JPWO2018117077A1 - 光集積素子および光送信機モジュール - Google Patents
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Abstract
Description
図1Aは、第1実施形態に係る光集積素子の導波路方向断面図であり、図1Bは、第1実施形態に係る光集積素子の上面図であり、図1Cは、第1実施形態に係る光集積素子の断面図である。なお、図1Aおよび図1Bに記載の矢印(a)〜(e)は、図1Cに記載の断面の箇所に対応している。
図2Aは、第2実施形態に係る光集積素子の導波路方向断面図であり、図2Bは、第2実施形態に係る光集積素子の上面図であり、図2Cは、第2実施形態に係る光集積素子の断面図である。なお、図2Aおよび図2Bに記載の矢印(a)〜(c)は、図2Cに記載の断面の箇所に対応している。また、第2実施形態に係る光集積素子も、1.55μm波長帯の光を紙面の左右どちらの端面から入射する用途にも応用し得る。
図3Aは、第3実施形態に係る光集積素子の導波路方向断面図であり、図3Bは、第3実施形態に係る光集積素子の上面図であり、図3Cは、第3実施形態に係る光集積素子の断面図である。なお、図3Aおよび図3Bに記載の矢印(a)〜(e)は、図3Cに記載の断面の箇所に対応している。図3A〜図3Cに示される光集積素子300は、位相変調器からSCCまでの連結領域に用いる構成例として説明するが、第3実施形態に係る光集積素子は、位相変調器との組み合わせに限定されるものではない。また、第3実施形態に係る光集積素子も、1.55μm波長帯の光を紙面の左右どちらの端面から入射する用途にも応用し得る。
第4実施形態に係る光集積素子400は、より実際的な実施形態であり、上記第1実施形態から第3実施形態の特徴のすべてを一つの光集積素子に適用した実施形態である。図4は、第4実施形態に係る光集積素子400の概略上面図である。
図7は、第5実施形態に係る光送信機モジュールの概略構成図である。第5実施形態に係る光送信機モジュール500は、上記第1実施形態から第4実施形態に係る光集積素子のうち何れか1つを用いた光送信機モジュールであるが、ここでは、第4実施形態に係る光集積素子400を用いた光送信機モジュールを例示する。
101,201,301,401 基板
102,202,302,402 下部クラッド層
103,203,303,403 導波路コア
104,204,304,404 上部クラッド層
105,205,305,405 コンタクト層
106,306,406 変調器コア
107,207,407 量子井戸層
208,308,408 SSCコア
409a,409b 電極
410 パシベーション膜
411 樹脂層
420 IQ変調器
430 SOA
440 SSC
500 光送信機モジュール
501 波長可変半導体レーザ
502a,502b 第1レンズ
503a,503b 第2レンズ
504 光ファイバ
Claims (24)
- 基板と、
前記基板上に、前記基板よりも屈折率の高い第2コア層と、前記第2コア層よりも屈折率の低い下部クラッド層と、前記下部クラッド層よりも屈折率の高い第1コア層と、前記第1コア層よりも屈折率の低い上部クラッド層とを順次積層したパッシブ導波路領域と、
前記基板上に、前記第2コア層と、前記下部クラッド層と、前記第1コア層と、電流が注入されることによって光を増幅する量子井戸層と、前記上部クラッド層とを順次積層した活性領域と、
を備え、
前記第1コア層と前記量子井戸層との間は、前記第1コア層を導波している光のモードフィールドの範囲内で近接しており、
前記パッシブ導波路領域の少なくとも一部および前記活性領域は、前記上部クラッド層がメサ状に突出した第1メサ構造を有し、
前記パッシブ導波路領域は、前記第1メサ構造に加えて、前記第1コア層と前記下部クラッド層と前記第2コア層とがメサ状に突出した第2メサ構造を有する第2スポットサイズ変換領域を含み、
前記第2メサ構造の幅は、前記第1メサ構造の幅よりも広く、かつ、前記第2メサ構造を有する前記パッシブ導波路領域では、前記第1メサ構造の幅が連続的に変化している、
ことを特徴とする光集積素子。 - 前記第1コア層と、前記量子井戸層の間に、前記第1コア層及び前記量子井戸層と異なる組成の中間層を備える、
ことを特徴とする請求項1に記載の光集積素子。 - 前記中間層は、前記下部あるいは上部クラッド層と同じ組成である、
ことを特徴とする請求項2に記載の光集積素子。 - 前記パッシブ導波路領域は、前記第1コア層の層厚が変化している第1スポットサイズ変換領域を含む、
ことを特徴とする請求項3に記載の光集積素子。 - 前記パッシブ導波路領域は、前記第1コア層の層厚が変化している第1スポットサイズ変換領域を含む、
ことを特徴とする請求項1に記載の光集積素子。 - 基板と、
前記基板上に、下部クラッド層と、前記下部クラッド層よりも屈折率の高い第1コア層と、前記第1コア層よりも屈折率の低い上部クラッド層とを順次積層したパッシブ導波路領域と、
前記基板上に、前記下部クラッド層と、前記第1コア層と、電流が注入されることによって光を増幅する量子井戸層と、前記上部クラッド層とを順次積層した活性領域と、
を備え、
前記第1コア層と前記量子井戸層との間は、前記第1コア層を導波している光のモードフィールドの範囲内で近接しており、
前記パッシブ導波路領域は、前記第1コア層の層厚が変化している第1スポットサイズ変換領域を含む、
ことを特徴とする光集積素子。 - 前記パッシブ導波路領域および前記活性領域では、前記基板と前記下部クラッド層との間に、前記基板および前記下部クラッド層よりも屈折率の高い第2コア層が積層されており、
前記パッシブ導波路領域の少なくとも一部および前記活性領域は、前記上部クラッド層がメサ状に突出した第1メサ構造を有し、
前記パッシブ導波路領域は、前記第1メサ構造に加えて、前記第1コア層と前記下部クラッド層と前記第2コア層とがメサ状に突出した第2メサ構造を有する第2スポットサイズ変換領域を含み、
前記第2メサ構造の幅は、前記第1メサ構造の幅よりも広く、かつ、前記第2メサ構造を有する前記パッシブ導波路領域では、前記第1メサ構造の幅が連続的に変化している、
ことを特徴とする請求項6に記載の光集積素子。 - 基板と、
前記基板上に、前記基板よりも屈折率の高い第2コア層と、前記第2コア層よりも屈折率の低い下部クラッド層と、前記下部クラッド層よりも屈折率の高い第1コア層と、前記第1コア層よりも屈折率の低い上部クラッド層とを順次積層したパッシブ導波路領域と、
を備え、
前記パッシブ導波路領域の少なくとも一部は、前記上部クラッド層がメサ状に突出した第1メサ構造を有し、
前記パッシブ導波路領域は、前記第1メサ構造に加えて、前記第1コア層の層厚が変化している第1スポットサイズ変換領域と、前記第1コア層と前記下部クラッド層と前記第2コア層とがメサ状に突出した第2メサ構造を有する第2スポットサイズ変換領域とを含み、
前記第2メサ構造の幅は、前記第1メサ構造の幅よりも広く、かつ、前記第2メサ構造を有する前記パッシブ導波路領域では、前記第1メサ構造の幅が連続的に変化している、
ことを特徴とする光集積素子。 - 前記基板上に、前記第2コア層と、前記下部クラッド層と、前記第1コア層と、電流が注入されることによって光を増幅する量子井戸層と、前記上部クラッド層とを順次積層した活性領域を備え、
前記第1コア層と前記量子井戸層との間は、前記第1コア層を導波している光のモードフィールドの範囲内で近接している、
ことを特徴とする請求項8に記載の光集積素子。 - 前記第1スポットサイズ変換領域と前記第2スポットサイズ変換領域との間に、前記活性領域が配置されている、
ことを特徴とする請求項5に記載の光集積素子。 - 前記第2スポットサイズ変換領域は、当該光集積素子の端面に隣接して配置されている、
ことを特徴とする請求項10に記載の光集積素子。 - 前記第2スポットサイズ変換領域における前記第1メサ構造の幅は、前記端面まで延設せずに途中でゼロになる、
ことを特徴とする請求項11に記載の光集積素子。 - 前記パッシブ導波路領域の他の一部は、前記第1スポットサイズ変換領域を含み、かつ、前記上部クラッド層と前記第1コア層と前記下部クラッド層の一部とがメサ状に突出したハイメサ構造を有し、
前記第1メサ構造と前記ハイメサ構造とが光学的に接続されている、
ことを特徴とする請求項5に記載の光集積素子。 - 前記基板上に、導波する光の位相を変調する位相変調器として機能する変調器領域を備えている、
ことを特徴とする請求項13に記載の光集積素子。 - 前記変調器領域にて光を導波する変調器コア層は、前記第1コア層と突合せ接合されている、
ことを特徴とする請求項14に記載の光集積素子。 - 前記パッシブ導波路領域の他の一部は、前記第1スポットサイズ変換領域を含み、かつ、前記上部クラッド層と前記第1コア層と前記下部クラッド層の一部とがメサ状に突出したハイメサ構造を有し、
前記第1メサ構造と前記ハイメサ構造とが光学的に接続されている、
ことを特徴とする請求項6に記載の光集積素子。 - 前記基板上に、導波する光の位相を変調する位相変調器として機能する変調器領域を備えている、
ことを特徴とする請求項16に記載の光集積素子。 - 前記変調器領域にて光を導波する変調器コア層は、前記第1コア層と突合せ接合されている、
ことを特徴とする請求項17に記載の光集積素子。 - 前記パッシブ導波路領域の他の一部は、前記第1スポットサイズ変換領域を含み、かつ、前記上部クラッド層と前記第1コア層と前記下部クラッド層の一部とがメサ状に突出したハイメサ構造を有し、
前記第1メサ構造と前記ハイメサ構造とが光学的に接続されている、
ことを特徴とする請求項8に記載の光集積素子。 - 前記基板上に、導波する光の位相を変調する位相変調器として機能する変調器領域を備えている、
ことを特徴とする請求項19に記載の光集積素子。 - 前記変調器領域にて光を導波する変調器コア層は、前記第1コア層と突合せ接合されている、
ことを特徴とする請求項20に記載の光集積素子。 - 請求項5に記載の光集積素子を備えることを特徴とする光送信機モジュール。
- 請求項6に記載の光集積素子を備えることを特徴とする光送信機モジュール。
- 請求項8に記載の光集積素子を備えることを特徴とする光送信機モジュール。
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