第二原料成分、所述起始劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯反應形成，並且所述第一原料成分及所述第二原料成分包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、正丁基-丙烯酸甲酯、丙烯酸2-乙基己酯、苯乙烯、二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚；其中，所述反應性單體為多官能基壓克力單體。
優選地，所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於110mgKOH/g至180mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於70mgKOH/g至130mgKOH/g之間；其中，所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間。
優選地，所述反應性單體是選自由丙氧基化乙氧基化雙-A二丙烯酸酯及季戊四醇三丙烯酸酯所組成的材料群組中的至少其中一種；其中，所述起始劑為偶氮二異丁腈。
優選地，所述光起始劑是選自由2,2-二甲氧基-苯基乙酮、2-(2-氯苯基)-1-[2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基-2H-咪唑-2-基]-4,5-二苯基-1H-咪唑及二苯甲酮所組成的材料群組中的至少其中一種。
優選地，所述光阻液進一步包含一有機溶劑；其中，所述有機溶劑的沸點不小於180℃；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述有機溶劑的含量是介於5wt%至10wt%之間。
優選地，所述有機溶劑是選自由二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚所組成的材料群組中的至少其中一種。
優選地，所述光阻液進一步包含一添加劑；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述添加劑的含量是介於1wt%至5wt%之間；其中，
所述添加劑是選自由抗氧化劑CHINOX 1010、流平劑BYK3500及消泡劑BYK057所組成的材料群組中的至少其中一種。
為了解決上述的技術問題，本發明所採用的另外一技術方案是提供一種光阻液的製造方法，其包括：一非反應型壓克力樹脂形成步驟：攪拌一第一原料成分並於所述第一原料成分中加入一起始劑進行反應以形成一非反應型壓克力樹脂；一反應型壓克力樹脂形成步驟：攪拌一第二原料成分並於所述第二原料成分中加入所述起始劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯進行反應以形成一反應型壓克力樹脂；其中，所述第一原料成分及所述第二原料成分包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、正丁基-丙烯酸甲酯、丙烯酸2-乙基己酯、苯乙烯、二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚；以及一光阻液形成步驟：將所述非反應型壓克力樹脂、所述反應型壓克力樹脂、一反應性單體、及一光起始劑混和並攪拌以形成一光阻液；其中，所述光阻液能適用於鍍金製程；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間；其中，所述反應性單體為多官能基壓克力單體。
優選地，所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於110mgKOH/g至180mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於70mgKOH/g至130mgKOH/g之間；其中，所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間。
優選地，所述反應性單體是選自由丙氧基化乙氧基化雙-A二丙烯酸酯及季戊四醇三丙烯酸酯所組成的材料群組中的至少其中一種；其中，
所述起始劑為偶氮二異丁腈。
優選地，所述光起始劑是選自由2,2-二甲氧基-苯基乙酮、2-(2-氯苯基)-1-[2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基-2H-咪唑-2-基]-4,5-二苯基-1H-咪唑及二苯甲酮所組成的材料群組中的至少其中一種。
優選地，於所述光阻液形成步驟中，還添加有一有機溶劑及一添加劑；其中，所述有機溶劑的沸點不小於180℃；其中，所述添加劑是選自由抗氧化劑CHINOX 1010、流平劑BYK3500及消泡劑BYK057所組成的材料群組中的至少其中一種；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述有機溶劑的含量是介於5wt%至10wt%之間，並且所述添加劑的含量是介於1wt%至5wt%之間。
本發明的其中一有益效果在於，本發明所提供的光阻液及其製造方法，其能通過“所述光阻液包含一非反應型壓克力樹脂、一反應型壓克力樹脂、一反應性單體及一光起始”以及“基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間”的技術方案，以有效改善有的光阻液在應用於鍍金製程時，容易發生滲鍍的問題。
為使能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與圖式，然而所提供的圖式僅用於提供參考與說明，並非用來對本發明加以限制。
S110:非反應型壓克力樹脂形成步驟
S120:反應型壓克力樹脂形成步驟
S130:光阻液形成步驟
圖1為本發明實施例的光阻液的製造方法的流程圖。
以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開有關“光阻液及其製造方法”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不悖離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外，本發明的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。
應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。
[光阻液]
本發明實施例提供一種光阻液。所述光阻液適用於鍍金製程，並且所述光阻液包含一非反應型壓克力樹脂、一反應型壓克力樹脂、一反應性單體及一光起始劑。
於所述鍍金製程中，可以是以網版印刷方式使所述光阻液於一基板上形成具有特定圖案的薄膜，而後再依據具有特定圖案的所述薄膜將金鍍附於所述基板上。於本發明其中一實施例中，網版印刷所採用的網版的網目數為32網目，並且印刷厚度為20微米至30微米。
基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%
之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間。
需要說明的是，所述非反應型壓克力樹脂的含量及所述反應型壓克力樹脂的含量需分別介於上述兩個特定範圍之間，才能使得所述光阻液能具有特定的接著強度及特定的去膜性。換句話說，若是所述非反應型壓克力樹脂的含量及所述反應型壓克力樹脂的含量並非分別介於上述兩個特定範圍之間，則所述去膜液形成的所述薄膜與所述基板之間的接著力可能會過強，從而造成所述薄膜無法完整地被去除。
所述非反應型壓克力樹脂是由一第一原料成分與一起始劑反應形成，所述反應型壓克力樹脂是由一第二原料成分、所述起始劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯反應且在添加有催化劑的情況下形成，並且所述第一原料成分及所述第二原料成分包含甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、正丁基-丙烯酸甲酯(n-BMA)、丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、苯乙烯(SM)、二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚。值得一提的是，所述第一原料成分可以是相同或不相同於所述第二原料成分，但本發明於此不加以限制。
於本實施例中，基於所述非反應型壓克力樹脂的總重為100wt%，所述甲基丙烯酸的含量是介於8wt%至13wt%之間，所述甲基丙烯酸甲酯的含量是介於8wt%至13wt%之間，所述正丁基-丙烯酸甲酯的含量是介於10wt%至15wt%之間，所述丙烯酸2-乙基己酯的含量是介於3wt%至8wt%之間，所述苯乙烯的含量是介於1wt%至5wt%之間，所述二乙二醇乙醚醋酸酯的含量是介於25wt%至35wt%之間，所述二丙二醇甲醚的含量是介於18wt%至25wt%之間，並且所述起始劑的含量是介於0.3wt%至1.0wt%之間。
於本實施例的所述非反應型壓克力樹脂中，基於所述去膜液的總重為100wt%，所述甲基丙烯酸的含量是介於4.1wt%至5.6wt%之間，所述甲基丙烯酸甲酯的含量是介於4.8wt%至6.4wt%之間，所述正丁基-丙烯酸甲
酯的含量是介於5.5wt%至7.3wt%之間，所述丙烯酸2-乙基己酯的含量是介於2.4wt%至3.2wt%之間，所述苯乙烯的含量是介於1.4wt%至1.9wt%之間，所述二乙二醇乙醚醋酸酯的含量是介於13.4wt%至17.8wt%之間，所述二丙二醇甲醚的含量是介於9.2wt%至12.5wt%之間，並且所述起始劑的含量是介於0.2wt%至0.3wt%之間。
此外，基於所述反應型壓克力樹脂的總重為100wt%，所述甲基丙烯酸的含量是介於7wt%至12wt%之間，所述甲基丙烯酸甲酯的含量是介於8wt%至15wt%之間，所述正丁基-丙烯酸甲酯的含量是介於12wt%至16wt%之間，所述丙烯酸2-乙基己酯的含量是介於2wt%至6wt%之間，所述苯乙烯的含量是介於1wt%至5wt%之間，所述二乙二醇乙醚醋酸酯的含量是介於28wt%至33wt%之間，所述二丙二醇甲醚的含量是介於18wt%至23wt%之間，所述起始劑的含量是介於0.3wt%至1.0wt%之間，並且所述甲基丙烯酸縮水甘油酯的含量是介於1wt%至5wt%之間。
於本實施例的所述反應型壓克力樹脂中，基於所述去膜液的總重為100wt%，所述甲基丙烯酸的含量是介於1.6wt%至3wt%之間，所述甲基丙烯酸甲酯的含量是介於1.9wt%至3.7wt%之間，所述正丁基-丙烯酸甲酯的含量是介於2.4wt%至4.4wt%之間，所述丙烯酸2-乙基己酯的含量是介於0.8wt%至1.4wt%之間，所述苯乙烯的含量是介於0.5wt%至0.9wt%之間，所述二乙二醇乙醚醋酸酯的含量是介於5wt%至9.4wt%之間，所述二丙二醇甲醚的含量是介於3.2wt%至6.4wt%之間，所述起始劑的含量是介於0.1wt%至0.2wt%之間，並且所述甲基丙烯酸縮水甘油酯的含量是介於0.5wt%至0.9wt%之間。
所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於110mgKOH/g至180mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於70mgKOH/g
至130mgKOH/g之間。較佳地，所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於130mgKOH/g至160mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於90mgKOH/g至110mgKOH/g之間。值得一提的是，若所述非反應型壓克力樹脂的酸價及所述反應型壓克力樹脂的酸價是相對較高，則會使得所述光阻液的曝光感度及去膜性較佳，但可能會造成滲鍍，因此所述非反應型壓克力樹脂的酸價及所述反應型壓克力樹脂的酸價較佳是介於特定的範圍之間。
所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間。較佳地，所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於65,000g/mole至90,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於65,000g/mole至90,000g/mole之間。
所述反應性單體為多官能基壓克力單體。較佳地，所述反應性單體是選自由丙氧基化乙氧基化雙-A二丙烯酸酯及季戊四醇三丙烯酸酯所組成的材料群組中的至少其中一種。所述反應性單體可以經光起始劑激發後形成交聯聚合物，從而使得所述光阻液能具有優異的耐化性。
所述起始劑為偶氮二異丁腈，並且所述催化劑為N,N-二甲基芐胺。，所述光起始劑是選自由2,2-二甲氧基-苯基乙酮、2-(2-氯苯基)-1-[2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基-2H-咪唑-2-基]-4,5-二苯基-1H-咪唑及二苯甲酮所組成的材料群組中的至少其中一種。
於其他實施例中，所述光阻液還可以包含一有機溶劑及一添加劑。基於所述光阻液的總重為100wt%，所述有機溶劑的含量是介於5wt%至10wt%之間，並且所述添加劑的含量是介於1wt%至5wt%之間。
於本實施例中，所述有機溶劑的沸點不小於180℃，以防止進行網版印刷的過程中，所述光阻液揮發太快。若所述光阻液揮發太快，則會造成所述光阻液與所述基板之間的接著強度過高。較佳地，所述有機溶劑的沸點為介於180℃至220℃之間。
更佳地，所述有機溶劑是選自由二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚所組成的材料群組中的至少其中一種。所述添加劑是選自由抗氧化劑CHINOX 1010、流平劑BYK3500及消泡劑BYK057所組成的材料群組中的至少其中一種。
[光阻液的製造方法]
請參閱圖1所示，圖1為本發明實施例的光阻液的製造方法的流程圖。本發明實施例還提供一種光阻液的製造方法，所述光阻液可以是通過所述光阻液的製造方法製得，但本發明不受限於此。所述光阻液的製造方法包含一非反應型壓克力樹脂形成步驟S110、一反應型壓克力樹脂形成步驟S120及一光阻液形成步驟S130。
於所述非反應型壓克力樹脂形成步驟S110中，攪拌一第一原料成分並於所述第一原料成分中加入一起始劑進行反應以形成一非反應型壓克力樹脂。
具體來說，於所述非反應型壓克力樹脂形成步驟S110中，是在將所述第一原料成分攪拌均勻後升溫至70℃至80℃之間(較佳為76℃)後開始滴加所述起始劑，滴加時間為1小時，溫度維持在70℃至80℃之間(較佳為76℃)。在滴加完畢且反應2小時之後，再追加所述起始劑並反應1小時。而後，在升溫至85℃至95℃之間(較佳為90℃)繼續反應3小時之後，降溫至40℃以下以得到所述非反應型壓克力樹脂。
於所述反應型壓克力樹脂形成步驟S120中，攪拌一第二原料
成分並於所述第二原料成分中加入所述起始劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯進行反應以形成一反應型壓克力樹脂。所述第一原料成分及所述第二原料成分包含甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、正丁基-丙烯酸甲酯(n-BMA)、丙烯酸2-乙基己酯(2-EHA)、苯乙烯(SM)、二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚。
具體來說，於所述反應型壓克力樹脂形成步驟S120中，是在將所述第二原料成分攪拌均勻後升溫至70℃至80℃之間(較佳為76℃)後開始滴加所述起始劑，滴加時間為1小時，溫度維持在70℃至80℃之間(較佳為76℃)。在滴加完畢且反應2小時之後，再追加所述起始劑並反應1小時。而後，在升溫至85℃至95℃之間(較佳為90℃)繼續反應6小時之後，降溫至加入一催化劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯反應8小時且溫度維持在85℃，並且降溫至40℃以下以得到所述反應型壓克力樹脂。
於所述光阻液形成步驟S130中，將所述非反應型壓克力樹脂、所述反應型壓克力樹脂、一反應性單體、及一光起始劑混和並攪拌以形成一光阻液。
基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間。
於所述光阻液形成步驟S130中，還可以添加有一有機溶劑及一添加劑。述有機溶劑的沸點不小於180℃。所述添加劑是選自由抗氧化劑CHINOX 1010、流平劑BYK3500及消泡劑BYK057所組成的材料群組中的至少其中一種。基於所述光阻液的總重為100wt%，所述有機溶劑的含量是介於5wt%至10wt%之間，並且所述添加劑的含量是介於1wt%至5wt%之間。
於本實施例中，所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於110mgKOH/g至180mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於70mgKOH/g至130mgKOH/g之間。較佳地，所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於130mgKOH/g至160mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於90mgKOH/g至110mgKOH/g之間。
所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間。較佳地，所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於65,000g/mole至90,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於65,000g/mole至90,000g/mole之間。
所述反應性單體為多官能基壓克力單體。較佳地，所述反應性單體是選自由丙氧基化乙氧基化雙-A二丙烯酸酯及季戊四醇三丙烯酸酯所組成的材料群組中的至少其中一種。所述反應性單體可以經光起始劑激發後形成交聯聚合物，從而使得所述光阻液能具有優異的耐化性。
所述起始劑為偶氮二異丁腈，並且所述催化劑為N,N-二甲基芐胺。，所述光起始劑是選自由2,2-二甲氧基-苯基乙酮、2-(2-氯苯基)-1-[2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基-2H-咪唑-2-基]-4,5-二苯基-1H-咪唑及二苯甲酮所組成的材料群組中的至少其中一種。
[實驗數據測試]
示範例1至4及比較例1至3的所述光阻液的各成分比例配方、膜面平整性、預烤狀況、曝光感度、滲鍍狀況、及去膜性如下表1，示範例1至4及比較例1至3的所述非反應型壓克力樹脂及所述反應型壓克力樹脂的各成分比例配方如下表2，並且相關測試方法說明如下。
膜面平整性測試：使用網目數為32網目的網版以網版印刷方式將去膜液形成厚度20微米至30微米之間的薄膜，並且觀察膜面平整性及是否有氣泡。膜面平整無氣泡標示「O」，膜面平整性稍差但可接受且有些許氣泡標示為「△」，膜面平整性差且有明顯氣泡標示為「X」。
預烤測試：將所述光阻液塗佈於一基板上並以75℃的溫度烘烤10分鐘至20分鐘。光阻液所形成的薄膜不黏附於所述基板標示為「O」，稍微黏附於所述基板標示為「△」，明顯黏附於所述基板標示為「X」。
曝光感度測試：對所述光阻液進行曝光，並且以21格曝光尺進行測試。測試結果滿足6至8格標示為「O」，其餘標示為「X」。
滲鍍狀況測試：在鍍金後以AOI自動光學檢測，無滲鍍標示為「O」，些微滲鍍標示為「△」，明顯滲鍍標示為「X」。
去膜性測試：以6%NaOH在去膜槽中進行去膜96秒，在以AOI自動光學檢測，去膜乾淨且無殘留標示為「O」，有些微殘留「△」，去膜不乾淨且有明顯殘留「X」。
[表2 示範例與比較例的非反應型壓克力樹脂及反應型壓克力樹脂的各成分比例配方]
[測試結果討論]
在示範例1及2中均具無滲鍍及去膜乾淨、無殘留等優點，均適用於鍍金製程。
比較例1雖具去膜乾淨、無殘留，但有明顯滲鍍，而比較例2中雖無滲鍍，但去膜不乾淨且有明顯殘留，故均不適用於鍍金製程。
示範例1至示範例4中，所述光阻液包含41wt%至55wt%的非反應型壓克力樹脂以及16wt%至30wt%的反應型壓克力樹脂，從而使得所述光阻液能具有優異的膜面平整性、曝光感度及去膜性、預烤狀況良好且無滲鍍。
[實施例的有益效果]
本發明的其中一有益效果在於，本發明所提供的光阻液及其製造方法，其能通過“所述光阻液包含一非反應型壓克力樹脂、一反應型壓克力樹脂、一反應性單體及一光起始”以及“基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間”的技術方案，以有效改善有的光阻液在應用於鍍金製程時，容易發生滲鍍的問題。
以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例，並非因此侷限本發明的申請專利範圍，所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的申請專利範圍內。
S110:非反應型壓克力樹脂形成步驟
S120:反應型壓克力樹脂形成步驟
S130:光阻液形成步驟
Claims (12)
- 一種光阻液，其特徵在於，所述光阻液能適用於鍍金製程，並且所述光阻液包含一非反應型壓克力樹脂、一反應型壓克力樹脂、一反應性單體及一光起始劑；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間；其中，所述非反應型壓克力樹脂是由一第一原料成分與一起始劑反應形成，所述反應型壓克力樹脂是由一第二原料成分、所述起始劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯反應形成，並且所述第一原料成分及所述第二原料成分包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、正丁基-丙烯酸甲酯、丙烯酸2-乙基己酯、苯乙烯、二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚；其中，所述反應性單體為多官能基壓克力單體。
- 如請求項1所述的光阻液，其中，所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於110mgKOH/g至180mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於70mgKOH/g至130mgKOH/g之間；其中，所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間。
- 如請求項1所述的光阻液，其中，所述反應性單體是選自由丙氧基化乙氧基化雙-A二丙烯酸酯(Propoxylated Ethoxylated Bis-A Diacrylate)及季戊四醇三丙烯酸酯所組成的材料群組中的至少其中一種；其中，所述起始劑為偶氮二 異丁腈。
- 如請求項1所述的光阻液，其中，所述光起始劑是選自由2,2-二甲氧基-苯基乙酮、2-(2-氯苯基)-1-[2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基-2H-咪唑-2-基]-4,5-二苯基-1H-咪唑及二苯甲酮所組成的材料群組中的至少其中一種。
- 如請求項1所述的光阻液，進一步包含一有機溶劑；其中，所述有機溶劑的沸點不小於180℃；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述有機溶劑的含量是介於5wt%至10wt%之間。
- 如請求項5所述的光阻液，其中，所述有機溶劑是選自由二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚所組成的材料群組中的至少其中一種。
- 如請求項1所述的光阻液，進一步包含一添加劑；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述添加劑的含量是介於1wt%至5wt%之間；其中，所述添加劑是選自由抗氧化劑CHINOX 1010、流平劑BYK3500及消泡劑BYK057所組成的材料群組中的至少其中一種。
- 一種光阻液的製造方法，其包括：一非反應型壓克力樹脂形成步驟：攪拌一第一原料成分並於所述第一原料成分中加入一起始劑進行反應以形成一非反應型壓克力樹脂；一反應型壓克力樹脂形成步驟：攪拌一第二原料成分並於所述第二原料成分中加入所述起始劑及甲基丙烯酸縮水甘油酯進行反應以形成一反應型壓克力樹脂；其中，所述第一原料成分及所述第二原料成分包含甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、正丁基-丙烯酸甲酯、丙烯酸2-乙基己酯、苯乙烯、二乙二醇乙醚醋酸酯及二丙二醇甲醚；以及 一光阻液形成步驟：將所述非反應型壓克力樹脂、所述反應型壓克力樹脂、一反應性單體、及一光起始劑混和並攪拌以形成一光阻液；其中，所述光阻液能適用於鍍金製程；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述非反應型壓克力樹脂的含量是介於45wt%至55wt%之間，所述反應型壓克力樹脂的含量是介於18wt%至30wt%之間，所述反應性單體的含量是介於8wt%至18wt%之間，並且所述光起始劑的含量是介於1wt%至5wt%之間；其中，所述反應性單體為多官能基壓克力單體。
- 如請求項8所述的光阻液的製造方法，其中，所述非反應型壓克力樹脂的酸價為介於110mgKOH/g至180mgKOH/g之間，並且所述反應型壓克力樹脂的酸價為介於70mgKOH/g至130mgKOH/g之間；其中，所述非反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間，並且所述反應型壓克力樹脂的重量平均分子量為介於50,000g/mole至100,000g/mole之間。
- 如請求項8所述的光阻液的製造方法，其中，所述反應性單體是選自由丙氧基化乙氧基化雙-A二丙烯酸酯(Propoxylated Ethoxylated Bis-A Diacrylate)及季戊四醇三丙烯酸酯所組成的材料群組中的至少其中一種；其中，所述起始劑為偶氮二異丁腈。
- 如請求項8所述的光阻液的製造方法，其中，所述光起始劑是選自由2,2-二甲氧基-苯基乙酮、2-(2-氯苯基)-1-[2-(2-氯苯基)-4,5-二苯基-2H-咪唑-2-基]-4,5-二苯基-1H-咪唑及二苯甲酮所組成的材料群組中的至少其中一種。
- 如請求項8所述的光阻液的製造方法，其中，於所述光阻液形成步驟中，還添加有一有機溶劑及一添加劑；其中，所述 有機溶劑的沸點不小於180℃；其中，所述添加劑是選自由抗氧化劑CHINOX 1010、流平劑BYK3500及消泡劑BYK057所組成的材料群組中的至少其中一種；其中，基於所述光阻液的總重為100wt%，所述有機溶劑的含量是介於5wt%至10wt%之間，並且所述添加劑的含量是介於1wt%至5wt%之間。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW112103784A TWI832690B (zh) | 2023-02-03 | 2023-02-03 | 光阻液及其製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW112103784A TWI832690B (zh) | 2023-02-03 | 2023-02-03 | 光阻液及其製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWI832690B true TWI832690B (zh) | 2024-02-11 |
Family
ID=90824855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW112103784A TWI832690B (zh) | 2023-02-03 | 2023-02-03 | 光阻液及其製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| TW (1) | TWI832690B (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20170235225A1 (en) * | 2014-08-11 | 2017-08-17 | Jsr Corporation | Coloring composition, colored cured film, and solid-state imaging element |
| TW201835683A (zh) * | 2017-03-01 | 2018-10-01 | 日商旭化成股份有限公司 | 感光性樹脂組合物 |
| CN111999982A (zh) * | 2020-09-09 | 2020-11-27 | 广州斯达利电子原料有限公司 | 一种led感光阻焊白油用光敏聚丙烯酸树脂及制备方法 |
| TW202239773A (zh) * | 2021-01-29 | 2022-10-16 | 日商三菱化學股份有限公司 | 感光性樹脂組合物、硬化物、阻隔壁、有機電致發光元件、彩色濾光器及圖像顯示裝置 |
-
2023
- 2023-02-03 TW TW112103784A patent/TWI832690B/zh active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20170235225A1 (en) * | 2014-08-11 | 2017-08-17 | Jsr Corporation | Coloring composition, colored cured film, and solid-state imaging element |
| TW201835683A (zh) * | 2017-03-01 | 2018-10-01 | 日商旭化成股份有限公司 | 感光性樹脂組合物 |
| CN111999982A (zh) * | 2020-09-09 | 2020-11-27 | 广州斯达利电子原料有限公司 | 一种led感光阻焊白油用光敏聚丙烯酸树脂及制备方法 |
| TW202239773A (zh) * | 2021-01-29 | 2022-10-16 | 日商三菱化學股份有限公司 | 感光性樹脂組合物、硬化物、阻隔壁、有機電致發光元件、彩色濾光器及圖像顯示裝置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102516903B (zh) | 丙烯酸压敏粘合剂 | |
| TWI471339B (zh) | 供印刷用之糊組成物 | |
| TWI760534B (zh) | 感光性樹脂組成物及其之製造方法、濾色器及其之製造方法，以及圖像顯示元件 | |
| JP6477504B2 (ja) | 接着剤組成物、接着剤組成物を用いた半導体装置の製造方法、及び固体撮像素子 | |
| JP3476714B2 (ja) | 酢酸ビニル樹脂系エマルジョンの製造方法及び水性接着剤 | |
| WO2011115224A1 (ja) | 光学部材用粘着剤組成物及び光学部材用粘着テープ | |
| JPWO2012141000A1 (ja) | 共重合体、その共重合体を含む樹脂組成物及び感光性樹脂組成物、並びにカラーフィルター | |
| JPS5818931B2 (ja) | 粘着基剤用酢酸ビニル−エチレン共重合体エマルジョン | |
| CN1784633B (zh) | 感光树脂组合物和使用该感光树脂组合物的干膜抗蚀剂 | |
| US20080039544A1 (en) | Photosensitive resin composition | |
| CN108003290B (zh) | 一种碱溶性树脂聚合物、其制备方法和感光性树脂组合物及它们的应用 | |
| CN109628027B (zh) | 一种耐高温耐酸碱丙烯酸酯压敏胶组合物及保护膜 | |
| CN109491205B (zh) | 一种感光树脂组合物及其制备方法 | |
| TWI772352B (zh) | 乳液顆粒、包括其之乳液及該乳液之製造方法 | |
| TWI386714B (zh) | Ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜、ｔｆｔ-ｌｃｄ用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法 | |
| TWI832690B (zh) | 光阻液及其製造方法 | |
| TWI516871B (zh) | 負型厚膜光阻組成物及其用途 | |
| WO2015032239A1 (zh) | 碱可溶性树脂及其制备方法 | |
| EP2532720B1 (en) | Ink-jet ink for color filter and method for preparing the same and method for preparation of color filter | |
| CN108373520A (zh) | 一种丙烯酸酯共聚物及包含其的光刻胶组合物 | |
| JP4331178B2 (ja) | ネガ型カチオン性電着フォトレジスト用樹脂組成物及びそれを塗布してなる電着塗膜 | |
| JP2015222279A (ja) | 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、及びカラーフィルター | |
| BE1003994A4 (fr) | Composition de resine durcissable par irradiation par des rayons de haute energie. | |
| EP0818515B1 (en) | Waterborne photosensitive resin composition | |
| CN114437359B (zh) | 一种透明光刻胶用感光性树脂组合物 |