JPWO2018101348A1 - 波長変換部材およびバックライトユニット - Google Patents

Abstract

量子ドットなどの蛍光体を含有する波長変換部材において、白色光の再現性の高い波長変換部材およびバックライトユニットを提供する。一方の主面側に離散的に配置された複数の凹部が形成された樹脂層、および、樹脂層に形成された凹部に配置される蛍光体を含む複数の蛍光領域を有する波長変換層を有し、樹脂層の凹部が形成された側の面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍである。

Description

本発明は、励起光照射により蛍光を発する蛍光体を含む波長変換部材および波長変換部材を備えたバックライトユニットに関する。

液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。近年の液晶表示装置において、ＬＣＤ性能改善としてさらなる省電力化や色再現性向上等が求められている。

ＬＣＤのバックライトの省電力化に伴って、光利用効率を高め、また、色再現性を向上するために、入射光の波長を変換して出射する量子ドット（ＱｕａｎｔｕｍＤｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）を発光材料（蛍光体）として含んだ波長変換層を有する波長変換部材を利用することが提案されている。

量子ドットとは、三次元全方向において移動方向が制限された電子の状態のことであり、半導体のナノ粒子が、高いポテンシャル障壁で三次元的に囲まれている場合に、このナノ粒子は量子ドットとなる。量子ドットは種々の量子効果を発現する。例えば、電子の状態密度（エネルギー準位）が離散化される「量子サイズ効果」が発現する。この量子サイズ効果によれば、量子ドットの大きさを変化させることで、光の吸収波長や発光波長を制御できる。

一般に、このような量子ドットは、樹脂等の中に分散されて、例えば、波長変換を行う波長変換部材として、バックライトと液晶パネルとの間に配置されて用いられる。
バックライトから量子ドットを含む波長変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用い、各量子ドットに赤色光、緑色光もしくは青色光の半値幅の狭い光を発光させることにより白色光を具現化することができる。あるいは、励起光を青色光とし、黄色光を発光する量子ドットを用いることで、波長変換部材を透過した励起光と、量子ドットの発光とで白色光を具現化することもできる。
量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にすること、および色再現性に優れる設計にすることが可能である。

例えば、特許文献１には、一つ以上の凹部を有する基板と、前記凹部に配置される、発光ナノ結晶を複数含む1つまたは複数の組成物とを有する光学部品が記載されている。

米国特許公開２０１４／１７８６４８号

ところで、ＬＣＤなどのフラットパネルディスプレイにおいては、更なる薄型化が求められており、これに用いられる波長変換部材にも更なる薄型化が求められている。
本発明者らの検討によれば、波長変換部材（波長変換層）を薄くすると、波長変換層内の蛍光体の含有量が少なくなるため、蛍光体からの発光量が少なくなり、色再現性が低下するという問題が生じることがわかった。また、波長変換層を薄くすると、面内の厚みムラの影響が大きくなるため、位置によって蛍光の発光量が異なり色ムラが生じて色再現性が低下するという問題が生じることがわかった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、量子ドットなどの蛍光体を含有する波長変換部材において、色再現性の高い波長変換部材、ならびに、この波長変換部材を備えたバックライトユニットを提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、入射する励起光の少なくとも一部を吸収して励起光の波長とは異なる波長の光に変換して出射する波長変換部材であって、一方の主面側に離散的に配置された複数の凹部が形成された樹脂層、および、樹脂層に形成された凹部に配置される蛍光体を含む複数の蛍光領域を有する波長変換層を有し、樹脂層の凹部が形成された側の面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍであることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

（１） 入射する励起光の少なくとも一部を吸収して励起光の波長とは異なる波長の光に変換して出射する波長変換部材であって、
一方の主面側に離散的に配置された複数の凹部が形成された樹脂層、および、樹脂層に形成された凹部に配置される蛍光体を含む複数の蛍光領域を有する波長変換層を有し、
樹脂層の凹部が形成された側の面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍである波長変換部材。
（２） 樹脂層と蛍光領域との屈折率差Δｎが０．０５以上である（１）に記載の波長変換部材。
（３） 樹脂層および蛍光領域の少なくとも一方に散乱粒子を含む（１）または（２）に記載の波長変換部材。
（４） 樹脂層に形成される凹部の深さが１〜１５０μｍである（１）〜（３）のいずれかに記載の波長変換部材。
（５） 樹脂層に形成される凹部の幅が１０〜２０００μｍである（１）〜（４）のいずれかに記載の波長変換部材。
（６） 波長変換層は、異なる波長域の光を出射する２種以上の蛍光領域を有する（１）〜（５）のいずれかに記載の波長変換部材。
（７） 波長変換層を挟んで積層される２枚の基材フィルムを有する（１）〜（６）のいずれかに記載の波長変換部材。
（８） 波長変換層の厚みが５〜１５０μｍである（１）〜（７）のいずれかに記載の波長変換部材。
（９） （１）〜（８）のいずれかに記載の波長変換部材と、励起光を出射する光源とを有するバックライトユニット。

本発明によれば、量子ドットなどの蛍光体を含有する波長変換部材において、白色光の再現性の高い波長変換部材、ならびに、この波長変換部材を備えたバックライトユニットを提供することができる。

本発明の波長変換部材の一例を模式的に示す斜視図である。 図１の波長変換部材の平面図である。 図１の波長変換部材の断面図である。 樹脂層と蛍光領域との境界を模式的に示す部分拡大断面図である。 蛍光領域の平面視パターンの他の一例を示す平面図である。 蛍光領域の平面視パターンの他の一例を示す平面図である。 蛍光領域の輪郭の特定方法を説明するための図である。 本発明の波長変換部材の作製方法を説明するための模式図である。 本発明の波長変換部材の作製方法を説明するための模式図である。 波長変換部材を備えたバックライトユニットの概略構成断面図である。

以下、図面を参照して、本発明に係る波長変換部材、および、波長変換部材を備えたバックライトユニットの実施の形態について説明する。本明細書の図面において、視認しやすくするために各部の縮尺を適宜変更して示している。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、『（メタ）アクリレート』とは、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。『（メタ）アクリロイル』等も同様である。

＜波長変換部材＞
本発明の波長変換部材は、
入射する励起光の少なくとも一部を吸収して励起光の波長とは異なる波長の光に変換して出射する波長変換部材であって、
一方の主面側に離散的に配置された複数の凹部が形成された樹脂層、および、樹脂層に形成された凹部に配置される蛍光体を含む複数の蛍光領域を有する波長変換層を有し、
樹脂層の凹部が形成された側の面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍである波長変換部材である。

図１は、本発明に係る波長変換部材１の一例を模式的に示す斜視図であり、図２は図１の平面図であり、図３は図１の断面図である。なお、図１においては説明のため、第２の基材フィルム２０を破線で示し、波長変換層３０を実線で示す。
本実施形態の波長変換部材１は、第１の基材フィルム１０と、第１の基材フィルム１０上において、励起光により励起され蛍光を発光する蛍光体３１を含む領域３５が複数、離散的に配置され、離散的に配置された蛍光体３１を含む領域３５間に、樹脂層３８が配置されてなる波長変換層３０と、波長変換層３０上に配置される第２の基材フィルム２０とを備えている。以下において、蛍光体３１を含む領域３５を蛍光領域３５と称する。
言い換えると、波長変換層３０は、樹脂層３８と蛍光領域３５とを有し、樹脂層３８には複数の凹部が離散的に形成されており、蛍光領域３５が樹脂層３８の凹部内に配置された構成を有する。

本明細書において、「第１の基材フィルム上において、・・・蛍光体を含む領域が複数、離散的に配置され」とは、図１および図２に示すように、第１の基材フィルムのフィルム面に垂直な方向から観察（平面視）した際に、第１の基材フィルム１０のフィルム面に沿った二次元方向において複数の蛍光領域３５が互いに孤立して配置されていることを意味する。図１に示す例においては、蛍光領域３５は円柱状（ディスク状）であり、第１の基材フィルム１０のフィルム面に沿った二次元方向において樹脂層３８に囲まれて個々孤立しており、個々の蛍光領域３５への第１の基材フィルム１０のフィルム面に沿った二次元方向からの酸素の侵入が遮断されている。
なお、図３に示すように、蛍光領域３５は、樹脂層３８の複数の凹部に配置されるとともに、樹脂層３８の凹凸面の上部を覆うように形成されていてもよい。すなわち、蛍光領域３５は、個々の凹部内に独立して配置された部位が、部分的に接続されていてもよい。

ここで、本発明の波長変換部材は、樹脂層の凹部が形成された側の面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍである。すなわち、樹脂層の、蛍光領域と接する面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍである。

前述のとおり、ＬＣＤなどのフラットパネルディスプレイにおいては、更なる薄型化が求められており、これに用いられる波長変換部材にも更なる薄型化が求められている。
しかしながら、本発明者らの検討によれば、波長変換部材（波長変換層）を薄くすると、波長変換層内の蛍光体の含有量が少なくなるため、蛍光体からの発光量が少なくなり、色再現性が低下するという問題が生じることがわかった。例えば、励起光を青色光とし、黄色光を発光する量子ドットを用いて白色光を具現化する場合には、波長変換部材を透過した励起光（青色光）と、量子ドットが発光した蛍光（黄色光）との光量をバランスさせることで白色光を具現化するが、波長変換部材を透過する励起光に対して、量子ドットが発光する蛍光の発光量が少ないと白色光を正確に具現化することができない。
また、波長変換層を薄くすると、面内の厚みムラの影響が大きくなるため、位置によって蛍光の発光量が異なってしまい、色再現性が低下するという問題が生じることがわかった。例えば、赤色光、緑色光および青色光をそれぞれ発光する３種の量子ドットを用いて白色光を具現化する場合に、位置によって発光量が異なると、赤色光、緑色光および青色光の光量のバランスが崩れて、正確に白色光を再現することができない。

これに対して、本発明の波長変換部材は、波長変換層が、複数の凹部が形成された樹脂層と、蛍光体を含む蛍光領域とを有し、蛍光領域が複数の凹部内に配置され、さらに、樹脂層の凹部側の面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍである。
蛍光領域を、樹脂層に形成された複数の凹部内に配置することで、波長変換層を薄くした場合であっても、各蛍光領域を均一な厚さに形成することができ、厚みのバラツキに起因する色再現性の低下を抑制できる。
また、樹脂層の凹部が形成される側の面の表面粗さＲａを０．３〜５μｍとすることで、蛍光領域の蛍光体が発光した蛍光を散乱して、波長変換部材の主面側から出射される蛍光の光量を増加させることができ、蛍光の光量不足による色再現性の低下を抑制できる。

ここで、単に、蛍光領域を平坦な層とし、これに隣接する部材の表面を粗面化して光を散乱させる構成では、蛍光を十分に散乱することができない。これに対して、樹脂層に凹部を形成し、その表面粗さＲａを０．３〜５μｍとして、凹部の側面等の、波長変換部材の表面とは異なる角度の面を粗面化することで、種々の方向に発光する蛍光体からの蛍光をより好適に散乱させることができ、波長変換部材の主面側から出射される蛍光の光量を増加させることができる。
例えば、蛍光領域を平坦な層とし、これに隣接する部材の表面を粗面化した構成では、波長変換部材の表面に略平行な方向に進行する蛍光は、十分に散乱することが難しい。これに対して、樹脂層に凹部を形成し、その表面を粗面化した構成では、波長変換部材の表面に略平行な方向に進行する蛍光を容易に散乱することができるため、波長変換部材の表面に略平行な方向に進行する蛍光を、波長変換部材の表面に略垂直な方向に導くことができ、波長変換部材の主面側から出射される蛍光の光量を増加させることができる。
また、複数の凹部が形成された面を粗面化することで、粗面の実質的な表面積を大きくすることができ、粗面化による散乱の効果をより高くすることができる。

ここで、樹脂層の凹部が形成された側の面の表面粗さＲａは、０．５〜２μｍが好ましく、０．６〜１．５μｍがより好ましい。
なお、樹脂層の表面粗さＲａは、波長変換部材をミクロトームで切削して断面を形成したのち、断面を走査型電子顕微鏡で観察することで求めた。具体的にはＲａは、観察した断面における樹脂層と蛍光体含有層の界面の粗さ曲線から、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に従って求めた。評価長さは５０μｍとし、ｎ＝５の平均値を用いた。
ただ、隣接する蛍光領域３５の幅、すなわち、樹脂層３８の厚みｔが５０μｍ未満であるときは、Ｒａ算出時の評価長さは、ｔと等しくした。

また、樹脂層の凹部が形成された側の面は、ランダムに粗面化されていても良いし、図４に示すように、微小な凸部が所定のパターンで形成されて粗面化された構成でもよい。
また、樹脂層の凹部の底面、凸部の頂面、底面から頂面に至る斜面など、その一部のみが粗面化された構成でもよい。

ここで、本発明においては、樹脂層３８の屈折率と蛍光領域３５の屈折率との差Δｎが、０．０５以上であるのが好ましく、０．１以上であるのがより好ましく、０．４以上２．０以下であるのがさらに好ましい。
樹脂層３８と蛍光領域との屈折率差Δｎを上記範囲とすることで、蛍光領域３５からの発光をより好適に散乱することができる。

また、本発明の波長変換部材においては、蛍光領域３５が配置される樹脂層３８の凹部の深さをｈとし、隣接する蛍光領域３５間の幅、すなわち、樹脂層３８の厚みをｔとすると、樹脂層３８の凹部の深さｈが１μｍ以上１５０μｍ以下であるのが好ましく、隣接する蛍光領域３５の間の幅ｔが５μｍ以上３００μｍ以下であるのが好ましく、隣接する蛍光領域３５間の幅ｔと深さｈとのアスペクト比ｈ／ｔが３．０未満であるのが好ましい。
また、凹部の幅、すなわち、蛍光領域の幅は、１０μｍ以上２０００μｍ以下であるのが好ましい。

樹脂層３８の凹部の深さｈを１μｍ以上１００μｍ以下とすることで、蛍光領域３５の面内厚みのばらつきを好適に抑制でき、また、粗面化による散乱の効果を好適に得ることができる。
また、凹部の幅を１０μｍ以上２０００μｍ以下とすることで、蛍光体の光量を確保することができる。
また、隣接する蛍光領域３５の間の幅ｔを５μｍ以上３００μｍ以下とすることで、樹脂層が視認されるのを抑制でき、かつ、複数の凹部を有する樹脂層の強度を確保でき蛍光領域３５の面内厚みのばらつきを好適に抑制できる。また、粗面化による散乱の効果を好適に得ることができる。
また、隣接する蛍光領域３５間の幅ｔと深さｈとのアスペクト比ｈ／ｔを３．０未満とすることで、樹脂層の強度を確保でき蛍光領域３５の面内厚みのばらつきを好適に抑制できる。

なお、樹脂層３８に形成される凹部の深さｈは、波長変換部材の凹部の部分をミクロトームで切断して断面を形成し、励起光を波長変換層に照射して蛍光体を発光させた状態で、この断面を共焦点レーザー顕微鏡を用いて観察し、凹部を１０個抽出して深さを測定して平均値として求める。

また、隣接する蛍光領域３５間の幅ｔ（樹脂層３８部分の厚みｔ）は、厚み方向の中心座標（樹脂層３８の凸部と凹部の中間）における隣接する蛍光領域３５間の最短距離であり、励起光を波長変換層に照射して蛍光体を発光させた状態で、波長変換部材の一方の面から、共焦点レーザー顕微鏡を用いて表面を観察し、隣接する蛍光領域３５の間の樹脂層３８部分を少なくとも２０個抽出し、その幅を読み取って、これらの平均値を幅ｔとして算出する。

また、凹部の幅は、凹部の開口面における最大幅の長さである。例えば、凹部の開口面の形状が円形状であれば凹部の幅は直径であり、凹部の開口面の形状が長方形状であれば凹部の幅は対角線の長さである。
凹部の幅は、励起光を波長変換層に照射して蛍光体を発光させた状態で、波長変換部材の一方の面から、共焦点レーザー顕微鏡を用いて表面を観察し、凹部を少なくとも２０個抽出し、その幅を読み取って、これらの平均値を凹部の幅として算出する。

図１に示す例では、樹脂層３８の凹部の形状、すなわち、蛍光領域３５の形状は円柱状であり、平面視において円形であるが、蛍光領域３５の形状は特に制限はない。図５に示すように平面視において四角形、あるいは図６に示すように平面視において六角形などのように蛍光領域３５は多角柱であってもよく、正多角柱であってもよい。また、上述の例においては円柱あるいは多角柱の底面が基材フィルム面に平行に配置されているが、必ずしも底面が基材フィルム面に平行に配置されていなくても構わない。また、各蛍光領域３５の形状は不定形であっても構わない。

なお、蛍光領域３５中のバインダ３３と蛍光領域３５間樹脂層３８との境界が明確でない場合には、図７に示すように、蛍光体３１が近接配置されている領域の最外部に位置する蛍光体３１eの外側（蛍光体３１が配置されていない側）の点を結ぶ線を蛍光領域３５の輪郭（蛍光領域３５と樹脂層３８の境界）ｍと看做すこととする。励起光を波長変換層に照射して蛍光体を発光させ、たとえば、共焦点レーザー顕微鏡などで観察することにより、蛍光体の位置を特定することができ、これにより蛍光領域３５の輪郭ｍを特定することができる。本明細書において、円柱や多角柱の辺は図７の輪郭のように蛇行しているものを許容するものとする。
また、上記実施形態においては、蛍光領域３５は周期的にパターン配置されているが、複数の蛍光領域３５が離散的に配置されていれば所望の性能が損なわれない限りにおいて、非周期的であってもよい。蛍光領域３５は、波長変換層３０の全域に亘って均一に分布していることが輝度の面内分布が均等になるため好ましい。

蛍光量を十分なものとするためには蛍光領域３５の占める領域をなるべく大きくすることが望ましい。
蛍光領域３５中の蛍光体３１は１種であってもよいし、複数種であってもよい。また、１つの蛍光領域３５中の蛍光体３１は１種として、複数の蛍光領域３５のうち、第１の蛍光体を含む領域と第１の蛍光体とは異なる第２の蛍光体を含む領域とが周期的にあるいは非周期的に配置されていてもよい。蛍光体の種類は３種以上であっても構わない。

波長変換層３０は、蛍光領域３５がフィルムの厚み方向に複数層積層されて構成されていてもよい。

また、波長変換層３０の厚みは、５〜１５０μｍが好ましく、５〜５０μｍがより好ましい。波長変換層３０の厚みを上記範囲とすることで、波長変換部材の厚みを薄くしつつ、蛍光の光量不足による色再現性の低下を抑制できる。

以下に、本発明の波長変換部材の各構成要素について説明する。

波長変換部材１は、第１の基材フィルム１０の一方のフィルム面に波長変換層３０が積層され、さらに、波長変換層３０の上に第２の基材フィルム２０が積層されて、波長変換層３０が２枚の基材フィルム１０、２０で挟持された構成である。

−波長変換層−
波長変換層３０は、離散的に配置された複数の凹部が形成された樹脂層３８と、樹脂層３８に形成された複数の凹部に配置される、蛍光体３１を含む複数の蛍光領域３５とを備える。

＜＜蛍光体を含む領域（蛍光領域）＞＞
蛍光領域３５は、蛍光体３１と蛍光体３１が分散されてなるバインダ３３とから構成されるものであり、蛍光体３１およびバインダ３３となる硬化性組成物を含む蛍光領域形成用塗布液を塗布、硬化して形成される。

＜蛍光体＞
蛍光体としては、公知の各種蛍光体を用いることができる。例えば、希土類ドーピングガーネット、ケイ酸塩、アルミン酸塩、リン酸塩、セラミックス蛍光体、硫化物蛍光体、窒化物蛍光体、酸窒化物蛍光体、フッ化物蛍光体等の無機蛍光体、および、有機蛍光染料および有機蛍光顔料を始めとする有機蛍光物質などである。また、半導体微粒子に希土類をドープした蛍光体、および、半導体のナノ微粒子（量子ドット、量子ロッド）も好適に用いられる。蛍光体は１種単独で用いることもできるが、所望の蛍光スペクトルが得られるように、異なる波長のものを複数混ぜて使用してもよいし、異なる素材構成の蛍光体同士の組み合わせ（例えば、希土類ドーピングガーネットと量子ドットとの組み合わせ）として用いてもよい。
以下においては、蛍光体として、主に量子ドットを例として説明するが、本発明の蛍光体としては、量子ドットに限らず、その他の蛍光色素、光電変換材料など、外部からのエネルギーを光に変換する、あるいは光を電気に変換する材料であれば特に限定はされない。

（量子ドット）
量子ドットは、数ｎｍ〜数十ｎｍの大きさをもつ化合物半導体の微粒子であり、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。

本実施形態の蛍光体としては、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００ｎｍ以上６８０ｎｍ以下の範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ以上〜６００ｎｍ未満の範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ以上５００ｎｍ未満の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む波長変換層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、波長変換層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む波長変換層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。

量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。

量子ドットは、塗布液の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。

量子ドットは、塗布液中に粒子の状態で添加してもよく、有機溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。量子ドットの分散のために使用される有機溶媒は、特に限定されるものではない。

量子ドットとしては、例えば、コアーシェル型の半導体ナノ粒子が、耐久性を向上する観点から好ましい。コアとしては、ＩＩ−ＶＩ族半導体ナノ粒子、ＩＩＩ−Ｖ族半導体ナノ粒子、及び多元系半導体ナノ粒子等を用いることができる。具体的には、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＣｄＳ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＧａＰ等が挙げられるが、これらに限定されない。中でも、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＩｎＰ、ＩｎＧａＰが、高効率で可視光を発光する観点から、好ましい。シェルとしては、ＣｄＳ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＧａＡｓ、およびこれらの複合体を用いることができるが、これらに限定されない。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成およびサイズにより調整することができる。

量子ドットは、球形の粒子であってもよく、また、量子ロッドとも呼ばれる、棒状の粒子であってもよく、さらに、テトラポッド型の粒子であってもよい。発光半値幅（ｆｕｌｌ ｗｉｄｔｈ ａｔ ｈａｌｆ ｍａｘｉｍｕｍ，ＦＷＨＭ）を狭くし、液晶表示装置の色再現域を拡大する観点からは、球形の量子ドット、または棒状の量子ドット（すなわち、量子ロッド）が好ましい。

量子ドットの表面には、ルイス塩基性の配位性基を有する配位子が配位していても良い。また、すでにこのような配位子が配位した量子ドットを用いることも可能である。ルイス塩基性の配位性基としては、アミノ基、カルボキシ基、メルカプト基、ホスフィン基、およびホスフィンオキシド基、等を挙げることができる。具体的には、ヘキシルアミン、デシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ミリスチルアミン、ラウリルアミン、オレイン酸、メルカプトプロピオン酸、トリオクチルホスフィン、およびトリオクチルホスフィンオキシド等を上げることができる。なかでも、ヘキサデシルアミン、トリオクチルホスフィン、およびトリオクチルホスフィンオキシドが好ましく、トリオクチルホスフィンオキシドが特に好ましい。

これらの配位子が配位した量子ドットは、公知の合成方法によって作製することができる。例えば、Ｃ．Ｂ．Ｍｕｒｒａｙ，Ｄ．Ｊ．Ｎｏｒｒｉｓ、Ｍ．Ｇ．Ｂａｗｅｎｄｉ，Ｊｏｕｒｎａｌ Ａｍａｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，１９９３，１１５（１９），ｐｐ８７０６−８７１５、または、Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１０１，ｐｐ９４６３−９４７５，１９９７に記載された方法によって合成することができる。また、配位子が配位した量子ドットは、市販のものを何ら制限無く用いることができる。例えば、Ｌｕｍｉｄｏｔ（シグマアルドリッチ社製）を挙げることができる。

本発明において、配位子が配位した量子ドットの含有量は、蛍光領域となる量子ドット含有組成物に含まれる重合性化合物の全質量に対し０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましい。波長変換部材の厚さにより、濃度を調整することが望ましい。

また、量子ドットは、上記量子ドット含有組成物に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。

（配位子の合成方法）
量子ドット含有組成物における配位子は、公知の合成法によって合成することができる。例えば、特許文献特開２００７−２７７５１４に記載の方法によって合成することができる。

＜蛍光領域のバインダを形成する硬化性組成物＞
本発明においては、蛍光領域のバインダを形成する硬化性組成物は、重合性化合物を含むのが好ましい。

（重合性化合物）
重合性化合物は、アクリル化合物であることが好ましい。単官能又は多官能（メタ）アクリレートモノマーが好ましく、重合性を有していれば、モノマーのプレポリマーやポリマーであってもよい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートの一方、または両方を意味する。『（メタ）アクリロイル』等も同様である。

−−単官能のもの−−
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本実施形態はこれに限定されるものではない。

メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる重合性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

−−２官能のもの−−
重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。

２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる重合性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。

−−３官能以上のもの−−
重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。

具体的には、ＥＣＨ（Epichlorohydrin）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ（ethylene oxide）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ（propylene oxide）変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。

これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。

多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる重合性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の波長変換層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。

また、蛍光領域（バインダ）の耐熱性をより向上させる観点から、（メタ）アクリレートモノマーは脂環式アクリレートであることが好ましい。そのような単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、たとえばジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレ−トが挙げられる。また、２官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、たとえばトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

また、バインダを形成する硬化性組成物中の重合性化合物の総量は、組成物の取扱いおよび硬化性の観点から硬化性組成物１００質量部に対して、７０〜９９質量部であることが好ましく、８５〜９７質量部であることがより好ましい。

−エポキシ系化合物他−
重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、基材フィルムとの密着性が向上する傾向にある。

エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。

その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。

これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。

エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル（株）製）、ＫＲＭ−２４００、ＫＲＭ−２４１０、ＫＲＭ−２４０８、ＫＲＭ−２４９０、ＫＲＭ−２７２０、ＫＲＭ−２７５０（以上、旭電化工業（株）製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。

また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ、２１３〜、平成４年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry OF heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York,１９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。

重合性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。
ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９−７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。

これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Stephen.C.Lapin,Polymers Paint Colour Journal.179(4237)、321(1988)に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

塗布液には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９−７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。

蛍光領域のバインダを形成する硬化性組成物に含まれる重合性化合物としては、（メタ）アクリレート系化合物、エポキシ系化合物などが特に好ましい。

上述した重合性化合物の中でも、（メタ）アクリレート化合物が、組成物粘度、光硬化性の観点から好ましく、アクリレートがより好ましい。また、本発明では、重合性官能基を２つ以上有する多官能重合性化合物が好ましい。本発明では特に、単官能（メタ）アクリレート化合物と多官能（メタ）アクリレート化合物の配合比が、重量比で８０／２０〜０／１００が好ましく、７０／３０〜０／１００がより好ましく、４０／６０〜０／１００であることが好ましい。適切な比率を選択することで、十分な硬化性を有し、且つ組成物を低粘度とすることができる。

上記多官能（メタ）アクリレート化合物において、上記２官能（メタ）アクリレートと上記３官能以上の（メタ）アクリレートの比率は、質量比で１００／０〜２０／８０が好ましく、より好ましくは１００／０〜５０／５０、さらに好ましくは１００／０〜７０／３０である。上記３官能以上の（メタ）アクリレートは上記２官能（メタ）アクリレートよりも粘度が高いため、上記２官能（メタ）アクリレートが多い方が本発明における蛍光領域のバインダを形成する硬化性組成物の粘度を下げられるため好ましい。

重合性化合物としては芳香族構造および／または脂環炭化水素構造を有する置換基を含有している化合物を含むことも好ましく、芳香族構造および／または脂環炭化水素構造を有する重合性化合物を成分中５０質量％以上含有していることがより好ましく、８０質量％以上含有していることがさらに好ましい。芳香族構造を有する重合性化合物としては、芳香族構造を有する（メタ）アクリレート化合物が好ましい。芳香族構造を有する（メタ）アクリレート化合物としては、ナフタレン構造を有する単官能（メタ）アクリレート化合物、例えば１−または２−ナフチル（メタ）アクリレート、１−または２−ナフチルメチル（メタ）アクリレート、１−または２−ナフチルエチル（メタ）アクリレート、芳香環上に置換基を有するベンジルアクリレートなどの単官能アクリレート、カテコールジアクリレート、キシリレングリコールジアクリレートなどの２官能アクリレートが特に好ましい。脂環炭化水素構造を有する重合性化合物としてはイソボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレートなどが好ましい。
また、重合性化合物として、（メタ）アクリレートを用いる場合、硬化性に優れる観点からメタアクリレートよりも、アクリレートの方が好ましい。

＜チキソトロピー剤＞
硬化性組成物はチキソトロピー剤を含有してもよい。
チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。

−無機化合物−
チキソトロピー剤の好ましい１つの態様は無機化合物のチキソトロピー剤であり、例えば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。

層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。

これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ、オプチホワイト（以上、白石工業（株）製）、カオリンＪＰ−１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー、ハードシル（以上、土屋カオリン工業（株）製）、ＡＳＰ−０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７、ハイドラスデラミＮＣＤ（以上、エンジェルハード（株）製）、ＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー、ＭＣハードクレー（以上、丸尾カルシウム（株）製）、ルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）、スメクトン（クニミネ工業社製）、ベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト、オルガナイトＴ（以上、ホージュン（株）製）、穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４、ベントン３８（以上、ウイルバー・エリス社製）、ラポナイト、ラポナイトＲＤ、ラポナイトＲＤＳ（以上、日本シリカ工業（株）製）などが挙げられる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。

塗布液に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、ｘＭ（Ｉ）₂Ｏ・ｙＳｉＯ₂で表される珪酸塩化合物（酸化数が２，３であるＭ（II）Ｏ、Ｍ（III）₂Ｏ₃に相当するものもある。ｘ、ｙは正の数を表す）であり、さらに好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。

特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状（粘土）化合物（珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの）が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム（ヘクトライト）のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。

アンモニウムイオンの例としては、炭素数６から１８のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が４から１８であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が４から２５であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオンは単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用することができる。

珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾珪酸塩鉱物の製造方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、１６時間以上放置し、４質量％の分散液を調整する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して３０質量％〜２００質量％添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。

アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＡＮ−３１６、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

本実施の形態においては、無機化合物のチキソトロピー剤として、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。

−有機化合物−
チキソトロピー剤は、有機化合物のチキソトロピー剤を用いることができる。
有機化合物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。

前述の酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン４２００−２０（商品名、楠本化成（株）製）、フローノンＳＡ３００（商品名、共栄社化学（株）製）等があげられる。

前述の変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前述の変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ＢＹＫ４１０（ビッグケミー社製）等があげられる。

−含有量−
チキソトロピー剤の含有量は、塗布液中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜８質量部であることが特に好ましい。特に無機化合物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量以下であると、脆性が良化方向にある。

＜重合開始剤＞
上記塗布液は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報の段落００３７を参照できる。重合開始剤は、塗布液に含まれる重合性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に質量％として、０．１質量％〜１０質量％含むことが好ましく、さらに好ましくは０．２質量％〜８質量％である。

―光重合開始剤―
硬化性組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、光照射により上述の重合性化合物を重合する活性種を発生する化合物であればいずれのものでも用いることができる。光重合開始剤としては、カチオン重合開始剤、ラジカル重合開始剤が挙げられ、ラジカル重合開始剤が好ましい。また、本発明において、光重合開始剤は複数種を併用してもよい。

光重合開始剤の含有量は、溶剤を除く全組成物中、例えば、０．０１〜１５質量％であり、好ましくは０．１〜１２質量％であり、さらに好ましくは０．２〜７質量％である。２種類以上の光重合開始剤を用いる場合は、その合計量が上記範囲となる。
光重合開始剤の含有量が０．０１質量％以上であると、感度(速硬化性)、塗膜強度が向上する傾向にあり好ましい。一方、光重合開始剤の含有量を１５質量％以下とすると、光透過性、着色性、取り扱い性などが向上する傾向にあり、好ましい。染料および／または顔料を含む系では、これらがラジカルトラップ剤として働くことがあり、光重合性、感度に影響を及ぼす。その点を考慮して、これらの用途では、光重合開始剤の添加量が最適化される。一方で、本発明に用いられる組成物では、染料および／または顔料は必須成分でなく、光重合開始剤の最適範囲が液晶ディスプレイカラーフィルタ用硬化性組成物等の分野のものとは異なる場合がある。

ラジカル光重合開始剤としては、例えば、市販されている開始剤を用いることができる。これらの例としては、例えば、特開平２００８−１０５４１４号公報の段落番号００９１に記載のものを好ましく採用することができる。この中でもアセトフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、オキシムエステル系化合物が硬化感度、吸収特性の観点から好ましい。

アセトフェノン系化合物として好ましくはヒドロキシアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、アミノアセトフェノン系化合物が挙げられる。ヒドロキシアセトフェノン系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）２９５９(1−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）５００（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン）、Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパン−１−オン）が挙げられる。ジアルコキシアセトフェノン系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン）が挙げられる。

アミノアセトフェノン系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３７９（ＥＧ）（２−ジメチルアミノー２ー（４メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イルフェニル）ブタン−１−オン、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７（２−メチル−１［４−メチルチオフェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンが挙げられる。

アシルホスフィンオキサイド系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８００（ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社から入手可能なＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド）、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯ−Ｌ（２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド）が挙げられる。

オキシムエステル系化合物として好ましくはＢＡＳＦ社から入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＯＸＥ０１（１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＯＸＥ０２（エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）が挙げられる。

カチオン光重合開始剤としては、スルホニウム塩化合物、ヨードニウム塩化合物、オキシムスルホネート化合物などが好ましく、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ローデア製ＰＩ２０７４）、４−メチルフェニル［４−（２−メチルプロピル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１０３、１０８、１２１、２０３（ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。

光重合開始剤は、使用する光源の波長に対して適時に選択する必要があるが、モールド加圧・露光中にガスを発生させないものが好ましい。ガスが発生すると、モールドが汚染されるため、頻繁にモールドを洗浄しなければならなくなったり、光硬化性組成物がモールド内で変形し、転写パターン精度を劣化させるなどの問題を生じたりする。

蛍光領域３５のバインダを形成する硬化性組成物は、重合性化合物がラジカル重合性化合物であり、光重合開始剤が光照射によりラジカルを発生するラジカル重合開始剤であるラジカル重合性硬化性組成物であることが好ましい。

（ポリマー）
バインダを形成する硬化性組成物は、ポリマーを含んでもよい。ポリマーとしては、例えば、ポリ（メタ）アクリレート、ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエーテル、およびポリスチレンを挙げることができる。

（高分子分散剤）
バインダを形成する硬化性組成物は、量子ドットをバインダ中に分散させるための高分子分散剤を含んでもよい。
高分子分散剤は、量子ドットの表面に配位する配位性基を有し、下記一般式Ｉで表される化合物である。
一般式Ｉの構造をもつ高分子分散剤は多点吸着ゆえに脱離しにくく、高い分散性を付与することができる。また吸着基が末端に密集しているため粒子間架橋しにくく、気泡巻き込みを引き起こす液粘度増加を抑制することができる。

一般式Ｉ中、Ａは、量子ドットに配位する配位性基を有する有機基であり、Ｚは（ｎ＋ｍ＋ｌ）価の有機連結基であり、Ｘ^１およびＸ^２は、単結合または２価の有機連結基であり、Ｒ^１は、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を表し、Ｐは、重合度が３以上のポリアクリレート骨格、ポリメタクリレート骨格、ポリアクリルアミド骨格、ポリメタクリルアミド骨格、ポリエステル骨格、ポリウレタン骨格、ポリウレア骨格、ポリアミド骨格、ポリエーテル骨格、ポリビニルエーテル骨格、およびポリスチレン骨格から選択される少なくとも１つのポリマー骨格を含む高分子鎖を有する基である。ｎおよびｍは、各々独立に１以上の数であり、ｌは０以上の数であり、ｎ＋ｍ＋ｌは２以上１０以下の整数である。ｎ個のＡは、同一であっても異なっていてもよい。ｍ個のＰは、同一であっても異なっていてもよい。ｌ個のＸ^１およびＲ^１は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。

一般式Ｉ中、Ｘ^１およびＸ^２は、単結合または２価の有機連結基を表す。２価の有機連結基としては、１〜１００個までの炭素原子、０個〜１０個までの窒素原子、０個〜５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を有していてもよい。

２価の有機連結基Ｘ^１およびＸ^２は、単結合、または、１から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基が好ましい。単結合、または、１から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、１個から５０個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基がより好ましい。単結合、または、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ２価の有機連結基が特に好ましい。

２価の有機連結基Ｘ^１およびＸ^２は、具体的な例として、下記の構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。

２価の有機連結基Ｘ^１およびＸ^２が置換基を有する場合、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。

Ｚで表される（ｎ＋ｍ＋ｌ）価の有機連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、および０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。

（ｎ＋ｍ＋ｌ）価の有機連結基Ｚとしては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から４０個までの酸素原子、１個から１２０個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましく、１から５０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から３０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ基がより好ましく、１から４０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２０個までの酸素原子、１個から８０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ基が特に好ましい。

（ｎ＋ｍ＋ｌ）価の有機連結基Ｚは、下記の構造単位または構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。

（ｎ＋ｍ＋ｌ）価の有機連結基Ｚの具体例（１）〜（２０）を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。下記の有機連結基中の＊は、一般式Ｉ中のＡ、Ｘ^１、およびＸ^２と結合する部位を示す。

（ｎ＋ｍ＋ｌ）価の有機連結基Ｚが置換基を有する場合、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。

上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、モノマー、および各種溶媒への溶解性の観点から、最も好ましい（ｎ＋ｍ＋ｌ）価の有機連結基Ｚは下記の基である。

一般式Ｉ中、Ｒ^１は、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基である。炭素数１から３０が好ましく、炭素数１から２０がより好ましい。置換基としては、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。

本発明における高分子鎖Ｐは、重合度が３以上のポリアクリレート骨格、ポリメタクリレート骨格、ポリアクリルアミド骨格、ポリメタクリルアミド骨格、ポリエステル骨格、ポリウレタン骨格、ポリウレア骨格、ポリアミド骨格、ポリエーテル骨格、ポリビニルエーテル骨格、およびポリスチレン骨格から選択される少なくとも１つのポリマー骨格を含むものであり、これらのポリマー骨格を有する重合体、変性物、または共重合体をも含む意味である。例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体等が挙げられる。また、高分子鎖は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。中でも、ポリアクリレート骨格からなる重合体もしくは共重合体が特に好ましい。

さらには、高分子鎖Ｐは溶媒に可溶であることが好ましい。溶媒との親和性が低いと、例えば、配位子として使用した場合、分散媒との親和性が弱まり、分散安定化に充分な吸着層を確保できなくなることがある。

上記高分子鎖Ｐを形成するモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、脂肪族ポリエステル、（メタ）アクリルアミド類、脂肪族ポリアミドスチレン類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、オレフィン類、マレイミド類、（メタ）アクリロニトリル、酸性基を有するモノマーなどが好ましい。以下、これらのモノマーの好ましい例について説明する。

（メタ）アクリル酸エステル類の例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸アセトキシエチル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−メトキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸２−フェニルビニル、（メタ）アクリル酸１−プロペニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸２−アリロキシエチル、（メタ）アクリル酸プロパルギル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、（メタ）アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸トリフロロエチル、（メタ）アクリル酸オクタフロロペンチル、（メタ）アクリル酸パーフロロオクチルエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニル、（メタ）アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸−γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。

クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、およびクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、および安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、およびマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、およびフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、およびイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。

脂肪族ポリエステル類の例としては、ポリカプロラクトンおよびポリバレロラクトンなどが挙げられる

（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、ビニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリル（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。

脂肪族ポリアミド類の例としては、ポリカプロラクタムおよびポリバレロラクタムなどが挙げられる。

スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、およびα−メチルスチレンなどが挙げられる。

ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルおよびフェニルビニルエーテルなどが挙げられる。

ビニルケトン類の例としては、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙げられる。
オレフィン類の例としては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。
マレイミド類の例としては、マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミドなどが挙げられる。

（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。

高分子鎖Ｐは、さらに下記一般式Ｐ１で表される基が好ましい。

一般式Ｐ１中、Ｅは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＲ^ｙ、エポキシ基、オキセタニル基、脂環式エポキシ基、アルキレン基、アルキル基、およびアルケニル基の少なくとも１つから構成される置換基であり、Ｒ^ｙは、水素原子、または炭素数１から６のアルキル基であり、Ｒ^２は、水素原子または炭素数１から６のアルキル基である。ｎｐは３以上５００以下の数である。複数のＥおよびＲ^２は、各々同一であっても異なっていてもよい。

一般式Ｐ１で表される高分子鎖として、下記のものが挙げられる。
ｎｐは、３〜５００が好ましく、４〜２００がより好ましく、５〜１００がさらに好ましい。

高分子分散剤は、さらに一般式Ｉにおいて、ｎおよびｍが１であり、ｌが０であり、下記一般式ＩＩで表される化合物であってもよい。

Ａは、下記一般式Ａ１で表される基が好ましい。

一般式Ａ１中、Ｘ^３は、単結合または２価の有機連結基であり、Ｘ^４は、（ａ１＋１）価の有機連結基であり、Ｌは配位性基であり、ａ１は、１以上２以下の整数である。Ｘ^３は、一般式ＩにおけるＸ^２と同義であり、好ましい範囲も同じである。

（ａ１＋１）価の有機連結基Ｘ^４としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から４０個までの酸素原子、１個から１２０個までの水素原子、および０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましく、１から５０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から３０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、および０個から７個までの硫黄原子から成り立つ基がより好ましく、１から４０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２０個までの酸素原子、１個から８０個までの水素原子、および０個から５個までの硫黄原子から成り立つ基が特に好ましい。

（ａ１＋１）価の有機連結基Ｘ^４の具体的な例として、下記の構造単位または構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。

（ａ１＋１）価の有機連結基Ｘ^４が置換基を有する場合、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基、等が挙げられる。

配位性基Ｌは、アミノ基、カルボキシ基、メルカプト基、ホスフィン基、およびホスフィンオキシド基から選択される少なくとも１つが好ましい。なかでもカルボキシ基およびホスフィンオキシド基がさらに好ましい。

上記一般式Ａ１において、配位性基Ｌと２価の有機連結基Ｘ^４を含む基としては、下記のものが好ましい。下記の基中＊は、Ｘ^３と結合する部位を示す。

このようなＸ^４は、長さが約１ｎｍよりも小さく、この長さの範囲に複数の配位性基を有する。このため、配位子が、量子ドットにさらに密な状態で多点吸着することができるため、強固に配位する。これにより、量子ドットは、配位子が外れることなく、量子ドットの表面を覆っているため、量子ドット表面の表面準位の生成、量子ドットの酸化、および量子ドットの凝集を防ぎ、発効効率の低下を抑制することができる。また、量子ドットに既に配位子が配位している場合であっても、その配位子の隙間に高分子分散剤が入りこむことが可能であり、さらに、量子ドットの発効効率の低下を抑制することができる。

高分子分散剤は、下記一般式ＩＩＩで表される化合物であってもよい。

一般式ＩＩＩ中、Ｘ^５およびＸ^６は、単結合または２価の有機連結基であり、Ｒ^３およびＲ^４は、水素原子または炭素数１から６のアルキル基であり、Ｐは、重合度が３以上のポリアクリレート骨格、ポリメタクリレート骨格、ポリアクリルアミド骨格、ポリメタクリルアミド骨格、ポリエステル骨格、ポリウレタン骨格、ポリウレア骨格、ポリアミド骨格、ポリエーテル骨格、ポリビニルエーテル骨格、およびポリスチレン骨格から選択される少少なくとも１つのポリマー骨格を含む高分子鎖を有する基である。ａおよびｂは、各々独立に１以上の数であり、ａ＋ｂは、２以上１０００以下である。複数のＬは、各々同一であっても異なっていてもよい。複数のＰは、各々同一であっても異なっていてもよい。

Ｘ^５およびＸ^６は、単結合または２価の有機連結基である。２価の有機連結基としてのＸ^５およびＸ^６は、一般式Ｉにおける２価の有機連結基Ｘ^２と同義である。特に、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−等を含む基が、素材入手や合成の容易さの観点から好ましい。

Ｒ^３およびＲ^４は、炭素数１から６のアルキル基であり、水素原子またはメチル基が好ましい。

一般式ＩＩＩにおける高分子鎖Ｐとしては、以下のものが好ましい。

上記高分子鎖Ｐにおいて、ｎｐは、３〜３００が好ましく、４〜２００がより好ましく、５〜１００がより好ましい。

一般式ＩＩＩで表される高分子分散剤の具体例として、下記のものを挙げることができる。

上記高分子分散剤のａ：ｂは、１：９〜７：３が好ましく、２：８〜５：５がより好ましい。

高分子分散剤の分子量としては、重量平均分子量で、２０００〜１０００００が好ましく、３０００〜５００００がより好ましく、５０００〜３００００が特に好ましい。重量平均分子量がこの範囲内であると、量子ドットを、アクリルモノマー中へ良好に分散させることができる。

(高分子分散剤の合成)
一般式ＩおよびＩＩの配位子は、公知の合成法によって合成することができる。例えば、特開２００７−２７７５１４号公報に記載の方法において、有機色素部位を配位性部位に置き換えることで合成することができる。
一般式ＩＩＩの高分子分散剤は、対応するモノマーの共重合や前駆体ポリマーへ高分子反応により合成できる。側鎖に立体反発基を有するモノマーとしては、例えば、ブレンマーＡＥ−４００（日油株式会社）、ブレンマーＡＰ−８００（日油株式会社）等の市販品を挙げることができる。

（その他の添加剤）
上述した蛍光体３１、および、バインダ３３となる硬化性組成物を含む蛍光領域形成用塗布液は、粘度調整剤、シランカップリング剤、界面活性剤、酸化防止剤、酸素ゲッター剤、重合禁止剤、散乱粒子、屈折率調整剤等を含有してもよい。

−粘度調整剤−
蛍光領域形成用塗布液は、必要に応じて粘度調整剤を含んでもよい。粘度調整剤を添加することによって、それらを所望の粘度に調整することが可能である。粘度調整剤は、粒径が５ｎｍ〜３００ｎｍであるフィラーであることが好ましい。また、粘度調整剤はチキソトロピー剤であってもよい。なお、本発明および本明細書中、チキソトロピー性とは、液状組成物において、せん断速度の増加に対して粘性を減じる性質を指し、チキソトロピー剤とは、それを液状組成物に含ませることによって、組成物にチキソトロピー性を付与する機能を有する素材のことを指す。チキソトロピー剤の具体例としては、ヒュームドシリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイト等が挙げられる。

−界面活性剤−
蛍光領域形成用塗布液は、フッ素原子を２０質量％以上含有する少なくとも１種の界面活性剤を含んでいても良い。

−酸化防止剤−
蛍光領域形成用塗布液には、公知の酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤は、熱や光照射による退色およびオゾン、活性酸素、ＮＯx、ＳＯx（Ｘは整数）などの各種の酸化性ガスによる退色を抑制するものである。特に本発明では、酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色防止や、分解による膜厚減少を低減できるという利点がある。
また、酸化防止剤として２種類以上の酸化防止剤を用いてもよい。

硬化性化合物において、酸化防止剤は、硬化性化合物の全質量に対し、０．２質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、２質量％以上であることがさらに好ましい。一方、酸化防止剤は酸素との間での相互作用により変質することがある。変質した酸化防止剤は蛍光領域形成用塗布液中の各成分の分解を誘引することがあり、密着性低下、脆性悪化、量子ドット発光効率低下をもたらす。これらを防止する観点から２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることがさらに好ましい。

酸化防止剤としては、ラジカル阻害剤，金属不活性化剤，一重項酸素消去剤，スーパーオキシド消去剤，またはヒドロキシラジカル消去剤のうち少なくとも1種であることが好ましい。かかる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤等が例示される。

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス（４，６―ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチル〕メタン（（アデカスタブＡＯ−６０（株）ＡＤＥＫＡ製））、チオジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコールエステル、ビス〔２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−オクタデシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト；トリス（２−〔（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、２−エチル−２−ブチルプロピレングリコール及び２，４，６−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられる。これらのリン系酸化防止剤の添加量は、ポリオレフィン系樹脂１００質量部に対して０．００１〜１０質量部であることが好ましく、特に０．０５〜５質量部であることが好ましい。

チオール系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類；及びペンタエリスリトールテトラ（β−アルキルメルカプトプロピオン酸）エステル類等が挙げられる。

ヒンダードアミン系酸化防止剤は、ＨＡＬＳ（Ｈｉｄｅｒｅｄ ａｍｉｎｅ ｌｉｇｈｔｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）とも称され、ピペリジンの２位及び６位の炭素上の全ての水素原子がメチル基で置換された構造、好ましくは下記式１で表わされる基を有する。ただし、式１中Ｘは水素原子又はアルキル基を表す。下記式１で表わされる基のなかでも、Ｘが水素原子である２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基、又はＸがメチル基である１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基を有するＨＡＬＳが特に好ましく採用される。なお、式１で表わされる基が−ＣＯＯ−基に結合している構造、すなわち下記式２で表わされる基を有するＨＡＬＳが数多く市販されているがこれらは好ましく使用できる。

具体的に本発明で好ましく使用できるＨＡＬＳを挙げると、例えば以下の式で表わされるものが挙げられる。なお、ここで２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基をＲ、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基をＲ’で表す。
ＲＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ_２）_８Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ、ＲＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、Ｒ’ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２、ＣＨ_２（ＣＯＯＲ）ＣＨ（ＣＯＯＲ）ＣＨ（ＣＯＯＲ）ＣＨ_２ＣＯＯＲ、ＣＨ_２（ＣＯＯＲ’）ＣＨ（ＣＯＯＲ’）ＣＨ（ＣＯＯＲ’）ＣＨ_２ＣＯＯＲ’、式３で表わされる化合物等。

具体的には、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−4−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，４，４−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ−ル／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８−１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。

また、具体的な商品としては、チヌビン１２３、チヌビン１４４、チヌビン７６５、チヌビン７７０、チヌビン６２２、チマソーブ９４４、チマソーブ１１９（以上はいずれも、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社商品名）、アデカスタブＬＡ５２、アデカスタブＬＡ５７、アデカスタブＬＡ６２、アデカスタブＬＡ６７、アデカスタブＬＡ８２、アデカスタプＬＡ８７、アデカスタブＬＸ３３５（以上はいずれも旭電化工業社商品名）等を挙げることができるが、これらに限定されない。

ＨＡＬＳのなかでも分子が比較的小さいものは樹脂層から蛍光領域へと拡散しやすく好ましい。この観点で好ましいＨＡＬＳとしては、ＲＯＣ（＝Ｏ）（ＣＨ_２）_８Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ、Ｒ’ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２で表わされる化合物等である。

上記した酸化防止剤のうち、ヒンダードフェノール化合物，ヒンダードアミン化合物，キノン化合物，ヒドロキノン化合物，トリフェロール化合物，アスパラギン酸化合物，または，チオール化合物のうち少なくとも１種であることがより好ましく、クエン酸化合物，アスコルビン酸化合物，または，トコフェロール化合物のうち少なくとも１種であることが更に好ましい。これらの化合物としては特に制限されないが、ヒンダードフェノール，ヒンダードアミン，キノン，ヒドロキノン，トリフェロール，アスパラギン酸，チオール，クエン酸，トコフェリル酢酸，及び，トコフェリルリン酸それ自体、またはそれらの塩やエステル化合物等が好ましく挙げられる。

以下に、酸化防止剤の一例を示す。

−酸素ゲッター剤−
酸素ゲッター剤としては、有機ＥＬ素子等のゲッター剤として用いられる公知の物質を用いることができ、無機系ゲッター剤又は有機系ゲッター剤のいずれでもよく、金属酸化物、金属ハロゲン化物、金属硫酸塩、金属過塩素酸塩、金属炭酸塩、金属アルコキシド、金属カルボキシレート、金属キレート、またはゼオライト（アルミノケイ酸塩）の中から選ばれた少なくとも1種の化合物を含むことが好ましい。
かかる酸素ゲッター剤としては、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、硫酸リチウム（Ｌｉ_２ＳＯ_４）、硫酸ナトリウム（Ｎａ_２ＳＯ_４）、硫酸カルシウム（ＣａＳＯ_４）、硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ_４）、硫酸コバルト（ＣｏＳＯ_４）、硫酸ガリウム（Ｇａ_２（ＳＯ_４）_３）、硫酸チタン（Ｔｉ（ＳＯ_４）_２）、硫酸ニッケル（ＮｉＳＯ_４）等が挙げられる。
有機系ゲッター剤としては、化学反応により水を取り込み、その反応前後で不透明化しない材料であれば特に制限されない。ここで、有機金属化合物とは、金属−炭素結合や金属−酸素結合、金属−窒素結合等を有する化合物を意味する。水と有機金属化合物とが反応すると加水分解反応により、前述の結合が切れて金属水酸化物になる。金属によっては金属水酸化物に反応後に加水分解重縮合を行い高分子量化してもよい。
金属アルコキシド、金属カルボキシレート、及び金属キレートの金属としては、有機金属化合物として水との反応性が良いもの、すなわち、水により各種結合と切れやすい金属原子を用いることが好ましい。具体的には、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウム、ケイ素、ビスマス、ストロンチウム、カルシウム、銅、ナトリウム、リチウムが挙げられる。また、セシウム、マグネシウム、バリウム、バナジウム、ニオブ、クロム、タンタル、タングステン、クロム、インジウム、鉄などが挙げられる。特にアルミニウムを中心金属として持つ有機金属化合物の乾燥剤が樹脂中への分散性や水との反応性の点で好適である。有機基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキシル基、オクタデシル基、ステアリル基などの不飽和炭化水素、飽和炭化水素、分岐不飽和炭化水素、分岐飽和炭化水素、環状炭化水素を含有したアルコキシ基やカルボキシル基、アセエチルアセトナト基、ジピバロイルメタナト基などのβ−ジケトナト基が挙げられる。
中でも、下記化学式に示す、炭素数が１〜８のアルミニウムエチルアセトアセテート類が、透明性に優れた封止組成物を形成できる点から好適に用いられる。

（式中、Ｒ_５〜Ｒ_８は炭素数１個以上８個以下のアルキル基，アリール基，アルコキシ基，シクロアルキル基，アシル基を含む有機基を示し、Ｍは３価の金属原子を示す。なお、Ｒ_５〜Ｒ_８はそれぞれ同じ有機基でも異なる有機基でもよい。）
上記炭素数が１〜８のアルミニウムエチルアセトアセテート類は、例えば、川研ファインケミカル株式会社、ホープ製薬株式会社から上市されており、入手可能である。
酸素ゲッター剤は粒子状又は粉末状である。酸素ゲッター剤の平均粒子径は通常２０μｍ未満の範囲とすれば良く、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下である。散乱性の観点から、酸素ゲッター剤の平均粒子径は、０．３〜２μｍであることが好ましく、０．５〜１．０μｍであることがより好ましい。ここでいう平均粒径とは、動的光散乱法によって測定した粒度分布から算出した、粒子径の平均値をいう。

−重合禁止剤−
蛍光領域形成用塗布液には、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の含有量としては、全重合性単量体に対し、０．００１〜１質量％であり、より好ましくは０．００５〜０．５質量％、さらに好ましくは０．００８〜０．０５質量％である、重合禁止剤を適切な量配合することで高い硬化感度を維持しつつ経時による粘度変化が抑制できる。一方、重合禁止剤の添加量が過剰となる場合、重合阻害による硬化不良や硬化物の着色が発生するため適量が存在する。重合禁止剤は重合性単量体の製造時に添加してもよいし、硬化性組成物に後から添加してもよい。好ましい重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩、フェノチアジン、フェノキサジン、４−メトキシナフトール、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、ニトロベンゼン、ジメチルアニリン等が挙げられ、好ましくはｐ−ベンゾキノン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルフリーラジカル、フェノチアジンである。これら重合禁止剤は重合性単量体の製造時だけでなく、硬化組成物の保存時においてもポリマー不純物の生成を抑制し、インプリント時のパターン形成性の劣化を抑制する。

−光散乱粒子−
蛍光領域は、光散乱粒子を含んでいてもよい。したがって、上記蛍光領域形成用塗布液に光散乱粒子を添加してもよい。

光散乱粒子の粒子サイズは０．１０μｍ以上であるのが好ましい。光散乱粒子が波長変換層に含まれることは、輝度の更なる向上の観点から好ましい。光散乱効果の観点から、光散乱粒子の粒子サイズは０．１０〜１５．０μｍの範囲であることが好ましく、０．１０〜１０．０μｍの範囲であることがより好ましく、０．２０〜４．０μｍであることが更に好ましい。また、より一層の輝度の向上や、視野角に対する輝度の分布を調整するために、粒子サイズの異なる二種以上の光散乱粒子を混合して用いてもよい。

光散乱粒子は、有機粒子であってもよく、無機粒子であってもよく、有機無機複合粒子であってもよい。例えば有機粒子としては、合成樹脂粒子を挙げることができる。具体例としては、シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子（ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ナイロン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、ポリエチレン粒子、ウレタン樹脂粒子、ベンゾグアナミン粒子等が挙げられる。光散乱効果の観点からは、波長変換層において光散乱粒子と他の部分との屈折率は異なることが好ましく、この点から好適な屈折率を有する粒子の入手容易性の観点からはシリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子が好ましい。また中空構造を有する粒子も使用できる。また、無機粒子としては、ダイヤモンド、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉛、炭酸鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化アンチモン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の粒子を用いることができ、好適な屈折率を有する粒子の入手容易性の観点からは酸化チタン、酸化アルミニウムが好ましい。

蛍光領域の屈折率を調整するために、光散乱粒子より粒子サイズが小さい粒子を、屈折率調整剤として用いることができる。屈折率調整剤の粒子サイズは、０．１μｍ未満であり、０．０１μｍ〜０．１μｍの範囲であることが好ましい。
屈折率調整粒子としては、例えば、ダイヤモンド、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉛、炭酸鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化アンチモン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の粒子が挙げられる。中でも青色光や紫外光の吸収の少ない点で、酸化ジルコニウムや酸化ケイ素の粒子が好ましく、少量で屈折率を調整できることから、酸化ジルコニウムの粒子が好ましい。また分散性の点で酸化チタンも好ましい。屈折率調整粒子は、屈折率の調整が可能な量を用いればよく、光散乱層における含有量は特に限定されるものではない。

蛍光領域形成用塗布液には、上述の成分の他に必要に応じて離型剤、紫外線吸収剤、光安定剤、老化防止剤、可塑剤、密着促進剤、熱重合開始剤、着色剤、エラストマー粒子、光酸増殖剤、光塩基発生剤、塩基性化合物、流動調製剤、消泡剤、分散剤等を添加してもよい。

蛍光領域形成用塗布液の調製方法は特に制限されず、一般的な硬化性組成物の調製手順により実施すればよい。

＜＜樹脂層＞＞
樹脂層３８は、上述のバインダを形成する硬化性組成物と同様の硬化性組成物を含む樹脂層形成用塗布液を塗布し、硬化して形成される。
なお、樹脂層を形成する硬化性組成物とバインダを形成する硬化性組成物とは同じであっても異なっていてもよい。また、樹脂層を形成する硬化性組成物には高分子分散剤は含まなくてよい。

樹脂層３８は、弾性率が０．５ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下であることが好ましく、１ＧＰａ以上７ＧＰａ以下であることがより好ましく、３ＧＰａ以上６ＧＰａ以下であることが特に好ましい。樹脂層の弾性率をこの範囲にすることで、樹脂層を形成する際の欠損を防ぐことができ、好ましい。
樹脂層の弾性率は、ＪＩＳ Ｋ７１６１等に例示される方法で測定される。

樹脂層３８の形成材料として、２官能以上の光重合性架橋基を有する化合物が好ましく、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールａジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビスフェノールa型エポキシ等が挙げられる。中でもウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ化合物を少なくとも含むことが好ましい。ウレタン結合やヒドロキシル基、カルボキシル基などの極性官能基有する化合物を用いることで分子間の相互作用を高めることができる。また、蛍光領域と同一の重合性架橋基を有する化合物を含むことが、樹脂層と蛍光領域との密着に優れる観点から好ましい。例えば、蛍光領域の素材にジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が含まれる場合、樹脂層は（メタ）アクリレート化合物を少なくとも含むことが好適である。

（添加剤）
樹脂層形成用塗布液には必要に応じて、光重合開始剤、無機層状化合物、散乱粒子、酸化防止剤、剥離促進剤、溶剤等が含まれていても良い。

（光重合開始剤）
樹脂層３８を形成する硬化性化合物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、光照射により上述の重合性化合物を重合する活性種を発生する化合物であればいずれのものでも用いることができる。光重合開始剤としては、カチオン重合開始剤、ラジカル重合開始剤が挙げられ、樹脂層形成材料に応じて適切に選ばれる。

（散乱粒子）
樹脂層形成用塗布液は散乱粒子を含んでもよい。散乱粒子としては、上述した蛍光領域形成用塗布液に含まれ得る散乱粒子と同様の散乱粒子が挙げられる。

蛍光領域の体積Ｖｐと樹脂層の体積Ｖｂ比に関しては任意の比率を取り得るが、蛍光領域の体積Ｖｐの波長変換層全体の体積（Ｖｐ＋Ｖｂ）に対する比は０．１≦Ｖｐ/(Ｖｐ+Ｖｂ)＜０．９であるのが好ましく、０．２≦Ｖｐ/(Ｖｐ+Ｖｂ)＜０．８５がより好ましく、０．３≦Ｖｐ/(Ｖｐ+Ｖｂ)＜０．８が特に好ましい。蛍光領域の体積比が小さすぎるとある一定厚みにおける初期輝度が低下する傾向にあり、蛍光領域の体積比が大きすぎると樹脂層の幅が短くなり、樹脂層の強度が低下するおそれがある。なお、蛍光体を含む領域Ｖｐと樹脂層の領域Ｖｂは、波長変換部材主面より観察した場合における各々の面積と厚みを掛け合わせたものと定義する。

−基材フィルム−
第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、波長変換層を支持するためのものであり、各種の積層フィルムにおいて、支持体として用いられる基材フィルムが利用可能である。
なお、基材フィルム１０，２０は、ガスバリア性を有するものであるのが好ましい。基材フィルム１０，２０は、バリア性を充分有する支持体のみにより構成されてもよいし、支持フィルムの一面にバリア層を備える構成であってもよい。

第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、可視光領域における全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。可視光領域とは、３８０〜７８０ｎｍの波長領域をいうものとし、全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。

基材フィルム１０，２０としては、可視光に対して透明である可撓性を有する帯状の支持体が好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。可撓性を有する支持体については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。

第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０の酸素透過度が１．００ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、さらに、好ましくは０．０１ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、特に好ましいのは０．００１ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。ここで、酸素透過度は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０：商品名）を用いて測定した値である。

第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、酸素を遮断するガスバリア機能に加え、水分（水蒸気）を遮断する機能を有していることが好ましい。第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０の透湿度（水蒸気透過度）は０．１０ｇ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましく、０．０１ｇ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましい。

（支持フィルム）
支持フィルムとしては、可視光に対して透明である可撓性を有する帯状の支持体が好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。可撓性を有する支持体については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。

支持フィルムは、酸素および水分に対するバリア性を有することが好ましい。かかる支持フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、環状オレフィン構造を有するポリマーからなるフィルム、およびポリスチレンフィルム等が、好ましい例として挙げられる。

支持フィルムの平均膜厚は、波長変換部材の耐衝撃性等の観点から、１０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以上４００μｍ以下であることがより好ましく、３０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。波長変換層３０に含まれる量子ドットの濃度を低減した場合や、波長変換層３０の厚みを低減した場合のように、光の再帰反射を増加させる態様では、波長４５０ｎｍの光の吸収率がより低いことが好ましいため、輝度低下を抑制する観点から、支持フィルムの平均膜厚は、４０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがさらに好ましい。

また、支持フィルムは、波長５８９ｎｍにおける面内リターデーションＲｅ（５８９）が１０００ｎｍ以下であることが好ましい。５００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
波長変換部材を作製した後、異物や欠陥の有無を検査する際、２枚の偏光板を消光位に配置し、その間に波長変換部材を差し込んで観察することで、異物や欠陥を見つけやすい。支持体のＲｅ（５８９）が上記範囲であると、偏光板を用いた検査の際に、異物や欠陥をより見つけやすくなるため、好ましい。
ここで、Ｒｅ（５８９）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用いて、入力波長５８９ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより測定することができる。

（バリア層）
第１の基材フィルム１０および第２の基材フィルム２０は、支持フィルムの波長変換層３０側の面に接して形成されてなる少なくとも一層の無機層を含むバリア層を備えていることが好ましい。バリア層としては、少なくとも無機層１層と少なくとも１層の有機層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、基材フィルムの光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。

バリア層は、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が１．００ｃｃ／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。

バリア層の酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．０１ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、より特に好ましいのは０．００１ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過度は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。

−無機層−
無機層とは、無機材料を主成分とする層であり、無機材料が５０質量％以上、さらには８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層が好ましく、好ましくは無機材料のみから形成される層である。

無機層は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層の酸素透過度は、１．００ｃｃ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。無機層の酸素透過度はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に波長変換層を、シリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過度を換算して求めることができる。無機層は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。

無機層は、バリア層中に２つまたは３つ以上含まれていてもよい。

無機層の厚さは、１〜５００ｎｍであればよく、５〜３００ｎｍであることが好ましく、特に１０〜１５０ｎｍのであることが好ましい。無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い積層フィルムを提供できるからである。

無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、および窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜あるいはチタン膜を設けてもよい。

上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化ケイ素および酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、さらに無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。また、バリア層における光の吸収を抑制する観点からは、窒化ケイ素がもっとも好ましい。

無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば製膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種製膜方法を用いることができる。

無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ ＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）、酸化ケイ素の蒸着膜を製膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等が挙げられる。

−有機層−
有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、さらには８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。

有機層としては、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、上記の密着力条件を満足する範囲内でカルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。
有機層の膜厚は、０．０５〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５〜５μｍの範囲内、中でも０．０５〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。

無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、さらにＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。

波長変換部材において、有機層は、無機層の下地層として支持フィルムと無機層との間に積層されていてもよく、無機層の保護層として無機層と波長変換層との間に積層されていてもよい。また、２層以上の無機層を有する場合には、有機層は無機層の間に積層されていてもよい。

（凹凸付与層）
基材フィルム１０、２０は、波長変換層３０側の面と反対側の面に、凹凸構造を付与する凹凸付与層を備えていてもよい。基材フィルム１０、２０が凹凸付与層を有していると、基材フィルムのブロッキング性、滑り性を改良することができるため、好ましい。凹凸付与層は粒子を含有する層であることが好ましい。粒子としては、シリカ、アルミナ、酸化金属等の無機粒子、あるいは架橋高分子粒子等の有機粒子等が挙げられる。また、凹凸付与層は、基材フィルムの波長変換層とは反対側の表面に設けられることが好ましいが、両面に設けられていてもよい。

＜波長変換部材の製造方法＞
次に、上記の如く構成された本発明の実施形態の波長変換部材の製造工程の一例について図８〜図９を参照して説明する。

（塗布液調製工程）
第１の塗布液調製工程では、蛍光体として量子ドット（または量子ロッド）を含む蛍光領域形成用塗布液を調製する。具体的には、有機溶媒中に分散された量子ドット、硬化性化合物、高分子分散剤、重合開始剤、および、シランカップリング剤などの各成分をタンクなどにより混合し、蛍光領域形成用塗布液を調製する。なお、蛍光領域形成用塗布液には有機溶媒を含んでいなくても構わない。

第２の塗布液調製工程では蛍光領域間に充填する樹脂層形成用塗布液を調製する。

（樹脂層形成工程）
次に、第１の基材フィルム１０上に樹脂層形成用塗布液を塗布し、塗布した樹脂層形成用塗布液に凹凸パターンを有する型（モールド）を圧接して凹部を有する所定パターンを形成して、樹脂層形成用塗布液を硬化させて、図８に示すような、第１の基材フィルム１０上に複数の凹部を有する樹脂層３８が積層された積層フィルム５９を形成する。
この際、凹凸パターンを有する型（モールド）の表面に、微細な凹凸形状を付与することで、凹部形成後の樹脂層の表面粗さＲａを所定の範囲にすることができる。

（蛍光領域形成工程、および、第２の基材フィルム貼合工程）
次に、積層フィルム５９の樹脂層３８の凹部内に蛍光領域形成用塗布液を塗布し、蛍光領域形成用塗布液を硬化させる前に、第２の基材フィルム２０を貼り合せた後、蛍光領域形成用塗布液を硬化させて蛍光領域３５を形成して、第１の基材フィルム１０、波長変換層３０、および、第２の基材フィルム２０が積層された波長変換部材を作製する。

蛍光領域形成工程および樹脂層形成工程における硬化処理は、塗布液に応じて熱硬化あるいは紫外線による光硬化など適宜選択すればよい。
紫外線による光硬化により樹脂層３８を硬化させる場合には、紫外線の照射量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ²とするのが好ましい。
熱硬化により樹脂層３８を硬化させる場合には、２０〜１００℃に加熱するのが好ましい。

（裁断処理）
得られた波長変換部材は、必要により切断機により裁断（切断）される。

なお、波長変換部材の作製方法は、いわゆるロール・トゥ・ロール（ＲｔｏＲ）により上述の各工程を連続的に行ってもよいし、カットシート状の基材フィルムを用いて、いわゆる枚葉式で各工程の処理を施すものであってもよい。

ここで、第１の基材フィルム１０に塗布された樹脂層用塗布液に複数の凹部（凹凸パターン）を形成する方法について具体的に説明する。
パターンの形成としては、上述のとおり、基材フィルム上に塗布した樹脂層用塗布液に凹凸パターンを有する型（モールド）を圧接して凹凸パターンを形成する方法を用いることができる。
また、インクジェット法、ディスペンサー法でパターン形成をすることもできる。

ここで、モールドとしては、転写されるべきパターンを有するモールドが使われる。モールド上のパターンは、例えば、フォトリソグラフィや電子線描画法等によって、所望する加工精度に応じて形成できるが、モールドパターン形成方法は特に制限されない。
光透過性のモールド材は、特に限定されないが、所定の強度、耐久性を有するものであればよい。具体的には、ガラス、石英、ＰＭＭＡ、ポリカーボネート樹脂などの光透明性樹脂、透明金属蒸着膜、ポリジメチルシロキサンなどの柔軟膜、光硬化膜、ＳＵＳ等の金属膜が例示される。

一方、非光透過型モールド材としては、特に限定されないが、所定の強度を有するものであればよい。具体的には、セラミック材料、蒸着膜、磁性膜、反射膜、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅなどの金属基板、ＳｉＣ、シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、酸化シリコン、アモルファスシリコンなどの基板などが例示される。また、モールドの形状も特に制約されるものではなく、板状モールド、ロール状モールドのどちらでもよい。ロール状モールドは、特に転写の連続生産性が必要な場合に適用される。

モールドは、硬化性組成物とモールド表面との剥離性を向上させるために離型処理を行ったものを用いてもよい。このようなモールドとしては、撥水撥油性に優れた素材をコーティングすることが挙げられ、具体的にはポリテトラフルオロエチレン（PTFE）、ダイヤモンドライクカーボン（DLC）を物理蒸着（PVD）または化学蒸着（CVD）したもの、および、シリコン系、フッ素系などのシランカップリング剤による処理を行ったもの、例えば、ダイキン工業（株）製のオプツールＤＳＸや、住友スリーエム（株）製のNovec EGC−1720等、市販の離型剤も好適に用いることができる。

上記モールドを用いた凹凸パターンを形成する方法として具体的に、基材フィルム上に塗布・硬化した樹脂層にモールドを樹脂層またはモールドを加熱した状態で圧接して凹凸パターンを形成する熱インプリント法や、基材フィルム上に塗布した樹脂層用塗布液に凹凸パターンを有する型（モールド）を圧接した後、樹脂層を光で硬化し、凹凸パターンを形成する光インプリント法や、凹凸パターンを形成する溶融成型法等が挙げられる。中でも、生産速度に優れ、設備投資が少ない観点から光インプリント法が好ましい。

光インプリントリソグラフィを行なう場合、通常、モールド圧力を１０気圧以下で行なうのが好ましい。モールド圧力を１０気圧以下とすることにより、モールドや基板が変形しにくくパターン精度が向上する傾向にある。また、加圧が低いため装置を縮小できる傾向にある点からも好ましい。モールド圧力は、モールド凸部の硬化性組成物の残膜が少なくなる範囲で、モールド転写の均一性が確保できる領域を選択することが好ましい。

硬化部における光照射の照射量は、硬化に必要な照射量よりも十分大きければよい。硬化に必要な照射量は、硬化性組成物の不飽和結合の消費量や硬化膜のタッキネスを調べて適宜決定される。
また、光インプリントリソグラフィにおいては、光照射の際の基板温度は、通常、室温で行われるが、反応性を高めるために加熱をしながら光照射してもよい。光照射の前段階として、真空状態にしておくと、気泡混入防止、酸素混入による反応性低下の抑制、モールドと硬化性組成物との密着性向上に効果があるため、真空状態で光照射してもよい。また、パターン形成方法中、光照射時における好ましい真空度は、１０^-1Ｐａから１気圧の範囲である。

硬化性組成物を硬化させるために用いられる光は特に限定されず、例えば、高エネルギー電離放射線、近紫外、遠紫外、可視、赤外等の領域の波長の光または放射線が挙げられる。高エネルギー電離放射線源としては、例えば、コッククロフト型加速器、ハンデグラーフ型加速器、リニヤーアクセレーター、ベータトロン、サイクロトロン等の加速器によって加速された電子線が工業的に最も便利且つ経済的に使用されるが、その他に放射性同位元素や原子炉等から放射されるγ線、Ｘ線、α線、中性子線、陽子線等の放射線も使用できる。紫外線源としては、例えば、紫外線螢光灯、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン灯、炭素アーク灯、太陽灯、ＬＥＤ（light emitting diode）等が挙げられる。放射線には、例えばマイクロ波、ＥＵＶ（extreme ultraviolet）が含まれる。また、ＬＥＤ、半導体レーザー光、あるいは２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光や１９３ｎｍＡｒＦエキシマレーザーなどの半導体の微細加工で用いられているレーザー光も本発明に好適に用いることができる。これらの光は、モノクロ光を用いてもよいし、複数の波長の異なる光(ミックス光)でもよい。

露光に際しては、露光照度を１ｍＷ／ｃｍ²〜１０００ｍＷ／ｃｍ²の範囲にすることが好ましい。１ｍＷ／ｃｍ²以上とすることにより、露光時間を短縮することができるため生産性が向上し、１０００ｍＷ／ｃｍ²以下とすることにより、副反応が生じることによる永久膜の特性の劣化を抑止できる傾向にあり好ましい。露光量は５ｍＪ／ｃｍ²〜１００００ｍＪ／ｃｍ²の範囲にすることが望ましい。５ｍＪ／ｃｍ²未満では、露光マージンが狭くなり、光硬化が不十分となりモールドへの未反応物の付着などの問題が発生しやすくなる。一方、１００００ｍＪ／ｃｍ²を超えると組成物の分解による永久膜の劣化の恐れが生じる。さらに、露光に際しては、酸素によるラジカル重合の阻害を防ぐため、窒素やアルゴンなどの不活性ガスを流して、酸素濃度を１００ｍｇ／Ｌ未満に制御してもよい。

硬化部においては、光照射により硬化性組成物を硬化させた後、必要に応じて熱を加えてさらに硬化させる工程を含んでいてもよい。光照射後に加熱硬化させる熱としては、８０〜２８０℃が好ましく、１００〜２００℃がより好ましい。また、熱を付与する時間としては、５〜６０分間が好ましく、１５〜４５分間がさらに好ましい。

樹脂層に形成される凹凸パターンは任意の形態をとり得ることができ、例えば一例として凹部の開口形状が正四角形または長方形である格子状メッシュパターンや、凹部が正六角形であるハニカムパターンや、凹部が円形である海島パターン、凹部が正五角形／正六角形の組合せ、直径の異なる円形の組合せ等の複合パターン、六角形の大きさに面内分布があるパターン等が挙げられる。
中でも、光インプリント法で、樹脂層を形成する場合はモールドから樹脂層を剥離する際の隔壁の欠損を抑制できる、イングレス距離を短くできる等の観点から、正方形、正六角形等の正多角形、および、円形パターンが好ましく、さらに、蛍光領域の充填率（面積率）を高くできる観点から正六角形がより好ましい。
なお、イングレス距離とは、目視で色度変化または輝度低下が確認できる距離であり、本発明においては、蛍光領域をまたぐように波長変換部材を裁断した際の、裁断端面から垂直方向の距離となる。

また、上記例においては、樹脂層の硬化させる工程は、モールドを付着させた状態で行う構成としたが、モールド剥離後に行ってもよい。モールドを密着させた状態で行なうのが好ましい。

熱インプリント法を行う場合、通常、モールド圧力を０．１〜１００ＭＰａの範囲で行うことが好ましい。また、モールド及び樹脂層の温度を所定の範囲にすることが好ましく、一般的には、モールド温度は樹脂層のガラス転移温度（Ｔｇ）以上に設定すること、基材温度はモールド温度より低く設定することが多い。

溶融成型法を行う場合、成型する樹脂を融点以上の温度に加熱した後、ただちにモールドと基材フィルムの間に溶融状態の樹脂（メルト）を流しこんだ後に圧接・冷却して作製する。溶融成型法を行う場合の、樹脂層３８に適した材料として、具体的にはポリビニアルコール（ＰＶＡ）や、ポリエチレンービニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂が挙げられる。中でも透明性、耐熱耐光性に優れる観点から（変性）ポリビニルアルコールが好ましく、ポリエチレンービニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）が特に好ましい。

樹脂層を形成する基材フィルムとの密着性を確保するために、基材フィルムにアンカーコート層を設けても良い。アンカーコート層の素材としては樹脂層および基材フィルムの材質等に応じて適切に選ばれるが、例えば樹脂層がＥＶＯＨ、基材フィルムがＰＥＴの場合、アンカーコート層の素材として、ウレタン系、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系、（変性）ポリオレフィン系化合物が挙げられ、耐水性及び密着力に優れる観点からウレタン系、（変性）ポリオレフィン系化合物のアンカーコート素材が最も好ましい。具体的な商品として東洋モートン社製ＥＬ−５３０Ａ／Ｂ、三井化学社製タケラックＡ／タケネートＡシリーズ、アドマーシリーズ、ユニストールシリーズが例示される。

「バックライトユニット」
図面を参照して、本発明の波長変換部材を備えたバックライトユニットについて説明する。図１０は、バックライトユニットの一例としてサイドエッジ型のバックライト構成を示す模式図である。

図１０に示されるように、バックライトユニット１０２は、一次光（青色光Ｌ_Ｂ）を出射する光源１０１Ａと光源１０１Ａから出射された一次光を導光して出射する導光板１０１Ｂとからなる面状光源１０１Ｃと、面状光源１０１Ｃ上に備えられてなる本発明の波長変換部材１００と、面状光源１０１Ｃを挟んで波長変換部材１００と対向配置される反射板１０２Ａと、再帰反射性部材１０２Ｂとを備えている。なお、図１０においては、反射板１０２Ａ、導光板１０１Ｂ、波長変換部材１００および再帰反射性部材１０２Ｂは離間した図を示しているが、これは光学的に密着していないことを表し、実際には、積層されていても良い。

波長変換部材１００は、面状光源１０１Ｃから出射された一次光Ｌ_Ｂの少なくとも一部を励起光として、蛍光を発光し、この蛍光からなる二次光（緑色光Ｌ_Ｇ，赤色光Ｌ_Ｒ）および波長変換部材１００を透過した一次光Ｌ_Ｂを出射するものである。例えば、波長変換部材１００は、青色光Ｌ_Ｂの照射により緑色光Ｌ_Ｇを発光する量子ドットと赤色光Ｌ_Ｒを発光する量子ドットとを含む波長変換層が第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムで挟持されて構成されてなる波長変換部材である。

図１０において、波長変換部材１００から出射されたＬ_Ｂ，Ｌ_Ｇ，Ｌ_Ｒは、再帰反射性部材１０２Ｂに入射し、入射した各光は、再帰反射性部材１０２Ｂと反射板１０２Ａとの間で反射を繰り返し、何度も波長変換部材１００を通過する。その結果、波長変換部材１００では十分な量の励起光（青色光Ｌ_Ｂ）が波長変換層３０内の蛍光体３１（ここでは、量子ドット）によって吸収され、必要な量の蛍光（Ｌ_Ｇ，Ｌ_Ｒ）が発光し、再帰反射性部材１０２Ｂから白色光Ｌ_Ｗが具現化されて出射される。

高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。例えば、４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光とを発光することが好ましい。

より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、４４０ｎｍ〜４６０ｎｍであることがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、５２０ｎｍ〜５６０ｎｍであることが好ましく、５２０ｎｍ〜５４５ｎｍであることがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、６１０ｎｍ〜６５０ｎｍであることがより好ましい。

また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも８０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３０ｎｍ以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が２５ｎｍ以下であることが、特に好ましい。

上記において光源１０１Ａとしては、例えば４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光する青色発光ダイオードであるが、紫外光を発光する紫外線発光ダイオードを用いてもよい。光源１０１Ａとしては、発光ダイオードの他レーザー光源等を使用することができる。紫外光を発光する光源を備えた場合には、波長変換部材の波長変換層（波長変換層）において、紫外光の照射により青色光を発光する蛍光体、緑色光を発光する蛍光体、および赤色光を発光する蛍光体を含むものとすればよい。

面状光源１０１Ｃは、図１０に示すように、光源１０１Ａと光源１０１Ａから出射された一次光を導光させて出射させる導光板１０１Ｂとからなる面状光源であってもよいし、光源１０１Ａが波長変換部材１００と平行な平面状に並べて配置され、導光板１０１Ｂに替えて拡散板を備えた面状光源であっても良い。前者の面状光源は一般にエッジライト方式、後者の面状光源は一般に直下型方式と呼ばれている。
なお、本実施形態では、光源として面状光源を用いた場合を例に説明したが、光源としては面状光源以外の光源も使用することができる。

（バックライトユニットの構成）
バックライトユニットの構成としては、図１０では、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式について説明したが、直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。

また、反射板１０２Ａとしては、特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

再帰反射性部材１０２Ｂは、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器等から構成されていてもよい。再帰反射性部材１０２Ｂの構成については、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。

本発明のバックライトユニットは、液晶表示装置用のバックライトとして好適に用いることができる。

以下に実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

[実施例１]
＜波長変換部材の作製＞
蛍光体として量子ドットを含有する塗布液を用いて波長変換層を有する波長変換部材を作製した。

（基材フィルム）
第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、商品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００」、厚さ５０μｍ）を用いた。

（樹脂層の形成）
下記の硬化性組成物１を調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥することで、樹脂層形成用の塗布液Ａを得た。

−硬化性組成物１−
・ジシクロペンタニルアクリレート（ＦＡ−５１３ＡＳ（日立化成（株）社製））
７８．４質量部
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業（株）製）） ２０．０質量部
・光重合開始剤（イルガキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）製））０．２質量部

−樹脂層の形成−
ロール・トゥ・トール方式の製造装置を用いて、第１の基材フィルム上に樹脂層形成用の塗布液Ａを塗布し凹部を転写した後に光硬化させて、複数の凹部を有する樹脂層３８を形成した。
ここで、凹部は、２５０μｍ×２５０μｍの正方形状で、格子状パターンとし、凹部の深さは４０μｍとし、凹部間の幅は５０μｍとした。また、凹部を転写するモールドには微細凹凸形状を付与することで、作製後の樹脂層の表面粗さＲａが１μｍとなるよう調整した。
また、光硬化には、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、紫外線を第１の基材フィルム側より２０００ｍＪ／ｃｍ²照射して樹脂層を硬化させた。

（蛍光領域の形成および第２の基材フィルムの貼着）
下記の硬化性組成物２を調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥することで、蛍光領域形成用の塗布液ａを得た。

−硬化性組成物２−
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） ２０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） ２質量部
・ジシクロペンタニルアクリレート（ＦＡ−５１３ＡＳ（日立化成（株）社製）） ７８．４質量部
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業（株）製）） ２０．０質量部
・光重合開始剤（イルガキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）製））０．２質量部
・酸化防止剤（トリオクチルホスファイト（東京化成（株）社製））
０．４質量部
なお、量子ドット１および量子ドット２のトルエン分散液の量子ドット濃度は３質量％である。

量子ドット１（ＩＮＰ５３０−１００、ＮＮ−ラボズ社製）はコアがＩｎＰで、シェルがＺｎＳで構成されたコア／シェル型の量子ドットであり、発光中心波長が５３０ｎｍである。
量子ドット２（ＩＮＰ６２０−１００、ＮＮ−ラボズ社製）は、コアがＩｎＰで、シェルがＺｎＳで構成されたコア／シェル型の量子ドットであり、発光中心波長が６２０ｎｍである。

−蛍光領域形成用塗布液の塗布および基材フィルムの貼着−
ロール・トゥ・トール方式の製造装置を用いて、複数の凹部を有する樹脂層上に蛍光領域形成用の塗布液ａを塗布し凹部内に塗布液ａを充填し、第２の基材フィルムを貼着した後に光硬化させて、樹脂層の複数の凹部内に蛍光領域が形成された波長変換層を形成して波長変換部材を作製した。
また、光硬化には、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、紫外線を第1の基材フィルム側より２０００ｍＪ／ｃｍ²照射して蛍光領域を硬化させ、さらに８０℃で１０分間加熱した。

得られた波長変換部材の波長変換層の厚みは５０μｍであった。

ガラス基板上に実施例１で作製した波長変換部材に含まれる樹脂層と同じ組成物、および硬化条件で硬化層を形成したサンプル１を準備した。同様に、ガラス基板上に実施例１で作製した波長変換部材に含まれる蛍光領域と同じ組成物、および硬化条件で硬化層を形成したサンプル２を準備した。
各サンプルを用いて、ガラス基板上の硬化層の面内方向および厚さ方向の波長５５０ｎｍに対する屈折率をアタゴ社製多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２で測定した。
樹脂層（サンプル１）の屈折率は１．４５であった。蛍光領域（サンプル２）の屈折率は１．５５であった。すなわち、樹脂層と蛍光領域との屈折率差Δｎは、０．１であった。

［比較例１］
凹部を有さない樹脂層上に層状の蛍光領域を形成した以外は実施例１と同様にして波長変換部材を作製した。
具体的には、第１の基材フィルム上に樹脂層形成用の塗布液Ａを塗布した後、Ｒａが１となる表面粗さを有する平板状のモールドを用いて、塗布膜に粗面を転写して光硬化させて樹脂層を形成した。
次に、形成した樹脂層上に、蛍光領域形成用の塗布液ａを塗布した後、第２の基材フィルムを貼着し光硬化させて、樹脂層の上に層状の蛍光領域が形成された波長変換層を形成して波長変換部材を作製した。
なお、樹脂層の厚みは１０μｍとし、蛍光領域の厚みは４０μｍとした。

［比較例２］
樹脂層を粗面化しない以外は実施例１と同様にして波長変換部材を作製した。

［実施例２］
蛍光領域形成用の塗布液として下記の硬化性組成物３を調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥して得られた、蛍光領域形成用の塗布液ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして波長変換部材を作製した。
なお、形成した蛍光領域の屈折率は１．９５であった。従って、樹脂層と蛍光領域との屈折率差Δｎは、０．５であった。

−硬化性組成物３−
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） １６質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） １．６質量部
・ジシクロペンタニルアクリレート（ＦＡ−５１３ＡＳ（日立化成（株）社製）） ７８．４質量部
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業（株）製）） ２０．０質量部
・光重合開始剤（イルガキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）製））
０．２質量部
・酸化防止剤（トリオクチルホスファイト（東京化成（株）社製））
０．４質量部
・屈折率調整剤（酸化チタン（ＴｉＯ₂）粒子（一次粒子径１００ｎｍ以下）、粒子濃度３０質量％） ２０．０質量部

[実施例３、４および比較例３〜５]
樹脂層の表面粗さＲａをそれぞれ表２に示す値に変更し、かつ波長変換層の厚みを４０μｍとした以外は、実施例２と同様にして波長変換部材を作製した。

［実施例５］
樹脂層形成用の塗布液として、塗布液Ａにさらに光散乱粒子（トスパール１２０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ））を２０質量部加えて得られた樹脂層形成用の塗布液Ｂを用い、蛍光領域形成用の塗布液として下記の硬化性組成物４を調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥して得られた、蛍光領域形成用の塗布液ｃを用い、かつ波長変換層の厚みを３０μｍとした以外は、実施例２と同様にして波長変換部材を作製した。
なお、形成した樹脂層の屈折率は１．４５で、蛍光領域の屈折率は１．９５であった。従って、樹脂層と蛍光領域との屈折率差Δｎは、０．５であった。

−硬化性組成物４−
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５３０ｎｍ） ４質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６２０ｎｍ） ０．４質量部
・ジシクロペンタニルアクリレート（ＦＡ−５１３ＡＳ（日立化成（株）社製）） ７８．４質量部
・トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業（株）製）） ２０．０質量部
・光重合開始剤（イルガキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ（株）製））
０．２質量部
・酸化防止剤（トリオクチルホスファイト（東京化成（株）社製））
０．４質量部
・屈折率調整剤（酸化チタン（ＴｉＯ₂）粒子（一次粒子径１００ｎｍ以下）、粒子濃度３０質量％） ２０．０質量部

［比較例６］
樹脂層を粗面化しない以外は実施例５と同様にして波長変換部材を作製した。

［実施例６］
樹脂層形成用の塗布液として塗布液Ａを用い、
蛍光領域形成用の塗布液として、塗布液ｃにさらに光散乱粒子（トスパール１２０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ））を２０質量部加えて得られた蛍光領域形成用の塗布液ｄを用いた以外は、実施例５と同様にして波長変換部材を作製した。

[実施例７]
樹脂層形成用の塗布液として塗布液Ｂを用いた以外は、実施例６と同様にして波長変換部材を作製した。

［比較例７］
樹脂層を粗面化しない以外は実施例６と同様にして波長変換部材を作製した。

[実施例８]
第１の基材フィルムおよび第２の基材フィルムとして、以下のようにして作製した基材フィルムＢを用いた以外は実施例７と同様にして波長変換部材を作製した。

（基材フィルムＢの作製）
支持フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡社製、商品名「コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００」、厚さ５０μｍ）を用いて、支持フィルムの片面側に以下の手順で有機層および無機層を順次形成し基材フィルムＢを作製した。

−有機層の形成−
トリメチロールプロパントリアクリレート（製品名「ＴＭＰＴＡ」、ダイセル・オルネクス（株）製）および光重合開始剤（商品名「ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標） ＫＴＯ４６」、ランベルティ社製）を用意し、質量比率として９５：５となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％の塗布液とした。この塗布液を、ダイコーターを用いてロールトゥロールにてＰＥＴフィルム上に塗布し、５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた。その後、窒素雰囲気下で紫外線を照射（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ²）し、紫外線硬化にて硬化させ、巻き取った。支持体上に形成された有機層の厚さは、１μｍであった。

−無機層の形成−
次に、ロールトゥロールのＣＶＤ（chemical vapor deposition）装置を用いて、有機層の表面に無機層（窒化ケイ素層）を形成した。原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。製膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。このようにして支持フィルム上に形成された有機層の表面に無機層が積層された基材フィルムＢを作製した。

＜評価項目＞
実施例および比較例で作製した波長変換部材の色味を以下のように測定し色再現性を評価した。

（色味の測定）
バックライトユニットに青色光源を備える市販のタブレット端末（商品名「Ｋｉｎｄｌｅ（登録商標）Ｆｉｒｅ ＨＤＸ ７」、Ａｍａｚｏｎ社製、以下、単にＫｉｎｄｌｅ Ｆｉｒｅ ＨＤＸ ７と記載する場合がある。）を分解し、バックライトユニットを取り出した。バックライトユニットに組み込まれていた波長変換フィルムＱＤＥＦ（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｆｉｌｍ）に代えて矩形に切り出した実施例または比較例の波長変換部材を組み込み、その上にタブレット端末に使用されていた２枚の光学シートを重ねた。このようにしてバックライトユニットを作製した。
作製したバックライトユニットを点灯させ、バックライトユニットの発光面に対して垂直方向５２０ｍｍの位置に設置した輝度計（商品名「ＳＲ３」、ＴＯＰＣＯＮ社製）にて色度（ＣＩＥｘ，ｙ）を面内９点で測定し、平均値を算出した。
測定値に応じて以下の基準で評価した。
Ａ：０．２１≦ｘ≦０．２３、かつ、０．２４≦ｙ≦０．２６を満たすもの。
Ｂ：０．１９≦ｘ＜０．２４、かつ、０．２２≦ｙ＜０．２７を満たし、Ａに含まれないもの。
Ｃ：０．１５≦ｘ＜０．２６、かつ、０．１８≦ｙ＜０．２９を満たし、ＡもしくはＢに含まれないもの。
Ｄ：その他のもの。
結果を表１〜表３に示す。

表１〜表３に示す結果から、本発明の実施例は比較例に対して、白色光の色再現性が高いことがわかる。
以上の結果から、本発明の効果は明らかである。

１ 波長変換部材
１０、２０ 基材フィルム
３０ 波長変換層
３１ 蛍光体
３２ 蛍光領域形成用塗布液
３３ バインダ
３５ 蛍光領域
３７ 樹脂層用塗布液
３８ 樹脂層
１００ 波長変換部材
１０１Ａ 光源
１０１Ｂ 導光板
１０１Ｃ 面状光源
１０２ バックライトユニット
１０２Ａ 反射板
１０２Ｂ 再帰反射性部材

Claims (9)

1. 入射する励起光の少なくとも一部を吸収して前記励起光の波長とは異なる波長の光に変換して出射する波長変換部材であって、
   一方の主面側に離散的に配置された複数の凹部が形成された樹脂層、および、前記樹脂層に形成された前記凹部に配置される蛍光体を含む複数の蛍光領域を有する波長変換層を有し、
   前記樹脂層の凹部が形成された側の面の表面粗さＲａが０．３〜５μｍである波長変換部材。
2. 前記樹脂層と前記蛍光領域との屈折率差Δｎが０．０５以上である請求項１に記載の波長変換部材。
3. 前記樹脂層および前記蛍光領域の少なくとも一方に散乱粒子を含む請求項１または２に記載の波長変換部材。
4. 前記樹脂層に形成される前記凹部の深さが１〜１５０μｍである請求項１〜３のいずれか一項に記載の波長変換部材。
5. 前記樹脂層に形成される前記凹部の幅が１０〜２０００μｍである請求項１〜４のいずれか一項に記載の波長変換部材。
6. 前記波長変換層は、異なる波長域の光を出射する２種以上の蛍光領域を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の波長変換部材。
7. 前記波長変換層を挟んで積層される２枚の基材フィルムを有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の波長変換部材。
8. 前記波長変換層の厚みが５〜１５０μｍである請求項１〜７のいずれか一項に記載の波長変換部材。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の波長変換部材と、
   前記励起光を出射する光源とを有するバックライトユニット。